JP5863265B2 - Optical element and multilayer diffractive optical element - Google Patents

Optical element and multilayer diffractive optical element Download PDF

Info

Publication number
JP5863265B2
JP5863265B2 JP2011086139A JP2011086139A JP5863265B2 JP 5863265 B2 JP5863265 B2 JP 5863265B2 JP 2011086139 A JP2011086139 A JP 2011086139A JP 2011086139 A JP2011086139 A JP 2011086139A JP 5863265 B2 JP5863265 B2 JP 5863265B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
optical element
refractive index
resin
diffractive optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2011086139A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012220711A (en
Inventor
宇久田 秀雄
秀雄 宇久田
英史 岩佐
英史 岩佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2011086139A priority Critical patent/JP5863265B2/en
Priority to PCT/JP2012/002230 priority patent/WO2012137452A1/en
Publication of JP2012220711A publication Critical patent/JP2012220711A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5863265B2 publication Critical patent/JP5863265B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1866Transmission gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0073Optical laminates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0074Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
    • B29D11/00769Producing diffraction gratings
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1876Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

本発明はカメラやビデオ等に使用される光学素子および多層回折光学素子に関するものである。   The present invention relates to an optical element and multilayer diffractive optical element used for a camera, a video, and the like.

従来から光の屈折を利用した屈折光学系では、分散特性の異なる硝材からなるレンズを組み合わせることによって色収差を減らしている。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材を正レンズ、分散の大きい硝材を負レンズとし、これらを組み合わせて用いることで軸上に現れる色収差を補正している。しかしながら、レンズの構成や枚数が制限される場合や、使用される硝材が限られている場合などでは、色収差を十分に補正することが困難な場合があった。   Conventionally, in a refractive optical system using light refraction, chromatic aberration is reduced by combining lenses made of glass materials having different dispersion characteristics. For example, in an objective lens such as a telescope, a glass material with small dispersion is used as a positive lens and a glass material with high dispersion is used as a negative lens, and these are used in combination to correct chromatic aberration appearing on the axis. However, when the configuration and number of lenses are limited, or when the glass material used is limited, it may be difficult to sufficiently correct chromatic aberration.

非特許文献1には、屈折面を有する屈折光学素子と回折格子を有する回折光学素子とを組み合わせて用いることで、少ないレンズの枚数で色収差を抑制することが開示されている。   Non-Patent Document 1 discloses that chromatic aberration is suppressed with a small number of lenses by using a combination of a refractive optical element having a refractive surface and a diffractive optical element having a diffraction grating.

これは、光学素子としての屈折面と回折面とでは、ある基準波長の光線に対する色収差の発生する方向が、逆になるという物理現象を利用したものである。また回折光学素子に連続して形成された回折格子の周期を変化させることで、非球面レンズと同等の特性を発現することができる。   This utilizes the physical phenomenon that the direction in which chromatic aberration occurs with respect to a light beam having a certain reference wavelength is reversed between the refracting surface and the diffractive surface as an optical element. Further, by changing the period of the diffraction grating formed continuously in the diffractive optical element, it is possible to exhibit characteristics equivalent to those of the aspherical lens.

しかしながら、回折光学素子に入射した1本の光線は、回折作用により各次数の複数の光に分かれる。この時、設計次数以外の回折光は、設計次数の光線とは別な所に結像してフレアの発生要因となる。   However, one light beam incident on the diffractive optical element is divided into a plurality of lights of each order by the diffraction action. At this time, the diffracted light other than the design order forms an image at a place different from the light of the design order and causes flare.

特許文献1には、相対的に低屈折率高分散な光学材料と高屈折率低分散な光学材料を用いて使用波長領域の光束を特定の次数(以後設計次数と言う)に集中させることで、それ以外の回折次数の回折光の強度を低く抑え、フレアの発生を防止している。   In Patent Document 1, by using a relatively low-refractive-index and high-dispersion optical material and a high-refractive-index and low-dispersion optical material, the luminous flux in the operating wavelength region is concentrated to a specific order (hereinafter referred to as a design order). The intensity of diffracted light of other diffraction orders is kept low, and flare is prevented.

また、特許文献1では、広い波長範囲で高い回折効率を有する構成を得るために、相対的に低屈折率高分散な光学材料に屈折率が低く(nが1.48<n<1.57)かつ屈折率分散が高く(アッベ数《ν》が14<ν<28)かつ2次分散特性の低い(《θgF》が0.34<θgF<0.47)性質の材料と、相対的に高屈折率低分散な光学材料に屈折率が高く(nが1.54<n<1.63)かつ屈折率分散が高い(アッベ数《ν》が44<ν<57)性質の材料を紫外線硬化等により、形状を付与することにより可視領域全域における回折効率を向上させている。 In Patent Document 1, in order to obtain a configuration having high diffraction efficiency in a wide wavelength range, a relatively low refractive index low refractive index high dispersion optical material (n d is 1.48 <n d <1 .57) and refractive index dispersion is high (Abbe's number "[nu d" is 14 <ν d <28) and low second-order dispersion characteristic ( "theta gF" is 0.34 <θ gF <0.47) properties material and a relatively high refractive index and low dispersion of refractive index in the optical material is high (n d is 1.54 <n d <1.63) and a higher refractive index dispersion (Abbe number "[nu d" is 44 < The diffraction efficiency in the entire visible region is improved by imparting a shape to the material having ν d <57) by ultraviolet curing or the like.

特許文献1における低屈折率高分散な光学材料は、屈折率分散が高く、2次分散特性の低い性質を示す透明導電性金属酸化物を、低屈折率のバインダー樹脂に微粒子として混合・分散させた複合材料を紫外線により硬化する事により得られる。また、透明導電性金属酸化物としては、ITO等の透明導電性金属酸化物が用いられている。   The optical material having a low refractive index and high dispersion in Patent Document 1 is obtained by mixing and dispersing a transparent conductive metal oxide having a high refractive index dispersion and a low secondary dispersion characteristic as fine particles in a low refractive index binder resin. It is obtained by curing the composite material with ultraviolet rays. Moreover, as the transparent conductive metal oxide, a transparent conductive metal oxide such as ITO is used.

特開2008−203821号公報JP 2008-203821 A

A.D.Kathman and S.K.Pitalo、「Binary Optics in Lens Design」、International Lens Design Conference」、1990、SPIE Vol.1354、p297から309A. D. Katman and S.K. K. Pitalo, “Binary Optics in Lens Design”, International Lens Design Conference ”, 1990, SPIE Vol. 1354, p297 to 309

ITO等の透明導電性微粒子の分散材料を一部に用いた多層回折光学素子は、可視域全体の高い回折効率状態を示す。しかしながら、使用環境下で、ITO分散材料の光学特性が変動する。その事により、多層回折光学素子の可視域全体の高い回折効率の状態がなくなる。   A multilayer diffractive optical element partially using a transparent conductive fine particle dispersion material such as ITO exhibits a high diffraction efficiency state in the entire visible range. However, the optical properties of the ITO dispersion material vary under the usage environment. This eliminates the state of high diffraction efficiency over the entire visible range of the multilayer diffractive optical element.

本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、可視域全体の高い回折効率状態を経時変化することなく維持することができる光学素子および多層回折光学素子を提供するものである。   The present invention has been made in view of such a background art, and provides an optical element and a multilayer diffractive optical element that can maintain a high diffraction efficiency state in the entire visible region without changing with time. .

上記の課題を解決する光学素子は、2つの透明基板の間に樹脂層を有する光学素子であって、一方の透明基板上に、インジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を1体積%以上29体積%以下含有する樹脂で形成された第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、前記第2の層と他方の透明基材の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、前記酸素を供給する閉鎖空間の酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする。 An optical element that solves the above-described problem is an optical element having a resin layer between two transparent substrates, and indium tin oxide (ITO) fine particles of 1% by volume or more and 29 volumes on one transparent substrate. % And a second layer that transmits oxygen, and a height of 50 μm or more and 5 mm between the second layer and the other transparent substrate. A closed space for supplying oxygen is provided, and the oxygen concentration in the closed space for supplying oxygen is 10% by volume or more and 100% by volume or less .

また、上記の課題を解決する光学素子は、2つの透明基板の間に樹脂層を有する光学素子であって、一方の透明基板上に、インジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を1体積%以上29体積%以下含有する樹脂で形成された第1の層を有し、前記第1の層と他方の透明性基材の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、前記酸素を供給する閉鎖空間に含有される酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする。 An optical element that solves the above-described problem is an optical element having a resin layer between two transparent substrates, and on one transparent substrate, indium tin oxide (ITO) fine particles are 1 vol% or more. having a first layer formed of a resin containing 29% by volume or less, between the first layer and the other transparent substrate, the height is a closed space for supplying less oxygen 5mm above 50μm The concentration of oxygen contained in the closed space for supplying oxygen is 10% by volume or more and 100% by volume or less .

上記の課題を解決する多層回折光学素子は、2つの透明基板の間に樹脂層が設けられた多層回折光学素子であって、一方の透明基板上に、インジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を1体積%以上29体積%以下含有する樹脂で形成されており、回折格子形状を有する第1の層と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層とが、前記第1の層と前記第2の層の回折格子形状が対向するように積層されており、前記第2の層と他方の透明基板の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、前記酸素を供給する閉鎖空間に含有される酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする。 A multilayer diffractive optical element that solves the above-mentioned problems is a multilayer diffractive optical element in which a resin layer is provided between two transparent substrates, and fine particles of indium tin oxide (ITO) are placed on one transparent substrate. A first layer having a diffraction grating shape and a second layer having a diffraction grating shape on the surface of at least one side, which is formed of a resin containing 1% by volume or more and 29% by volume or less, and which transmits oxygen. The first layer and the second layer are laminated so that the diffraction grating shapes are opposed to each other, and oxygen having a height of 50 μm or more and 5 mm or less is supplied between the second layer and the other transparent substrate. A closed space is provided, and the concentration of oxygen contained in the closed space for supplying oxygen is 10% by volume to 100% by volume .

上記の課題を解決する多層回折光学素子は、2つの透明基板の間に樹脂層が設けられた多層回折光学素子であって、回折格子形状を有し、高屈折低分散材料からなる一方の透明基板上にインジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を1体積%以上29体積%以下含有する樹脂で形成されており、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第1の層が、前記一方の透明基板と前記第1の層の回折格子形状が対向するように積層されており、前記第1の層と他方の透明基板の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、
前記酸素を供給する閉鎖空間に含有される酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする。
A multilayer diffractive optical element that solves the above-mentioned problems is a multilayer diffractive optical element in which a resin layer is provided between two transparent substrates, and has one diffraction grating shape and is made of a transparent material made of a high refractive and low dispersion material. A first layer which is formed of a resin containing indium tin oxide (ITO) fine particles of 1 volume% or more and 29 volume% or less on a substrate and has a diffraction grating shape on at least one surface thereof is the one transparent A closed space for supplying oxygen having a height of 50 μm or more and 5 mm or less is provided between the first layer and the other transparent substrate so that the diffraction grating shapes of the substrate and the first layer are opposed to each other. Provided ,
The concentration of oxygen contained in the closed space for supplying oxygen is 10 volume% or more and 100 volume% or less .

本発明によれば、可視域全体の高い回折効率状態を経時変化することなく維持することができる光学素子および多層回折光学素子を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the optical element and multilayer diffractive optical element which can maintain the high diffraction efficiency state of the whole visible region, without changing with time can be provided.

本発明の多層回折光学素子の一実施態様を示す模式的図である。1 is a schematic diagram showing an embodiment of a multilayer diffractive optical element of the present invention. 本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。It is a schematic diagram which shows the other embodiment of the multilayer diffractive optical element of this invention. 本発明の多層回折光学素子の一実施態様を示す模式的図である。1 is a schematic diagram showing an embodiment of a multilayer diffractive optical element of the present invention. 本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。It is a schematic diagram which shows the other embodiment of the multilayer diffractive optical element of this invention. 屈折率測定用サンプルの作製方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the preparation methods of the sample for refractive index measurement. 回折効率の評価用多層回折光学素子の作製方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the preparation methods of the multilayer diffractive optical element for evaluation of diffraction efficiency. 回折効率の評価用多層回折光学素子の作製方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the preparation methods of the multilayer diffractive optical element for evaluation of diffraction efficiency. 実施例の屈折率測定用サンプル構造を示す模式図である。3 is a schematic diagram illustrating a sample structure for refractive index measurement of Example 1. FIG. 実施例の回折効率の評価用多層回折光学素子の構造を示す模式図である。2 is a schematic diagram illustrating a structure of a multilayer diffractive optical element for evaluating diffraction efficiency of Example 1. FIG. 比較例1の屈折率測定用サンプル構造を示す模式図である。5 is a schematic diagram showing a sample structure for refractive index measurement of Comparative Example 1. FIG. 比較例1の回折効率の評価用多層回折光学素子の構造を示す模式図である。6 is a schematic diagram showing the structure of a multilayer diffractive optical element for evaluation of diffraction efficiency in Comparative Example 1. FIG.

光学素子の作製において、ITO微粒子および単量体を含有する樹脂組成物に紫外線および短波長の可視光を照射して硬化させて樹脂からなる光学材料を作製する。通常の使用下においては、紫外線および短波長の可視光による樹脂の光化学反応により、ラジカルが発生する。発生したラジカルはITO微粒子にトラップされ、ITOのキャリアとして作用する。この際に、ラジカルによりITOは還元され、屈折率、光の吸収等の光学特性が変動して影響を与える。具体的には、可視域の長波長側(λ=500から700nm)の屈折率・吸収が大きく変化する。その結果、初期の光学素子の高回折効率状態がITO分散材料の屈折率変動により、回折条件からずれ、回折効率が悪化する。   In the production of the optical element, the resin composition containing the ITO fine particles and the monomer is irradiated with ultraviolet rays and visible light having a short wavelength and cured to produce an optical material made of a resin. Under normal use, radicals are generated by the photochemical reaction of the resin with ultraviolet light and visible light having a short wavelength. The generated radicals are trapped in the ITO fine particles and act as ITO carriers. At this time, ITO is reduced by radicals, and optical characteristics such as refractive index and light absorption are changed and influenced. Specifically, the refractive index / absorption on the long wavelength side (λ = 500 to 700 nm) in the visible region changes greatly. As a result, the high diffraction efficiency state of the initial optical element deviates from the diffraction conditions due to the refractive index variation of the ITO dispersion material, and the diffraction efficiency deteriorates.

本発明者らは、大気中の酸素を取り込んでITO分散材料に接触させることにより、ITO微粒子にトラップされたラジカルを酸素により消滅させ、還元状態のITOを酸化して元の状態に戻すことにより、屈折率、光の吸収等の光学特性を改善することを見出した。   By taking oxygen in the atmosphere and bringing it into contact with the ITO dispersion material, the present inventors extinguish radicals trapped in the ITO fine particles by oxygen, and oxidize the reduced ITO to return it to its original state. It has been found that optical properties such as refractive index and light absorption are improved.

本発明に係る光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。   An optical element according to the present invention includes a first layer formed by energy-curing a resin composition containing fine particles and a monomer made of a transparent conductive material on a transparent substrate, and a second layer that transmits oxygen. And a space for supplying oxygen is provided on the second layer.

また、本発明に係る光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層を有し、前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。   The optical element according to the present invention includes a first layer formed by energy curing a resin composition containing fine particles and a monomer made of a transparent conductive material on a transparent substrate, A space for supplying oxygen is provided on this layer.

本発明に係る多層回折光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂よりなる、回折格子形状を有する第1の層と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層とが、前記第1の層と前記第2の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。   The multilayer diffractive optical element according to the present invention has a diffraction grating shape made of a resin formed by energy curing a resin composition containing fine particles and a monomer made of a transparent conductive material on a transparent substrate. A layer and a second layer that transmits oxygen and has a diffraction grating shape on at least one surface thereof, are laminated so that the diffraction grating shapes of the first layer and the second layer face each other; and A space for supplying oxygen is provided on the second layer.

また、本発明に係る多層回折光学素子は、回折格子形状を有し、高屈折低分散材料からなる透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂からなり、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第1の層が、前記透明基板と前記第1の層の回折格子形状が対向するように積層されており、かつ前記第1の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。   The multilayer diffractive optical element according to the present invention has a diffraction grating shape, and energy cures a resin composition containing fine particles and monomers made of a transparent conductive material on a transparent substrate made of a high refractive and low dispersion material. A first layer having a diffraction grating shape on at least one surface is laminated such that the transparent substrate and the diffraction grating shape of the first layer face each other, and the first layer A space for supplying oxygen is provided on one layer.

上記の様に、本発明の光学素子において、第2の層の上に酸素を供給する空間をもつことにより、透明導電性物質を分散した材料が紫外線や光により長波長の屈折率・透過率の変動を、抑制することが出来る。   As described above, the optical element of the present invention has a space for supplying oxygen on the second layer, so that the material in which the transparent conductive material is dispersed can be converted into a long wavelength refractive index / transmittance by ultraviolet rays or light. Can be suppressed.

前記第1の層が低屈折率高分散材料からなり、前記第2の層が高屈折低分散材料からなることが好ましい。   It is preferable that the first layer is made of a low refractive index and high dispersion material, and the second layer is made of a high refractive index and low dispersion material.

前記第1の層及び第2の層がエネルギー硬化型の樹脂からなり、前記樹脂がアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも一種からなるラジカル硬化型の樹脂であることが好ましい。   Preferably, the first layer and the second layer are made of an energy curable resin, and the resin is a radical curable resin made of at least one selected from an acrylic resin, a vinyl resin, and an epoxy resin. .

以下、本発明に係る光学素子を詳細に説明する。   Hereinafter, the optical element according to the present invention will be described in detail.

本発明に係る光学素子は、透明基板上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含有する樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、かつ前記第2の層の上に酸素を供給する空間が設けられていることを特徴とする。   An optical element according to the present invention includes a first layer formed by energy-curing a resin composition containing fine particles and a monomer made of a transparent conductive material on a transparent substrate, and a second layer that transmits oxygen. And a space for supplying oxygen is provided on the second layer.

透明基板には、例えばガラス基板およびガラスレンズ等が用いられる。   As the transparent substrate, for example, a glass substrate and a glass lens are used.

(第1の層について)
本発明において、第1の層を形成するための樹脂組成物は、透明導電性物質からなる微粒子、単量体、分散溶媒、表面処理剤、分散剤(界面活性剤)、単量体等を含有する組成物からなる。
(About the first layer)
In the present invention, the resin composition for forming the first layer includes fine particles made of a transparent conductive material, a monomer, a dispersion solvent, a surface treatment agent, a dispersant (surfactant), a monomer, and the like. It consists of a composition to contain.

本発明の第1の層を構成する樹脂に含有される微粒子の透明導電性物質の好適な例としては、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン、インジウム錫酸化物(ITO)、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、及び、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)が挙げられる。特に、インジウム錫酸化物(ITO)を用いることが好ましい。インジウム錫酸化物(ITO)は現存する物質の中で2次分散特性(θgF)が小さく中で最も透明性を維持する物質である。ただし、これは将来、2次分散特性(θgF)が小さくインジウム錫酸化物(ITO)よりも透明性な物質が出現した際、その使用を限定するものではない。   Preferred examples of the fine transparent conductive material contained in the resin constituting the first layer of the present invention include zinc oxide, indium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium tin oxide (ITO), and antimony. Examples include doped tin oxide (ATO), zinc-doped indium oxide (IZO), aluminum-doped zinc oxide (AZO), and fluorine-doped tin oxide (FTO). In particular, indium tin oxide (ITO) is preferably used. Indium tin oxide (ITO) is a material that has the lowest secondary dispersion characteristic (θgF) among the existing materials and maintains the most transparency. However, this does not limit the use of a material having a small secondary dispersion characteristic (θgF) and more transparent than indium tin oxide (ITO) in the future.

またベース樹脂となる単量体、前記微粒子を、あらかじめ分散させておく溶媒に適応させて、微粒子表面に種々の表面処理剤、分散剤を用いることが好適である。   In addition, it is preferable to use various surface treatment agents and dispersants on the surface of the fine particles in accordance with a solvent in which the monomer serving as the base resin and the fine particles are previously dispersed.

微粒子の平均粒径としては、光透過率、光学散乱等に悪影響を及ぼさない大きさの粒子径であることが望ましく、1nm以上100nm以下、好ましくは2nm以上30nm以下、特に2nm以上20nm以下の範囲であることが好ましい。しかし例えば平均粒径が20nm以下であっても、微粒子の凝集した場合も含めて、粒子径の分布が幅広く30nmより大きな粒子径の粒子が体積分率で全微粒子の5%以上の割合になると光学散乱に大きな悪化の影響を及ぼす。その場合には、取り除きたい粒子サイズより比較的小さな細孔を持つフィルターで濾過処理をして、不要な大きな微粒子を取り除くことが好ましい。微粒子を取り除く時期は、ベース樹脂を混ぜる前の溶媒に微粒子が分散した状態(微粒子分散液)か、若しくは微粒子分散液にベース樹脂を溶解させた状態か、若しくは粘度により可否はあるが、前記状態で溶媒を除去してベース樹脂と微粒子の無溶媒系にした状態が好ましい。   The average particle size of the fine particles is preferably a particle size that does not adversely affect light transmittance, optical scattering, etc., and is in the range of 1 nm to 100 nm, preferably 2 nm to 30 nm, particularly 2 nm to 20 nm. It is preferable that However, for example, even when the average particle size is 20 nm or less, the particles having a wide particle size distribution and a particle size larger than 30 nm, including the case where the fine particles are aggregated, have a volume fraction of 5% or more of the total fine particles. Greatly affects the optical scattering. In that case, it is preferable to remove unnecessary large fine particles by performing filtration with a filter having pores relatively smaller than the particle size to be removed. The timing of removing the fine particles may or may not depend on whether the fine particles are dispersed in the solvent before the base resin is mixed (fine particle dispersion), the base resin is dissolved in the fine particle dispersion, or the viscosity. The solvent is preferably removed in a solvent-free system of the base resin and fine particles.

微粒子には必要に応じて表面処理を施しておくことが望ましい。各表面処理は微粒子の合成、作製段階で行っても良いし、単独で微粒子を得た後に別途行っても良い。   It is desirable to subject the fine particles to surface treatment as necessary. Each surface treatment may be performed at the stage of synthesis and production of fine particles, or may be performed separately after obtaining fine particles alone.

前記第1の層を形成するための樹脂組成物における前記透明導電性物質からなる微粒子の体積含有率が1vol.%以上29vol.%以下、好ましくは5vol.%以上23vol.%以下であることが望ましい。   The volume content of the fine particles made of the transparent conductive material in the resin composition for forming the first layer is 1 vol. % Or more 29 vol. % Or less, preferably 5 vol. % Or more and 23 vol. % Or less is desirable.

本発明に用いる分散溶媒の例としては、バインダー成分を溶解するため若しくは微粒子を溶媒に分散させておくため、必要に応じて表面処理剤、分散剤を溶解させるため、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、DMF、DMAc、NMP等のアミド系、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ブチルカルビトール等のエチル類、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。用いる微粒子の親和性、表面処理剤、分散剤の親和性に合わせて分散溶媒を選択することができ、また有溶媒は1種類のみで使用することもできるし、分散性を損なわない範囲において2種類以上を併用して使用することもできる。分散溶媒は樹脂組成物の作成工程で除去される。   Examples of the dispersion solvent used in the present invention include toluene, benzene, xylene and the like for dissolving the binder component or for dispersing fine particles in the solvent, and for dissolving the surface treatment agent and the dispersant as necessary. Aromatic hydrocarbons, alcohols such as ethanol and isopropanol, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, acetates such as ethyl acetate and butyl acetate, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, amides such as DMF, DMAc and NMP , Aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane, ethyls such as diethyl ether and butyl carbitol, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and carbon tetrachloride, and the like, but are not limited thereto. The dispersion solvent can be selected in accordance with the affinity of the fine particles to be used, the surface treatment agent, and the affinity of the dispersing agent, and only one kind of solvent can be used. It can also be used in combination of more than one type. The dispersion solvent is removed in the process of preparing the resin composition.

第1の層を形成するための樹脂組成物に含有される分散溶媒の含有量は、第1の層を形成する樹脂組成物に対して0.2重量%以下、好ましくは0.05重量%以下が望ましい。   The content of the dispersion solvent contained in the resin composition for forming the first layer is 0.2% by weight or less, preferably 0.05% by weight, based on the resin composition forming the first layer. The following is desirable.

また、本発明において微粒子を凝集しないよう均一に分散させるための表面処理剤、分散剤(界面活性剤)に関しては以下のものが望ましい。一般に表面処理剤、分散剤を用いて微粒子を溶媒、樹脂等に分散する場合、添加する表面処理剤、分散剤の種類、添加量、分子量、極性、親和性等によって全く異なった分散状態を示すことが知られている。本発明に使用する表面処理剤、分散剤としては顔料の誘導体や樹脂型や活性剤型のものを好適に用いることができる。ここで表面処理剤、分散剤としては、カチオン系、弱カチオン系、ノニオン系あるいは両性界面活性剤が有効である。特にポリエステル系、ε−カプロラクトン系、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ハイドロステアリン酸塩、アミドスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、オレフィンマレイン酸塩共重合物、アクリル−マレイン酸塩共重合物、アルキルアミン酢酸塩、アルキル脂肪酸塩、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル系、シリコーン系、フッ素系を用いることができるが、本発明においてはアンモニアよび有機アミン類から選択される少なくとも一種の塩基系のものを用いることが好適である。具体的にはディスパービックシリーズ(ビッグケミー・ジャパン社製)の中ではディスパービック161、162、163、164、ソルスパースシリーズ(ゼネガ社製)の中ではソルスパース3000、9000、17000、20000、24000、41090あるいはTAMNシリーズ(日光ケミカル社製)の中ではTAMN−15等のアルキルアミンのPO若しくはEO変成物がある。また、分散剤は1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。   In the present invention, the following surface treatment agent and dispersant (surfactant) for uniformly dispersing fine particles so as not to aggregate are desirable. In general, when fine particles are dispersed in a solvent, resin, etc. using a surface treatment agent and a dispersant, the dispersion state is completely different depending on the type, amount, molecular weight, polarity, affinity, etc. of the surface treatment agent and dispersant to be added. It is known. As the surface treatment agent and dispersant used in the present invention, pigment derivatives, resin types and activator types can be suitably used. Here, as the surface treating agent and the dispersing agent, cationic, weak cationic, nonionic or amphoteric surfactants are effective. Especially polyester-based, ε-caprolactone-based, polycarboxylate, polyphosphate, hydrostearate, amide sulfonate, polyacrylate, olefin maleate copolymer, acrylic-maleate copolymer, Alkylamine acetates, alkyl fatty acid salts, fatty acid polyethylene glycol esters, silicones, and fluorines can be used. In the present invention, at least one base selected from ammonia and organic amines should be used. Is preferred. Specifically, in the Dispersic series (manufactured by Big Chemie Japan), in the Dispersic 161, 162, 163, 164, in the Solsperse series (manufactured by Zenega), Solsperse 3000, 9000, 17000, 20000, 24000, 41090 Alternatively, in the TAMN series (manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd.), there are PO or EO modified products of alkylamines such as TAMN-15. Moreover, a dispersing agent can also be used only by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more types.

第1の層を形成するための樹脂組成物に含有される表面処理剤、分散剤の含有量は、大きく分けて表面処理剤、分散剤の種類、微粒子の種類、微粒子の表面積(微粒子径)、微粒子を混合する分散樹脂の種類等、分散溶媒の種類に応じて異なってくるが、微粒子の重量に対して0.1重量%以上25.0重量%以下、好ましくは4.0重量%以上20.0重量%以下の範囲であることが望ましい。分散剤の添加量が25.0重量%より多すぎると白濁の原因となり光学的散乱が生じてしまうため、また微粒子を含有して得られた組成物の特性(屈折率、アッベ数、2次分散特性、弾性率等)を必要以上に低下させる。   The content of the surface treatment agent and the dispersant contained in the resin composition for forming the first layer is roughly divided into the surface treatment agent, the kind of the dispersant, the kind of fine particles, and the surface area (fine particle diameter) of the fine particles. Depending on the type of dispersion solvent, such as the type of dispersion resin in which the fine particles are mixed, it is 0.1% by weight or more and 25.0% by weight or less, preferably 4.0% by weight or more, based on the weight of the fine particles. A range of 20.0% by weight or less is desirable. If the amount of the dispersant added is more than 25.0% by weight, white turbidity is caused and optical scattering occurs, and the characteristics of the composition obtained by containing fine particles (refractive index, Abbe number, secondary order) The dispersion characteristics, elastic modulus, etc.) are reduced more than necessary.

本発明においてベース樹脂としてのバインダー成分である単量体の選択としては前記透明導電性を有する金属酸化物微粒子が分散等している溶媒、表面処理剤、分散剤に良好に相溶するものが望ましい。   In the present invention, a monomer that is a binder component as a base resin is selected so that the transparent conductive metal oxide fine particles are well-dispersed in a solvent, a surface treatment agent, and a dispersing agent. desirable.

単量体としては分子内に1個以上の2重結合や3重結合を有するものであれば、特に限定はされないが、不飽和基含有化合物の単量体又はオリゴマーの具体的な例としては、1,4−ジビニルシクロヘキサン、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、4,4−ジメチル−ヘプタ−1−エン−6−イン、ジビニルベンゼン、1,6−ジビニルナフタレン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、エトキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、プロポキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、クリセリンやトリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−417G8号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。   The monomer is not particularly limited as long as it has one or more double bonds or triple bonds in the molecule. Specific examples of monomers or oligomers of unsaturated group-containing compounds include: 1,4-divinylcyclohexane, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 4,4-dimethyl-hept-1-ene-6-in, divinylbenzene, 1,6-divinylnaphthalene, N-vinylpyrrolidone, N -Monofunctional acrylates and methacrylates such as vinyl caprolactam, ethoxylated bisphenol A divinyl ether, propoxylated bisphenol A divinyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene Glico Di (meth) acrylate, polypropylene di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neoventyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipenta (Meth) acrylate after adding ethylene oxide or propylene oxide to polyhydric alcohol such as erythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, chryserin or trimethylolethane Urethane acrylates as described in JP-B-48-417G8, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, JP-A-48-6 Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, as described in No. 183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 Can be mentioned.

フッ素系の場合、好適な樹脂の例としては、フッ素アクリル系、フッ素メタクリル系、フッ素エポキシ系、フッ素ビニル系の単量体が挙げられる。具体的には2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルアクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチルアクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチルアクリレート、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチルアクリレート、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチルアクリレート、3−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピルアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチルアクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロへキサン1,6−ジアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチルメタクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチルメタクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチルメタクリレート、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチルメタクリレート、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチルメタクリレート、3−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチルメタクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロへキサン1,6−ジメタクリレート、ヘキサフルオロエポキシプロパン、3−パーフルオロブチル−1,2−エポキシプロパン、3−パーフルオロヘキシル−1,2−エポキシプロパン、3−パーフルオロオクチル−1,2−エポキシプロパン、3−パーフルオロデシル−1,2−エポキシプロパン、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル)−1,2−エポキシプロパン、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−1,2−エポキシプロパン、3−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−1,2−エポキシプロパン、3−(2,2,3,3−テトラフルオロプロポキシ)−1,2−エポキシプロパン、3−(1H,1H,5H−オクタフルオロペンチロキシ)−1,2−エポキシプロパン、3−(1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチロキシ)−1,2−エポキシプロパン、3−(1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニロキシ)−1,2−エポキシプロパン、1,4−ビス(2’,3’−エポキシプロピル)−パーフルオロ−n−ブタン等の単量体、及びそれらに類するものが挙げられる。   In the case of fluorine, examples of suitable resins include fluorine acrylic monomers, fluorine methacrylic monomers, fluorine epoxy monomers, and fluorine vinyl monomers. Specifically, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl Acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorohexyl) Fluorodecyl) ethyl acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl) ethyl acrylate, 3- (perfluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl acetate Rate, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl acrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl Acrylate, 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl acrylate, 1H-1 -(Trifluoromethyl) trifluoroethyl acrylate, 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl acrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane 1,6-diacrylate, 2 , 2,2-trifluoroethyl Methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl methacrylate, 3 -Perfluorohexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl methacrylate, 2- (perfluoro-3 -Methylbutyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-3-methylbutyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl methacrylate, 3- ( Perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 1H, 1H , 3H-tetrafluoropropyl methacrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl methacrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl methacrylate, 1H-1- (trifluoromethyl ) Trifluoroethyl methacrylate, 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl methacrylate, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane 1,6-dimethacrylate, hexafluoroepoxy Bread, 3-perfluorobutyl-1,2-epoxypropane, 3-perfluorohexyl-1,2-epoxypropane, 3-perfluorooctyl-1,2-epoxypropane, 3-perfluorodecyl-1,2 -Epoxypropane, 3- (perfluoro-3-methylbutyl) -1,2-epoxypropane, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -1,2-epoxypropane, 3- (perfluoro-7-methyl Octyl) -1,2-epoxypropane, 3- (2,2,3,3-tetrafluoropropoxy) -1,2-epoxypropane, 3- (1H, 1H, 5H-octafluoropentyloxy) -1, 2-epoxypropane, 3- (1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyloxy) -1,2-epoxypropane, 3- (1H, 1H Monomers such as 9H-hexadecafluorononyloxy) -1,2-epoxypropane, 1,4-bis (2 ′, 3′-epoxypropyl) -perfluoro-n-butane, and the like Can be mentioned.

それら単量体のいずれか一種に特に制限されるものではなく、重合体のフッ素樹脂を選択しても良い。またコポリマーとしてはセントラル硝子(株)の中では、No.702C、703C、704C、705C、706C、707Cに類するものが挙げられる。   It is not particularly limited to any one of these monomers, and a polymer fluororesin may be selected. As a copolymer, Central Glass Co., Ltd. Those similar to 702C, 703C, 704C, 705C, 706C, and 707C may be mentioned.

バインダー成分中の分子内に重合官能基を有するフッ素系単量体は一種類のみで使用することもできるし、二種類以上を併用して使用することもできる。また、先に述べたアクリレートやメタクリレートとの二種類以上を併用して用いることもできる。   The fluorine-type monomer which has a polymerization functional group in the molecule | numerator in a binder component can also be used only by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more types. Also, two or more of the above-mentioned acrylates and methacrylates can be used in combination.

第1の層を形成するための樹脂組成物に含有される単量体の含有量は、第1の層を形成する樹脂組成物に対して30重量%以上99重量%以下、好ましくは37重量%以上78重量%以下が望ましい。   The content of the monomer contained in the resin composition for forming the first layer is 30% by weight or more and 99% by weight or less, preferably 37% by weight with respect to the resin composition forming the first layer. % To 78% by weight is desirable.

エネルギー硬化の方法としてはプラズマ処理、熱処理、放射性、紫外線等のエネルギーにより開始剤を刺激して重合させることが可能であるが、レンズ等のレプリカ成形を考えた場合、光硬化であることが好ましい。具体的に利用可能な光重合開始剤としては、例えば、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ビス(2,46,−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、4−フェニルベンゾフェノン、4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジフェニルベンゾフェノン、4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン等を好適なものとして挙げることができる。硬化した樹脂の透明性を考慮した場合、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを用いるのが好ましい。   As an energy curing method, it is possible to polymerize by stimulating the initiator by energy such as plasma treatment, heat treatment, radioactivity, ultraviolet rays, etc., but when considering replica molding of a lens or the like, photocuring is preferable. . Specifically usable photopolymerization initiators include, for example, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, bis ( 2,46, -trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 4-phenylbenzophenone, 4-phenoxybenzophenone, 4,4′-diphenylbenzophenone, 4,4′-diphenoxybenzophenone and the like can be mentioned as suitable ones. . Considering the transparency of the cured resin, it is preferable to use 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone.

本発明にかかる樹脂の硬化・成形に利用する場合、可視光に吸収を有する微粒子の添加量によっても異なってくるが、バインダー成分に対して、光重合開始剤の添加量は0.01重量%以上10.00重量%以下の範囲に選択することが好ましい。光重合開始剤はバインダー成分との反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。   When used for curing and molding the resin according to the present invention, the amount of photopolymerization initiator added is 0.01% by weight based on the binder component, although it varies depending on the amount of fine particles having absorption in visible light. It is preferable to select in the range of 10.00% by weight or less. A photoinitiator can also be used only by 1 type according to the reactivity with a binder component, and the wavelength of light irradiation, and can also be used in combination of 2 or more types.

(第2の層について)
本発明において、酸素透過する第2の層を形成するための高屈折率低分散な樹脂組成物は、高屈折率低分散な物質からなる微粒子、単量体、分散溶媒、表面処理剤、分散剤(界面活性剤)、単量体を含有する組成物からなる。
(About the second layer)
In the present invention, the high refractive index and low dispersion resin composition for forming the oxygen permeable second layer includes fine particles, monomers, a dispersion solvent, a surface treatment agent, a dispersion composed of a high refractive index and low dispersion material. It consists of a composition containing an agent (surfactant) and a monomer.

本発明の第2の層を構成する樹脂に含有される微粒子の高屈折率低分散の好適な例としては、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等があげられる。ただし、これは将来、高屈折率低分散な物質が出現した際、その使用を限定するものではない。また、第2の層に樹脂にフッ素樹脂等を用いた場合、その屈折率差より屈折率を高める微粒子が不要な場合もある。   Preferable examples of the high refractive index and low dispersion of the fine particles contained in the resin constituting the second layer of the present invention include aluminum oxide and zirconium oxide. However, this does not limit the use of a material having a high refractive index and low dispersion in the future. Further, when a fluororesin or the like is used as the resin for the second layer, fine particles whose refractive index is higher than the refractive index difference may be unnecessary.

またベース樹脂となる単量体、前記微粒子を、あらかじめ分散させておく溶媒に適応させて、微粒子表面に種々の表面処理剤、分散剤を用いることが好適である。   In addition, it is preferable to use various surface treatment agents and dispersants on the surface of the fine particles in accordance with a solvent in which the monomer serving as the base resin and the fine particles are previously dispersed.

微粒子の平均粒径としては、光透過率、光学散乱等に悪影響を及ぼさない大きさの粒子径であることが望ましく、1nm以上100nm以下、好ましくは2nm以上30nm以下、特に2nm以上20nm以下の範囲であることが好ましい。しかし例えば平均粒径が20nm以下であっても、微粒子の凝集した場合も含めて、粒子径の分布が幅広く30nmより大きな粒子径の粒子が体積分率で全微粒子の5%以上の割合になると光学散乱に大きな悪化の影響を及ぼす。その場合には、取り除きたい粒子サイズより比較的小さな細孔を持つフィルターで濾過処理をして、不要な大きな微粒子を取り除くことが好ましい。微粒子を取り除く時期は、ベース樹脂を混ぜる前の溶媒に微粒子が分散した状態(微粒子分散液)か、若しくは微粒子分散液にベース樹脂を溶解させた状態か、若しくは粘度により可否はあるが、前記状態で溶媒を除去してベース樹脂と微粒子の無溶媒系にした状態が好ましい。   The average particle size of the fine particles is preferably a particle size that does not adversely affect light transmittance, optical scattering, etc., and is in the range of 1 nm to 100 nm, preferably 2 nm to 30 nm, particularly 2 nm to 20 nm. It is preferable that However, for example, even when the average particle size is 20 nm or less, the particles having a wide particle size distribution and a particle size larger than 30 nm, including the case where the fine particles are aggregated, have a volume fraction of 5% or more of the total fine particles. Greatly affects the optical scattering. In that case, it is preferable to remove unnecessary large fine particles by performing filtration with a filter having pores relatively smaller than the particle size to be removed. The timing of removing the fine particles may or may not depend on whether the fine particles are dispersed in the solvent before the base resin is mixed (fine particle dispersion), the base resin is dissolved in the fine particle dispersion, or the viscosity. The solvent is preferably removed in a solvent-free system of the base resin and fine particles.

微粒子には必要に応じて表面処理を施しておくことが望ましい。各表面処理は微粒子の合成、作製段階で行っても良いし、単独で微粒子を得た後に別途行っても良い。   It is desirable to subject the fine particles to surface treatment as necessary. Each surface treatment may be performed at the stage of synthesis and production of fine particles, or may be performed separately after obtaining fine particles alone.

前記第2の層を形成するための樹脂組成物における前記透明導電性物質からなる微粒子の体積含有率が1vol.%以上29vol.%以下、好ましくは5vol.%以上23vol.%以下であることが望ましい。   The volume content of the fine particles made of the transparent conductive material in the resin composition for forming the second layer is 1 vol. % Or more 29 vol. % Or less, preferably 5 vol. % Or more and 23 vol. % Or less is desirable.

本発明に用いる分散溶媒の例としては、バインダー成分を溶解するため若しくは微粒子を溶媒に分散させておくため、必要に応じて表面処理剤、分散剤を溶解させるため、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、DMF、DMAc、NMP等のアミド系、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ジエチルエーテル、ブチルカルビトール等のエチル類、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。用いる微粒子の親和性、表面処理剤、分散剤の親和性に合わせて分散溶媒を選択することができ、また有溶媒は1種類のみで使用することもできるし、分散性を損なわない範囲において2種類以上を併用して使用することもできる。分散溶媒は樹脂組成物の作成工程で除去される。   Examples of the dispersion solvent used in the present invention include toluene, benzene, xylene and the like for dissolving the binder component or for dispersing fine particles in the solvent, and for dissolving the surface treatment agent and the dispersant as necessary. Aromatic hydrocarbons, alcohols such as ethanol and isopropanol, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, acetates such as ethyl acetate and butyl acetate, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, amides such as DMF, DMAc and NMP , Aliphatic hydrocarbons such as hexane and octane, ethyls such as diethyl ether and butyl carbitol, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and carbon tetrachloride, and the like, but are not limited thereto. The dispersion solvent can be selected in accordance with the affinity of the fine particles to be used, the surface treatment agent, and the affinity of the dispersing agent, and only one kind of solvent can be used. It can also be used in combination of more than one type. The dispersion solvent is removed in the process of preparing the resin composition.

第2の層を形成するための樹脂組成物に含有される分散溶媒の含有量は、第2の層を形成する樹脂組成物に対して0.2重量%以下、好ましくは0.05重量%以下が望ましい。   The content of the dispersion solvent contained in the resin composition for forming the second layer is 0.2% by weight or less, preferably 0.05% by weight, based on the resin composition forming the second layer. The following is desirable.

また、本発明において微粒子を凝集しないよう均一に分散させるための表面処理剤、分散剤(界面活性剤)に関しては以下のものが望ましい。一般に表面処理剤、分散剤を用いて微粒子を溶媒、樹脂等に分散する場合、添加する表面処理剤、分散剤の種類、添加量、分子量、極性、親和性等によって全く異なった分散状態を示すことが知られている。本発明に使用する表面処理剤、分散剤としては顔料の誘導体や樹脂型や活性剤型のものを好適に用いることができる。ここで表面処理剤、分散剤としては、カチオン系、弱カチオン系、ノニオン系あるいは両性界面活性剤が有効である。特にポリエステル系、ε−カプロラクトン系、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ハイドロステアリン酸塩、アミドスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、オレフィンマレイン酸塩共重合物、アクリル−マレイン酸塩共重合物、アルキルアミン酢酸塩、アルキル脂肪酸塩、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル系、シリコーン系、フッ素系を用いることができるが、本発明においてはアンモニアよび有機アミン類から選択される少なくとも一種の塩基系のものを用いることが好適である。具体的にはディスパービックシリーズ(ビッグケミー・ジャパン社製)の中ではディスパービック161、162、163、164、ソルスパースシリーズ(ゼネガ社製)の中ではソルスパース3000、9000、17000、20000、24000、41090あるいはTAMNシリーズ(日光ケミカル社製)の中ではTAMN−15等のアルキルアミンのPO若しくはEO変成物がある。また、分散剤は1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。   In the present invention, the following surface treatment agent and dispersant (surfactant) for uniformly dispersing fine particles so as not to aggregate are desirable. In general, when fine particles are dispersed in a solvent, resin, etc. using a surface treatment agent and a dispersant, the dispersion state is completely different depending on the type, amount, molecular weight, polarity, affinity, etc. of the surface treatment agent and dispersant to be added. It is known. As the surface treatment agent and dispersant used in the present invention, pigment derivatives, resin types and activator types can be suitably used. Here, as the surface treating agent and the dispersing agent, cationic, weak cationic, nonionic or amphoteric surfactants are effective. Especially polyester-based, ε-caprolactone-based, polycarboxylate, polyphosphate, hydrostearate, amide sulfonate, polyacrylate, olefin maleate copolymer, acrylic-maleate copolymer, Alkylamine acetates, alkyl fatty acid salts, fatty acid polyethylene glycol esters, silicones, and fluorines can be used. In the present invention, at least one base selected from ammonia and organic amines should be used. Is preferred. Specifically, in the Dispersic series (manufactured by Big Chemie Japan), in the Dispersic 161, 162, 163, 164, in the Solsperse series (manufactured by Zenega), Solsperse 3000, 9000, 17000, 20000, 24000, 41090 Alternatively, in the TAMN series (manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd.), there are PO or EO modified products of alkylamines such as TAMN-15. Moreover, a dispersing agent can also be used only by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more types.

第2の層を形成するための樹脂組成物に含有される表面処理剤、分散剤の含有量は、大きく分けて表面処理剤、分散剤の種類、微粒子の種類、微粒子の表面積(微粒子径)、微粒子を混合する分散樹脂の種類等、分散溶媒の種類に応じて異なる。表面処理剤、分散剤の含有量は、微粒子の重量に対して0.1重量%以上25.0重量%以下、好ましくは4.0重量%以上20.0重量%以下の範囲であることが望ましい。分散剤の添加量が25.0重量%より多すぎると白濁の原因となり光学的散乱が生じてしまうため、また微粒子を含有して得られた組成物の特性(屈折率、アッベ数、弾性率等)を必要以上に低下させる。   The content of the surface treatment agent and the dispersant contained in the resin composition for forming the second layer is roughly divided into the surface treatment agent, the type of the dispersant, the type of fine particles, and the surface area (fine particle diameter) of the fine particles. Depending on the type of dispersion solvent, such as the type of dispersion resin in which the fine particles are mixed. The content of the surface treatment agent and the dispersant is in the range of 0.1% by weight to 25.0% by weight, preferably 4.0% by weight to 20.0% by weight, based on the weight of the fine particles. desirable. If the amount of the dispersant added is more than 25.0% by weight, it causes white turbidity and optical scattering occurs, and the characteristics (refractive index, Abbe number, elastic modulus) of the composition obtained by containing fine particles. Etc.) more than necessary.

本発明においてベース樹脂としてのバインダー成分である単量体の選択としては前記透明導電性を有する金属酸化物微粒子が分散等している溶媒、表面処理剤、分散剤に良好に相溶するものが望ましい。   In the present invention, a monomer that is a binder component as a base resin is selected so that the transparent conductive metal oxide fine particles are well-dispersed in a solvent, a surface treatment agent, and a dispersing agent. desirable.

単量体としては分子内に1個以上の2重結合や3重結合を有するものであれば、特に限定はされないが、不飽和基含有化合物の単量体又はオリゴマーの具体的な例としては、1,4−ジビニルシクロヘキサン、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、4,4−ジメチル−ヘプタ−1−エン−6−イン、ジビニルベンゼン、1,6−ジビニルナフタレン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、エトキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、プロポキシ化ビスフェノールAジビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオベンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、クリセリンやトリメチロールエタン等の多価アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−417G8号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。   The monomer is not particularly limited as long as it has one or more double bonds or triple bonds in the molecule. Specific examples of monomers or oligomers of unsaturated group-containing compounds include: 1,4-divinylcyclohexane, 1,4-cyclohexanedimethanol divinyl ether, 4,4-dimethyl-hept-1-ene-6-in, divinylbenzene, 1,6-divinylnaphthalene, N-vinylpyrrolidone, N -Monofunctional acrylates and methacrylates such as vinyl caprolactam, ethoxylated bisphenol A divinyl ether, propoxylated bisphenol A divinyl ether, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene Glico Di (meth) acrylate, polypropylene di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neoventyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipenta (Meth) acrylate after adding ethylene oxide or propylene oxide to polyhydric alcohol such as erythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, chryserin or trimethylolethane Urethane acrylates as described in JP-B-48-417G8, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, JP-A-48-6 Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid, as described in No. 183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490 Can be mentioned.

バインダー成分中の分子内に重合官能基を有するフッ素系単量体は一種類のみで使用することもできるし、二種類以上を併用して使用することもできる。また、先に述べたアクリレートやメタクリレートとの二種類以上を併用して用いることもできる。   The fluorine-type monomer which has a polymerization functional group in the molecule | numerator in a binder component can also be used only by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more types. Also, two or more of the above-mentioned acrylates and methacrylates can be used in combination.

第2の層を形成するための樹脂組成物に含有される単量体の含有量は、第2の層を形成する樹脂組成物に対して30重量%以上99重量%以下、好ましくは37重量%以上78重量%以下が望ましい。   The content of the monomer contained in the resin composition for forming the second layer is 30% by weight or more and 99% by weight or less, preferably 37% by weight with respect to the resin composition forming the second layer. % To 78% by weight is desirable.

エネルギー硬化の方法としてはプラズマ処理、熱処理、放射性、紫外線等のエネルギーにより開始剤を刺激して重合させることが可能であるが、レンズ等のレプリカ成形を考えた場合、光硬化であることが好ましい。具体的に利用可能な光重合開始剤としては、例えば、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ビス(2,46,−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、4−フェニルベンゾフェノン、4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジフェニルベンゾフェノン、4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン等を好適なものとして挙げることができる。硬化した樹脂の透明性を考慮した場合、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンを用いるのが好ましい。   As an energy curing method, it is possible to polymerize by stimulating the initiator by energy such as plasma treatment, heat treatment, radioactivity, ultraviolet rays, etc., but when considering replica molding of a lens or the like, photocuring is preferable. . Specifically usable photopolymerization initiators include, for example, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, bis ( 2,46, -trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 4-phenylbenzophenone, 4-phenoxybenzophenone, 4,4′-diphenylbenzophenone, 4,4′-diphenoxybenzophenone and the like can be mentioned as suitable ones. . Considering the transparency of the cured resin, it is preferable to use 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone.

本発明にかかる樹脂の硬化・成形に利用する場合、可視光に吸収を有する微粒子の添加量によっても異なってくるが、バインダー成分に対して、光重合開始剤の添加量は0.01重量%以上10.00重量%以下の範囲に選択することが好ましい。光重合開始剤はバインダー成分との反応性、光照射の波長によって1種類のみで使用することもできるし、2種類以上を併用して使用することもできる。   When used for curing and molding the resin according to the present invention, the amount of photopolymerization initiator added is 0.01% by weight based on the binder component, although it varies depending on the amount of fine particles having absorption in visible light. It is preferable to select in the range of 10.00% by weight or less. A photoinitiator can also be used only by 1 type according to the reactivity with a binder component, and the wavelength of light irradiation, and can also be used in combination of 2 or more types.

(樹脂組成物としての光学材料の調製工程について)
次に、本発明における樹脂組成物としての光学材料の調製工程について述べる。代表して光重合可能なバインダー成分を用いた場合を記載する。
(About the preparation process of the optical material as a resin composition)
Next, the preparation process of the optical material as the resin composition in the present invention will be described. A case where a photopolymerizable binder component is used as a representative is described.

まず選択した溶媒に好適な表面処理剤若しくは分散剤を適量溶解させ、微粒子を加えせん断力を加え、微粒子の凝集体を破砕し、残った凝集体を遠心分離とフィルター処理により取り除き、均一な微粒子分散液を得る。その後、選択した光重合可能なバインダー成分及び光重合開始剤を溶解させる。バインダー成分を微粒子分散液に溶解させるにあたっては、バインダー成分の添加で微粒子の分散状態の悪化がより生じにくい溶媒、表面処理剤、分散剤の組み合わせにすることが望ましい。また必要に応じてフィルタリング処理を行い、凝集微粒子を除去することができる。完全に溶解後、微粒子の沈殿等なく好適に分散していることを確認した後、エバポレーターを用いて溶媒を除去する。この際、溶媒の沸点、残留溶媒量等に応じて減圧度を適宜調整することが望ましい。急激な溶媒の蒸発、除去により微粒子の凝集の程度を悪化させ、分散性を損なうことがある。また減圧による溶媒除去の際、必要に応じて分散性を損なわない程度に加熱することも可能である。このようにして本発明の光学材料を得る。   First, an appropriate amount of a surface treatment agent or dispersant suitable for the selected solvent is dissolved, fine particles are added, shear force is applied, the fine particle aggregates are crushed, and the remaining aggregates are removed by centrifugation and filtering to obtain uniform fine particles. A dispersion is obtained. Thereafter, the selected photopolymerizable binder component and photopolymerization initiator are dissolved. When the binder component is dissolved in the fine particle dispersion, it is desirable to add a combination of a solvent, a surface treatment agent, and a dispersant that are less likely to deteriorate the dispersion state of the fine particles due to the addition of the binder component. Moreover, a filtering process can be performed as needed to remove the aggregated fine particles. After complete dissolution, after confirming that the particles are suitably dispersed without precipitation of fine particles, the solvent is removed using an evaporator. At this time, it is desirable to appropriately adjust the degree of vacuum according to the boiling point of the solvent, the amount of residual solvent, and the like. Sudden evaporation and removal of the solvent may deteriorate the degree of aggregation of the fine particles and impair dispersibility. In addition, when removing the solvent by reducing the pressure, it is possible to heat to the extent that the dispersibility is not impaired, if necessary. In this way, the optical material of the present invention is obtained.

得られた光学材料には除去し切れなかった残留溶剤を含有することがある。その含有率が0.1重量%よりも大きいとエネルギー硬化時の微粒子移動を助長する作用があるらしく、屈折率勾配(GI)や光散乱が大きくなる。そのため残留溶媒の含有率は0.1重量%以下であることが望ましい。ただし、減圧度が高すぎると、または減圧と同時に加熱を伴うことで、若しくは長時間にわたる減圧工程を経ることで、溶媒と共に添加した表面処理剤、分散剤およびバインダー成分等の単量体類も留去される恐れがある。そのため個々の分子量、沸点、昇華性等を考慮した減圧度、温度、時間等の調整が必要である。   The obtained optical material may contain a residual solvent that cannot be completely removed. If the content is greater than 0.1% by weight, there appears to be an effect of promoting the movement of fine particles during energy curing, and the refractive index gradient (GI) and light scattering increase. Therefore, the content of residual solvent is desirably 0.1% by weight or less. However, if the degree of vacuum is too high, or with heating at the same time as the vacuum, or through a vacuum process for a long time, the monomers such as the surface treatment agent, the dispersant and the binder component added together with the solvent There is a risk of evaporation. Therefore, it is necessary to adjust the degree of pressure reduction, temperature, time, etc. in consideration of individual molecular weight, boiling point, sublimability and the like.

次に、本発明の光学素子および回折光学素子の成形において、光重合法を利用して、上記の樹脂組成物をエネルギー硬化により型成形体層を形成する過程を示す。   Next, in the molding of the optical element and the diffractive optical element of the present invention, a process of forming a mold molded body layer by energy curing of the above resin composition using a photopolymerization method is shown.

基板に利用する光透過性材料上に、膜厚の薄い第1および第2の層を形成する際には、例えば、ガラス平板を基板に利用する。一方、微細な回折格子構造に対応する型に金属材料を利用する際、両者の間に、流動性を示す樹脂組成物の光学材料を流し込み、軽く抑えることで、型成形を成す。その状態に保ったまま該光学材料の光重合を行う。かかる光重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を利用して行う。例えば、前記基板に利用する光透過性材料、具体的には、ガラス平板を介して、成形されている光学材料調製用の樹脂組成物等の原料体に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。   When forming the thin first and second layers on the light transmissive material used for the substrate, for example, a glass flat plate is used for the substrate. On the other hand, when a metal material is used in a mold corresponding to a fine diffraction grating structure, a mold is formed by pouring an optical material of a resin composition exhibiting fluidity between the two and suppressing it lightly. The optical material is subjected to photopolymerization while being maintained in that state. The light irradiation used for the photopolymerization reaction is performed using light of a suitable wavelength, usually ultraviolet light or visible light, corresponding to a mechanism resulting from radical generation using a photopolymerization initiator. For example, a light transmissive material used for the substrate, specifically, a raw material body such as a resin composition for preparing an optical material that is molded is uniformly irradiated with light through a glass plate. . The amount of light to be irradiated is appropriately selected according to the mechanism resulting from radical generation using the photopolymerization initiator and according to the content ratio of the contained photopolymerization initiator.

続いて、酸素透過する第2の層を積層する。可視域全体で高効率な回折光学素子として用いる場合、第2の層に用いる材料は第1の層の光学定数により決定され、第1の層に相対的に硬化後に高屈折率低分散な値を示す。第2の層の材料としては、樹脂単体を用いたり、樹脂にジルコニアやアルミナの微粒子を混合したものを用いている。   Subsequently, a second layer that transmits oxygen is stacked. When used as a highly efficient diffractive optical element over the entire visible range, the material used for the second layer is determined by the optical constants of the first layer, and has a high refractive index and low dispersion after curing relative to the first layer. Indicates. As the material for the second layer, a single resin or a mixture of fine particles of zirconia or alumina is used.

第2の層の樹脂の樹脂組成物を金型、もしくはガラス型に配置し、上記、第1の層の重合成形体(回折格子等)を軽く押し付け、その状態に保ったまま該光学材料の光重合を行う。かかる光重合反応に供する光照射は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に対応して、好適な波長の光、通常、紫外光もしくは可視光を利用して行う。例えば、前記基板に利用する光透過性材料、具体的には、第1の層の透明基板側もしくはガラス型側から、成形されている光学材料調製用の単量体等原料体に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用したラジカル生成に起因する機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。   The resin composition of the second layer resin is placed in a mold or glass mold, the polymer molded body (such as a diffraction grating) of the first layer is lightly pressed, and the optical material is kept in that state. Perform photopolymerization. The light irradiation used for the photopolymerization reaction is performed using light of a suitable wavelength, usually ultraviolet light or visible light, corresponding to a mechanism resulting from radical generation using a photopolymerization initiator. For example, a light-transmitting material used for the substrate, specifically, from a transparent substrate side or glass mold side of the first layer, to a raw material body such as a monomer for preparing an optical material, Perform light irradiation uniformly. The amount of light to be irradiated is appropriately selected according to the mechanism resulting from radical generation using the photopolymerization initiator and according to the content ratio of the contained photopolymerization initiator.

上記方法で第2の層の樹脂組成物を硬化した後、金型、もしくはガラス型から離型する事により、光学素子が得られる。   After curing the resin composition of the second layer by the above method, an optical element is obtained by releasing from the mold or glass mold.

第2の層の膜厚が厚すぎると酸素の透過率が小さくなり、酸素透過層としての効果がなくなる。   If the thickness of the second layer is too thick, the oxygen permeability is reduced, and the effect as an oxygen permeable layer is lost.

次に、本発明を図面に基づいて説明する。   Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

図1(a)は、本発明の多層回折光学素子の一実施態様を示す模式的図であり、上方の図は平面図、下方の図はAA線断面図である。図1(a)において、多層回折光学素子100は、透明基板3上に、透明導電性物質からなる微粒子および単量体を含む樹脂組成物をエネルギー硬化させて形成した樹脂よりなる、回折格子形状を有する第1の層2と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層1とが、互いの回折格子形状が対向するように積層されて構成されている。前記第1の層2は低屈折率高分散材料からなり、前記第2の層1は高屈折低分散材料からなる。前記第2の層の上は大気中に開放され、酸素を供給する空間となっている。   FIG. 1A is a schematic diagram showing an embodiment of the multilayer diffractive optical element of the present invention, in which an upper diagram is a plan view and a lower diagram is a sectional view taken along line AA. In FIG. 1A, a multilayer diffractive optical element 100 has a diffraction grating shape made of a resin formed by energy curing a resin composition containing fine particles and a monomer made of a transparent conductive material on a transparent substrate 3. And a second layer 1 having a diffraction grating shape on at least one surface that is permeable to oxygen are laminated so that their diffraction grating shapes face each other. The first layer 2 is made of a low refractive index and high dispersion material, and the second layer 1 is made of a high refractive index and low dispersion material. The second layer is open to the atmosphere and is a space for supplying oxygen.

本発明の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数(設計次数)の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化することの無い回折光学素子を提供することが可能となる。   By using the multilayer diffractive optical element of the present invention, a plurality of layers made of materials having different refractive index wavelength dispersions are laminated on a substrate, and the design is made to increase the diffraction efficiency of a specific order (design order) over the entire use wavelength range, In addition, it is possible to provide a diffractive optical element that does not change in characteristics due to visible light or ultraviolet light.

図1(b)は、本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。図1(b)は、微細な回折格子構造に対応する型に金属材料の変わりに、多層回折光学素子の他の材料、具体的には相対的に高屈折率低分散材料を微細な回折格子構造に成形したものを透明基材(ガラス基板やガラスレンズ等)とし、その上に第1の層2を形成したものである。   FIG. 1B is a schematic diagram showing another embodiment of the multilayer diffractive optical element of the present invention. FIG. 1 (b) shows another material of a multilayer diffractive optical element, specifically a relatively high refractive index and low dispersion material, instead of a metal material in a mold corresponding to a fine diffraction grating structure. The one formed into a structure is used as a transparent substrate (glass substrate, glass lens, etc.), and the first layer 2 is formed thereon.

図1(b)の構成の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数(設計次数)の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化することの無い回折光学素子を提供することが可能となる。   By using the multilayer diffractive optical element having the configuration shown in FIG. 1B, a plurality of layers made of materials having different refractive index wavelength dispersions are stacked on a substrate, and a diffraction efficiency of a specific order (design order) is obtained over the entire use wavelength range. It is possible to provide a diffractive optical element that is designed to be high and that does not change in characteristics due to visible light or ultraviolet light.

図1(c)は、本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。図1(c)は、図1(a)の第2の層1の上に、周囲と上下を閉鎖した、酸素を供給する空間5を設けたものである。前記酸素を供給する空間の高さ(第2の層1と透明基板3との距離)が50μm以上5mm以下で、空間に含有される酸素の濃度が10%以上100%以下(体積%)で、かつ空間に含有される水の濃度が230g/m(25℃の相対湿度10%)以下であることが好ましい。その空間の水の濃度を230g/m(25℃の相対湿度10%)以下に保つ為、空間5の端部はスペーサ4および封止剤6により、外部からの水分の侵入を遮断している。封止剤としては封止材料OE−6450A/B(東レダウコーニング)等が挙げられる。 FIG. 1 (c) is a schematic view showing another embodiment of the multilayer diffractive optical element of the present invention. In FIG. 1C, a space 5 for supplying oxygen is provided on the second layer 1 of FIG. The height of the space for supplying oxygen (distance between the second layer 1 and the transparent substrate 3) is 50 μm or more and 5 mm or less, and the concentration of oxygen contained in the space is 10% or more and 100% or less (volume%). The concentration of water contained in the space is preferably 230 g / m 3 (25% relative humidity 10%) or less. In order to keep the concentration of water in the space at 230 g / m 3 (relative humidity 10% at 25 ° C.) or less, the end of the space 5 is blocked by the spacer 4 and the sealant 6 to prevent moisture from entering from the outside. Yes. Examples of the sealant include a sealing material OE-6450 A / B (Toray Dow Corning).

本発明における図1(c)に示す構成の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数(設計次数)の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化、および、吸湿による特性変化がない、回折光学素子を提供することが可能となる。   By using the multilayer diffractive optical element having the configuration shown in FIG. 1C in the present invention, a plurality of layers made of materials having different refractive index wavelength dispersions are laminated on a substrate, and a specific order (design order) is used in the entire wavelength range of use. Therefore, it is possible to provide a diffractive optical element that is designed to increase the diffraction efficiency of the light source and that has no change in characteristics due to visible light or ultraviolet light and no change in characteristics due to moisture absorption.

図1(d)は、本発明の多層回折光学素子の他の実施態様を示す模式的図である。図1(d)は、図1(b)の多層回折光学素子の第1層2の上に、周囲と上下を閉鎖した、酸素を供給する空間5を設けたものである。前記酸素を供給する空間の高さ(第1の層2と透明基板3との距離)が50μm以上5mm以下で、空間に含有される酸素の濃度が10%以上100%以下(体積%)で、かつ空間に含有される水の濃度が230g/m(25℃の相対湿度10%)以下であることが好ましい。その空間の水分濃度を230g/m(25℃の相対湿度10%)以下に保つ為、図1(d)に示す様に、空間5の端部はスペーサ4および封止剤6により、外部からの水分の侵入を遮断している。 FIG. 1 (d) is a schematic view showing another embodiment of the multilayer diffractive optical element of the present invention. FIG. 1D shows a structure in which a space 5 for supplying oxygen is provided on the first layer 2 of the multilayer diffractive optical element shown in FIG. The height of the space for supplying oxygen (distance between the first layer 2 and the transparent substrate 3) is 50 μm or more and 5 mm or less, and the concentration of oxygen contained in the space is 10% or more and 100% or less (volume%). The concentration of water contained in the space is preferably 230 g / m 3 (25% relative humidity 10%) or less. In order to keep the moisture concentration in the space at 230 g / m 3 (relative humidity 10% at 25 ° C.) or less, as shown in FIG. Blocks moisture from entering.

図1(d)に示す構成の多層回折光学素子を用いることで、屈折率波長分散の異なる材料からなる層複数を基板上に積層し、使用波長域全域で特定次数(設計次数)の回折効率を高くする設計とし、かつ、可視光もしくは紫外線による特性に変化、および、吸湿による特性変化がない、回折光学素子を提供することが可能となる。   By using the multilayer diffractive optical element having the configuration shown in FIG. 1D, a plurality of layers made of materials having different refractive index wavelength dispersions are stacked on the substrate, and the diffraction efficiency of a specific order (design order) in the entire use wavelength range. Thus, it is possible to provide a diffractive optical element that is designed to have a high height and that has no change in characteristics due to visible light or ultraviolet light and no change in characteristics due to moisture absorption.

以下に本発明における光学材料の調製について具体的に説明する。   The preparation of the optical material in the present invention will be specifically described below.

参考例
〔低屈折率高分散材料11の調整〕
まず、キシレン溶媒にインジウム錫酸化物(ITO)を分散した微粒子分散液(平均粒経20nmのインジウム錫酸化物濃度9.96w%、分散剤量2.19w%)を51.63gと、紫外線硬化型アクリル系樹脂として、トリス(2―アクリロキシエチル)イソシアヌレート20w%、ペンタエリスリトールトリアクリレート25w%、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート40w%、ウレタン変性ポリエステルアクリレート13w%、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2w%の混合物3.72gとを混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、最終的にはオイルバス温度45℃ 設定気圧2hPas、15時間にてキシレン溶剤を除去し、低屈折率高分散材料11を調製した。
なお、インジウム錫酸化物(ITO)の粒径は、レーザー方式の粒度分布計(ELS:大塚電子)で測定を行った。
Reference example 1
[Adjustment of Low Refractive Index High Dispersion Material 11]
First, 51.63 g of a fine particle dispersion in which indium tin oxide (ITO) is dispersed in a xylene solvent (indium tin oxide concentration: 9.96 w% with an average particle size of 20 nm, 2.19 w% dispersant) is ultraviolet-cured. As a type acrylic resin, tris (2-acryloxyethyl) isocyanurate 20 w%, pentaerythritol triacrylate 25 w%, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate 40 w%, urethane-modified polyester acrylate 13 w%, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2 w % Of the mixture was mixed with 3.72 g. This mixed solution was put into an evaporator, and finally the xylene solvent was removed at an oil bath temperature of 45 ° C. and a set atmospheric pressure of 2 hPas for 15 hours to prepare a low refractive index and high dispersion material 11.
The particle size of indium tin oxide (ITO) was measured with a laser particle size distribution meter (ELS: Otsuka Electronics).

また、TGA(パーキンエルマー製)にて、低屈折率高分散材料11を焼成し、低屈折率高分散材料11中の無機固形分量を定量した。51.2重量%であった。   Moreover, the low refractive index high dispersion material 11 was baked by TGA (manufactured by Perkin Elmer), and the amount of inorganic solid content in the low refractive index high dispersion material 11 was quantified. It was 51.2% by weight.

残留溶剤(キシレン)の測定は、ガスクロマトグラフィー(5890 seriesII:Hewlett Packard製)で行い、0.015w%であった。   The residual solvent (xylene) was measured by gas chromatography (5890 series II: Hewlett Packard) and found to be 0.015 w%.

〔高屈折率低分散材料21の調整〕
トルエン溶媒に酸化ジルコニウムを分散した微粒子分散液(平均粒経10nmの酸化ジルコニウム濃度10.11w%、分散剤量2.27w%)を160.2gと、紫外線硬化型アクリル系樹脂として、トリス(2―アクリロキシエチル)イソシアヌレート20w%、ペンタエリスリトールトリアクリレート25w%、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート40w%、ウレタン変性ポリエステルアクリレート13w%、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン2w%の混合物9.41gとを混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、最終的にはオイルバス温度45℃、設定気圧3hPas、15時間にてトルエン溶剤を除去し、高屈折率低分散材料21を調製した。
[Adjustment of High Refractive Index Low Dispersion Material 21]
160.2 g of a fine particle dispersion in which zirconium oxide is dispersed in a toluene solvent (zirconium oxide concentration of 10.11 w% with an average particle size of 10 nm, a dispersant amount of 2.27 w%) is 160.2 g, and tris (2 -Acryloxyethyl) isocyanurate 20 w%, pentaerythritol triacrylate 25 w%, dicyclopentenyloxyethyl methacrylate 40 w%, urethane modified polyester acrylate 13 w%, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2 w% 9.41 g did. This mixed solution was put into an evaporator, and finally the toluene solvent was removed at an oil bath temperature of 45 ° C. and a set atmospheric pressure of 3 hPas for 15 hours to prepare a high refractive index and low dispersion material 21.

なお、酸化ジルコニウムの粒径は、レーザー方式の粒度分布計(ELS:大塚電子)で測定を行った。   The particle size of zirconium oxide was measured with a laser particle size distribution meter (ELS: Otsuka Electronics).

また、TGA(パーキンエルマー製)にて、高屈折率低分散材料21を焼成し、高屈折率低分散材料21中の無機固形分量を定量した。53.7重量%であった。   Further, the high refractive index and low dispersion material 21 was baked by TGA (manufactured by Perkin Elmer), and the amount of inorganic solid content in the high refractive index and low dispersion material 21 was quantified. It was 53.7% by weight.

残留溶剤(キシレン)の測定は、ガスクロマトグラフィー(5890 seriesII:Hewlett Packard製)で行い、0.005w%以下であり検出限界以下であった。   The residual solvent (xylene) was measured by gas chromatography (5890 series II: Hewlett Packard), and was 0.005 w% or less and below the detection limit.

〔光学特性の評価〕
低屈折率高分散材料11、高屈折率低分散材料21の光学特性の評価は以下の様に行った。
(Evaluation of optical properties)
The optical properties of the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 were evaluated as follows.

<屈折率>
各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。
<Refractive index>
The refractive index of each optical element was measured by preparing a sample as follows.

図2は、屈折率測定用サンプルの作製方法を示す模式図である。まず、図2(a)に示すように、厚さ1mmの高屈折ガラス(S−TIH11:オハラ製)7の上に、厚さ12.5μmのスペーサー10と測定材料8(低屈折率高分散材料11)を配置した。その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー10を介して載せ、測定材料8を押し広げた。これを、20mW/cm(石英ガラスを通した照度)、1300秒の条件(26J)で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、測定材料8を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80℃、72時間でアニールした。その後、図2(b)の様に50μmのスペーサー11と測定材料12(高屈折率低分散材料21)を配置し、その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー11を介して載せ、測定材料12を押し広げてサンプルとした。これを、20mW/cm(石英ガラスを通した照度)、1300秒の条件(26J)で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、測定材料12を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80℃72時間でアニールしたものを屈折率測定用サンプルとした。図2(c)に測定用サンプルの構成を示す。 FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a method for producing a sample for refractive index measurement. First, as shown in FIG. 2A, a spacer 10 having a thickness of 12.5 μm and a measurement material 8 (low refractive index and high dispersion) are formed on a high refractive glass (S-TIH11: manufactured by OHARA) 7 having a thickness of 1 mm. Material 11) was placed. A quartz glass 9 having a thickness of 1 mm was placed thereon via a spacer 10 to spread the measurement material 8. This was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under the condition (26J) of 20 mW / cm 2 (illuminance through quartz glass) and 1300 seconds, and the measurement material 8 was cured. After curing, the quartz glass 9 was peeled off and annealed at 80 ° C. for 72 hours. Thereafter, as shown in FIG. 2 (b), a spacer 11 having a thickness of 50 μm and a measurement material 12 (high refractive index low dispersion material 21) are arranged, and a quartz glass 9 having a thickness of 1 mm is placed on the spacer 11 through the spacer 11 and measured. The material 12 was spread and used as a sample. This was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under a condition (26J) of 20 mW / cm 2 (illuminance through quartz glass) and 1300 seconds, and the measurement material 12 was cured. After curing, the quartz glass 9 was peeled off and annealed at 80 ° C. for 72 hours to obtain a sample for refractive index measurement. FIG. 2C shows the configuration of the measurement sample.

硬化したサンプルは、屈折計(KPR−30、(株)島津製作所)を用いて、高屈折率ガラス4側からg線435.8nm、f線486.1nm、e線546.1nm、d線587.6nm、c線656.3nmの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。   The cured sample was measured using a refractometer (KPR-30, Shimadzu Corporation) from the side of the high refractive index glass 4 with a g-line of 435.8 nm, an f-line of 486.1 nm, an e-line of 546.1 nm, and a d-line of 587. The refractive index of .6 nm and c-line 656.3 nm was measured. Further, the Abbe number was calculated from the measured refractive index.

<多層回折光学素子>
次に、低屈折率高分散材料11で回折光学形状を成形し、空間を空ける事無く、高屈折率低分散材料21を積層し多層回折光学素子を作成し、その評価を行なった。
<Multilayer diffractive optical element>
Next, a diffractive optical shape was formed with the low refractive index and high dispersion material 11, and a multilayer diffractive optical element was prepared by laminating the high refractive index and low dispersion material 21 without making a space, and evaluated.

<多層回折格子の作成>
図3および図4は、回折効率の評価用多層回折光学素子の作製方法を示す模式図である。まず、図3(a)に示す様に、回折格子形状の金型13の上に測定材料8(低屈折率高分散材料11)、その上に2mm平板ガラス14を配置した。14.2mW/cm、211秒の条件と、20mW/cm、600秒の条件で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、80℃、72時間、大気中でアニールして、回折格子を作成した。アニール後に測定した回折格子の格子高さは11.7μm、ピッチは80μmであった(図3(b)。
<Creation of multilayer diffraction grating>
3 and 4 are schematic views showing a method for producing a multilayer diffractive optical element for evaluating diffraction efficiency. First, as shown in FIG. 3A, a measurement material 8 (low refractive index high dispersion material 11) was placed on a diffraction grating-shaped mold 13, and a 2 mm flat glass 14 was placed thereon. High pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) was irradiated under conditions of 14.2 mW / cm 2 , 211 seconds and 20 mW / cm 2 , 600 seconds, and annealed in the atmosphere at 80 ° C. for 72 hours. Then, a diffraction grating was created. The grating height measured after annealing was 11.7 μm, and the pitch was 80 μm (FIG. 3B).

次に、平板ガラス14上に成形された測定材料8を、平板ガラス14とともに成形治具16にセットし、次いで測定材料8上に測定材料12(高屈折率低分散材料21)を滴下した(図4(a))。その上に平板ガラス14をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも30μm高くになるように押し広げサンプルとした。(図4(b))。このサンプルに、14.2mW/cm、211秒の条件と、20mW/cm、600秒の条件で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、サンプルを硬化した。その後、平板ガラス14を外し、80℃72時間にアニールし、多層回折光学素子作成した。図4(c)に多層回折格子の構成を示す。 Next, the measurement material 8 molded on the flat glass 14 is set on the forming jig 16 together with the flat glass 14, and then the measurement material 12 (high refractive index low dispersion material 21) is dropped on the measurement material 8 ( FIG. 4 (a)). A flat glass 14 was placed thereon, and a sample was spread out so that the thickness of the resin was 30 μm higher than the height of the lattice. (FIG. 4B). This sample, and conditions of 14.2 mW / cm 2, 211 seconds, irradiated with a high pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS (Ltd.)) under conditions of 20 mW / cm 2, 600 seconds to cure the samples. Thereafter, the flat glass 14 was removed and annealed at 80 ° C. for 72 hours to produce a multilayer diffractive optical element. FIG. 4C shows the configuration of the multilayer diffraction grating.

<回折効率の評価>
回折効率は、スポット光を上記の多層回折光学素子にあて、受光部密着して、すべての透過光の光量を測定した後、設計次数(1次の回折光)の光量を測定し、その光量比(設計次数の光量/全透過光光量)を回折効率と定義した。
<Evaluation of diffraction efficiency>
The diffraction efficiency is determined by applying the spot light to the multilayer diffractive optical element, closely contacting the light receiving portion, measuring the light amount of all transmitted light, and then measuring the light amount of the designed order (first-order diffracted light). The ratio (design order light quantity / total transmitted light quantity) was defined as diffraction efficiency.

<耐光性の評価>
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される屈折率測定サンプルおよび多層回折光学素子を、耐光試験機(キセノンウェザーメーターX75スガ試験機株式会社製)にて5mW(300から400nmの照射強度)、100時間にて耐光試験を行った。その後、屈折率測定サンプルの屈折率、および多層回折光学素子の回折効率を測定した。
<Evaluation of light resistance>
A refractive index measurement sample and a multilayer diffractive optical element prepared from the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 are measured at 5 mW (300 x) using a light resistance tester (Xenon Weather Meter X75 Suga Test Instruments Co., Ltd.). To 400 nm irradiation intensity) for 100 hours. Thereafter, the refractive index of the refractive index measurement sample and the diffraction efficiency of the multilayer diffractive optical element were measured.

<高温高湿耐久性の評価>
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される屈折率測定サンプルおよび多層回折光学素子を高温高湿試験機(小型環境試験機IW241、ヤマト科学製)にて60℃、90%、500時間にて高温高湿試験を行った。その後、屈折率測定サンプルの屈折率、および多層回折光学素子の回折効率を測定した。
<Evaluation of high temperature and high humidity durability>
A refractive index measurement sample and a multilayer diffractive optical element prepared from the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 are heated at 60 ° C. with a high temperature and high humidity tester (compact environment tester IW241, manufactured by Yamato Scientific). A high temperature and high humidity test was conducted at 90% for 500 hours. Thereafter, the refractive index of the refractive index measurement sample and the diffraction efficiency of the multilayer diffractive optical element were measured.

<評価結果>
(1)初期評価結果
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子11は可視域全体の回折効率が99%以上となる。
からnは屈折率、νはアッペ数、θgFは部分分散比(2次分散)を表す。(屈折率および光学定数)
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6037,1.5916,1.5809,1.5740,1.5640)
(ν,θgF)=(20.8,0.44)
〈高屈折率低分散材料21〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.641,1.633,1.627,1.623,1.619)
(ν,θgF)=(43.9,0.57)
<Evaluation results>
(1) Initial Evaluation Results The multilayer diffractive optical element 11 made from the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 has a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible range.
n C is the refractive index from n g, ν d is Abbe number, theta gF represents a partial dispersion ratio (secondary dispersion). (Refractive index and optical constant)
<Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6037,1.5916,1.5809,1.5740,1.5640)
d , θ gF ) = (20.8, 0.44)
<High refractive index low dispersion material 21>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.641,1.633,1.627,1.623,1.619)
d , θ gF ) = (43.9, 0.57)

(2)耐光性評価結果
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子11は可視域全体の回折効率が99%以上と初期に対して大きな変動はない。
(屈折率および光学定数)
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6027,1.5909,1.5802,1.5733,1.5632)
(ν,θgF)=(20.7,0.43)
初期に対して屈折率変動が−0.0007〜−0.0010であった。
〈高屈折率低分散材料21〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6416,1.6336,1.6271,1.6237,1.6196)
(ν,θgF)=(43.9,0.57)
初期に対して屈折率変動が+0.0003〜+0.0005であった。
(2) Results of light resistance evaluation The multilayer diffractive optical element 11 made of the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 has a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible region, and there is a large variation with respect to the initial stage. Absent.
(Refractive index and optical constant)
<Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6027,1.5909,1.5802,1.5733,1.5632)
d , θ gF ) = (20.7, 0.43)
The refractive index variation with respect to the initial value was -0.0007 to -0.0010.
<High refractive index low dispersion material 21>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6416,1.6336,1.6271,1.6237,1.6196)
d , θ gF ) = (43.9, 0.57)
The refractive index variation was +0.0003 to +0.0005 with respect to the initial value.

(3)高温高湿耐久性評価の結果
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子11は可視域全体の回折効率が98%以上と初期に対して1から2%変動する。
(屈折率および光学定数)
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6015,1.5895,1.5787,1.5720,1.5621)
(ν,θgF)=(20.9,0.44)
初期に対して屈折率変動が−0.0019〜−0.0022であった。
〈高屈折率低分散材料21〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6364,1.6285,1.6219,1.6186,1.6143)
(ν,θgF)=(43.7,0.56)
初期に対して屈折率変動が−0.0046〜−0.0049であった。
(3) As a result of the high temperature and high humidity durability evaluation, the multilayer diffractive optical element 11 made of the low refractive index and high dispersion material 11 and the high refractive index and low dispersion material 21 has a diffraction efficiency of 98% or more in the entire visible region, compared with the initial value. Varies from 1 to 2%.
(Refractive index and optical constant)
<Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6015,1.5895,1.5787,1.5720,1.5621)
d , θ gF ) = (20.9, 0.44)
The refractive index variation with respect to the initial value was -0.0019 to -0.0022.
<High refractive index low dispersion material 21>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6364,1.6285,1.6219,1.6186,1.6143)
d , θ gF ) = (43.7, 0.56)
The refractive index variation with respect to the initial value was -0.0046 to -0.0049.

実施例
参考例1と異なり、屈折率評価サンプルおよび、多層回折光学素子上に酸素を供給する空間の高さ(図5の測定材料12と9石英ガラス9との距離)が50μm以上5mm以下の空間を設け、水分が入ってこない様に、周りを封止剤により封止した。
Example 1
Unlike Reference Example 1, a refractive index evaluation sample and a space in which oxygen is supplied onto the multilayer diffractive optical element (the distance between the measurement material 12 and 9 quartz glass 9 in FIG. 5) are 50 μm or more and 5 mm or less. The surroundings were sealed with a sealant so that moisture did not enter.

〔光学特性の評価〕
低屈折率高分散材料11、高屈折率低分散材料21の光学特性の評価は以下の様に行った。
(Evaluation of optical properties)
The optical properties of the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 were evaluated as follows.

<屈折率測定用サンプルの作成>
各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。
<Preparation of a sample for refractive index measurement>
The refractive index of each optical element was measured by preparing a sample as follows.

まず、図2(a)に示すように、厚さ1mmの高屈折ガラス(S−TIH11:オハラ製)7の上に、厚さ12.5μmのスペーサー10と測定材料8(低屈折率高分散材料11)を配置した。その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー10を介して載せ、測定材料8を押し広げた。これを、20mW/cm(石英ガラスを通した照度)、1300秒の条件(26J)で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、測定材料8を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80℃、72時間でアニールした。その後、図2(b)の様に50μmのスペーサー11と測定材料12(高屈折率低分散材料21)を配置し、その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー11を介して載せ、測定材料12を押し広げてサンプルとした。これを、20mW/cm(石英ガラスを通した照度)、1300秒の条件(26J)で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、測定材料12を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80℃、72時間でアニールした。 First, as shown in FIG. 2A, a spacer 10 having a thickness of 12.5 μm and a measurement material 8 (low refractive index and high dispersion) are formed on a high refractive glass (S-TIH11: manufactured by OHARA) 7 having a thickness of 1 mm. Material 11) was placed. A quartz glass 9 having a thickness of 1 mm was placed thereon via a spacer 10 to spread the measurement material 8. This was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under the condition (26J) of 20 mW / cm 2 (illuminance through quartz glass) and 1300 seconds, and the measurement material 8 was cured. After curing, the quartz glass 9 was peeled off and annealed at 80 ° C. for 72 hours. Thereafter, as shown in FIG. 2 (b), a spacer 11 having a thickness of 50 μm and a measurement material 12 (high refractive index low dispersion material 21) are arranged, and a quartz glass 9 having a thickness of 1 mm is placed on the spacer 11 through the spacer 11 and measured. The material 12 was spread and used as a sample. This was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under a condition (26J) of 20 mW / cm 2 (illuminance through quartz glass) and 1300 seconds, and the measurement material 12 was cured. After curing, the quartz glass 9 was peeled off and annealed at 80 ° C. for 72 hours.

その後、図5に示す様に、75μmから5mmのスペーサー17を介して、石英ガラス9を載せ、封止剤18(LED用封止材料OE−6450A/B)を配し、80℃、24時間で封止剤18硬化させ、25μmから5mmの酸素を供給する空間19を配した屈折率測定サンプルを作成した。   After that, as shown in FIG. 5, the quartz glass 9 is placed through a spacer 17 of 75 μm to 5 mm, and a sealing agent 18 (LED sealing material OE-6450A / B) is placed, and 80 ° C. for 24 hours. The refractive index measurement sample was prepared by curing the sealant 18 and providing a space 19 for supplying oxygen of 25 μm to 5 mm.

その屈折率測定サンプル構成を図5示す。
・屈折率測定サンプル12−0は75μmスペーサー17を用いて25μmの酸素を供給する空間を配した屈折率測定サンプルを作成した。
・屈折率測定サンプル12−1は100μmスペーサー17を用いて50μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。
・屈折率測定サンプル12−2は150μmスペーサー17を用いて100μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。
・屈折率測定サンプル12−3は500μmスペーサー17を用いて450μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。
・屈折率測定サンプル12−4は1mmスペーサー17を用いて950μmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。
・屈折率測定サンプル12−5は5mmスペーサー17を用いておおよそ5mmの酸素を供給する空間を配した多屈折率測定サンプルを作成した。
The refractive index measurement sample configuration is shown in FIG.
-Refractive index measurement sample 12-0 made the refractive index measurement sample which arranged the space which supplies oxygen of 25 micrometers using 75 micrometer spacer 17. FIG.
-The refractive index measurement sample 12-1 made the multi-refractive-index measurement sample which arranged the space which supplies oxygen of 50 micrometers using the 100 micrometers spacer 17. FIG.
The refractive index measurement sample 12-2 was a multi-refractive index measurement sample having a space for supplying 100 μm oxygen using a 150 μm spacer 17.
The refractive index measurement sample 12-3 was a multi-refractive index measurement sample having a space for supplying 450 μm of oxygen using a 500 μm spacer 17.
-The refractive index measurement sample 12-4 made the multi-refractive-index measurement sample which arranged the space which supplies 950 micrometers oxygen using the 1 mm spacer 17. FIG.
-As the refractive index measurement sample 12-5, a 5 mm spacer 17 was used to prepare a multi-refractive index measurement sample in which a space for supplying approximately 5 mm of oxygen was disposed.

硬化したサンプルは、屈折計(KPR−30、(株)島津製作所)を用いて、高屈折率ガラス4側からg線435.8nm、f線486.1nm、e線546.1nm、d線587.6nm、c線656.3nmの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。   The cured sample was measured using a refractometer (KPR-30, Shimadzu Corporation) from the side of the high refractive index glass 4 with a g-line of 435.8 nm, an f-line of 486.1 nm, an e-line of 546.1 nm, and a d-line of 587. The refractive index of .6 nm and c-line 656.3 nm was measured. Further, the Abbe number was calculated from the measured refractive index.

<多層回折格子の作成12>
図3に示す様に、まず、回折格子形状の金型13の上に測定材料8(低屈折率高分散材料11)、その上に2mmガラス基板14を配置した。14.2mW/cm、211秒の条件と20mW/cm、600秒の条件で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、80℃、72時間、大気中でアニールして、回折格子を作成した。
<Creation 12 of Multilayer Diffraction Grating>
As shown in FIG. 3, first, a measurement material 8 (low refractive index high dispersion material 11) was placed on a diffraction grating-shaped mold 13, and a 2 mm glass substrate 14 was placed thereon. High pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) was irradiated under conditions of 14.2 mW / cm 2 , 211 seconds and 20 mW / cm 2 , 600 seconds, and annealed in the atmosphere at 80 ° C. for 72 hours. A diffraction grating was created.

アニール後に測定した回折格子の格子高さは11.7μm、ピッチは80μmであった。   The grating height measured after annealing was 11.7 μm, and the pitch was 80 μm.

次に、図4に示す様に、平板ガラス14上に成形された測定材料8を、平板ガラス14とともに成形治具16にセットし、次いで測定材料8上に測定材料12(高屈折率低分散材料21)を滴下した(図4(a))。その上に平板ガラス14をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも30μm高くになるように押し広げサンプルとした。(図4(b))。このサンプルに、14.2mW/cm、211秒の条件と20mW/cm、600秒の条件で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、サンプルを硬化した後、平板ガラス14を外し、80℃72時間にアニールし、多層回折光学素子作成した。図4(c)に多層回折格子の構成を示す。 Next, as shown in FIG. 4, the measurement material 8 formed on the flat glass 14 is set together with the flat glass 14 on a forming jig 16, and then the measurement material 12 (high refractive index, low dispersion) is formed on the measurement material 8. Material 21) was added dropwise (FIG. 4 (a)). A flat glass 14 was placed thereon, and a sample was spread out so that the thickness of the resin was 30 μm higher than the height of the lattice. (FIG. 4B). This sample was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under the conditions of 14.2 mW / cm 2 , 211 seconds and 20 mW / cm 2 , 600 seconds, and after curing the sample, The glass 14 was removed and annealed at 80 ° C. for 72 hours to prepare a multilayer diffractive optical element. FIG. 4C shows the configuration of the multilayer diffraction grating.

その後、75μmから5mmのスペーサー17を介して、平板ガラス14を載せ、封止剤18(LED用封止材料OE−6450A/B)を配し、80℃、24時間で硬化し、50μmから5mmの酸素を供給する空間19を配した多層回折光学素子を作成した。図6にその多層回折光学素子の構成の概要を示す。   Thereafter, the flat glass 14 is placed through a spacer 17 of 75 μm to 5 mm, a sealing agent 18 (LED sealing material OE-6450A / B) is disposed, and cured at 80 ° C. for 24 hours, and from 50 μm to 5 mm. A multilayer diffractive optical element having a space 19 for supplying oxygen was prepared. FIG. 6 shows an outline of the configuration of the multilayer diffractive optical element.

以下にその多層回折光学素子の構成を示す。
・多層回折格子12−0は75μmスペーサー17を用いて25μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した(参考例2)
・多層回折格子12−1は100μmスペーサー17を用いて50μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。
・多層回折格子12−2は150μmスペーサー17を用いて100μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。
・多層回折格子12−3は500μmスペーサー17を用いて450μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。
・多層回折格子12−4は1mmスペーサー17を用いて950μm酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。
・多層回折格子12−5は5mmスペーサー17を用いておおよそ5mmの酸素を供給する空間を配した多層回折光学素子を作成した。
The structure of the multilayer diffractive optical element is shown below.
The multilayer diffraction grating 12-0 was a multilayer diffraction optical element having a space for supplying 25 μm oxygen using a 75 μm spacer 17 (Reference Example 2) .
A multilayer diffraction optical element having a space for supplying 50 μm oxygen was prepared using a 100 μm spacer 17 as the multilayer diffraction grating 12-1.
The multilayer diffraction grating 12-2 is a multilayer diffraction optical element having a space for supplying 100 μm oxygen using a 150 μm spacer 17.
The multilayer diffraction grating 12-3 is a multilayer diffraction optical element having a space for supplying 450 μm oxygen using a 500 μm spacer 17.
The multilayer diffraction grating 12-4 is a multilayer diffraction optical element having a space for supplying 950 μm oxygen using a 1 mm spacer 17.
A multilayer diffractive optical element having a space for supplying oxygen of about 5 mm was prepared using a 5 mm spacer 17 as the multilayer diffraction grating 12-5.

<回折効率の評価>参考例1の方法に準ずる
<耐光性の評価>
参考例1の方法に準ずる
<高温高湿耐久性の評価>
参考例1の方法に準ずる
<Evaluation of diffraction efficiency> According to the method of Reference Example 1 <Evaluation of light resistance>
According to the method of Reference Example 1 <Evaluation of high temperature and high humidity durability>
Follow the method of Reference Example 1

<評価結果>
(1)初期評価結果
多層回折光学素子12−0、12−1、12−2、12−3、12−4、12−5は可視域全体の回折効率が99%以上となる。
(屈折率および光学定数)
屈折率測定サンプル:12−0、12−1、12−2、12−3、12−4、12−5の結果
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6037,1.5916,1.5809,1.5740,1.5640)
(ν,θgF)=(20.9,0.44)
Δn=±0.0003となり、大きな違いは見受けられない。
〈高屈折率低分散材料21〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.641,1.633,1.627,1.623,1.619)
(ν,θgF)=(43.9,0.57)
Δn=±0.0003となり、大きな違いは見受けられない。
<Evaluation results>
(1) Initial evaluation results The multilayer diffraction optical elements 12-0, 12-1, 12-2, 12-3, 12-4, and 12-5 have a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible range.
(Refractive index and optical constant)
Refractive index measurement sample: results of 12-0, 12-1, 12-2, 12-3, 12-4, 12-5 <Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6037,1.5916,1.5809,1.5740,1.5640)
d , θ gF ) = (20.9, 0.44)
Δn = ± 0.0003, and no significant difference is observed.
<High refractive index low dispersion material 21>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.641,1.633,1.627,1.623,1.619)
d , θ gF ) = (43.9, 0.57)
Δn = ± 0.0003, and no significant difference is observed.

(2)耐光性評価結果
多層回折光学素子12−1、12−2、12−3、12−4、12−5は可視域全体の回折効率が99%以上と初期に対して大きな変動はない。
多層回折光学素子12−0は可視域全体の回折効率が98%以上と初期に対して1〜2%変動する。
(屈折率および光学定数)
屈折率測定サンプ12−1、12−2、12−3、12−4、12−5は、低屈折率高分散材料11および高屈折率低分散材料21の変動が、初期値に対してΔn=±0.0003と大きな変化はない。
(参考例2)
屈折率測定サンプ12−0は、高屈折率低分散材料21の変動は初期値に対してΔn=−0.0002と大きな変化はない。
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6019,1.5898,1.5786,1.5714,1.5606)
(ν,θgF)=(19.6,0.42)
初期に対してΔn=−0.0018〜−0.0034と大きい。
(2) Light resistance evaluation results The multilayer diffractive optical elements 12-1, 12-2, 12-3, 12-4, and 12-5 have a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible region, and there is no great variation with respect to the initial stage. .
The multilayer diffractive optical element 12-0 has a diffraction efficiency of 98% or more in the entire visible region and varies by 1 to 2% from the initial stage.
(Refractive index and optical constant)
The refractive index measurement sumps 12-1, 12-2, 12-3, 12-4, and 12-5 show that the fluctuations of the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 are Δn relative to the initial values. = ± 0.0003, no significant change.
(Reference Example 2)
In the refractive index measurement sump 12-0, the fluctuation of the high refractive index and low dispersion material 21 does not change greatly as Δn = −0.0002 with respect to the initial value.
<Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6019,1.5898,1.5786,1.5714,1.5606)
d , θ gF ) = (19.6, 0.42)
It is large with Δn = −0.0018 to −0.0034 with respect to the initial stage.

(3)高温高湿耐久性評価の結果
多層回折光学素子12−0、12−1、12−2、12−3、12−4、12−5は可視域全体の回折効率が99%以上と初期に対して大きな変動はない。
(屈折率および光学定数)
屈折率測定サンプ12−0、12−1、12−2、12−3、12−4、12−5は、低屈折率高分散材料11および高屈折率低分散材料21の変動が、初期値に対してΔn=±0.0003と大きな変化はない。
(3) Results of high temperature and high humidity durability evaluation The multilayer diffractive optical elements 12-0, 12-1, 12-2, 12-3, 12-4, and 12-5 have a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible range. There is no significant change from the initial stage.
(Refractive index and optical constant)
The refractive index measurement sumps 12-0, 12-1, 12-2, 12-3, 12-4, and 12-5 have initial values of fluctuations in the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21. In contrast, Δn = ± 0.0003 is not significantly changed.

比較例1
参考例1と異なり、屈折率測定用サンプルおよび多層回折光学素子を作成する際、石英ガラス9および平板ガラス14を外さなかった。
Comparative Example 1
Unlike Reference Example 1, the quartz glass 9 and the flat glass 14 were not removed when the sample for refractive index measurement and the multilayer diffractive optical element were prepared.

<屈折率測定サンプル13の作成>
各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。
<Preparation of Refractive Index Measurement Sample 13>
The refractive index of each optical element was measured by preparing a sample as follows.

まず、図2(a)に示すように、厚さ1mmの高屈折ガラス(S−TIH11:ホヤ製)7の上に、厚さ12.5μmのスペーサー10と測定材料8(低屈折率高分散材料11)を配置した。その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー10を介して載せ、測定材料8を押し広げた。これを、20mW/cm2(石英ガラスを通した照度)、1300秒の条件(26J)で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、測定材料8を硬化した。硬化した後、石英ガラス9をはがし、80℃、72時間でアニールした後、図2(b)の様に50μmのスペーサー11と測定材料12(高屈折率低分散材料21)を配置し、その上に厚みが1mmの石英ガラス9をスペーサー11を介して載せ、測定材料12を押し広げてサンプルとした。これを、20mW/cm(石英ガラスを通した照度)、1300秒の条件(26J)で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、測定材料12を硬化した。 First, as shown in FIG. 2A, a spacer 10 having a thickness of 12.5 μm and a measurement material 8 (low refractive index and high dispersion) are formed on a high refractive glass (S-TIH11: made by Hoya) 7 having a thickness of 1 mm. Material 11) was placed. A quartz glass 9 having a thickness of 1 mm was placed thereon via a spacer 10 to spread the measurement material 8. This was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under the condition (26J) of 20 mW / cm 2 (illuminance through quartz glass) and 1300 seconds, and the measurement material 8 was cured. After curing, the quartz glass 9 is peeled off and annealed at 80 ° C. for 72 hours, and then a 50 μm spacer 11 and a measurement material 12 (high refractive index low dispersion material 21) are arranged as shown in FIG. A quartz glass 9 having a thickness of 1 mm was placed thereon via a spacer 11, and a measurement material 12 was spread and used as a sample. This was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under a condition (26J) of 20 mW / cm 2 (illuminance through quartz glass) and 1300 seconds, and the measurement material 12 was cured.

硬化した後、参考例1とは異なり、石英ガラス9をはがさず、80℃72時間でアニールしたものを測定用サンプルとした。 Unlike the reference example 1, after curing, the quartz glass 9 was not peeled off and annealed at 80 ° C. for 72 hours as a measurement sample.

図7に測定用サンプルの構成を示す。   FIG. 7 shows the configuration of the measurement sample.

硬化したサンプルは、屈折計(KPR−30、(株)島津製作所)を用いて、高屈折率ガラス4側からg線435.8nm、f線486.1nm、e線546.1nm、d線587.6nm、c線656.3nmの屈折率を測定した。また、測定した屈折率より、アッペ数を算出した。   The cured sample was measured using a refractometer (KPR-30, Shimadzu Corporation) from the side of the high refractive index glass 4 with a g-line of 435.8 nm, an f-line of 486.1 nm, an e-line of 546.1 nm, and a d-line of 587. The refractive index of .6 nm and c-line 656.3 nm was measured. Further, the Abbe number was calculated from the measured refractive index.

<多層回折光学素子>
次に、低屈折率高分散材料11で回折光学形状を成形し、空間を空ける事無く、高屈折率低分散材料21を積層し多層回折光学素子13を作成し、その評価を行った。
<Multilayer diffractive optical element>
Next, a diffractive optical shape was formed with the low refractive index and high dispersion material 11, and the high refractive index and low dispersion material 21 was laminated to make a multilayer diffractive optical element 13 without making a space, and the evaluation was performed.

<多層回折格子の作成13>
図3に示す様に、まず、回折格子形状の金型13の上に測定材料8(低屈折率高分散材料11)、その上に2mmガラス基板14を配置した。14.2mW/cm、211秒の条件と20mW/cm、600秒の条件で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、80℃、72時間 大気中でアニールして、回折格子を作成した。
<Creation of multilayer diffraction grating 13>
As shown in FIG. 3, first, a measurement material 8 (low refractive index high dispersion material 11) was placed on a diffraction grating-shaped mold 13, and a 2 mm glass substrate 14 was placed thereon. High pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) was irradiated under conditions of 14.2 mW / cm 2 , 211 seconds and 20 mW / cm 2 , 600 seconds, and annealed in the atmosphere at 80 ° C. for 72 hours. A diffraction grating was created.

アニール後に測定した回折格子の格子高さは12μm、ピッチは80μmであった。
参考例1と屈折率の評価結果が異なる為、回折格子の格子高さは屈折率の測定結果に基づいて最適化を行っている。
The grating height measured after annealing was 12 μm, and the pitch was 80 μm.
Since the evaluation result of the refractive index is different from that of Reference Example 1, the grating height of the diffraction grating is optimized based on the measurement result of the refractive index.

次に、図4に示す様に、平板ガラス14上に成形された測定材料8を、平板ガラス14とともに成形治具16にセットし、次いで測定材料8上に測定材料12(高屈折率低分散材料21)を滴下した(図4(a))。その上に平板ガラス14をのせ、樹脂の厚みが格子の高さよりも30μm高くになるように押し広げサンプルとした。(図4(b))。このサンプルに、14.2mW/cm、211秒の条件と20mW/cm、600秒の条件で高圧水銀ランプ(EXECURE250、HOYA CANDEO OPTRONICS(株))を照射し、サンプルを硬化した。硬化後、参考例1とは異なり、平板ガラス14を外さず、80℃、72時間にアニールし、多層回折光学素子作成した。図8にその構成を示す。 Next, as shown in FIG. 4, the measurement material 8 formed on the flat glass 14 is set together with the flat glass 14 on a forming jig 16, and then the measurement material 12 (high refractive index, low dispersion) is formed on the measurement material 8. Material 21) was added dropwise (FIG. 4 (a)). A flat glass 14 was placed thereon, and a sample was spread out so that the thickness of the resin was 30 μm higher than the height of the lattice. (FIG. 4B). The sample was irradiated with a high-pressure mercury lamp (EXECURE250, HOYA CANDEO OPTRONICS Co., Ltd.) under the conditions of 14.2 mW / cm 2 , 211 seconds and 20 mW / cm 2 , 600 seconds to cure the sample. After curing, unlike in Reference Example 1, the flat glass 14 was not removed, and annealing was performed at 80 ° C. for 72 hours to prepare a multilayer diffractive optical element. FIG. 8 shows the configuration.

<回折効率の評価>
参考例1の方法に準ずる。
<耐光性の評価>
参考例1の方法に準ずる
<高温高湿耐久性の評価>
参考例1の方法に準ずる
<Evaluation of diffraction efficiency>
The method of Reference Example 1 is applied.
<Evaluation of light resistance>
According to the method of Reference Example 1 <Evaluation of high temperature and high humidity durability>
Follow the method of Reference Example 1

<評価結果>
(1)初期評価結果
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子13は可視域全体の回折効率が99%以上となる。
(屈折率および光学定数)
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6009,1.5888,1.5776,1.5704,1.5596)
(ν,θgF)=(19.6,0.42)
参考例1に対してΔn=−0.0028〜−0.0044であった。
〈高屈折率低分散材料21〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6364,1.6285,1.6220,1.6186,1.6145)
(ν,θgF)=(44.3,0.57)
参考例1に対してΔn=−0.0045〜−0.0048であった。
<Evaluation results>
(1) Initial Evaluation Results The multilayer diffractive optical element 13 made from the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 has a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible range.
(Refractive index and optical constant)
<Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6009,1.5888,1.5776,1.5704,1.5596)
d , θ gF ) = (19.6, 0.42)
Δn = −0.0028 to −0.0044 with respect to Reference Example 1.
<High refractive index low dispersion material 21>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6364,1.6285,1.6220,1.6186,1.6145)
d , θ gF ) = (44.3, 0.57)
It was (DELTA) n = -0.0045--0.0048 with respect to the reference example 1.

(2)耐光性評価結果
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子13は可視域全体の回折効率が98%以上と初期に対して1から2%変動する。
(屈折率および光学定数)
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.5997,1.5874,1.5755,1.5683,1.5572)
(ν,θgF)=(18.8,0.41)
初期に対して屈折率変動が−0.0011〜−0.0025であった。
〈高屈折率低分散材料21〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6365,1.6286,1.6220,1.6187,1.6146)
(ν,θgF)=(44.3,0.57)
初期に対して屈折率変動が+0.0001であった。
(2) Results of Light Resistance Evaluation The multilayer diffractive optical element 13 made from the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 has a diffraction efficiency of 98% or more in the entire visible range, which is 1 to 2 from the initial stage. %fluctuate.
(Refractive index and optical constant)
<Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.5997,1.5874,1.5755,1.5683,1.5572)
d , θ gF ) = (18.8, 0.41)
The refractive index variation with respect to the initial value was -0.0011 to -0.0025.
<High refractive index low dispersion material 21>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6365,1.6286,1.6220,1.6187,1.6146)
d , θ gF ) = (44.3, 0.57)
The refractive index variation was +0.0001 with respect to the initial value.

(3)高温高湿耐久性評価の結果
低屈折率高分散材料11と高屈折率低分散材料21より作成される多層回折光学素子13は可視域全体の回折効率が99%以上と初期に対して大きな変動はない。
(屈折率および光学定数)
〈低屈折率高分散材料11〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6009,1.5889,1.5777,1.5704,1.5597)
(ν,θgF)=(19.6,0.41)
初期に対して屈折率変動が0.0000〜+0.0001であった。
〈高屈折率低分散材料21〉
屈折率(n,n,n,n,n)=(1.6364,1.6285,1.6220,1.6186,1.6145)
(ν,θgF)=(44.3,0.57)
初期に対して屈折率変動はほとんどなかった。
(3) Results of high temperature and high humidity durability evaluation The multilayer diffractive optical element 13 made from the low refractive index high dispersion material 11 and the high refractive index low dispersion material 21 has a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible region, compared with the initial value. There are no major fluctuations.
(Refractive index and optical constant)
<Low refractive index high dispersion material 11>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6009,1.5889,1.5777,1.5704,1.5597)
d , θ gF ) = (19.6, 0.41)
The refractive index variation was 0.0000 to +0.0001 with respect to the initial value.
<High refractive index low dispersion material 21>
Refractive index (n g, n F, n e, n d, n C) = (1.6364,1.6285,1.6220,1.6186,1.6145)
d , θ gF ) = (44.3, 0.57)
There was almost no refractive index fluctuation with respect to the initial stage.

以上の実施例、参考例および比較例の結果から、次のことが分る。 From the results of the above Examples , Reference Examples and Comparative Examples, the following can be understood.

比較例1においては、ITO微粒子および単量体を含有する樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させて、低屈折率高分散材料11(第1の層)と高屈折率低分散材料21(第2の層)を石英ガラス9および平板ガラス14で密閉し、酸素の供給を遮断した多層回折光学素子を作製する。この酸素の供給を遮断した条件においては、紫外線による樹脂の光化学反応により、ラジカルが発生する。発生したラジカルはITO微粒子にトラップされ、ラジカルによりITOは還元された状態にあり、屈折率、光の吸収等の光学特性が変動して影響を与える。   In Comparative Example 1, the resin composition containing the ITO fine particles and the monomer was cured by irradiating with ultraviolet rays, and the low refractive index and high dispersion material 11 (first layer) and the high refractive index and low dispersion material 21 ( The second layer) is sealed with quartz glass 9 and flat glass 14 to produce a multilayer diffractive optical element in which the supply of oxygen is cut off. Under the condition where the supply of oxygen is cut off, radicals are generated by the photochemical reaction of the resin with ultraviolet rays. The generated radicals are trapped in the ITO fine particles, and the ITO is reduced by the radicals, and the optical characteristics such as refractive index and light absorption are changed and influenced.

初期の状態では、屈折率の変化を考慮し、格子高さの補正により、回折効率を可視域全体で99%以上を達成する事が可能である。しかし、耐光試験等で上記の同様な状況で、屈折率変動が−0.0011〜−0.0025になる場合、回折効率が98%以上となり悪化する。   In the initial state, it is possible to achieve a diffraction efficiency of 99% or more in the entire visible range by correcting the grating height in consideration of the change in refractive index. However, when the refractive index variation is −0.0011 to −0.0025 in the same situation as described above in the light resistance test or the like, the diffraction efficiency is 98% or more and deteriorates.

一方、実施例1及び参考例1の低屈折率高分散材料11(第1の層)と高屈折率低分散材料21(第2の層)を積層した多層回折光学素子は、高屈折率低分散材料21(第2の層)の上に酸素を供給する空間が設けられている。そのために、第2の層が大気中の酸素を取り込んで第1の層のITO材料に酸素を接触させることにより、ITO微粒子にトラップされたラジカルを酸素により消滅させ、還元したITOを酸化して元の状態に戻す。このことにより、屈折率、光の吸収等の光学特性は耐光試験等での変動が小さくなる。 On the other hand, the multilayer diffractive optical element in which the low-refractive index high-dispersion material 11 (first layer) and the high-refractive index low-dispersion material 21 (second layer) in Example 1 and Reference Example 1 are stacked has a high refractive index and low refractive index. A space for supplying oxygen is provided on the dispersion material 21 (second layer). For this purpose, the second layer takes in oxygen in the atmosphere and makes oxygen contact with the ITO material of the first layer, thereby eliminating the radicals trapped in the ITO fine particles by oxygen and oxidizing the reduced ITO. Return to the original state. As a result, the optical characteristics such as refractive index and light absorption are less changed in the light resistance test.

本発明は、可視光もしくは紫外線による特性に変化および吸湿による特性変化がない、回折光学素子を提供することが可能となる。これにより、光学素子、回折光学素子、多層回折光学素子および光学系、特にカメラ、ビデオカメラ等の撮像光学系に利用することが出来る。   The present invention can provide a diffractive optical element that has no change in characteristics due to visible light or ultraviolet light and no change in characteristics due to moisture absorption. Thereby, it can utilize for imaging optical systems, such as an optical element, a diffractive optical element, a multilayer diffractive optical element, and an optical system, especially a camera, a video camera.

1 第2の層(高屈折率低分散層)
2 第1の層(低屈折率高分散層)
3 透明基板層
4 スペーサー
5 酸素を供給する空間
6 封止剤
7 高屈折ガラス(裏側)
8 測定材料
9 石英ガラス(照射側)
10 スペーサー
11 スペーサー
12 測定材料
13 金型
14 ガラス
15 離型治具
16 成形治具
17 スペーサー
18 封止剤
19 酸素を供給する空間
100 多層回折光学素子
110 多層回折光学素子
120 多層回折光学素子
130 多層回折光学素子
1 Second layer (high refractive index, low dispersion layer)
2 First layer (low refractive index high dispersion layer)
3 Transparent substrate layer 4 Spacer 5 Space for supplying oxygen 6 Sealant 7 High refractive glass (back side)
8 Measurement material 9 Quartz glass (irradiation side)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Spacer 11 Spacer 12 Measuring material 13 Mold 14 Glass 15 Mold release jig 16 Molding jig 17 Spacer 18 Sealant 19 Space for supplying oxygen 100 Multilayer diffractive optical element 110 Multilayer diffractive optical element 120 Multilayer diffractive optical element 130 Multilayer Diffractive optical element

Claims (14)

2つの透明基板の間に樹脂層を有する光学素子であって、
一方の透明基板上に、インジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を1体積%以上29体積%以下含有する樹脂で形成された第1の層と、酸素透過する第2の層とが積層されており、
前記第2の層と他方の透明基材の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、
前記酸素を供給する閉鎖空間の酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする光学素子。
An optical element having a resin layer between two transparent substrates,
On one transparent substrate, a first layer formed of a resin containing 1% by volume to 29% by volume of indium tin oxide (ITO) fine particles and a second layer that transmits oxygen are laminated. And
A closed space for supplying oxygen having a height of 50 μm or more and 5 mm or less is provided between the second layer and the other transparent substrate ,
The optical element according to claim 1, wherein the oxygen concentration in the closed space for supplying oxygen is 10% by volume or more and 100% by volume or less .
2つの透明基板の間に樹脂層を有する光学素子であって、
一方の透明基板上に、インジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を1体積%以上29体積%以下含有する樹脂で形成された第1の層を有し、
前記第1の層と他方の透明性基材の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、
前記酸素を供給する閉鎖空間の酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする光学素子。
An optical element having a resin layer between two transparent substrates,
On one transparent substrate, it has a first layer formed of a resin containing 1% by volume or more and 29% by volume or less of indium tin oxide (ITO) fine particles,
A closed space for supplying oxygen having a height of 50 μm or more and 5 mm or less is provided between the first layer and the other transparent substrate ,
The optical element according to claim 1, wherein the oxygen concentration in the closed space for supplying oxygen is 10% by volume or more and 100% by volume or less .
前記第1の層が低屈折率高分散材料であり、前記第2の層が高屈折低分散材料であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子。   2. The optical element according to claim 1, wherein the first layer is a low refractive index and high dispersion material, and the second layer is a high refractive index and low dispersion material. 記酸素を供給する空間に含有される水の濃度が230g/m以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光学素子。 The optical element according to any one of claims 1 to 3 concentrations of water contained pre Symbol oxygen in the space supplied is equal to or is 230 g / m 3 or less. 前記透明導電性物質の微粒子の平均粒径が1nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の光学素子。 The optical element according to any one of claims 1 to 4 , wherein an average particle diameter of the fine particles of the transparent conductive substance is 1 nm or more and 100 nm or less. 前記第1の層及び第2の層がエネルギー硬化型の樹脂であり、前記エネルギー硬化型の樹脂がアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも一種を有するラジカル硬化型の樹脂であることを特徴とする請求項1又は3に記載の光学素子。 The first layer and the second layer are energy curable resins, and the energy curable resin is a radical curable resin having at least one selected from an acrylic resin, a vinyl resin, and an epoxy resin. the optical element according to claim 1 or 3, characterized in that. 前記2つの透明基板は、ガラス基板又はガラスレンズ基板であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか一項に記載の光学素子。 The two transparent substrates, the optical element according to any one of claims 1 to 6, characterized in that a glass substrate or a glass lens substrate. 2つの透明基板の間に樹脂層が設けられた多層回折光学素子であって、
一方の透明基板上に、インジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を含有する樹脂で形成されており、回折格子形状を有する第1の層と、酸素透過する、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第2の層とが、前記第1の層と前記第2の層の回折格子形状が対向するように積層されており、
前記第2の層と他方の透明基板の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、
前記酸素を供給する閉鎖空間の酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする多層回折光学素子。
A multilayer diffractive optical element in which a resin layer is provided between two transparent substrates,
A transparent substrate is formed of a resin containing fine particles of indium tin oxide (ITO) on one transparent substrate, and has a first grating layer having a diffraction grating shape and a diffraction grating shape on at least one surface that transmits oxygen. And the second layer having the first layer and the second layer are laminated so that the diffraction grating shapes thereof are opposed to each other,
Between the second layer and the other transparent substrate, a closed space for supplying oxygen having a height of 50 μm or more and 5 mm or less is provided ,
The multilayer diffractive optical element according to claim 1, wherein the oxygen concentration in the closed space for supplying oxygen is 10% by volume to 100% by volume .
2つの透明基板の間に樹脂層が設けられた多層回折光学素子であって、
回折格子形状を有し、高屈折低分散材料からなる一方の透明基板上にインジウム錫酸化物(ITO)の微粒子を含有する樹脂で形成されており、少なくとも片側の表面に回折格子形状を有する第1の層が、前記一方の透明基板と前記第1の層の回折格子形状が対向するように積層されており、
前記第1の層と他方の透明基板の間に、高さが50μm以上5mm以下の酸素を供給する閉鎖空間が設けられており、
前記酸素を供給する閉鎖空間の酸素の濃度は、10体積%以上100体積%以下であることを特徴とする多層回折光学素子。
A multilayer diffractive optical element in which a resin layer is provided between two transparent substrates,
It is formed of a resin containing fine particles of indium tin oxide (ITO) on one transparent substrate having a diffraction grating shape and made of a high refractive and low dispersion material, and has a diffraction grating shape on at least one surface. 1 layer is laminated so that the diffraction grating shape of the first transparent substrate and the first layer are opposed to each other,
A closed space for supplying oxygen having a height of 50 μm or more and 5 mm or less is provided between the first layer and the other transparent substrate ,
The multilayer diffractive optical element according to claim 1, wherein the oxygen concentration in the closed space for supplying oxygen is 10% by volume to 100% by volume .
前記第1の層が低屈折率高分散材料であり、前記第2の層が高屈折低分散材料であることを特徴とする請求項に記載の多層回折光学素子。 9. The multilayer diffractive optical element according to claim 8 , wherein the first layer is a low refractive index and high dispersion material, and the second layer is a high refractive index and low dispersion material. 前記酸素を供給する閉鎖空間に含有される水の濃度が230g/m以下であることを特徴とする請求項乃至10のいずれか項に記載の多層回折光学素子。 Multilayer diffractive optical element according to any one of claims 8 to 10 concentrations of the water contained in the enclosed space for supplying the oxygen, characterized in that it is 230 g / m 3 or less. 前記透明導電性物質の微粒子の平均粒径が1nm以上100nm以下であることを特徴とする請求項乃至11のいずれか一項に記載の多層回折光学素子。 The multilayer diffractive optical element according to any one of claims 8 to 11 , wherein an average particle diameter of the fine particles of the transparent conductive material is 1 nm or more and 100 nm or less. 前記第1の層及び第2の層がエネルギー硬化型の樹脂であり、前記エネルギー硬化樹脂がアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂から選ばれる少なくとも一種であるラジカル硬化型の樹脂であることを特徴とする請求項8又は10に記載の多層回折光学素子。 The first layer and the second layer are energy curable resins, and the energy curable resin is a radical curable resin that is at least one selected from an acrylic resin, a vinyl resin, and an epoxy resin. The multilayer diffractive optical element according to claim 8 or 10 , wherein: 前記2つの透明基板は、ガラス基板又はガラスレンズ基板であることを特徴とする請求項乃至13のいずれか一項に記載の多層回折光学素子。 The multilayer diffractive optical element according to any one of claims 8 to 13 , wherein the two transparent substrates are glass substrates or glass lens substrates.
JP2011086139A 2011-04-08 2011-04-08 Optical element and multilayer diffractive optical element Expired - Fee Related JP5863265B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011086139A JP5863265B2 (en) 2011-04-08 2011-04-08 Optical element and multilayer diffractive optical element
PCT/JP2012/002230 WO2012137452A1 (en) 2011-04-08 2012-03-30 Optical element and multilayer diffractive optical element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011086139A JP5863265B2 (en) 2011-04-08 2011-04-08 Optical element and multilayer diffractive optical element

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012220711A JP2012220711A (en) 2012-11-12
JP5863265B2 true JP5863265B2 (en) 2016-02-16

Family

ID=46025840

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011086139A Expired - Fee Related JP5863265B2 (en) 2011-04-08 2011-04-08 Optical element and multilayer diffractive optical element

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5863265B2 (en)
WO (1) WO2012137452A1 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013175801A1 (en) * 2012-05-25 2013-11-28 パナソニック株式会社 Diffraction optical element and manufacturing method therefor
US10234695B2 (en) 2015-02-16 2019-03-19 Apple Inc. Low-temperature hermetic sealing for diffractive optical element stacks
CN111032700B (en) 2017-09-05 2022-04-26 富士胶片株式会社 Curable composition, cured product, and lens unit

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS559814B2 (en) 1971-09-25 1980-03-12
JPS5324989B2 (en) 1971-12-09 1978-07-24
JPS5420669B2 (en) 1972-09-02 1979-07-24
NO132509C (en) 1972-11-28 1975-11-26 Kristoffer Asla
JPS5311314B2 (en) 1974-09-25 1978-04-20
JPS5230490A (en) 1975-09-03 1977-03-08 Denki Kagaku Keiki Co Ltd Gas concentration measuring electrode stable in air
JP4266732B2 (en) * 2002-08-30 2009-05-20 キヤノン株式会社 Multilayer diffractive optical element
JP4958144B2 (en) * 2005-06-08 2012-06-20 三菱マテリアル電子化成株式会社 Composition for forming transparent conductive film, transparent conductive film and display
JP2008203821A (en) * 2007-01-22 2008-09-04 Canon Inc Laminated diffraction optical element
EP1947488B1 (en) * 2007-01-22 2010-05-12 Canon Kabushiki Kaisha Laminated diffraction optical element
JP5287080B2 (en) * 2007-10-18 2013-09-11 日油株式会社 Hard coat film for plasma display panel and plasma display panel
JP5132284B2 (en) * 2007-12-03 2013-01-30 キヤノン株式会社 Diffractive optical element, optical system having the same, and optical instrument
JP2011086139A (en) 2009-10-16 2011-04-28 Honda Motor Co Ltd Device for avoiding collision of vehicle

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012220711A (en) 2012-11-12
WO2012137452A1 (en) 2012-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6108740B2 (en) Optical element and optical element manufacturing method
JP5424623B2 (en) Resin composition and optical element, diffractive optical element and laminated diffractive optical element molded thereby
JP5843524B2 (en) Organic-inorganic composite composition, organic-inorganic composite material, optical element and laminated diffractive optical element
JP2010097195A (en) Optical material and optical element
JP5773579B2 (en) Multilayer diffractive optical element
JP5863265B2 (en) Optical element and multilayer diffractive optical element
JP5773668B2 (en) Multilayer diffractive optical element
JP6887761B2 (en) Manufacturing method of laminated diffractive optical element
JP2006276195A (en) Uv-curable resin composition, and optical element, laminated diffractive optical element and optical system molded by the same
US11346985B2 (en) Cured product, and optical element, diffractive optical element, optical apparatus, and imaging device using the cured product
US20230110024A1 (en) Optical element, optical equipment, and imaging apparatus
JP2006342254A (en) Method for producing photo-setting resin composition
JP2006232907A (en) Optical material, method for molding optical element by using the same, optical element molded by the method and optical device having the optical element
JP7327979B2 (en) Cured product, optical element using cured product, diffractive optical element, optical apparatus, and imaging device
JP7224834B2 (en) Diffractive optical element, resin composition, optical equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150421

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150622

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150714

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151014

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20151021

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151124

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151222

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5863265

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees