JP2006313670A - プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】被処理物の２以上の面を効率よくプラズマ処理することができ、プラズマ処理で被処理物に汚れやゴミが付着することを防止することができる、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】第１のステップでは、互いに略対向して配置された少なくとも２つの開口１４から、それぞれ、大略開口１４の間の共通領域に向けて、プラズマ化した処理ガス１８を流出させる。第２のステップでは、開口１４と被処理物６とを、前記開口が互いに略対向する方向に対して略直角方向に相対的に移動させ、これによって、被処理物６が大略開口１４の間を出入りし、このとき、被処理物６の互いに略反対側の少なくとも２つ面６ａ，６ｂが、それぞれ、開口１４に略対向するようにして、被処理物６の各面６ａ，６ｂに、それぞれ、各開口１４から流出するプラズマ化した処理ガス１８を接触させる。
【選択図】図２

Description

本発明は、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置に関し、特に、放電空間から離れた位置にある被処理物を略常圧でプラズマ処理を行う場合に好適なプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置に関する。

従来、大気圧近傍の圧力下で発生させたプラズマを利用して、被処理物の表面改質、薄膜形成、アッシング、洗浄などのプラズマ処理を行う常圧プラズマ処理について、種々提案されている。

例えば、いわゆるリモート方式の常圧プラズマ処理では、放電空間を通過してプラズマ化された処理ガス（プラズマ空間を通って活性化された処理ガス）が流出するプラズマヘッドの開口に対して被処理物を相対的に移動させ、開口から流出した処理ガスを被処理物表面に順次、接触させることによって、被処理物表面のプラズマ処理を行う（例えば、特許文献１参照）。
特開２００２−２３７４８０号公報

被処理物の両面をプラズマ処理する場合には、例えば図１（ａ）に示すように、被処理部材６を搬送ステージ５に置き、プラズマヘッド２の開口４に対して矢印１で示すように移動させながら、被処理部材６の一方の面６ａに、プラズマヘッド２の開口４から流出するプラズマ化した処理ガス８を、順次、接触させる。次いで、矢印７で示すように被処理部材６を裏返して搬送ステージ５に置き、再び、図１（ｂ）に示すように被処理部材６の他方の面６ｂをプラズマヘッド２の開口４に対向させ、同様に、順次、処理ガス８を接触させる。

このように被処理部材６を一旦裏返して、再度、搬送ステージ５に置くと、最初にプラズマ処理して活性度が向上した被処理部材６の一方の面６ａを、未処理の他方の面６ｂが載置されていた搬送ステージ５に接触させる必要がある。そのため、せっかくプラズマ処理した面６ａに、未処理の他方の面６ｂの汚れやゴミが再付着することがある。このような汚れやゴミの再付着は、例えば被処理部材６が精密部材であるような場合には、大きな問題となる。

また、両面を処理する場合には、片面のみを処理する場合の約２倍の処理時間を要する。

さらに、両面処理を連続して行うためには、片面のみを処理する装置が２組必要となるので、装置の設置に必要な面積は、片面のみを処理する場合の約２倍となる。

本発明は、かかる実情に鑑み、被処理物の２以上の面を効率よくプラズマ処理することができ、プラズマ処理で被処理物に汚れやゴミが付着することを防止することができる、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供しようとするものである。

本発明は、上記課題を解決するために、以下のように構成したプラズマ処理方法を提供する。

プラズマ処理方法は、対向する電極対に電圧を印加し、該電極対の間の空間（以下、「電極対間」という。）で放電を発生させ、該電極対間を通過してプラズマ化した処理ガスが流出する開口と被処理物とを相対的に移動させ、前記開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを前記被処理物に接触させて前記被処理物を処理するタイプの方法である。プラズマ処理方法は、第１ないし第２のステップを備える。前記第１のステップにおいて、互いに略対向して配置された少なくとも２つの前記開口から、それぞれ、大略前記開口の間の共通領域に向けて、プラズマ化した前記処理ガスを流出させる。前記第２のステップにおいて、前記開口と前記被処理物とを、前記開口が互いに略対向する方向に対して略直角方向に相対的に移動させ、これによって、前記被処理物が大略前記開口の間を出入りし、このとき、前記被処理物の互いに略反対側の少なくとも２つ面が、それぞれ、前記開口に略対向するようにして、前記被処理物の前記各面に、それぞれ、前記各開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させる。

上記第２のステップにおいて、プラズマ化した処理ガスが流出する開口が固定され、被処理物が移動しても、被処理物が固定され、開口が移動しても、開口と被処理物の両方が移動してもよい。被処理物は、一方向に相対移動して、開口の間を横断しても、開口の間とその外側の位置との間を相対的に往復移動してもよい。

上記方法によれば、被処理物が、大略、開口の間の共通領域に位置するとき、被処理物の各面は、各開口から流出する処理ガス（現にプラズマ化している処理ガスであっても、プラズマを経て活性化した処理ガスであってもよい。）に略同時に接触する。したがって、被処理物の各面を略同時にプラズマ処理することできる。例えば被処理物が板状であれば、２つの面を同時にプラズマ処理することができる。被処理物が多面体であれば、２以上の面を同時にプラズマ処理することができる。被処理物を置き直す必要がないので、ゴミ付着を防止することができる。

また、被処理物の面ごとに異なる処理を行うことができる。例えば、一つの面を親水処理し、他の主面を撥水処理したり、一つの面の表面改質を行い、他の面は有機物除去を行ったりすることができる。

また、２以上の開口を互いに略対向させて配置することにより、被処理物の一つの面のみをプラズマ処理する場合と同程度のスペースで、被処理物の２以上の面を処理することができる。

好ましくは、前記第２のステップにおいて、前記被処理物の一つの前記面の一部分のみを支持部材で支持しながら、前記開口と前記被処理物とを相対的に移動させ、前記被処理物の前記一つの前記面の前記一部分以外の部分に、前記開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させる。

この場合、支持部材には、例えば、被処理物が載置される。あるいは、支持部材は、例えば板状の被処理物の両方の主面に沿って配置され、被処理物を挟持する。

支持部材は、被処理物の面は、一部分のみが支持されるので、支持される部分以外の部分に、例えば貫通穴を形成するなどして、支持される部分以外の部分、開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させてプラズマ処理することができる。

好ましくは、前記第２のステップにおいて、前記被処理物の前記面の周縁又は該周縁の近傍部分を支持しながら、前記開口が互いに略対向する方向に対して略直角方向に、前記開口と前記被処理物とを相対的に移動させる。

この場合、支持部材は、被処理物の面に全く、あるいはほとんど接触しないので、被処理物の面へのゴミ付着を防止することができる。

また、本発明は上記課題を解決するために、以下のように構成したプラズマ処理装置を提供する。

プラズマ処理装置は、対向する電極対に電圧を印加し、該電極対の間の空間（以下、「電極対間」という。）で放電を発生させ、該電極対間を通過させてプラズマ化した処理ガスを開口から流出させるヘッド部と、前記ヘッド部の前記開口と被処理物とを、前記開口が互いに略対向する方向に対して略直角方向に相対的に移動させる搬送部とを備え、前記ヘッド部の前記開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを前記被処理物に接触させて前記被処理物を処理するタイプの装置である。プラズマ処理装置は、少なくとも２つの前記ヘッド部を備え、前記各ヘッド部の前記開口が互いに略対向して配置され、前記各開口から、それぞれ、大略前記開口の間の共通領域に向けて、プラズマ化した前記処理ガスが流出する。前記搬送部は、前記開口と前記被処理物とを相対的に移動させ、これによって、前記被処理物が大略前記開口の間を出入りし、このとき、前記被処理物の互いに略反対側の少なくとも２つ面が、それぞれ、前記開口に略対向するようにして、前記被処理物の前記各面に、それぞれ、前記各開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させる。

上記構成において、プラズマ化した処理ガスが流出する開口が固定され、被処理物が移動しても、被処理物が固定され、開口が移動しても、開口と被処理物の両方が移動してもよい。被処理物は、一方向に相対移動して、開口の間を横断しても、開口の間とその外側の位置との間を相対的に往復移動してもよい。

上記構成によれば、被処理物が、大略、開口の間の共通領域に位置するとき、被処理物の各面は、各開口から流出する処理ガス（現にプラズマ化している処理ガスであっても、プラズマを経て活性化した処理ガスであってもよい。）に略同時に接触する。したがって、被処理物の各面を略同時にプラズマ処理することできる。例えば、被処理物が板状であれば、２つの面を同時にプラズマ処理することができる。被処理物が多面体であれば、２以上の面を同時にプラズマ処理することができる。被処理物を置き直す必要がないので、ゴミの付着を防止することができる。

また、被処理物の面ごとに異なる処理を行うことができる。例えば、一つの面を親水処理し、他の面を撥水処理したり、一つの面の表面改質を行い、他の面は有機物除去を行ったりすることができる。

また、２以上の開口を互いに略対向させて配置することにより、被処理物の一つの面のみをプラズマ処理する場合と同程度のスペースで、被処理物の２以上の面を処理することができる。

好ましくは、前記搬送部は、支持部材を含む。該支持部材は、前記被処理物の一つの前記面の一部分のみを支持する。前記被処理物は、前記被処理物の前記一つの前記面が大略前記共通領域に位置するときに前記被処理物の前記一つの前記面の前記一部分以外の部分と前記開口との間を連通する空間を有する。

上記構成において、支持部材には、例えば、被処理物が載置される。あるいは、支持部材は、例えば板状の被処理物の２つの主面に沿って配置され、被処理物を挟持する。

支持部材は、被処理物の面の一部分のみを支持するので、被処理物を支持する部分以外の部分に、例えば貫通穴などの空間を形成し、支持する部分以外の部分に、開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させ、プラズマ処理することができる。

好ましくは、前記搬送部は、支持部材を含む。該支持部材は、前記被処理物の前記面の周縁又は該周縁の近傍部分を支持し、前記開口に対して相対的に移動する。

上記構成によれば、被処理物を支持する支持部材には、被処理物の面は全く、あるいはほとんど接触しないので、被処理物の面へのゴミ付着を防止することができる。

なお、本発明のプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置は、１Ｐａ以上、特に略常圧（大気圧近傍）の開放系、あるいは低気密系の場合に特に好適であるが、これに限るものではない。本発明において、略常圧とは、１．０１３×１０^４〜５０．６６３×１０^４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡略化を考慮すると、１．３３３×１０^４〜１０．６６４×１０^４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０^４〜１０．３９７×１０^４Ｐａがより好ましい。

本発明のプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置は、被処理物の２以上の面を効率よくプラズマ処理することができ、プラズマ処理で被処理物に汚れやゴミが付着することを防止することができる。

以下、本発明の実施の形態として実施例について、図２〜図６を参照しながら説明する。

（実施例１） 実施例１のプラズマ処理装置１０について、図２及び図３を参照しながら説明する。

図２の構成図に模式的に示すように、プラズマ処理装置１０は、一対のプラズマヘッド１０ａ，１０ｂと、搬送装置２０とを備える。プラズマ処理装置１０は、例えば、１Ｐａ以上、特に略常圧（大気圧近傍）の開放系、あるいは低気密系に配置される。

各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂは、搬送装置２０の無端ベルト２６を挟んで上下に配置され、被処理部材６は、無端ベルト２６の上に載置され、矢印２１ａで示すように、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間を通過する。

各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂは、間隔を設け、対向して配置された電極対（図示せず）を有する。電極対には、電源１６から、例えば交流電圧やパルス電圧が印加され、電極対の間の空間（以下、「電極対間」という。）で放電が発生するようになっている。放電の形態は、グロー放電が均一処理のために好ましいが、コロナ放電や誘電体バリア放電や沿面放電であってもよい。プラズマヘッド１０ａ，１０ｂには、矢印１７で示すように処理ガス１８が供給される。処理ガス１８は、電極対間を通過し、放電によってプラズマ化し、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４から流出する。

プラズマ化した処理ガス１８（現にプラズマ化している処理ガス１８であっても、プラズマを経て活性化した処理ガス１８であってもよい。）を、被処理部材６に接触させることにより、放電によるプラズマ（活性種、イオンなど）を用いて、表面改質、薄膜形成、アッシング、洗浄などのプラズマ処理を行う。処理ガス１８は、プラズマ処理の目的に応じて選択すればよい。例えば、酸化処理には、窒素と酸素の混合ガスを用いる。還元処理には、窒素と水素を用いる。撥水化やエッチングには、フルオロカーボンを用いる。希釈ガスとして、窒素、アルゴン等の不活性ガスを用いてもよい。

各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４は、対向して配置され、開口１４の間の同じ領域（以下、「共通領域」という）に向けて、プラズマ化した処理ガス１８が流出するようになっている。

図３に模式的に示すように、搬送装置２０は、矢印２２ｓ，２４ｓの方向に回転する一対のローラ２２，２４で支持された網目状の幅が広い無端ベルト２６が循環するようになっている。無端ベルト２６には、例えば、ステンレス製のメッシュベルトを用いる。

無端ベルト２６の上側部分２６ｓには、被処理部材６が載置され、矢印２１ａで示す方向に移動する。無端ベルト２６の下側部分２６ｔは、矢印２１ｂで示す逆方向に移動する。図２に示したように、一方のプラズマヘッド１０ａは、無端ベルト２６（詳しくは、上側部分２６ｓ）の上方に配置され、他方のプラズマヘッド１０ｂは、無端ベルト２６（詳しくは、上側部分２６ｓ）の下方、より詳しくは、無端ベルト２６の上側部分２６ｓと下側部分２６ｔとの間に配置される。

なお、図３では、被処理部材６の片面のみが、無端ベルト２６に支持されているが、搬送装置２０の上にもう一台の搬送装置を配置し、２台の搬送装置の無端ベルトの間に被処理部材６を挟むようにして、被処理部材を搬送してもよい。この場合、被処理部材６の両面に位置する無端ベルトによって、電界遮蔽効果が得られる。

無端ベルト２６で搬送される被処理部材６の上向きの面は、一方のプラズマヘッド１０ａの開口１４から流出するプラズマ化した処理ガス１８によって、プラズマ処理することができる。

無端ベルト２６で搬送される被処理部材６の下向きの面は、無端ベルト２６が網目状であるので、無端ベルト２６に接触し支持される部分以外の部分が、無端ベルト２６を貫通する網目空間を介して、他方のプラズマヘッド１０ｂの開口１４に連通する。そのため、他方のプラズマヘッド１０ｂの開口１４から流出する処理ガス１８は、無端ベルト２６の網目空間を通過して、被処理部材６の下向きの面のうち、無端ベルト２６に接触し支持される部分以外の部分に接触し、その部分をプラズマ処理する。無端ベルト２６の網目の大きさ等を適宜に選択することで、無端ベルト２６で支持される被処理部材６の下向きの面についても、略均一に処理することができる。

つまり、被処理部材６は、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間を１回通過するだけで、両面６ａ，６ｂが同時にプラズマ処理される。

被処理部材６の両面６ａ，６ｂを処理するために、図１のように被処理部材６を裏返して置き直す必要がないので、プラズマ処理で被処理部材６に汚れやゴミが付着することを防止することができる。

また、例えばプラズマヘッド１０ａ，１０ｂごとに異なる処理ガスを用いることにより、被処理部材６の面ごとに異なる処理を行うことができる。例えば、一つの面を親水処理し、他の面を撥水処理したり、一つの面の表面改質を行い、他の面は有機物除去を行ったりすることができる。

また、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂは上下に配置されるので、被処理部材６の片面のみをプラズマ処理する場合と略同程度の投影面積（フットプリント）に、プラズマ処理装置１０を設置することができる。

（実施例２） 実施例２のプラズマ処理装置について、図４を参照しながら説明する。

実施例２のプラズマ処理装置は、図４に示す搬送装置２０ａの構成以外は、実施例１のプラズマ処理装置と同様に構成される。

搬送装置２０ａは、２本のベルト２７ａ，２７ｂが、矢印２３ｓ，２５ｓ；２３ｔ，２５ｔで示す方向に回転するプーリー２３ａ，２５ａ；２３ｂ，２５ｂで支持され、矢印２１ａ，２１ｂで示す方向に同じ速度で循環するようになっている。ベルト２７ａ，２７ｂには、被処理部材６の端部あるいは縁を把持するチャック２８がそれぞれ設けられ、ベルト２７ａ，２７ｂの循環に伴って、チャック２８により両端が支持された被処理部材６が、搬送されるようになっている。

チャック２８は、被処理部材６のプラズマ処理される面に全く、あるいはほとんど接触しないので、プラズマ処理で被処理部材６に汚れやゴミが付着することを防止することができる。

（実施例３） 実施例３のプラズマ処理装置について、図５を参照しながら説明する。

実施例３のプラズマ処理装置は、図５に示すように、各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂを斜めに配置した点以外は、実施例１のプラズマ処理装置と同様に構成される。

各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂを斜めに配置しているが、各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４は略対向し、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４からは、大略、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間の共通領域に向けて、プラズマ化した処理ガス１８（現にプラズマ化している処理ガス１８であっても、プラズマを経て活性化した処理ガス１８であってもよい。）が流出するようになっている。

実施例３のプラズマ処理装置では、被処理部材６に対するガス流れがよくなり、被処理部材６の細部まで処理することが可能となる。

（実施例４） 実施例４のプラズマ処理装置について、図６を参照しながら説明する。

実施例４のプラズマ処理装置は、図６に示すように、各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂを水平に配置する。各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４は略対向し、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４からは、大略、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間の共通領域に向けて、プラズマ化した処理ガス１８が流出する。

プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４同士が対向する方向と、被処理部材６の両面６ａ，６ｂの法線方向とが略一致するように、被処理部材６の両端の周縁近傍部分をチャック３０で把持した状態で、矢印３２で示すように、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４同士が対向する方向と略直角にチャック３０を移動する。これによって、被処理部材６をプラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間に出入りさせ、チャック３０に支持された被処理部材６の両面６ａ，６ｂに、各プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４から流出するプラズマ化した処理ガス１８（現にプラズマ化している処理ガス１８であっても、プラズマを経て活性化した処理ガス１８であってもよい。）を接触させ、プラズマ処理を行う。このとき、チャック３０に支持された被処理部材６が、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間を横切ることなく、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間に出入りするように、チャック３０が往復移動することが好ましい。

あるいは、被処理部材６の両端をチャック３０で把持した状態で、プラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の延在方向（図６において紙面垂直方向）に被処理部材６を搬送し、被処理部材６がプラズマヘッド１０ａ，１０ｂの開口１４の間を横切るようにして、プラズマ処理してもよい。

なお、両端を支持する代わりに、一方の端部のみを支持してもよい。また、被処理部材６を３箇所以上で支持しても、１箇所のみで支持してもよい。また、被処理部材６の両端部の周縁を両側から挟むようにして、被処理部材６を支持するようにしてもよい。

（まとめ） 以上のように、実施例１〜４のプラズマ処理装置は、被処理部材６を反転することなく、被処理部材６の両面６ａ，６ｂを同時にプラズマ処理するので、効率がよく、また、プラズマ処理で被処理部材６に汚れやゴミが付着することを防止することができる。

なお、本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、種々変更を加えて実施することが可能である。例えば、被処理物（被処理部材）の形状は任意であり、例えば多面体であってもよい。多面体の場合、多面体の互いに略反対の少なくとも２つの面が、それぞれ、処理ガスが流出する開口に対向するようにしながら、多面体と開口とを相対的に移動させればよい。

プラズマ処理装置の説明図である。（従来例） プラズマ処理装置の要部構成図である。（実施例１） 搬送装置の構成図である。（実施例１） 搬送装置の構成図である。（実施例２） プラズマ処理装置の要部構成図である。（実施例３） プラズマ処理装置の要部構成図である。（実施例４）

符号の説明

６ 被処理部材（被処理物）
６ａ，６ｂ 面
１０ａ，１０ｂ プラズマヘッド
１４ａ，１４ｂ 開口
１８ 処理ガス
２０，２１ 搬送装置
２６ 無端ベルト（支持部材）
２８ チャック（支持部材）
３０ チャック（支持部材）

Claims (6)

1. 対向する電極対に電圧を印加し、該電極対の間の空間（以下、「電極対間」という。）で放電を発生させ、該電極対間を通過してプラズマ化した処理ガスが流出する開口と被処理物とを相対的に移動させ、前記開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを前記被処理物に接触させて前記被処理物を処理する、プラズマ処理方法であって、
   互いに略対向して配置された少なくとも２つの前記開口から、それぞれ、大略前記開口の間の共通領域に向けて、プラズマ化した前記処理ガスを流出させる第１のステップと、
   前記開口と前記被処理物とを、前記開口が互いに略対向する方向に対して略直角方向に相対的に移動させ、これによって、前記被処理物が大略前記開口の間を出入りし、このとき、前記被処理物の互いに略反対側の少なくとも２つ面が、それぞれ、前記開口に略対向するようにして、前記被処理物の前記各面に、それぞれ、前記各開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させる第２のステップとを備えたことを特徴とする、プラズマ処理方法。
2. 前記第２のステップにおいて、前記被処理物の一つの前記面の一部分のみを支持部材で支持しながら、前記開口と前記被処理物とを相対的に移動させ、前記被処理物の前記一つの前記面の前記一部分以外の部分に、前記開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
3. 前記第２のステップにおいて、前記被処理物の前記面の周縁又は該周縁の近傍部分を支持しながら、前記開口と前記被処理物とを相対的に移動させることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理方法。
4. 対向する電極対に電圧を印加し、該電極対の間の空間（以下、「電極対間」という。）で放電を発生させ、該電極対間を通過させてプラズマ化した処理ガスを開口から流出させるヘッド部と、
   前記ヘッド部の前記開口と被処理物とを相対的に移動させる搬送部とを備え、
   前記ヘッド部の前記開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを前記被処理物に接触させて前記被処理物を処理する、プラズマ処理装置であって、
   少なくとも２つの前記ヘッド部を備え、前記各ヘッド部の前記開口が互いに略対向して配置され、前記各開口から、それぞれ、大略前記開口の間の共通領域に向けて、プラズマ化した前記処理ガスが流出し、
   前記搬送部は、前記開口と前記被処理物とを、前記開口が互いに略対向する方向に対して略直角方向に相対的に移動させ、これによって、前記被処理物が大略前記開口の間を出入りし、このとき、前記被処理物の互いに略反対側の少なくとも２つ面が、それぞれ、前記開口に略対向するようにして、前記被処理物の前記各面に、それぞれ、前記各開口から流出するプラズマ化した前記処理ガスを接触させることを特徴とする、プラズマ処理装置。
5. 前記搬送部は、支持部材を含み、
   該支持部材は、前記被処理物の一つの前記面の一部分のみを支持し、
   前記被処理物は、前記被処理物が大略前記共通領域に位置するときに前記被処理物の前記一つの前記面の前記一部分以外の部分と前記開口との間を連通する空間を有することを特徴とする、請求項４に記載のプラズマ処理装置。
6. 前記搬送部は、支持部材を含み、
   該支持部材は、前記被処理物の前記面の周縁又は該周縁の近傍部分を支持し、前記開口に対して相対的に移動することを特徴とする、請求項４に記載のプラズマ処理装置。

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