JP2006312693A - フェノキシスルホン化芳香族ポリイミド及び高分子電解質膜 - Google Patents
フェノキシスルホン化芳香族ポリイミド及び高分子電解質膜 Download PDFInfo
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Abstract
Description
‐R‐SO3H (21)
(Rは、アルキレン、ハロゲン化アルキレン、アリーレン、ハロゲン化アリーレン又はエーテル結合を含むもの)に示される側鎖にスルホン酸基を有するポリイミドが開示されている(特許文献6)。これらのイオン交換体のあるものは、比較的高温下での耐久性や耐加水分解性を有しているが、更なる耐加水分解性が望まれる。
また、本発明は、上記式(1)で表される構造単位を5〜100モル%、下記式(3)で表される構造単位を0〜95モル%有するフェノキシスルホン化芳香族ポリイミドである。
上記式(1)及び(3)において、Ar1及びAr3が下記式(4)又は(5)で示される4価の基であるとより良好な物性を示すフェノキシスルホン化芳香族ポリイミドとなる。
この高分子電解質膜は、次の要件の1以上を満たすことが望ましい。
1)30μm厚の高分子電解質膜を温度130℃の加圧熱水中に190時間浸漬後、180°折り曲げても破断せず、破断応力が50MPa以上であること。
2)温度60℃で相対湿度100%においてプロトン伝導度が0.10S/cm以上、相対湿度50%においてプロトン伝導度が0.004S/cm以上、温度120℃で相対湿度50%においてプロトン伝導度が0.03S/cm以上、更に130℃の加圧熱水中に190時間浸漬し、その前後において、プロトン伝導度の低下が見られないこと。
また、式(3)においてAr4を形成する芳香族ジアミンは、置換基としてスルホ基を有しない芳香族ジアミンであって、例えば、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、4,4'−オキシジアニリン、3,4'−オキシジアニリン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、3,3'−ビス(3−アミノフェニル)スルホン、4,4'−ビス(3-アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、2,2'−トリフルオロメチルベンジジン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4'−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルなどを好適に挙げることができる。
本発明のフェノキシスルホン化芳香族ポリイミドは、電解質膜として実用的に極めて好適なものであって、イオン交換用、燃料電池用高分子電解質膜用、ガスセンサー用などに好適に用いることができる。また、プロトン伝導性が高く、耐熱性が高く、機械的強度が大きい固体電解質であるポリイミドで、陽イオン交換体や各種電解用隔膜等とした場合、ガス及び液体に対するバリヤー性が大きく、特に燃料電池用電解質膜として優れた性質を有する。
なお、H−NMRのデータは、溶媒として重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO-d6)を用いて、日本電子JEOL EX−270により測定した。
また、評価方法及び評価基準は以下のとおりである。
スルホン化ポリイミドからなる膜のサンプル約80mgを120℃で2時間真空乾燥し、乾燥重量Wdを測定した後、30℃及び100℃で2〜4時間に水に浸漬した。サンプルを水から取り出し、手早く表面に付着した水を拭き取り、膨潤時の膜重量Wsを測定し、次式から吸水率(WU)を求めた。
WU=〔(Ws−Wd)/Wd〕×100
膜厚約30μmの膜サンプルを130℃加圧下熱水に192時間浸漬した後、膜形状と強度の観点から、次の5段階で評価した。なお、II〜Vで用いたフィルム片は、浸漬処理、風乾後に幅5mm長さ2cmの形状としたものである。
I:膜形状を保持していない。
II:フィルム片の両端をつかんで(つかみしろが5mm)折り曲げると膜が破断。
III:折り目の角度が0度となるように、フィルム片を折り目を付けて曲げると破断。
IV:折り目を付けて曲げても破断しないが、元に曲げ戻すと破断。
V:折り目を付けて曲げても、さらに曲げ戻しても破断せず。
また、加圧水浸漬処理した膜を風乾後、60℃、100〜80%RHでプロトン伝導度を測定し、プロトン伝導度の観点から、次の3段階で評価した。
A:処理によりプロトン伝導度が20%以上低下。
B:5〜19%低下。
C:±5%の範囲内。
膜厚約30μmの膜サンプル(幅5mm、長さ4cm)を(株)オリエンテック製のテンシロン万能試験機(RTC-1150A、ロードセルUR-50N-D)を用いて引っ張り試験を行った。測定は、未処理膜及び130℃加圧下熱水に48時間と192時間浸漬した後風乾した膜について行った。
プロトン伝導度測定セルに膜シート(1.0cm×0.5cm)と4枚の白金黒電極板をとりつけ、温度制御した水中又は温度・湿度制御したチャンバー内にセットし、日置電気(株)製のLCRメーター(HIOKI3552‐80)を用いて、100Hzから100kHzの周波数範囲で複素インピーダンス法により電気抵抗Rを測定し、60℃でのプロトン伝導度σを次式から計算した。
σ=d/(ts ws R)
ここで、dは2電極間距離(0.5cm)、tsとwsは、室温で70%RHにおける膜シートの厚さと幅である。水中でのプロトン伝導度の計算には、水中でのtsとws値を用いた。
液々透過測定セルの供給側セル(容量350ml)と透過側セル(容量100ml)の間にフッ素ゴムのシール板を介して膜シートをはさみつける。膜の供給側に30wt%メタノール水溶液を入れ、透過側に蒸留水を入れ、ガスクロマトグラフを用いて、任意の時間間隔での供給側と透過側の液組成を測定し、50℃でのメタノール透過係数PMを求めた。なおPMの計算には膨潤膜厚を用いた。
〔溶液粘度ηSP/c〕
溶媒:m−クレゾール;0.5wt%;35℃で測定。
NTDA:1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
2,2'−BSPB:2,2'−ビス(3−スルホプロポキシ)ベンジジン
2,2'−BSPOB:2,2'−ビス(3−スルホフェノキシ)ベンジジン
3,3'−BSPOB:3,3'−ビス(3−スルホフェノキシ)ベンジジン
BAPB:4,4'-ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル
BAPBDS:3,3'−(4,4'−ジアミノフェノキシ)ビフェニルスルホン酸
DMF:N,N−ジメチルホルムアミド
DMSO:ジメチルスルホキシド
100ml三つ口フラスコに6.001g(16.3mmol)の2,2'−ジフェノキシ−4,4'−ジアミノビフェニル(m−PHOB)を入れ、アイスバスで冷却した後、9mlの濃硫酸を攪拌しながらゆっくりと添加した。m-PHOBを完全に溶解させた後、3mlの発煙硫酸(SO360%)をゆっくりと添加した。発煙硫酸を完全に添加した後、該混合物を攪拌しつつ0℃で0.5時間保持した。次いで、ゆっくりと40℃まで加温し、40℃で2時間保った。その後、室温まで冷却した後、混合物を破砕した100gの氷中に注ぎ、白色固体を析出させた。固体を濾別後、60℃で15時間減圧乾燥して6.04gの白色固体生成物質を得た(収率70%)。この生成物の融点は300℃以上であった。この化合物は、1HNMR(270MHz,DMSO‐d6)により、δ:6.04‐6.05ppm (2H, S), 6.28‐6.32 (2H, D), 6.75‐6.79 (4H, D), 6.92.‐6.95 (2H, D),7.51‐7.54 (4H,D)のピークを示し、その帰属と積分強度比から、生成物が下記式で表される2,2’−BSPOBであることが確認された。KBr錠剤法により測定したIRスペクトルを図1に示す。
乾燥した100mlの四口フラスコ中で1.053g(1.99mmol)の2,2’−BSPOBと0.67mlのトリエチルアミン(TEA)を9mlのm−クレゾールに加えて溶かし、次いで、0.532g(1.99mmol)のNTDA及び0.337gの安息香酸を加え、窒素ガス雰囲気下で混合物を80℃で4時間そして180℃で15時間攪拌した。重合反応液を80℃まで冷却後、25mlのm−クレゾールを加え希釈後、多量のアセトンに投入し、析出した固体を濾別し、アセトン洗浄後乾燥した。得られた生成物の溶液粘度ηSP/cは4.1dl/gであった。生成物をm−クレゾールに溶解し、ガラス板上に流延し、100℃で1時間そして120℃で10時間乾燥して、TEA塩型のスルホン化ポリイミド膜を得た。これをメタノールに1日間浸漬し、次いで0.5M硫酸溶液に3日間浸漬しプロトン交換した後、水洗し150℃で10時間真空乾燥して下記式で示される構造単位からなるプロトン型のスルホン化ポリイミドNTDA-2,2'-BSPOB膜を得た。IRの測定結果を図2に示す。
乾燥した100mlの四つ口フラスコ中で2.534g(4.78mmol)の2,2’−BSPOBと1.61mlのTEAを24.5mlのm−クレゾールに加えて溶かし、次いで、0.877g(2.38mmol)のBAPBを添加して溶かした後、1.918g(7.15mmol)のNTDA及び1.212gの安息香酸を加え、窒素ガス雰囲気下で混合物を80℃で4時間そして180℃で15時間攪拌し、重合反応液を80℃まで冷却後、65mlのm‐クレゾールを加え希釈後、多量のアセトンに投入し、析出した固体を濾別し、アセトン洗浄後乾燥した。得られた生成物の溶液粘度ηSP/cは3.9dl/gであった。生成物をm−クレゾールに溶解し、ガラス板上に流延し、100℃で1時間そして120℃で10時間乾燥して、TEA塩型の共重合スルホン化ポリイミド膜を得た。これをメタノールに1日間浸漬し、次いで0.5M硫酸溶液に3日間浸漬しプロトン交換した後、水洗し150℃で10時間真空乾燥してプロトン型のランダム共重合スルホン化ポリイミドNTDA-2,2'-BSPOB/BAPB(2/1)-r膜を得た。IR測定結果を図3に示す。
乾燥した100mlの四口フラスコ中で2.248g(4.24mmol)の3,3’−BSPOBと1.57mlのTEAを22mlのm−クレゾールに加えて溶かし、次いで、0.781g(2.12mmol)のBAPBを添加して溶かした後、1.702g(6.35mmol)のNTDA及び1.081gの安息香酸を加え、窒素ガス雰囲気下で混合物を80℃で4時間そして180℃で20時間攪拌し、重合反応液を80℃まで冷却後、45mlのm‐クレゾールを加え希釈後、多量のアセトンに投入し、析出した固体を濾別し、アセトン洗浄後乾燥した。得られた生成物の溶液粘度ηSP/cは2.1dl/gであった。生成物をm−クレゾールに溶解し、ガラス板上に流延し、100℃で1時間そして120℃で10時間乾燥して、TEA塩型の共重合スルホン化ポリイミド膜を得た。これをメタノールに1日間浸漬し、次いで0.5M硫酸溶液に3日間浸漬しプロトン交換した後、水洗し150℃で10時間真空乾燥してプロトン型のランダム共重合スルホン化ポリイミドNTDA-3,3'-BSPOB/BAPB(2/1)-r膜を得た。
3,3’−BSPOBの代わりにBAPBDSを用いた以外は、比較例1と同様に行った。溶液粘度ηSP/cが2.0dl/gの樹脂を得てから、同様な手順でプロトン型のランダム共重合スルホン化ポリイミドNTDA-BAPBDS/BAPB(2/1)-r膜を得た。
3,3’−BSPOBの代わりに2,2’−BSPBを用いた以外は、比較例1と同様に行った。溶液粘度ηSP/cが5.7dl/gの樹脂を得てから、同様な手順でプロトン型のランダム共重合スルホン化ポリイミドNTDA-2,2'-BSPB/BAPB(2/1)-r 膜を得た。
上記実施例及び比較例で調製したポリイミド膜の耐水性、吸水性、プロトン伝導性及びメタノール透過性を評価した。結果を表1に示す。また、実施例2と比較例1の膜の加圧水浸漬前後での膜の引っ張り試験結果を表2に示す。また、実施例2と比較例1の膜のプロトン伝導度の温度依存性を図4に、実施例1〜2と比較例1〜3の60℃でのプロトン伝導度の湿度依存性を図5に示す。なお、表1において、φはプロトン伝導度/メタノール透過係数を表す(50℃、30wt%メタノール濃度、単位は104 Ss/cm3)。
1)実施例1〜2の膜は比較例2〜3の膜に比べて、機械的強度の観点からの膜の高温耐水性に優れている。、2)実施例2の膜は、比較例1の膜に比べて、加圧水浸漬後、引っ張り試験で破断応力が1.5〜2倍大きく、膜の高温耐水性に優れている。3)実施例2の膜は、比較例1の膜と比べて、同じイオン交換容量を持つにもかかわらず、高いプロトン伝導度を有する。特に、低湿度でその差が大きくなり、60℃で50%RHでは、4倍大きい。4)実施例2の膜は、120℃、50%RHにおいて、0.05S/cmの高いプロトン伝導度を有する。5)実施例2の膜は、メタノール透過係数が非常に低く、メタノール透過係数に対するプロトン伝導度の比φが50℃、30wt%メタノール溶液に対して、比較的大きな値を有する。
Claims (7)
- 請求項1〜3のいずれか記載のフェノキシスルホン化芳香族ポリイミドを製膜して得られる高分子電解質膜。
- 30μm厚の高分子電解質膜を温度130℃の加圧熱水中に190時間浸漬後、180°折り曲げても破断せず、破断応力が50MPa以上である請求項4記載の高分子電解質膜。
- 温度60℃で相対湿度100%において、プロトン伝導度が0.10S/cm以上、相対湿度50%において、プロトン伝導度が0.004S/cm以上、温度120℃で相対湿度50%において、プロトン伝導度が0.03S/cm以上、更に130℃の加圧熱水中に190時間浸漬し、その前後において、実質的にプロトン伝導度の低下が見られない請求項4又は5いずれか記載の高分子電解質膜。
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