JP2006338895A - マイクロ波加熱装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】径の小さい細い線状の被加熱体を効率よく加熱することができるようにする。
【解決手段】上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、金属カバー内に配置されるとともに第1の貫通孔および第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティと、誘電体キャビティを第1の貫通孔と第2の貫通孔と第3の貫通孔とがそれぞれ連通するようにして金属カバー内に中空状態で支持する支持部材とを有し、TM01δモードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM01δモードの磁界成分を生成するTM01δモード磁界生成手段とを有する。
【選択図】 図14

Description

本発明は、マイクロ波加熱装置に関し、さらに詳細には、マイクロ波を利用して被加熱体を加熱するマイクロ波加熱装置に関し、特に、径の細い線状の金属よりなる被加熱体を加熱する際に用いて好適なマイクロ波加熱装置に関する。
従来より、高周波を利用して金属を加熱する手法としては、誘導加熱が広く知られている。
ここで、図1には、誘導加熱の動作原理の説明図が示されている。この図1を参照しながら、以下に誘導加熱の動作原理を説明する。
即ち、コイル10に高周波発振器12を接続し、高周波発振器12によりコイル10に高周波電流を流すと、コイル10の内径側の空間に磁束Mが発生することになる。この磁束Mが鉄のような磁性体金属よりなる被加熱体14を貫通すると、被加熱体14には渦電流(誘導電流)Iが流れることになる。そして、この渦電流Iは、磁性体金属よりなる被加熱体14の表皮効果により、被加熱体14の表面付近に集中するが、この渦電流の浸透深さδは、次の式(1)で表される。
δ=503√(ρ/μF) (m)・・・ 式(1)
ここで、μは比透磁率であり、ρは抵抗率(Ω・m)であり、Fは周波数(Hz)である。
誘導加熱の原理は、浸透深さδの部位に集中する渦電流が被加熱体固有の抵抗率により抵抗損失を発生させることによるものであり、これを渦電流損という。
従って、誘導加熱においては、被加熱体の材料定数、被加熱体の寸法、被加熱体の加熱目的あるいは被加熱体の加熱温度に応じて、コイルに流す高周波電流の周波数および高周波印加電力を選択している。なお、誘導加熱においてコイルに流す高周波電流の周波数は、一般的には10KHz〜200KHzから選択されている。

上記において説明したように、誘導加熱はコイルに高周波電流を流すことで発生する磁束を利用するが、コイルに発生する全磁束が被加熱体を通過するわけではない。実際にはコイルと被加熱体との間には空隙があるので、磁束の一部は漏れてしまい、加熱効率を低下させる原因となっている。
ここで、図2に誘導加熱の等価回路を示すが、被加熱体が消費する電力は
被加熱体が消費する電力=I ×R
であり、一方、コイルが消費する電力は
コイルが消費する電力=I ×R
であって、加熱効率を向上するためにはコイルの抵抗Rを低減しなければならないことがわかる。

ところで、被加熱体の形状が針のように径の小さい線状の細長い形状である場合に、加熱効率を低下させないようにするためには、コイルの線径と直径とを小さくして磁束の漏れを防止しなければならない。
しかしながら、コイルを小形にすると、上記において説明したコイルの抵抗Rが増大することになって、結局のところ加熱効率を低下させてしまうこととなっていた。
こうしたことから、従来の誘導加熱に関しては、以下に示す3項目の問題点が指摘されていた。
(1)被加熱体がコイルの線径と直径とに対し非常に小さい場合には、磁束の漏れが 増大して加熱効率が低下する。
(2)コイルの線径と直径とを小さくするとコイルの抵抗が増大することになり、加 熱効率が低下する。
(3)被加熱体が渦電流の浸透深さに対し小型のものは渦電流が制限されるため、加 熱効率が低下する。例えば誘導加熱に用いられる代表的な金属であるα鉄の場 合には、周波数100KHzでは渦電流の浸透深さの影響を受け、直径0.6 mmの線材が被加熱体の小形化の限界である。

なお、本願出願人が特許出願のときに知っている先行技術は、文献公知発明に係る発明ではないため、記載すべき先行技術文献情報はない。
本発明は、上記したような従来の技術の有する種々の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、例えば、直径が0.6mm以下であるような、径の小さい細い線状の被加熱体を効率よく加熱することができるようにしたマイクロ波加熱装置を提供しようとするものである。
上記目的を達成するために、本発明は、マイクロ波の導電流を被加熱体に流すことにより、被加熱体の抵抗損失に起因するジュール熱を利用して被加熱体を加熱するようにしたものであり、その際に、マイクロ波誘電体共振器を用いるようにしたものであって、誘電体共振モードはTM010モードまたはTM01δモードとしたものである。

即ち、本発明のうち請求項1に記載の発明は、上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、上記金属カバー内に配置されるとともに上記第1の貫通孔および上記第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティとを有し、TM010モードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、上記マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、上記マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに上記入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM010モードの磁界成分を生成するTM010モード磁界生成手段とを有し、上記第2の貫通孔内に被加熱物を配置して該被加熱物を加熱するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項2に記載の発明は、本発明のうち請求項1に記載の発明において、上記入力手段は、同軸コネクタであり、上記TM010モード磁界生成手段は、ループアンテナであるようにしたものである。
また、本発明のうち請求項3に記載の発明は、本発明のうち請求項1または2のいずれか1項に記載の発明において、さらに、上記入力手段にマイクロ波を入力するマイクロ波発生手段を有し、上記マイクロ波発生手段は、上記マイクロ波誘電体共振器の共振周波数が変動した際に発振周波数を常に共振周波数に追従させる周波数制御手段を有するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項4に記載の発明は、本発明のうち請求項1、2または3のいずれか1項に記載の発明において、上記被加熱体は、金属線または針状金属片であるようにしたものである。
また、本発明のうち請求項5に記載の発明は、上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、上記金属カバー内に配置されるとともに上記第1の貫通孔および上記第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティと、上記誘電体キャビティを上記第1の貫通孔と上記第2の貫通孔と上記第3の貫通孔とがそれぞれ連通するようにして上記金属カバー内に中空状態で支持する支持部材とを有し、TM01δモードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、上記マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、上記マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに上記入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM01δモードの磁界成分を生成するTM01δモード磁界生成手段とを有し、上記第2の貫通孔内に被加熱物を配置して該被加熱物を加熱するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項6に記載の発明は、本発明のうち請求項5に記載の発明において、上記入力手段は、同軸コネクタであり、上記TM01δモード磁界生成手段は、ループアンテナであるようにしたものである。
また、本発明のうち請求項7に記載の発明は、本発明のうち請求項5または6のいずれか1項に記載の発明において、さらに、上記入力手段にマイクロ波を入力するマイクロ波発生手段を有し、上記マイクロ波発生手段は、上記マイクロ波誘電体共振器の共振周波数が変動した際に発振周波数を常に共振周波数に追従させる周波数制御手段を有するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項8に記載の発明は、本発明のうち請求項5、6または7のいずれか1項に記載の発明において、上記被加熱体は、金属線または針状金属片であるようにしたものである。
本発明は、以上説明したように構成されているので、例えば、直径が0.6mm以下であるような、径の小さい細い線状の被加熱体を効率よく加熱することができるようになるという優れた効果を奏する。
以下、添付の図面に基づいて、本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例を詳細に説明するものとする。
なお、以下の説明においては、それぞれ同一または相当する構成については、それぞれ同一の符号を付して示すことにより、それらの詳細な構成ならびに作用の説明は適宜に省略する。

まず、本発明によるマイクロ波加熱装置の理解を容易にするために、マイクロ波誘電体共振器について説明する。
このマイクロ波誘電体共振器は、一般的には、不要波の伝播を抑圧する目的で通信装置内に組込まれて使用されるものであり、その共振モードにより区分されている。本発明によるマイクロ波加熱装置においては、マイクロ波加熱を実現するために、共振モードとしてTM010モードとTM01δモードとを用いるようにした。
ここで、図3ならびに図4(a)(b)には、通信用として一般的に使用されているTM010モードのマイクロ波誘電体共振器の構成説明図が示されており、図3は斜視構成説明図であり、図4(a)は図3のA矢視構成説明図であり、図4(b)は図4(a)のB−B線による断面図である。
このマイクロ波誘電体共振器20は、内部が中空とされた円柱形の金属ケース22と、この金属ケース22内において同軸上に配置された円柱形状の誘電体キャビティ24と有して構成されている。
また、図3ならびに図4(a)(b)において、一点鎖線で示す符号MはTM010モードで共振させたときの磁界成分を示し、また、二点鎖線で示す符号EはTM010モードで共振させたときの電界成分を示している。

次に、図5ならびに図6(a)(b)には、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM010モードのマイクロ波誘電体共振器の構成説明図が示されており、図5は斜視構成説明図であり、図6(a)は図5のC矢視構成説明図であり、図6(b)は図6(a)のD−D線による断面図である。
このマイクロ波誘電体共振器30は、金属ケース22の上面部22aの中心部分に貫通孔22bが穿設され、金属ケース22の下面部22cの中心部分に貫通孔22dが穿設され、これら貫通孔22bおよび貫通孔22dと連通するようにして誘電体キャビティ24の中心部分において軸方向に沿って貫通孔24aが形成されている点において、上記したマイクロ波誘電体共振器20と異なっている。
TM010モードの誘電体キャビティ24の中心部分は、軸方向の電界成分Eしか存在しない。従って、誘電体キャビティ24に中心部分に軸方向に沿った貫通孔24aを設けることは、誘電体キャビティ24の比誘電率を低下させることと等価となる。なお、誘電体キャビティ24の寸法を補正することにより、同一共振周波数を維持することができる。

ここで、図7には、上記において説明したTM010モードのマイクロ波誘電体共振器30を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例が示されている。
このマイクロ波加熱装置100は、マイクロ波誘電体共振器30と、マイクロ波入力手段たる金属ケース22の側壁面に配設された同軸コネクタ34と、TM010モードの磁界成分M(図7において破線で示す。)を生成するTM010モード磁界生成手段たる金属ケース22内において同軸コネクタ34と接続されたループアンテナ36とを有している。
マイクロ波加熱装置100においては、同軸給電線(図示せず。)により所定のマイクロ波をマイクロ波誘電体共振器30まで導き、同軸コネクタ34からマイクロ波誘電体共振器30内にマイクロ波を注入することにより、TM010モードでの共振モードによる励振を行うものである。即ち、同軸給電線(図示せず。)から所定のマイクロ波を同軸コネクタ34を介してループアンテナ36に供給することにより、TM010モードの磁界成分M(図7において破線で示す。)を同軸コネクタ34に接続されたループアンテナ36で生成し、誘電体キャビティ24の磁界成分Mに結合させてTM010モードでの共振モードによる励振を実現している。
上記のようにして、マイクロ波加熱装置100のマイクロ波誘電体共振器30がTM010モードでの共振モードで励振されると、マイクロ波誘電体共振器30の貫通孔24a内には軸方向の電界成分Eしか存在しないことになる。
こうしたマイクロ波加熱装置100によれば、後述する作用により、貫通孔24aに位置する被加熱体(図示せず。)を効率よく加熱することができる。

次に、図8ならびに図9(a)(b)には、通信用として一般的に使用されているTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器の原理構成説明図が示されており、図8は斜視原理構成説明図であり、図9(a)は図8のE矢視構成説明図であり、図9(b)は図8(a)のF−F線による断面図である。
このマイクロ波誘電体共振器40は、内部が中空とされた金属ケース22と、この金属ケース22内において同軸上に配置されるとともに金属ケース22の上面部22aおよび下面部22cから離隔して中空に浮かせて配置された円柱形状の誘電体キャビティ42と有して構成されている。
また、図8ならびに図9(a)(b)において、一点鎖線で示す符号MはTM01δモードで共振させたときの磁界成分を示し、また、二点鎖線で示す符号EはTM01δモードで共振させたときの電界成分を示している。

次に、図10ならびに図11(a)(b)には、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器の原理構成説明図が示されており、図10は正面斜視原理構成説明図であり、図11(a)は図10のG矢視構成説明図であり、図11(b)は図11(a)のH−H線による断面図である。
このマイクロ波誘電体共振器50は、誘電体キャビティ42が中心部分において軸方向に沿って貫通孔42aを設けている点においてのみ、上記したマイクロ波誘電体共振器40と異なっている。
TM01δモードの誘電体キャビティ42の中心部分は、軸方向の電界成分Eしか存在しない。従って、誘電体キャビティ42に中心部分に軸方向に沿った貫通孔42aを設けることは、誘電体キャビティ42の比誘電率を低下させることと等価となる。なお、誘電体キャビティ42の寸法を補正することにより、同一共振周波数を維持することができる。

次に、図12ならびに図13(a)(b)には、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器のより詳細な構成説明図が示されており、図12は正面斜視構成説明図であり、図13(a)は図12のI矢視構成説明図であり、図13(b)は図13(a)のJ−J線による断面図である。
このマイクロ波誘電体共振器60においては、上面部22aの中心部分に貫通孔22bが穿設されるとともに、下面部22cの中心部分に貫通孔22dが穿設された金属ケース22を用いている。そして、誘電体キャビティ42を金属ケース22の上面部22aおよび下面部22cから離隔して中空に浮かせて配置するために、上面部22aに形成された貫通孔22bと同軸上に位置して互いに連通する貫通孔62aを同軸上に形成したドーナツ形の円筒形状の第1誘電体キャビティ支持部材62を金属ケース22内における上面部22aに配設し、また、下面部22cに形成された貫通孔22dと同軸上に位置して互いに連通する貫通孔64aを同軸上に形成したドーナツ形の円筒形状の第2誘電体キャビティ支持部材64を金属ケース22内における下面部22cに配設した点において、上記したマイクロ波誘電体共振器50と異なっている。
マイクロ波誘電体共振器60においては、これら第1誘電体キャビティ支持部材62と第2誘電体キャビティ支持部材64との間に誘電体キャビティ42を配置し、第1誘電体キャビティ支持部材62と第2誘電体キャビティ支持部材64とにより誘電体キャビティ42を金属ケース22内の中空に支持するようになされている。
ここで、第1誘電体キャビティ支持部材62と第2誘電体キャビティ支持部材64との比誘電率は、誘電体キャビティ42に比べて1/5〜1/10程度となるように材料などを選択することによって、マイクロ波誘電体共振器60の各寸法を補正してTM01δ共振周波数を維持することができる。

ここで、図14には、上記において説明したTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器60を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例が示されている。
このマイクロ波加熱装置200は、マイクロ波誘電体共振器60と、マイクロ波入力手段たる金属ケース22の側壁面に配設された同軸コネクタ66と、TM01δモードの磁界成分M(図14において破線で示す。)を生成するTM01δモード磁界生成手段たる金属ケース22内において同軸コネクタ66と接続されたループアンテナ68とを有している。
マイクロ波加熱装置200においては、同軸給電線(図示せず。)により所定のマイクロ波をマイクロ波誘電体共振器60まで導き、同軸コネクタ66からマイクロ波誘電体共振器60内にマイクロ波を注入することにより、TM01δモードでの共振モードによる励振を行うものである。即ち、同軸給電線(図示せず。)から所定のマイクロ波を同軸コネクタ66を介してループアンテナ68に供給することにより、TM01δモードの磁界成分M(図14において破線で示す。)を同軸コネクタ66に接続されたループアンテナ68で生成し、誘電体キャビティ42の磁界成分Mに結合させてTM01δモードでの共振モードによる励振を実現している。
上記のようにして、マイクロ波加熱装置200のマイクロ波誘電体共振器60がTM01δモードでの共振モードで励振されると、マイクロ波誘電体共振器60の貫通孔42a内には軸方向の電界成分Eしか存在しないことになる。
こうしたマイクロ波加熱装置200によれば、後述する作用により、貫通孔42aに位置する被加熱体(図示せず。)を効率よく加熱することができる。

次に、図15を参照しながら、上記したマイクロ波加熱装置200による加熱作用をより詳細に説明する。なお、図15には、径の小さい細い線状の金属線よりなる被加熱体300(図15においては、視認性をよくするために太実線で示している。)をマイクロ波加熱装置200により加熱する場合を示している。
まず、同軸上に互いに連通して形成された金属ケース22の上面部22aに形成された貫通孔22b、第1誘電体キャビティ支持部材62の貫通孔62a、誘電体キャビティ42の貫通孔42a、第2誘電体キャビティ支持部材64の貫通孔64aならびに金属ケース22の下面部22cに形成された貫通孔22dを順次にそれぞれ貫通するようにして、金属線よりなる被加熱体300を配置する。
ここで、マイクロ波加熱装置200にTM01δモードを励振して共振させると、誘電体キャビティ42の内部には変位電流Iおよび変位電流Iが流れる。一方、TM01δモードの磁界成分Mが被加熱体300の周囲に安定分布するため、この磁界成分Mと直交する方向、即ち、被加熱体300の軸方向と一致する方向に表面電流が流れる。
この表面電流は表皮効果を有し、その浸透深さは式(1)に従うものであるが、周波数Fがマイクロ波のため浸透深さは数μm程度であり、仮に被加熱体300の直径が100μm程度であっても全く問題無く表面電流が流れることになる。
こうした表面電流は、被加熱体300を流れる際の表面抵抗に起因する電力損失を生ずる。式(2)には、電力損失密度Pと表面抵抗Rおよび磁界Hの関係を示している。
=|H| ・・・ 式(2)

上記した表面電流は、誘導加熱における渦電流とは異なり、磁性体や非磁性体の区別に関係なく導体表面に流れ、当該導体を加熱する作用を生じさせる。
また、この表面電流はキューリー点とは無関係に流れるため、印加するマイクロ波電力に追従して電力損失が増大するので、所望の加熱温度を容易に設定することができる。

次に、図16を参照しながら、径の小さい細い線状の金属線であって長さの短い針状金属線よりなる被加熱体302を、マイクロ波加熱装置200により加熱する場合の加熱作用について説明する。
まず、誘電体キャビティ42の貫通孔42aのほぼ中央位置に、針状金属線よりなる被加熱体302(図16においては、視認性をよくするために太実線で示している。)をその軸方向が貫通孔42aの軸方向と一致するように配置する。
ここで、マイクロ波加熱装置200にTM01δモードを励振して共振させると、誘電体キャビティ42の内部には変位電流Iおよび変位電流Iが流れる。一方、TM01δモードの磁界成分Mが被加熱体302の周囲に安定分布するため、この磁界成分Mと直交する方向、即ち、被加熱体302の軸方向と一致する方向に表面電流が流れ、上記被加熱体300の加熱と同様の作用により被加熱体302が加熱される。

なお、被加熱体に対する磁界成分がTM01δモードと同等のTM010モードのマイクロ波誘電体共振器40を用いたマイクロ波加熱装置100も、上記したTM01δモ一ドのマイクロ波誘電体共振器60を用いたマイクロ波加熱装置200によるマイクロ波加熱の作用と同様な作用により、被加熱体を加熱することができる。

また、TM010モードのマイクロ波誘電体共振器40またはTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器60に対し被加熱体が挿入されたときに、誘電体キャビティ24、42の周辺の電磁界分布が変化するので、その共振周波数は変動する。その際に、常に共振周波数に保たれるように、マイクロ波誘電体共振器40、60にマイクロ波を供給するマイクロ波発振装置の周波数の制御を行えば、マイクロ波は整合状態で誘電体キャビティ24、42に注入されるので、高効率のマイクロ波加熱を実現することができる。
こうしたマイクロ波発振装置の周波数の制御は、例えば、マイクロ波誘電体共振器40、60に注入するマイクロ波に対し、その反射電力を検出して当該反射電力が最小になるようにマイクロ波発振装置をフィードバック制御する自動周波数制御機能(AFC(Automatic Frequency Control)機能)を達成する手段をマイクロ波発振装置に付加することにより、実現することができる。
以下、マイクロ波加熱装置100、200に対し、上記したフィードバック制御システムを備えたマイクロ波発振装置によりマイクロ波を供給するようにしたシステムたるマイクロ波加熱装置400について説明する。
即ち、図17には、マイクロ波加熱装置400の構成説明図が示されている。なお、このマイクロ波加熱装置400は、被加熱体として針状金属片、具体的には、使用済み注射針402を加熱するものであり、使用済み注射針402の高温滅菌を目的としたものである。なお、使用済み注射針402の材質は、非磁性体ステンレス鋼である。
このマイクロ波加熱装置400は、マイクロ波加熱装置200と、マイクロ波加熱装置200へマイクロ波を供給するマイクロ波発振装置404と、使用済み注射針402を収容した使用済み注射針トレイ406と、使用済み注射針トレイ406とマイクロ波加熱装置200との間に配置されていて使用済み注射針トレイ406に収容された使用済み注射針402をマイクロ波加熱装置200まで搬送するための第1搬送路408と、第1搬送路408内に空気流を生起するための空気制御装置410と、マイクロ波加熱装置200により加熱されて高温滅菌された使用済み注射針402を搬送する第2搬送路412と、第2搬送路412を搬送されてきた高温滅菌済みの使用済み注射針402を収容する処理済トレイ414と有して構成されている。
また、マイクロ波発振装置404は、マイクロ波誘電体共振器60からの反射電力を検出するための検波部402aと、検波部402aから出力される検波電圧に基づく処理を行う自動周波数制御部402bと、PLL周波数シンセサイザ402cと、送信電力モニタ部402dと、減衰器402eと、増幅器402fとを有して構成されている。

以上の構成において、使用済み注射針トレイ406から空気制御装置410で制御された空気流を利用して第1搬送路408に導かれた使用済み注射針402は、TM01δモードのマイクロ波誘電体共振器60を備えたマイクロ波加熱装置200へ送られる。
マイクロ波加熱装置200へ送られた使用済み注射針402は、加熱部たるマイクロ波誘電体共振器60の貫通孔42a内に配置されるが、この貫通孔42a内に配置された使用済み注射針402には共振磁界による表面電流が流れ、表面抵抗に起因する電力損失でジュール熱が発生する。こうして使用済み注射針402は約1000°Cに加熱され、血液に混入した全ての菌が死滅させる高温滅菌処理が行われる。
上記のようにして高温滅菌処理された使用済み注射針402は、第2搬送路412を介して処理済トレイ414に集められて処分される。
次に、マイクロ波加熱装置200に配設されたマイクロ波発振装置404について説明する。
このマイクロ波発振装置404は、TM01δモードのマイクロ波加熱装置200におけるマイクロ波誘電体共振器60のマイクロ波注入端子である同軸コネクタ66に接続されている。
ここで、マイクロ波発振装置404には、マイクロ波誘電体共振器60からの反射電力を検出するために検波部402aが設けられていて、検波部402aで反射電力のレベルを直流電圧に変換される。この検波電圧は信号線を介して自動周波数制御回路402bに導かれて比較処理され、反射電力が最小となる共振周波数になる設定信号に変換され、信号線を介してPLL周波数シンセサイザ402cに導かれる。このような制御動作により、TM01δモードのマイクロ波誘電体共振器60の加熱部たる貫通孔42aに被加熱体たる使用済み注射針402が存在してもしなくても、常に共振周波数の状態を維持することができる。
なお、このマイクロ波加熱装置400においては、マイクロ波誘電体共振器60の共振周波数としては、ISMバンドとして開放されている2.45GHzを用いた。

従って、TM010モードまたはTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器40、60を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置100、200、400によれば、上記した従来の技術の課題を解決することができる。
即ち、本発明によるマイクロ波加熱装置100、200、400によれば、
(1)0.1mm以下の線状の被加熱体に対しても加熱することができる、
(2)0.1mm以下の針状の被加熱体に対しても加熱することができる、
(3)自動周波数制御機能を有するマイクロ波発振装置を用いた場合には、マイクロ 波誘電体共振器40、60の共振周波数に追従して加熱動作を行うので加熱効 率を向上することができる、
などという優れた効果が得られる。

なお、上記した実施の形態は、以下の(1)〜(6)に示すように変形することができるものである。
(1)上記した実施の形態においては、被加熱体として具体的には使用済み注射針を示したが、被加熱体はこれに限られるものではないことは勿論であり、導体であるならば種々の形態や材料のものが被加熱体となり得るものである。
(2)上記した実施の形態においては、マイクロ波発振装置の周波数を自動で制御する手法の一例を示したに過ぎないものであり、適宜の手法によりマイクロ波発振装置の周波数を自動で制御するようにして、自動周波数制御機能を実現するようにしてもよいことは勿論である。
(3)上記した実施の形態においては、金属ケースを内部が中空とされた円柱形状のもにより構成したが、金属ケースの形状はこれに限られるものではないことは勿論であり、用途に応じて中空とされた角柱形状などの任意の形状を選択して用いることができる。
(4)上記した実施の形態においては、誘電体キャビティ24、42を円柱形状の中心部に貫通孔を形成したドーナツ形状のもにより構成したが、誘電体キャビティ24、42の形状はこれに限られるものではないことは勿論であり、外形形状は角柱形状であってもよいし、また、貫通孔24a、42aの形状は丸孔であってもよいし角穴であってもよい。
(5)上記した実施の形態においては、第1誘電体キャビティ支持部材62ならびに第2誘電体キャビティ支持部材64はドーナツ形の円筒形状により構成したが、第1誘電体キャビティ支持部材62ならびに第2誘電体キャビティ支持部材64の形状はこれに限られるものではないことは勿論であり、外形形状は角柱形状であってもよいし、また、貫通孔62a、64aの形状は丸孔であってもよいし角穴であってもよいし、また、貫通孔62a、64aを設けていない形状、即ち、筒状形状でなくてもよい。
(6)上記した実施の形態ならびに上記した(1)〜(5)に示す変形例は、適宜に組み合わせるようにしてもよい。
本発明は、径の小さい細い線状の被加熱体、例えば、使用済み注射針のような直径が0.6mm以下、さらには、直径が0.1mm以下であるような線状の被加熱体を加熱する際に利用することができる。
図1は、誘導加熱の動作原理の説明図である。 図2は、誘導加熱の等価回路である。 図3は、通信用として一般的に使用されているTM010モードのマイクロ波誘電体共振器の斜視構成説明図である。 図4(a)は、図3のA矢視構成説明図であり、また、図4(b)は、図4(a)のB−B線による断面図である。 図5は、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM010モードのマイクロ波誘電体共振器の斜視構成説明図である。 図6(a)は、図5のC矢視構成説明図であり、また、図6(b)は、図6(a)のD−D線による断面図である。 図7は、図5ならびに図6(a)(b)に示すTM010モードのマイクロ波誘電体共振器を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例を示す斜視構成説明図である。 図8は、通信用として一般的に使用されているTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器の斜視原理構成説明図である。 図9(a)は、図8のE矢視構成説明図であり、また、図9(b)は、図8(a)のF−F線による断面図である。 図10は、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器の正面斜視原理構成説明図である。 図11(a)は、図10のG矢視構成説明図であり、また、図11(b)は図11(a)のH−H線による断面図である。 図12は、本発明によるマイクロ波加熱装置で用いたTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器のより詳細な正面斜視構成説明図である。 図13(a)は、図12のI矢視構成説明図であり、また、図13(b)は、図13(a)のJ−J線による断面図である。 図14は、図12ならびに図13(a)(b)に示すTM01δモードのマイクロ波誘電体共振器を用いた本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例を示す正面斜視構成説明図である。 図15は、図14に示す本発明によるマイクロ波加熱装置により径の小さい細い線状の金属線よりなる被加熱体を加熱する際の加熱作用の説明図である。 図16は、図14に示す本発明によるマイクロ波加熱装置により径の小さい細い線状の金属線であって長さの短い針状金属線よりなる被加熱体を加熱する際の加熱作用の説明図である。 図17は、本発明によるマイクロ波加熱装置の実施の形態の一例を構成説明図である。
符号の説明
10 コイル
12 高周波発振器
14 被加熱体
20 マイクロ波誘電体共振器
22 金属ケース
22a 上面部
22b 貫通孔
22c 下面部
22d 貫通孔
24 誘電体キャビティ
24a 貫通孔
30 マイクロ波誘電体共振器
34 同軸コネクタ
36 ループアンテナ
40 マイクロ波誘電体共振器
42 誘電体キャビティ
42a 貫通孔
50 マイクロ波誘電体共振器
60 マイクロ波誘電体共振器
62 第1円筒形誘電体キャビティ支持部材
62a 貫通孔
64 第2円筒形誘電体キャビティ支持部材
64a 貫通孔
66 同軸コネクタ
68 ループアンテナ
100 マイクロ波加熱装置
200 マイクロ波加熱装置
300 被加熱体
302 被加熱体
400 マイクロ波加熱装置
402 使用済み注射針
402a 検波部
402b 自動周波数制御部
402c PLL周波数シンセサイザ
402d 送信電力モニタ部
402e 減衰器
402f 増幅器
404 マイクロ波発振装置
406 使用済み注射針トレイ
408 第1搬送路
410 空気制御装置
412 第2搬送路
414 処理済トレイ

Claims (8)

  1. 上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、前記金属カバー内に配置されるとともに前記第1の貫通孔および前記第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティとを有し、TM010モードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、
    前記マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、
    前記マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに前記入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM010モードの磁界成分を生成するTM010モード磁界生成手段と
    を有し、
    前記第2の貫通孔内に被加熱物を配置して該被加熱物を加熱する
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
  2. 請求項1に記載のマイクロ波加熱装置において、
    前記入力手段は、同軸コネクタであり、
    前記TM010モード磁界生成手段は、ループアンテナである
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
  3. 請求項1または2のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、さらに、
    前記入力手段にマイクロ波を入力するマイクロ波発生手段を有し、
    前記マイクロ波発生手段は、前記マイクロ波誘電体共振器の共振周波数が変動した際に発振周波数を常に共振周波数に追従させる周波数制御手段を有する
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
  4. 請求項1、2または3のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、
    前記被加熱体は、金属線または針状金属片である
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
  5. 上面部の軸中心部位に形成された第1の貫通孔と下面部の軸中心部位に形成された第2の貫通孔とを有する軸方向に延長する筒状の金属カバーと、前記金属カバー内に配置されるとともに前記第1の貫通孔および前記第2の貫通孔と連通する第3の貫通孔を形成された誘電体キャビティと、前記誘電体キャビティを前記第1の貫通孔と前記第2の貫通孔と前記第3の貫通孔とがそれぞれ連通するようにして前記金属カバー内に中空状態で支持する支持部材とを有し、TM01δモードの共振モードで励振されるマイクロ波誘電体共振器と、
    前記マイクロ波誘電体共振器に配設されたマイクロ波を入力する入力手段と、
    前記マイクロ波誘電体共振器に配設されるとともに前記入力手段に入力されたマイクロ波を供給されてTM01δモードの磁界成分を生成するTM01δモード磁界生成手段と
    を有し、
    前記第2の貫通孔内に被加熱物を配置して該被加熱物を加熱する
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
  6. 請求項5に記載のマイクロ波加熱装置において、
    前記入力手段は、同軸コネクタであり、
    前記TM01δモード磁界生成手段は、ループアンテナである
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
  7. 請求項5または6のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、さらに、
    前記入力手段にマイクロ波を入力するマイクロ波発生手段を有し、
    前記マイクロ波発生手段は、前記マイクロ波誘電体共振器の共振周波数が変動した際に発振周波数を常に共振周波数に追従させる周波数制御手段を有する
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
  8. 請求項5、6または7のいずれか1項に記載のマイクロ波加熱装置において、
    前記被加熱体は、金属線または針状金属片である
    ことを特徴とするマイクロ波加熱装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013531862A (ja) * 2010-05-03 2013-08-08 ゴジ リミテッド モーダル解析
JP2018024555A (ja) * 2016-08-10 2018-02-15 矢崎総業株式会社 水素製造装置
CN108187597A (zh) * 2018-01-10 2018-06-22 电子科技大学 微波半导体自激振荡化学反应器及其方法
JP2021072221A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 日本無線株式会社 マイクロ波加熱装置
CN115278971A (zh) * 2022-09-07 2022-11-01 四川大学 一种微波加热组件和微波加热装置
WO2024004429A1 (ja) * 2022-06-29 2024-01-04 日本無線株式会社 マイクロ波加熱装置
WO2024004428A1 (ja) * 2022-06-29 2024-01-04 日本無線株式会社 マイクロ波加熱装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013531862A (ja) * 2010-05-03 2013-08-08 ゴジ リミテッド モーダル解析
JP2018024555A (ja) * 2016-08-10 2018-02-15 矢崎総業株式会社 水素製造装置
CN108187597A (zh) * 2018-01-10 2018-06-22 电子科技大学 微波半导体自激振荡化学反应器及其方法
JP2021072221A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 日本無線株式会社 マイクロ波加熱装置
JP7253481B2 (ja) 2019-10-31 2023-04-06 日本無線株式会社 マイクロ波加熱装置
WO2024004429A1 (ja) * 2022-06-29 2024-01-04 日本無線株式会社 マイクロ波加熱装置
WO2024004428A1 (ja) * 2022-06-29 2024-01-04 日本無線株式会社 マイクロ波加熱装置
CN115278971A (zh) * 2022-09-07 2022-11-01 四川大学 一种微波加热组件和微波加热装置

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