JP2006317371A - 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 定性データベースに収録する全ての元素のスペクトル線について、プラズマ状態に変動に対する強度変動の傾向が類似した複数のグループに分類し、各グループ毎に代表スペクトル線を定めておく。校正時には、この複数の代表スペクトル線の測定が可能であるような組成の標準試料を測定し、代表スペクトル線の実測強度を取得する(S1〜S3)。その実測強度と定性データベースに格納されている基準強度とから各スペクトル線毎に校正係数を求め(S4)、各グループ毎に当該グループに属する代表スペクトル線から求めた校正係数を用いて全スペクトル線の基準強度を補正する(S5)。これによれば、測定すべき標準試料は1乃至2程度で済むので手間と時間をあまり掛けずに定性データベースを校正できる。
【選択図】 図2
Description
前記定性データベースに含まれる多数の元素のスペクトル線を、装置起因の変動要因に対して類似した挙動を示す複数のグループに予め分類し、各グループ毎に代表的なスペクトル線を定めておき、
濃度が既知である所定の元素を含む標準試料を発光分光分析することにより前記複数の代表スペクトル線の強度情報を取得し、
前記実測による強度情報と前記定性データベースに格納されている基準となる強度情報とから前記代表スペクトル線毎に校正情報を算出し、
代表スペクトル線毎に求まった前記校正情報を用いて、各代表スペクトルが属するグループに含まれる各元素の半定量情報をそれぞれ補正し、補正後の半定量情報に基づいて目的元素の半定量分析を行うことを特徴としている。
a)濃度が既知である所定の元素を含む標準試料を発光分光分析することにより得られた発光スペクトルから前記複数の代表スペクトル線の強度情報を取得する実測情報取得手段と、
b)前記実測情報取得手段により得られた各代表スペクトル線の実測による強度情報と前記定性データベースに格納されている基準となる強度情報とから、前記代表スペクトル線毎に校正情報を算出する校正情報算出手段と、
c)代表スペクトル線毎に求まった前記校正情報を用いて、各代表スペクトルが属するグループに含まれる各元素の半定量情報をそれぞれ補正する情報補正手段と、
を備え、補正後の半定量情報に基づいて目的元素の半定量分析を行うことを特徴としている。
K1=I1b/I1a
例えば、基準強度の相対値が1、実測強度の相対値が1.2であったならば、K1=1.2/1=1.2と求まる。実測強度と基準強度とは代表スペクトル毎に相違するから、校正係数も代表スペクトル毎に異なるものとなる(もちろん、偶然に同じ値になる場合もある)。
I’=K1・I
この補正後の強度値I’が半定量分析の際の半定量情報となる。なお、この式はブランク試料の強度をゼロとしたときの1点校正であるが、2点校正とすることもできる。
いずれもしても、校正処理の結果、定性データベース201の精度が高まり、この定性データベース201を参照して未知試料に含まれる元素の半定量分析を行う際にその分析精度が向上する。
11…オートサンプラ
12…集光レンズ
13…スリット
14…回折格子
15…マルチチャンネル型検出器
20…データ処理部
201…定性データベース
202…データベース校正処理部
21…制御部
22…パーソナルコンピュータ
23…入力部
24…表示部
Claims (3)
- 試料を励起して該試料に含まれる元素に固有の波長を有する光を放出させ、その光を分光測定して発光スペクトルを取得し、定性データベースを参照して定性分析及び半定量分析を行う発光分光分析方法において、
前記定性データベースに含まれる多数の元素のスペクトル線を、装置起因の変動要因に対して類似した挙動を示す複数のグループに予め分類し、各グループ毎に代表的なスペクトル線を定めておき、
濃度が既知である所定の元素を含む標準試料を発光分光分析することにより前記複数の代表スペクトル線の強度情報を取得し、
前記実測による強度情報と前記定性データベースに格納されている基準となる強度情報とから前記代表スペクトル線毎に校正情報を算出し、
代表スペクトル線毎に求まった前記校正情報を用いて、各代表スペクトルが属するグループに含まれる各元素の半定量情報をそれぞれ補正し、補正後の半定量情報に基づいて目的元素の半定量分析を行うことを特徴とする発光分光分析方法。 - 試料を励起して該試料に含まれる元素に固有の波長を有する光を放出させ、その光を分光測定して発光スペクトルを取得し、定性データベースを参照して定性分析及び半定量分析を行う発光分光分析装置において、前記定性データベースに含まれる多数の元素のスペクトル線を、装置起因の変動要因に対して類似した挙動を示す複数のグループに予め分類し、各グループ毎に代表的なスペクトル線を定めておき、
a)濃度が既知である所定の元素を含む標準試料を発光分光分析することにより得られた発光スペクトルから前記複数の代表スペクトル線の強度情報を取得する実測情報取得手段と、
b)前記実測情報取得手段により得られた各代表スペクトル線の実測による強度情報と前記定性データベースに格納されている基準となる強度情報とから、前記代表スペクトル線毎に校正情報を算出する校正情報算出手段と、
c)代表スペクトル線毎に求まった前記校正情報を用いて、各代表スペクトルが属するグループに含まれる各元素の半定量情報をそれぞれ補正する情報補正手段と、
を備え、補正後の半定量情報に基づいて目的元素の半定量分析を行うことを特徴とする発光分光分析装置。 - 予め定められた代表スペクトル線の半定量情報を補正するための前記標準試料をユーザが用意するための試料情報をユーザに提供する試料情報提供手段をさらに備えることを特徴とする請求項2に記載の発光分光分析装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007333501A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
JP2009139149A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Japan Atomic Energy Agency | 有害物質汚染監視モニタ装置および有害物質汚染監視モニタ方法 |
JP2010169412A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
WO2010106712A1 (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | エッチング装置、分析装置、エッチング処理方法、およびエッチング処理プログラム |
JP2012068145A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Shimadzu Corp | 検量線作成方法 |
KR102330367B1 (ko) * | 2020-08-20 | 2021-11-23 | 한국핵융합에너지연구원 | 플라즈마 스펙트럼 데이터의 보정 방법 및 이를 위한 스마트센서 |
KR102335854B1 (ko) * | 2020-08-20 | 2021-12-06 | 한국핵융합에너지연구원 | 스마트센서를 이용한 플라즈마 공정 제어 방법 및 시스템 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11211662A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-06 | Kawasaki Steel Corp | シリコン材料中の微量リンの迅速分析方法 |
JP2001056305A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-02-27 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置およびこれに使用する記録媒体 |
JP2002181740A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Rigaku Industrial Co | 半定量分析方法および装置 |
-
2005
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11211662A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-06 | Kawasaki Steel Corp | シリコン材料中の微量リンの迅速分析方法 |
JP2001056305A (ja) * | 1999-08-20 | 2001-02-27 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置およびこれに使用する記録媒体 |
JP2002181740A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Rigaku Industrial Co | 半定量分析方法および装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007333501A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
JP4626572B2 (ja) * | 2006-06-14 | 2011-02-09 | 株式会社島津製作所 | 発光分光分析装置 |
JP2009139149A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Japan Atomic Energy Agency | 有害物質汚染監視モニタ装置および有害物質汚染監視モニタ方法 |
JP2010169412A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Shimadzu Corp | 発光分光分析装置 |
WO2010106712A1 (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | エッチング装置、分析装置、エッチング処理方法、およびエッチング処理プログラム |
JP2010219263A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Hitachi High-Technologies Corp | エッチング装置、分析装置、エッチング処理方法、およびエッチング処理プログラム |
CN102282654A (zh) * | 2009-03-17 | 2011-12-14 | 株式会社日立高新技术 | 蚀刻装置、分析装置、蚀刻处理方法、以及蚀刻处理程序 |
US8486290B2 (en) | 2009-03-17 | 2013-07-16 | Hitachi High-Technologies Corporation | Etching apparatus, analysis apparatus, etching treatment method, and etching treatment program |
JP2012068145A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Shimadzu Corp | 検量線作成方法 |
KR102330367B1 (ko) * | 2020-08-20 | 2021-11-23 | 한국핵융합에너지연구원 | 플라즈마 스펙트럼 데이터의 보정 방법 및 이를 위한 스마트센서 |
KR102335854B1 (ko) * | 2020-08-20 | 2021-12-06 | 한국핵융합에너지연구원 | 스마트센서를 이용한 플라즈마 공정 제어 방법 및 시스템 |
WO2022039311A1 (ko) * | 2020-08-20 | 2022-02-24 | 한국핵융합에너지연구원 | 스마트센서를 이용한 플라즈마 공정 제어 방법 및 시스템 |
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