JP2006342254A - Method for producing photo-setting resin composition - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an optical material having excellent optical properties to develop high diffraction efficiency over a wide wavelength range while keeping practically sufficient scattering property and shape-retention. <P>SOLUTION: The photo-setting resin composition contains a polyfunctional monomer having at least two functional groups having unsaturated double bond, a monofunctional monomer having one functional group having unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and indium-tin oxide fine particles. An optical material having excellent optical properties to develop high diffraction efficiency over a wide wavelength range while keeping practically sufficient scattering property and shape-retention can be produced by using the resin composition. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、屈折光学素子及び回折光学素子等の光学素子に使用される光学材料の製造方法に関するものである。特に屈折率の波長分散性、2次分散性の優れた光硬化型樹脂組成物の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an optical material used for optical elements such as a refractive optical element and a diffractive optical element. In particular, the present invention relates to a method for producing a photocurable resin composition having an excellent refractive index wavelength dispersibility and secondary dispersibility.

従来より光の屈折のみによって構成される屈折光学系においては、屈折率の波長分散特性の異なる硝材を組み合わせることによって色収差を低減している。しかし、これはレンズの構成、枚数が制限される場合や使用される硝材が限られている場合などでは、色収差を十分に補正することが非常に困難となる場合がある。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a refractive optical system configured only by light refraction, chromatic aberration is reduced by combining glass materials having different refractive index wavelength dispersion characteristics. However, this may make it very difficult to sufficiently correct chromatic aberration when the configuration and number of lenses are limited or when the glass material used is limited.

一方、SPIE Vol.1354 International Lens Design Conference(1990)には、レンズ面やあるいは光学系の一部に、回折格子を有する回折光学素子を用いることで色収差を減じる方法が開示されている。これは、光学素子としての屈折面と回折面とでは、ある基準波長の光線に対する色収差の発生する方向が、逆になるという物理現象を利用したものである。さらに、このような回折光学素子は、その回折格子の周期的構造の周期を変化させることで、非球面レンズと同等の効果を持たせることができる。そのため、色収差の低減に関して非常に大きな効果を有している。   On the other hand, SPIE Vol. 1354 International Lens Design Conference (1990) discloses a method of reducing chromatic aberration by using a diffractive optical element having a diffraction grating on a lens surface or a part of an optical system. This utilizes the physical phenomenon that the direction in which chromatic aberration occurs with respect to a light beam having a certain reference wavelength is reversed between the refracting surface and the diffractive surface as an optical element. Furthermore, such a diffractive optical element can have the same effect as an aspherical lens by changing the period of the periodic structure of the diffraction grating. Therefore, it has a very great effect on the reduction of chromatic aberration.

しかし、回折光学素子はその回折作用により入射した1本の光線が各次数の複数の光に分かれるため、回折光学素子の特長を充分に発揮させるためには、使用波長領域の光束を特定次数(以降設計次数と称す)に集中させなければならない。使用波長領域の光束が設計次数に集中している場合は、それ以外の回折次数の回折光強度は非常に低いものとなるため、設計次数以外の光線が設計次数の光線とは別な所に結像してしまうフレア光となる事はない。   However, in the diffractive optical element, since one incident light beam is divided into a plurality of lights of each order due to the diffraction action, in order to fully exhibit the features of the diffractive optical element, a light beam in a used wavelength region is changed to a specific order ( (Hereinafter referred to as the design order). When the luminous flux in the operating wavelength range is concentrated in the design order, the diffracted light intensity of the other diffraction orders becomes very low, so that the light other than the design order is different from the light of the design order. There is no flare light that forms an image.

使用波長領域の光束を設計次数に集中させるためには、回折格子の格子構造と素子に用いられる材料の光学特性を最適に設計する必要がある。特開2004-78166号(特許文献1)、特開2004-145273号(特許文献2)では、光学系を複数の回折光学素子の組み合わせで構成しており、各光学素子の境界面に形成される格子の形状と各光学素子に用いられる材料の屈折率の波長分散および2次分散を最適に設計することで、広波長範囲で高い回折効率を有する回折光学素子が開示されている。   In order to concentrate the luminous flux in the used wavelength region to the design order, it is necessary to optimally design the grating structure of the diffraction grating and the optical characteristics of the material used for the element. In JP-A-2004-78166 (Patent Document 1) and JP-A-2004-145273 (Patent Document 2), an optical system is composed of a combination of a plurality of diffractive optical elements, and is formed on a boundary surface of each optical element. A diffractive optical element having high diffraction efficiency in a wide wavelength range is disclosed by optimally designing the shape of the grating and the wavelength dispersion and second-order dispersion of the refractive index of the material used for each optical element.

用いられる光学材料に着目してみると、広い波長範囲で高い回折効率を有する回折光学素子を得るために、屈折率とその波長分散(νd)、更にその2次分散(θg,F)に着目し、最適とすることで広波長範囲での高い回折効率を実現しており、その最適な光学特性を具現化する光学材料として、バインダー(有機材料)中にインジウム錫酸化物(以降ITOと称す)微粒子等の無機微粒子を含有する光学材料が開示されている。
特開2004-78166号公報 特開2004-145273号公報
Focusing on the optical material used, in order to obtain a diffractive optical element having a high diffraction efficiency in a wide wavelength range, the refractive index and its wavelength dispersion (ν d ), and its secondary dispersion (θ g, F ) By focusing on and optimizing, it has achieved high diffraction efficiency in a wide wavelength range. As an optical material that realizes the optimal optical characteristics, indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) in a binder (organic material) An optical material containing inorganic fine particles such as fine particles is disclosed.
Japanese Patent Laid-Open No. 2004-78166 JP 2004-145273 A

しかしながら、前述の光学材料は広波長範囲で高い回折効率を発現する優れた光学特性を有しているが、撮像光学系に用いる光学材料として重要な特性である散乱率に関しては、詳細な記述が十分になされていない。撮像光学系において散乱光はフレアの原因となりコントラストを低下させる。   However, the optical material described above has excellent optical characteristics that exhibit high diffraction efficiency in a wide wavelength range, but there is a detailed description of the scattering rate, which is an important characteristic as an optical material used in an imaging optical system. Not enough. In the imaging optical system, scattered light causes flare and reduces contrast.

有機材料中に屈折率の異なる無機微粒子を分散させてなる光学材料の場合、微粒子の分散状態により散乱特性は大きく変化する。可視光領域内での光散乱を抑えるためには無機微粒子の粒径を100nm以下に制御する必要があるため、無機微粒子を凝集させずに均一に分散させる必要がある。分散状態はマトリックスとなるバインダー(有機材料)と無機微粒子、更に分散溶媒や分散剤の分子構造や表面状態により大きく変化するが、全てにおいて同種の材料を用いた場合においても、その光学材料の製造方法に大きく影響を受ける。   In the case of an optical material in which inorganic fine particles having different refractive indexes are dispersed in an organic material, the scattering characteristics vary greatly depending on the dispersion state of the fine particles. In order to suppress light scattering in the visible light region, it is necessary to control the particle size of the inorganic fine particles to 100 nm or less, and therefore, it is necessary to uniformly disperse the inorganic fine particles without aggregating them. The dispersion state varies greatly depending on the binder (organic material) used as the matrix, the inorganic fine particles, and the molecular structure and surface state of the dispersion solvent and dispersant. It is greatly influenced by the method.

さらに、無機微粒子を均一に分散させる為に用いられる分散溶媒は、分散性を向上させ、樹脂との相溶を容易とするが、光学素子成形体中に残存した場合、揮散等により成形体の光学特性の変化や体積収縮を引き起こす要因となる。高い回折効率を発現するためには、用いられる光学材料の光学特性や散乱特性の他に、格子を所望の形状に正確に保持する特性も重要となるため、光学材料を製造する際に実用上十分な程度まで分散溶媒を除去する必要がある。   Furthermore, the dispersion solvent used to uniformly disperse the inorganic fine particles improves the dispersibility and facilitates compatibility with the resin. However, if it remains in the optical element molded body, It becomes a factor causing a change in optical characteristics and volume shrinkage. In order to exhibit high diffraction efficiency, in addition to the optical characteristics and scattering characteristics of the optical material used, characteristics that accurately hold the grating in a desired shape are also important. It is necessary to remove the dispersion solvent to a sufficient extent.

以上の課題を解決する為に、本発明は広波長範囲で高い回折効率を発現する優れた光学特性を有しながら、実用上十分な散乱特性と形状保持特性を有する光学材料の製造方法を提供することを目的としている。   In order to solve the above problems, the present invention provides a method for producing an optical material having practically sufficient scattering characteristics and shape retention characteristics while having excellent optical characteristics exhibiting high diffraction efficiency in a wide wavelength range. The purpose is to do.

本発明は、つぎの(1)〜(5)示す光学材料の製造法を提供するものである。   The present invention provides methods for producing optical materials shown in the following (1) to (5).

(1)不飽和二重結合を有する官能基を少なくとも2つ以上有する多官能モノマーと不飽和二重結合を有する官能基を1つ有する単官能モノマーと光重合開始剤とインジウム錫酸化物微粒子を含有することを特徴とする光硬化型樹脂組成物の製造方法。   (1) A polyfunctional monomer having at least two functional groups having an unsaturated double bond, a monofunctional monomer having one functional group having an unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and indium tin oxide fine particles A method for producing a photocurable resin composition, comprising:

(2)不飽和二重結合を有する官能基を少なくとも2つ以上有するオリゴマー成分と、不飽和二重結合を有する官能基を少なくとも2つ以上有する多官能モノマーと不飽和二重結合を有する官能基を1つ有する単官能モノマーと光重合開始剤とインジウム錫酸化物微粒子を含有することを特徴とする光硬化型樹脂組成物の製造方法。   (2) an oligomer component having at least two functional groups having an unsaturated double bond, a polyfunctional monomer having at least two functional groups having an unsaturated double bond, and a functional group having an unsaturated double bond A method for producing a photocurable resin composition, comprising a monofunctional monomer having one of the above, a photopolymerization initiator, and indium tin oxide fine particles.

(3)オリゴマー成分の数平均分子量が1000から5000であることを特徴とする(2)記載の光硬化型樹脂組成物の製造方法。   (3) The method for producing a photocurable resin composition according to (2), wherein the oligomer component has a number average molecular weight of 1,000 to 5,000.

(4)光硬化型樹脂組成物中に占めるオリゴマー成分の重量比が有機成分中30重量パーセント以下であることを特徴とする(2)から(3)記載の光硬化型樹脂組成物の製造方法。   (4) The method for producing a photocurable resin composition according to (2) to (3), wherein the weight ratio of the oligomer component in the photocurable resin composition is 30% by weight or less in the organic component .

(5)インジウム錫酸化物微粒子の粒子径が1から100nmであることを特徴とする(1)から(4)記載の光硬化型樹脂組成物の製造方法。   (5) The method for producing a photocurable resin composition according to (1) to (4), wherein the particle diameter of the indium tin oxide fine particles is 1 to 100 nm.

バインダーは所望の光学特性、散乱特性、形状特性、成形性を満足するものであれば特に限定されるものではないが、成形時に光、特に紫外線により硬化する光硬化性樹脂組成物は、成形時に熱処理を施す必要がある熱可塑性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物と比較して成形時の熱履歴による樹脂の光学特性の低下や熱収縮による寸法変化が少ないためより好適である。   The binder is not particularly limited as long as it satisfies desired optical characteristics, scattering characteristics, shape characteristics, and moldability, but a photocurable resin composition that is cured by light, particularly ultraviolet rays, is used at the time of molding. Compared to a thermoplastic resin composition and a thermosetting resin composition that need to be heat-treated, it is more preferable because the optical properties of the resin are reduced due to thermal history during molding and the dimensional change due to thermal shrinkage is small.

不飽和二重結合を有する官能基を少なくとも2つ以上有する多官能モノマーとしては不飽和二重結合として(メタ)アクリレート基やビニル基等を2つ以上分子内に有している化合物であり、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリグリセロールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビス((メタ)アクリロキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート(メタ)アクリレート、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、アジピン酸ジビニル、ジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌレート等の1種または2種以上を用いることができる。   The polyfunctional monomer having at least two functional groups having an unsaturated double bond is a compound having two or more (meth) acrylate groups, vinyl groups, etc. in the molecule as unsaturated double bonds, For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) ) Acrylate, triglycerol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, bis ((meth) acryloxyethyl) hydroxyethyl isocyanur 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane benzoate (meth) acrylate, tris ((meth) acryloxyethyl) isocyanurate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, divinyl adipate, diallyl phthalate, triallyl isocyanurate It can be used alone or in combination of two or more.

多官能モノマーは本発明の樹脂組成物を所望の回折面および屈折面を有する金型に流延し光硬化した際に、本発明の樹脂組成物成形体の形状経時変化を抑制させると共に、表面硬度を高くする。特に回折光学素子として本発明の樹脂組成物成形体を用いる場合、回折格子の高さや回折面形状は高い回折効率の発現の為に重要な要素となる。そのため本発明の樹脂組成物成形体は所望の設計値に対して正確な形状を有し、かつ経時変化、特に温度、湿度の影響によらずその形状を正確に保持する必要がある。具体的には回折格子の高さは所望の設計値に対して±0.5%程度の誤差範囲内に維持しなければならない。   When the polyfunctional monomer is cast and photocured on a mold having a desired diffractive surface and a refracting surface, the polyfunctional monomer suppresses the shape change of the resin composition molded body of the present invention over time, and the surface. Increase hardness. In particular, when the resin composition molded article of the present invention is used as a diffractive optical element, the height of the diffraction grating and the shape of the diffractive surface are important elements for the expression of high diffraction efficiency. For this reason, the resin composition molded body of the present invention has an accurate shape with respect to a desired design value, and it is necessary to accurately maintain the shape regardless of changes with time, particularly temperature and humidity. Specifically, the height of the diffraction grating must be maintained within an error range of about ± 0.5% with respect to a desired design value.

本発明者が鋭意検討した結果、前述の多官能モノマーを樹脂組成物中に用い、その含有量を本発明の光硬化型樹脂組成物の有機成分中20〜70wt%、更には30〜60wt%とすることで成形体の形状経時変化を抑制できることを見出した。   As a result of intensive studies by the inventor, the above-mentioned polyfunctional monomer is used in the resin composition, and the content thereof is 20 to 70 wt%, further 30 to 60 wt% in the organic component of the photocurable resin composition of the present invention. As a result, it was found that the shape change of the molded body over time can be suppressed.

不飽和二重結合を有する官能基を1つ有する単官能モノマーとしては不飽和二重結合として(メタ)アクリレート基やビニル基等を分子内に1つ有している化合物であり、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ターシャリーブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシルカルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ターシャリーブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルフォリン、ジメチルアミノエチルジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチルフタレート、2-(メタ)アクリロイロキシエチル-2-ヒドロキシエチルフタレート、2-(メタ)アクリロイロキシプロピルフタレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート(メタ)アクリレート、α-ナフチル(メタ)アクリレート、β-ナフチル(メタ)アクリレート、イミドアクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、ビニルピロリドン、N-ビニルカプロラクタム、1-ビニルイミダゾール、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、N-ビニルフタルイミド等の1種または2種以上を用いることができる。   The monofunctional monomer having one functional group having an unsaturated double bond is a compound having one (meth) acrylate group, vinyl group or the like as an unsaturated double bond in the molecule. For example, methyl (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tertiary butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylic , Isostearyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meta ) Acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, butanediol mono (meth) acrylate, dipropylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (meth) ) Acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, 2-ethylhexyl carbitol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tertiary butyl cyclohexane Sil (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydro Phthalate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, dimethylaminoethyldicyclopentanyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy Tetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2- (meth) acrylo Roxyethyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl phthalate, neopentyl glycol benzoate (meth) acrylate, α-naphthyl (meth) acrylate, β- Naphthyl (meth) acrylate, imide acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, One or more of 1-vinylimidazole, vinylnaphthalene, vinylcarbazole, N-vinylphthalimide and the like can be used.

単官能モノマーは、本発明の樹脂組成物の各波長における屈折率を調整し、かつ粘度を適度なものとする。本発明の樹脂組成物はITO微粒子の導入により屈折率とその波長分散(νd)、更にその2次分散(θg,F)を有機物では得られない値とすることができる。しかしながら更に屈折率、波長分散(νd)、2次分散(θg,F)を調整する必要がある場合、適当な単官能モノマーを用いることで所望の屈折率、波長分散(νd)、2次分散(θg,F)が得られる。 The monofunctional monomer adjusts the refractive index at each wavelength of the resin composition of the present invention and has an appropriate viscosity. In the resin composition of the present invention, the refractive index, its wavelength dispersion (ν d ), and its secondary dispersion (θ g, F ) can be set to values that cannot be obtained with organic substances by introducing ITO fine particles. However, when it is necessary to further adjust the refractive index, chromatic dispersion (ν d ), and secondary dispersion (θ g, F ), the desired refractive index, chromatic dispersion (ν d ), A secondary dispersion (θ g, F ) is obtained.

また、一般に樹脂に添加する微粒子の導入量が大きくなると、当該樹脂粘度は増加する傾向にある。粘度の上昇は成形性、特に金型に樹脂を流延する際の展開性を低下させる。展開性を十分に確保する為に要求される粘度は、金型の形状、成形体の厚さ等の成形体の形状や成形条件に依存するが、一般に約50,000mPa・s以下であることが望まれる。   In general, when the amount of fine particles added to a resin increases, the resin viscosity tends to increase. An increase in viscosity reduces moldability, particularly developability when casting a resin on a mold. The viscosity required to ensure sufficient developability depends on the shape of the mold and the molding conditions such as the mold shape and the thickness of the molded body, but is generally about 50,000 mPa · s or less. Is desired.

本発明者が鋭意検討した結果、前述の単官能モノマーを樹脂組成物中に用い、その含有量を本発明の光硬化型樹脂組成物の有機成分中15〜65wt%、更には25〜55wt%とすることで所望の屈折率、波長分散(νd)、2次分散(θg,F)、樹脂粘度が得られることを見出した。 As a result of intensive studies by the present inventors, the above-mentioned monofunctional monomer was used in the resin composition, and the content thereof was 15 to 65 wt%, more preferably 25 to 55 wt% in the organic component of the photocurable resin composition of the present invention. It was found that the desired refractive index, wavelength dispersion (ν d ), secondary dispersion (θ g, F ), and resin viscosity can be obtained.

光重合開始剤としては、例えばベンジルジメチルケタール類、α-ヒドロキシケトン類、アミノケトン類、アセトフェノンおよびその誘導体、ベンゾフェノンおよびその誘導体、ベンゾインおよびその誘導体、オキシム系化合物等から選択された1種または2種以上を用いることができる。これらのうち、特に2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が好ましい。   Examples of the photopolymerization initiator include one or two selected from benzyl dimethyl ketals, α-hydroxy ketones, amino ketones, acetophenone and derivatives thereof, benzophenone and derivatives thereof, benzoin and derivatives thereof, oxime compounds, and the like. The above can be used. Of these, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and the like are particularly preferable.

ITO微粒子は、有機物では得られない屈折率とその波長分散(νd)、更にその2次分散(θg,F)を付与することができる。ただしITO微粒子添加による光散乱を実用上十分に低減する必要があるため粒径は1から100nmであることがより好ましい。 The ITO fine particles can impart a refractive index and its wavelength dispersion (ν d ) that cannot be obtained with an organic substance, and further its secondary dispersion (θ g, F ). However, since it is necessary to practically sufficiently reduce light scattering due to addition of ITO fine particles, the particle diameter is more preferably 1 to 100 nm.

オリゴマーとしてはアクリル系、(不飽和)ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系アクリレート化合物等から選択された1種または2種以上を用いることができる。   As the oligomer, one or more selected from acrylic, (unsaturated) polyester, epoxy, urethane acrylate compounds and the like can be used.

オリゴマーは本発明の光硬化型樹脂組成物に効果時の低収縮性を付与し、本発明の光硬化型樹脂組成物成形体を強靭なものとする。オリゴマーの数平均分子量は1000〜5000であることが好ましく、数平均分子量が1000よりも小さいと、硬化時の収縮量が大きく、成形体の形状精度が低下する。また、5000よりも大きいと本発明の光硬化型樹脂組成物の粘度が著しく増大してしまい、金型に本発明の光硬化型樹脂組成物を流延することが困難となる。同様に本発明の光硬化型樹脂組成物中に占めるオリゴマー成分の重量比が有機成分中30重量%以上となった場合も粘度の著しい増大により成形性が低下する。   The oligomer imparts low shrinkage when effective to the photocurable resin composition of the present invention, and makes the photocurable resin composition molded body of the present invention tough. The number average molecular weight of the oligomer is preferably 1000 to 5000, and if the number average molecular weight is less than 1000, the amount of shrinkage at the time of curing is large and the shape accuracy of the molded article is lowered. On the other hand, if it is larger than 5000, the viscosity of the photocurable resin composition of the present invention is remarkably increased, and it becomes difficult to cast the photocurable resin composition of the present invention into a mold. Similarly, when the weight ratio of the oligomer component in the photocurable resin composition of the present invention is 30% by weight or more in the organic component, the moldability deteriorates due to a significant increase in viscosity.

本発明の光硬化型樹脂組成物には、必要に応じて公知の重合促進剤、重合禁止剤、分散剤、消泡剤、レベリング剤、離型剤等を添加することもできる。   A known polymerization accelerator, polymerization inhibitor, dispersant, antifoaming agent, leveling agent, release agent and the like can be added to the photocurable resin composition of the present invention as necessary.

本発明の光硬化型樹脂組成物の製造方法は、ITO微粒子、分散溶媒、分散剤からなるITO分散液中にバインダー樹脂を溶解する溶解工程と、その後分散溶媒を除去する溶媒除去工程からなる。   The method for producing a photocurable resin composition of the present invention comprises a dissolution step of dissolving a binder resin in an ITO dispersion composed of ITO fine particles, a dispersion solvent, and a dispersant, and then a solvent removal step of removing the dispersion solvent.

バインダー樹脂を分散液に溶解させる際は、あらかじめ所望の量を採取した分散液を攪拌しながら、バインダー樹脂を所望量、ゆっくり添加し溶解する必要がある。攪拌を行わなかったり、一度に大量のバインダー樹脂を添加した場合、分散液中で大きな濃度ムラが生じ、分散液中の微粒子が凝集する可能性がある。   When the binder resin is dissolved in the dispersion, it is necessary to slowly add and dissolve the desired amount of the binder resin while stirring the dispersion obtained in advance. When stirring is not performed or when a large amount of binder resin is added at once, there is a possibility that a large concentration unevenness occurs in the dispersion and the fine particles in the dispersion are aggregated.

分散溶媒の除去は、減圧下で過熱することにより行われるが、その際微粒子の凝集、バインダー成分の揮散、バインダー成分の高分子量化や熱分解を抑制するために、処理温度、処理圧力、処理時間を正確に制御する必要がある。   Removal of the dispersion solvent is performed by heating under reduced pressure. At this time, in order to suppress aggregation of fine particles, volatilization of the binder component, high molecular weight of the binder component and thermal decomposition, the processing temperature, processing pressure, processing It is necessary to control the time accurately.

より具体的には、処理温度は除去する分散溶媒種にも依存するが、バインダーの熱重合や熱分解を抑制するために、90℃以下より好ましくは60℃以下とする必要がある。処理圧力はバインダー成分の揮散や残留溶媒の突沸に注意しながら制御する必要があるため大気圧から1hPa、より好ましくは大気圧から2hPaまで徐々に低下させていく必要がある。処理時間は処理量と残留可能な溶媒量に依存する。本発明者らが鋭意検討した結果、残留可能な溶媒量は成形後の形状保持特性より決定することができ、形状保持のひとつの指標である回折格子の高さは所望の設計値に対して±0.5%程度の誤差範囲内に維持しなければならない。そのため、残留可能な溶媒量としては本発明の光硬化型樹脂組成物中0.3wt%以下、より好ましくは0.2wt%以下である必要がある。したがって、適宜重量変化を測定することにより残留溶媒量を確認しながら処理時間を決定していくことが有効である。   More specifically, the treatment temperature depends on the type of solvent to be removed, but it is necessary to set the temperature to 90 ° C. or lower, more preferably 60 ° C. or lower in order to suppress thermal polymerization or thermal decomposition of the binder. Since it is necessary to control the processing pressure while paying attention to the volatilization of the binder component and bumping of the residual solvent, it is necessary to gradually decrease the pressure from atmospheric pressure to 1 hPa, more preferably from atmospheric pressure to 2 hPa. The treatment time depends on the amount treated and the amount of solvent that can remain. As a result of intensive studies by the present inventors, the amount of solvent that can be retained can be determined from the shape retention characteristics after molding, and the height of the diffraction grating, which is one index of shape retention, is below the desired design value. It must be maintained within an error range of about ± 0.5%. Therefore, the amount of solvent that can remain is required to be 0.3 wt% or less, more preferably 0.2 wt% or less in the photocurable resin composition of the present invention. Therefore, it is effective to determine the treatment time while confirming the amount of residual solvent by appropriately measuring the change in weight.

本発明によれば、広波長範囲で高い回折効率を発現する優れた光学特性を有しながら、実用上十分な散乱特性と形状保持特性を有する光学材料の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optical material which has a scattering characteristic and shape retention characteristic sufficient practically can be provided, having the outstanding optical characteristic which expresses high diffraction efficiency in a wide wavelength range.

以下に本発明の実施例を挙げ、具体的に説明する。   Hereinafter, examples of the present invention will be described in detail.

ITO重量に対して20重量%の分散剤を含有する平均粒径10nmのITO微粒子5重量%を分散させたトルエン溶液375.14gをマグネティックスターラーにより攪拌しながら、ペンタエリスリトールテトラアクリレート10.99g、シクロヘキシルアクリレート15.12g、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン1.37gの樹脂混合物を約15分間かけて徐々に添加し、その後約15分間攪拌を続けトルエン溶液中に完全に溶解させた。その後ロータリーエバポレーターを用いて48時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらトルエンを留去した。その時の水浴温は50℃とし、留去されたトルエンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、以下に示す手法により残留溶媒量と光散乱率を測定した。結果を表1に示す。   While stirring 375.14 g of a toluene solution in which 5% by weight of ITO fine particles having an average particle diameter of 10 nm containing a dispersant of 20% by weight with respect to the weight of ITO was stirred with a magnetic stirrer, 10.99 g of pentaerythritol tetraacrylate, 15.12 of cyclohexyl acrylate g, 1.37 g of resin mixture of 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one was gradually added over about 15 minutes, and then stirred for about 15 minutes to completely dissolve in the toluene solution. . Thereafter, toluene was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 48 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was 50 ° C., and the distilled toluene was appropriately removed from the system. The residual solvent amount and the light scattering rate of the photocurable resin composition obtained by the above operation were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

ITO重量に対して20重量%の分散剤を含有する平均粒径30nmのITO微粒子5重量%を分散させたメチルイソブチルケトン溶液488.10gをマグネティックスターラーにより攪拌しながら、エチレングリコールジメタクリレート3.11g、トリメチロールプロパントリアクリレート9.32g、ジシクロペンタニルアクリレート7.25g、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン1.04gの樹脂混合物を約15分間かけて徐々に添加し、その後約15分間攪拌を続けメチルイソブチルケトン溶液中に完全に溶解させた。その後ロータリーエバポレーターを用いて64時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらメチルイソブチルケトンを留去した。その時の水浴温は60℃とし、留去されたメチルイソブチルケトンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、以下に示す手法により残留溶媒量と光散乱率を測定した。結果を表1に示す。   While stirring 488.10 g of a methyl isobutyl ketone solution in which 5 wt% of ITO fine particles having an average particle diameter of 30 nm containing a dispersant of 20 wt% with respect to the ITO weight were dispersed by a magnetic stirrer, 3.11 g of ethylene glycol dimethacrylate, A resin mixture of 9.32 g of methylolpropane triacrylate, 7.25 g of dicyclopentanyl acrylate, and 1.04 g of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone is gradually added over about 15 minutes, and then stirred for about 15 minutes in the methyl isobutyl ketone solution. It was completely dissolved. Thereafter, methyl isobutyl ketone was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 64 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was 60 ° C., and the distilled off methyl isobutyl ketone was appropriately removed from the system. The residual solvent amount and the light scattering rate of the photocurable resin composition obtained by the above operation were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

ITO重量に対して15重量%の分散剤を含有する平均粒径80nmのITO微粒子10重量%を分散させたトルエン溶液25.88gをマグネティックスターラーにより攪拌しながら、数平均分子量約3,000の日本化薬株式会社製ウレタンアクリレート カヤラッド(登録商標)UX-4101 9.40g、ネオペンチルグリコールジメタクリレート7.05g、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7.05g、イソブチルメタクリレート21.16g、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2.35gの樹脂混合物を約25分間かけて徐々に添加し、その後約25分間攪拌を続けトルエン溶液中に完全に溶解させた。その後ロータリーエバポレーターを用いて32時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらトルエンを留去した。その時の水浴温は50℃とし、留去されたトルエンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、以下に示す手法により残留溶媒量と光散乱率を測定した。結果を表1に示す。   Nippon Kayaku Co., Ltd. with a number average molecular weight of about 3,000, while stirring with a magnetic stirrer 25.88g of a toluene solution in which 10% by weight of ITO fine particles with an average particle size of 80nm containing a dispersant of 15% by weight of ITO was dispersed. Company urethane acrylate Kayrad (registered trademark) UX-4101 9.40 g, neopentyl glycol dimethacrylate 7.05 g, dipentaerythritol hexaacrylate 7.05 g, isobutyl methacrylate 21.16 g, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2.35 g The mixture was gradually added over a period of minutes, and then the stirring was continued for about 25 minutes until it was completely dissolved in the toluene solution. Thereafter, toluene was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 32 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was 50 ° C., and the distilled toluene was appropriately removed from the system. The residual solvent amount and the light scattering rate of the photocurable resin composition obtained by the above operation were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

ITO重量に対して15重量%の分散剤を含有する平均粒径10nmのITO微粒子10重量%を分散させたキシレン溶液244.05gをマグネティックスターラーにより攪拌しながら、数平均分子量約1,000の日立化成工業株式会社製ポリエステルアクリレート ヒタロイド(登録商標)7841 3.29g、トリス(2-アクリロキシエチル)イソシアヌレート4.39g、ペンタエリスリトールトリアクリレート5.48g、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート7.68g、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン1.10gの樹脂混合物を約15分間かけて徐々に添加し、その後約15分間攪拌を続けキシレン溶液中に完全に溶解させた。その後ロータリーエバポレーターを用いて72時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらキシレンを留去した。その時の水浴温は50℃とし、留去されたキシレンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、以下に示す手法により残留溶媒量と光散乱率を測定した。結果を表1に示す。   Hitachi Chemical Co., Ltd. with a number average molecular weight of about 1,000 while stirring 244.05 g of xylene solution containing 10% by weight of ITO fine particles with an average particle diameter of 10 nm containing a dispersant of 15% by weight with respect to the ITO weight with a magnetic stirrer Company made polyester acrylate Hitaloid (registered trademark) 7841 3.29 g, tris (2-acryloxyethyl) isocyanurate 4.39 g, pentaerythritol triacrylate 5.48 g, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate 7.68 g, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 1.10 g The resin mixture was gradually added over about 15 minutes and then stirred for about 15 minutes to completely dissolve in the xylene solution. Thereafter, xylene was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 72 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was 50 ° C., and the distilled xylene was appropriately removed from the system. The residual solvent amount and the light scattering rate of the photocurable resin composition obtained by the above operation were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

ITO重量に対して15重量%の分散剤を含有する平均粒径30nmのITO微粒子10重量%を分散させたトルエン溶液187.57gをマグネティックスターラーにより攪拌しながら、ペンタエリスリトールテトラアクリレート11.37g、N-ビニルカプロラクタム4.26g、イソボルニルメタクリレート11.37g、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン1.42gの樹脂混合物を約15分間かけて徐々に添加し、その後約15分間攪拌を続けトルエン溶液中に完全に溶解させた。その後ロータリーエバポレーターを用いて28時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらトルエンを留去した。その時の水浴温は50℃とし、留去されたトルエンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、以下に示す手法により残留溶媒量と光散乱率を測定した。結果を表1に示す。   While stirring 187.57 g of a toluene solution in which 10% by weight of ITO fine particles having an average particle diameter of 30 nm containing a dispersant of 15% by weight with respect to the weight of ITO was stirred with a magnetic stirrer, 11.37 g of pentaerythritol tetraacrylate, N-vinyl A resin mixture of 4.26 g caprolactam, 11.37 g isobornyl methacrylate, and 1.42 g 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one was gradually added over about 15 minutes, and then the stirring was continued for about 15 minutes. It was completely dissolved in the toluene solution. Thereafter, toluene was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 28 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was 50 ° C., and the distilled toluene was appropriately removed from the system. The residual solvent amount and the light scattering rate of the photocurable resin composition obtained by the above operation were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
ITO重量に対して20重量%の分散剤を含有する平均粒径10nmのITO微粒子5重量%を分散させたトルエン溶液375.14g中に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート10.99g、シクロヘキシルアクリレート15.12g、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン1.37gの樹脂混合物を一度に添加した。その後ロータリーエバポレーターを用いて48時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらトルエンを留去した。その時の水浴温は50℃とし、留去されたトルエンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、以下に示す手法により残留溶媒量と光散乱率を測定した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
Pentaerythritol tetraacrylate 10.99g, cyclohexyl acrylate 15.12g, 2,2 in 375.14g of toluene solution in which 5% by weight of ITO fine particles with an average particle diameter of 10nm containing 20% by weight of dispersant is contained with respect to the weight of ITO. -Dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one 1.37 g of resin mixture was added in one portion. Thereafter, toluene was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 48 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was 50 ° C., and the distilled toluene was appropriately removed from the system. The residual solvent amount and the light scattering rate of the photocurable resin composition obtained by the above operation were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
ITO重量に対して20重量%の分散剤を含有する平均粒径10nmのITO微粒子5重量%を分散させたトルエン溶液375.14gをマグネティックスターラーにより攪拌しながら、ペンタエリスリトールテトラアクリレート10.99g、シクロヘキシルアクリレート15.12g、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン1.37gの樹脂混合物を約15分間かけて徐々に添加し、その後約15分間攪拌を続けトルエン溶液中に完全に溶解させた。その後ロータリーエバポレーターを用いて6時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらトルエンを留去した。その時の水浴温は50℃とし、留去されたトルエンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、以下に示す手法により残留溶媒量と光散乱率を測定した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
While stirring 375.14 g of a toluene solution in which 5% by weight of ITO fine particles having an average particle diameter of 10 nm containing a dispersant of 20% by weight with respect to the weight of ITO was stirred with a magnetic stirrer, 10.99 g of pentaerythritol tetraacrylate, 15.12 of cyclohexyl acrylate g, 1.37 g of resin mixture of 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one was gradually added over about 15 minutes, and then stirred for about 15 minutes to completely dissolve in the toluene solution. . Thereafter, toluene was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 6 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was 50 ° C., and the distilled toluene was appropriately removed from the system. The residual solvent amount and the light scattering rate of the photocurable resin composition obtained by the above operation were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

(比較例3)
ITO重量に対して20重量%の分散剤を含有する平均粒径10nmのITO微粒子5重量%を分散させたトルエン溶液375.14gをマグネティックスターラーにより攪拌しながら、ペンタエリスリトールテトラアクリレート10.99g、シクロヘキシルアクリレート15.12g、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン1.37gの樹脂混合物を約15分間かけて徐々に添加し、その後約15分間攪拌を続けトルエン溶液中に完全に溶解させた。その後ロータリーエバポレーターを用いて48時間で大気圧から2hPsまで圧力を低下させながらトルエンを留去した。その時の水浴温は50℃から110℃に徐々に上昇させ、留去されたトルエンは適宜系内から取り除いた。以上の操作により得られた光硬化型樹脂組成物は、ゲル状となった。
(Comparative Example 3)
While stirring 375.14 g of a toluene solution in which 5% by weight of ITO fine particles having an average particle diameter of 10 nm containing a dispersant of 20% by weight with respect to the weight of ITO was stirred with a magnetic stirrer, 10.99 g of pentaerythritol tetraacrylate, 15.12 of cyclohexyl acrylate g, 1.37 g of resin mixture of 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one was gradually added over about 15 minutes, and then stirred for about 15 minutes to completely dissolve in the toluene solution. . Thereafter, toluene was distilled off while reducing the pressure from atmospheric pressure to 2 hPs in 48 hours using a rotary evaporator. The water bath temperature at that time was gradually raised from 50 ° C. to 110 ° C., and the distilled toluene was appropriately removed from the system. The photocurable resin composition obtained by the above operation became a gel.

(残留溶媒量の測定)
残留溶媒量は、得られた光硬化型樹脂組成物の重量と光硬化型樹脂組成物の各構成成分の仕込み重量から分散溶媒重量を除いた重量より算出した。
(Measurement of residual solvent amount)
The amount of residual solvent was calculated from the weight of the obtained photocurable resin composition and the weight obtained by removing the weight of the dispersion solvent from the charged weight of each component of the photocurable resin composition.

(散乱率の測定)
得られた光硬化型樹脂組成物を、2枚の互いに並行に対向させたOHRA株式会社製ガラスS-BSL7間に厚さ約10μmとなるように展開し、HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社製スポットUV光源装置EXECURE(登録商標)3000を用いて照射量3,000mJ/cm2で光硬化した後、一方のガラス基板を剥離し散乱率測定用サンプルを得た。得られたサンプルは積分球を備えた株式会社日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計U-4000を用いて、硬化させた樹脂側から光を入射することにより散乱率を測定した。
(Measurement of scattering rate)
The resulting photocurable resin composition was developed so that the thickness was about 10 μm between two sheets of OHRA glass S-BSL7 facing each other in parallel, and a spot UV light source manufactured by HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd. After photocuring using an apparatus EXECURE (registered trademark) 3000 at an irradiation amount of 3,000 mJ / cm 2 , one glass substrate was peeled off to obtain a sample for scattering rate measurement. The scattering rate of the obtained sample was measured by making light incident from the cured resin side using a spectrophotometer U-4000 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation equipped with an integrating sphere.

Figure 2006342254
Figure 2006342254

表1は各実施例および比較例により得られた光硬化型樹脂組成物の残留溶媒量と、散乱率の評価結果である。   Table 1 shows the evaluation results of the residual solvent amount and scattering rate of the photocurable resin composition obtained in each example and comparative example.

残留溶媒量は実施例1〜5および比較例1において良好な値を示したが、比較例2は分散溶媒の除去時間が少ないため0.3wt%以上の残留溶媒量であった。   Although the residual solvent amount showed a good value in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, Comparative Example 2 had a residual solvent amount of 0.3 wt% or more because the removal time of the dispersed solvent was short.

散乱率は用いる光学系およびその素子厚により要求特性が変化する為に一概に評価することは難しいが、一般に10μmの膜厚で1%以下であることが望まれる。実施例1〜5において、散乱率は1%以下の良好な値を示したが、比較例1では樹脂成分の添加時に微粒子の凝集が起こった為に、1%を超える散乱率となったものと思われる。また、比較例2では分散溶媒除去の工程が短時間であった為、急速に分散溶媒が除去され微粒子凝集した為、1%を超える散乱率となったものと思われる。   The scattering rate is difficult to evaluate because the required characteristics vary depending on the optical system used and its element thickness, but it is generally desirable that the scattering rate be 1% or less at a film thickness of 10 μm. In Examples 1 to 5, the scattering rate showed a good value of 1% or less, but in Comparative Example 1, the scattering rate exceeded 1% due to the aggregation of fine particles when the resin component was added. I think that the. In Comparative Example 2, the dispersion solvent removal process was performed in a short time, so the dispersion solvent was rapidly removed and the fine particles were aggregated. Thus, it is considered that the scattering rate exceeded 1%.

なお、比較例3は光硬化型樹脂組成物がゲル状となった為、実用上不適と判断した。   In Comparative Example 3, since the photocurable resin composition became a gel, it was determined to be unsuitable for practical use.

Claims (5)

不飽和二重結合を有する官能基を少なくとも2つ以上有する多官能モノマーと不飽和二重結合を有する官能基を1つ有する単官能モノマーと光重合開始剤とインジウム錫酸化物微粒子を含有することを特徴とする光硬化型樹脂組成物の製造方法。   A polyfunctional monomer having at least two functional groups having an unsaturated double bond; a monofunctional monomer having one functional group having an unsaturated double bond; a photopolymerization initiator; and indium tin oxide fine particles. The manufacturing method of the photocurable resin composition characterized by these. 不飽和二重結合を有する官能基を少なくとも2つ以上有するオリゴマー成分と、不飽和二重結合を有する官能基を少なくとも2つ以上有する多官能モノマーと不飽和二重結合を有する官能基を1つ有する単官能モノマーと光重合開始剤とインジウム錫酸化物微粒子を含有することを特徴とする光硬化型樹脂組成物の製造方法。   One oligomer component having at least two functional groups having an unsaturated double bond, one polyfunctional monomer having at least two functional groups having an unsaturated double bond, and one functional group having an unsaturated double bond The manufacturing method of the photocurable resin composition characterized by including the monofunctional monomer which has, a photoinitiator, and an indium tin oxide microparticle. オリゴマー成分の数平均分子量が1000から5000であることを特徴とする請求項2記載の光硬化型樹脂組成物の製造方法。   The method for producing a photocurable resin composition according to claim 2, wherein the oligomer component has a number average molecular weight of 1,000 to 5,000. 光硬化型樹脂組成物中に占めるオリゴマー成分の重量比が有機成分中30重量パーセント以下であることを特徴とする請求項2から3記載の光硬化型樹脂組成物の製造方法。   4. The method for producing a photocurable resin composition according to claim 2, wherein the weight ratio of the oligomer component in the photocurable resin composition is 30% by weight or less in the organic component. インジウム錫酸化物微粒子の粒子径が1から100nmであることを特徴とする請求項1から4記載の光硬化型樹脂組成物の製造方法。   5. The method for producing a photocurable resin composition according to claim 1, wherein the particle diameter of the indium tin oxide fine particles is 1 to 100 nm.
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