JP2006338895A - マイクロ波加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、金属カバー内に配置されるとともに第1の貫通孔および第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティと、誘電体キャビティを第1の貫通孔と第2の貫通孔と第3の貫通孔とがそれぞれ連通するようにして金属カバー内に中空状態で支持する支持部材とを有し、TM01δモードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM01δモードの磁界成分を生成するTM01δモード磁界生成手段とを有する。
【選択図】 図14
Description
ここで、μrは比透磁率であり、ρは抵抗率(Ω・m)であり、Fは周波数(Hz)である。
上記において説明したように、誘導加熱はコイルに高周波電流を流すことで発生する磁束を利用するが、コイルに発生する全磁束が被加熱体を通過するわけではない。実際にはコイルと被加熱体との間には空隙があるので、磁束の一部は漏れてしまい、加熱効率を低下させる原因となっている。
被加熱体が消費する電力=I2 2×R2
であり、一方、コイルが消費する電力は
コイルが消費する電力=I1 2×Rl
であって、加熱効率を向上するためにはコイルの抵抗Rlを低減しなければならないことがわかる。
ところで、被加熱体の形状が針のように径の小さい線状の細長い形状である場合に、加熱効率を低下させないようにするためには、コイルの線径と直径とを小さくして磁束の漏れを防止しなければならない。
なお、本願出願人が特許出願のときに知っている先行技術は、文献公知発明に係る発明ではないため、記載すべき先行技術文献情報はない。
即ち、本発明のうち請求項1に記載の発明は、上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、上記金属カバー内に配置されるとともに上記第1の貫通孔および上記第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティとを有し、TM010モードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、上記マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、上記マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに上記入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM010モードの磁界成分を生成するTM010モード磁界生成手段とを有し、上記第2の貫通孔内に被加熱物を配置して該被加熱物を加熱するようにしたものである。
まず、本発明によるマイクロ波加熱装置の理解を容易にするために、マイクロ波誘電体共振器について説明する。
次に、図5ならびに図6(a)(b)には、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM010モードのマイクロ波誘電体共振器の構成説明図が示されており、図5は斜視構成説明図であり、図6(a)は図5のC矢視構成説明図であり、図6(b)は図6(a)のD−D線による断面図である。
ここで、図7には、上記において説明したTM010モードのマイクロ波誘電体共振器30を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例が示されている。
次に、図8ならびに図9(a)(b)には、通信用として一般的に使用されているTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器の原理構成説明図が示されており、図8は斜視原理構成説明図であり、図9(a)は図8のE矢視構成説明図であり、図9(b)は図8(a)のF−F線による断面図である。
次に、図10ならびに図11(a)(b)には、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器の原理構成説明図が示されており、図10は正面斜視原理構成説明図であり、図11(a)は図10のG矢視構成説明図であり、図11(b)は図11(a)のH−H線による断面図である。
次に、図12ならびに図13(a)(b)には、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器のより詳細な構成説明図が示されており、図12は正面斜視構成説明図であり、図13(a)は図12のI矢視構成説明図であり、図13(b)は図13(a)のJ−J線による断面図である。
ここで、図14には、上記において説明したTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器60を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例が示されている。
次に、図15を参照しながら、上記したマイクロ波加熱装置200による加熱作用をより詳細に説明する。なお、図15には、径の小さい細い線状の金属線よりなる被加熱体300(図15においては、視認性をよくするために太実線で示している。)をマイクロ波加熱装置200により加熱する場合を示している。
上記した表面電流は、誘導加熱における渦電流とは異なり、磁性体や非磁性体の区別に関係なく導体表面に流れ、当該導体を加熱する作用を生じさせる。
次に、図16を参照しながら、径の小さい細い線状の金属線であって長さの短い針状金属線よりなる被加熱体302を、マイクロ波加熱装置200により加熱する場合の加熱作用について説明する。
なお、被加熱体に対する磁界成分がTM01δモードと同等のTM010モードのマイクロ波誘電体共振器40を用いたマイクロ波加熱装置100も、上記したTM01δモ一ドのマイクロ波誘電体共振器60を用いたマイクロ波加熱装置200によるマイクロ波加熱の作用と同様な作用により、被加熱体を加熱することができる。
また、TM010モードのマイクロ波誘電体共振器40またはTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器60に対し被加熱体が挿入されたときに、誘電体キャビティ24、42の周辺の電磁界分布が変化するので、その共振周波数は変動する。その際に、常に共振周波数に保たれるように、マイクロ波誘電体共振器40、60にマイクロ波を供給するマイクロ波発振装置の周波数の制御を行えば、マイクロ波は整合状態で誘電体キャビティ24、42に注入されるので、高効率のマイクロ波加熱を実現することができる。
以上の構成において、使用済み注射針トレイ406から空気制御装置410で制御された空気流を利用して第1搬送路408に導かれた使用済み注射針402は、TM01δモードのマイクロ波誘電体共振器60を備えたマイクロ波加熱装置200へ送られる。
従って、TM010モードまたはTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器40、60を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置100、200、400によれば、上記した従来の技術の課題を解決することができる。
(1)0.1mm以下の線状の被加熱体に対しても加熱することができる、
(2)0.1mm以下の針状の被加熱体に対しても加熱することができる、
(3)自動周波数制御機能を有するマイクロ波発振装置を用いた場合には、マイクロ 波誘電体共振器40、60の共振周波数に追従して加熱動作を行うので加熱効 率を向上することができる、
などという優れた効果が得られる。
なお、上記した実施の形態は、以下の(1)〜(6)に示すように変形することができるものである。
12 高周波発振器
14 被加熱体
20 マイクロ波誘電体共振器
22 金属ケース
22a 上面部
22b 貫通孔
22c 下面部
22d 貫通孔
24 誘電体キャビティ
24a 貫通孔
30 マイクロ波誘電体共振器
34 同軸コネクタ
36 ループアンテナ
40 マイクロ波誘電体共振器
42 誘電体キャビティ
42a 貫通孔
50 マイクロ波誘電体共振器
60 マイクロ波誘電体共振器
62 第1円筒形誘電体キャビティ支持部材
62a 貫通孔
64 第2円筒形誘電体キャビティ支持部材
64a 貫通孔
66 同軸コネクタ
68 ループアンテナ
100 マイクロ波加熱装置
200 マイクロ波加熱装置
300 被加熱体
302 被加熱体
400 マイクロ波加熱装置
402 使用済み注射針
402a 検波部
402b 自動周波数制御部
402c PLL周波数シンセサイザ
402d 送信電力モニタ部
402e 減衰器
402f 増幅器
404 マイクロ波発振装置
406 使用済み注射針トレイ
408 第1搬送路
410 空気制御装置
412 第2搬送路
414 処理済トレイ
Claims (8)
- 上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、前記金属カバー内に配置されるとともに前記第1の貫通孔および前記第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティとを有し、TM010モードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、
前記マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、
前記マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに前記入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM010モードの磁界成分を生成するTM010モード磁界生成手段と
を有し、
前記第2の貫通孔内に被加熱物を配置して該被加熱物を加熱する
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 請求項1に記載のマイクロ波加熱装置において、
前記入力手段は、同軸コネクタであり、
前記TM010モード磁界生成手段は、ループアンテナである
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 請求項1または2のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、さらに、
前記入力手段にマイクロ波を入力するマイクロ波発生手段を有し、
前記マイクロ波発生手段は、前記マイクロ波誘電体共振器の共振周波数が変動した際に発振周波数を常に共振周波数に追従させる周波数制御手段を有する
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 請求項1、2または3のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、
前記被加熱体は、金属線または針状金属片である
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、前記金属カバー内に配置されるとともに前記第1の貫通孔および前記第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティと、前記誘電体キャビティを前記第1の貫通孔と前記第2の貫通孔と前記第3の貫通孔とがそれぞれ連通するようにして前記金属カバー内に中空状態で支持する支持部材とを有し、TM01δモードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、
前記マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、
前記マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに前記入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM01δモードの磁界成分を生成するTM01δモード磁界生成手段と
を有し、
前記第2の貫通孔内に被加熱物を配置して該被加熱物を加熱する
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 請求項5に記載のマイクロ波加熱装置において、
前記入力手段は、同軸コネクタであり、
前記TM01δモード磁界生成手段は、ループアンテナである
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 請求項5または6のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、さらに、
前記入力手段にマイクロ波を入力するマイクロ波発生手段を有し、
前記マイクロ波発生手段は、前記マイクロ波誘電体共振器の共振周波数が変動した際に発振周波数を常に共振周波数に追従させる周波数制御手段を有する
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。 - 請求項5、6または7のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、
前記被加熱体は、金属線または針状金属片である
ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005158930A JP4034321B2 (ja) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | マイクロ波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005158930A JP4034321B2 (ja) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | マイクロ波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006338895A true JP2006338895A (ja) | 2006-12-14 |
JP4034321B2 JP4034321B2 (ja) | 2008-01-16 |
Family
ID=37559288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005158930A Expired - Fee Related JP4034321B2 (ja) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | マイクロ波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4034321B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013531862A (ja) * | 2010-05-03 | 2013-08-08 | ゴジ リミテッド | モーダル解析 |
JP2018024555A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 矢崎総業株式会社 | 水素製造装置 |
CN108187597A (zh) * | 2018-01-10 | 2018-06-22 | 电子科技大学 | 微波半导体自激振荡化学反应器及其方法 |
JP2021072221A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-05-06 | 日本無線株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
CN115278971A (zh) * | 2022-09-07 | 2022-11-01 | 四川大学 | 一种微波加热组件和微波加热装置 |
WO2024004429A1 (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 日本無線株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
WO2024004428A1 (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 日本無線株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210012403A (ko) * | 2019-07-25 | 2021-02-03 | 한국전기연구원 | 마이크로파 대역의 유도 가열 장치 |
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JP2013531862A (ja) * | 2010-05-03 | 2013-08-08 | ゴジ リミテッド | モーダル解析 |
JP2018024555A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 矢崎総業株式会社 | 水素製造装置 |
CN108187597A (zh) * | 2018-01-10 | 2018-06-22 | 电子科技大学 | 微波半导体自激振荡化学反应器及其方法 |
JP2021072221A (ja) * | 2019-10-31 | 2021-05-06 | 日本無線株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
JP7253481B2 (ja) | 2019-10-31 | 2023-04-06 | 日本無線株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
WO2024004429A1 (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 日本無線株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
WO2024004428A1 (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 日本無線株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
CN115278971A (zh) * | 2022-09-07 | 2022-11-01 | 四川大学 | 一种微波加热组件和微波加热装置 |
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---|---|
JP4034321B2 (ja) | 2008-01-16 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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