JP2006300566A - Evaluation method and container for evaluation of material for semiconductor wafer storage container, and evaluation method of resin material - Google Patents

Evaluation method and container for evaluation of material for semiconductor wafer storage container, and evaluation method of resin material Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an evaluation method of a material for a semiconductor wafer storage container capable of determining the kind of a resin causing a component adhering to the surface of a semiconductor wafer when preserved in a resin semiconductor wafer storage container formed by assembling a plurality of components having different materials, and acquiring data effective for development of a high-quality semiconductor wafer storage container. <P>SOLUTION: This evaluation method of the material for the resin semiconductor wafer storage container formed by assembling the plurality of components having different materials is characterized as follows: one resin used as the the material for the semiconductor wafer storage container is used, and a container for evaluation whose material comprises only the resin is manufactured; then, the semiconductor wafer is preserved in the container for evaluation; after elapse of a prescribed time, the semiconductor wafer is taken out, and a component adhering to the surface is analyzed; and thereby it is determined whether the resin is suitable for the material for the semiconductor wafer storage container or not. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料の評価方法および評価用容器に関し、特には、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に用いる材料の評価方法および評価用容器に関する。   The present invention relates to a resin material evaluation method and an evaluation container used for handling a semiconductor wafer, and more particularly, to an evaluation method and evaluation material for a resin semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts made of different materials are assembled. Concerning the container.

シリコン単結晶等の半導体インゴットから切り出した半導体基板を用いてデバイスを作製する場合、半導体基板の加工プロセスから素子の形成プロセスまで多数の工程が介在する。近年のデバイスの微細化に伴い、達成すべきデバイス特性がますます厳しくなり、半導体ウェーハに対しても更なる結晶品質の完全性と表面の清浄化が要求されており、半導体ウェーハの汚染物質として、従来着目されていた微粒子や金属元素・ハロゲン元素等だけでなく、有機物もチェックされ始めている。例えば、ウェーハ上に有機物が付着すると酸化膜の異常成長が生じる等の問題が発生するからである。   When a device is manufactured using a semiconductor substrate cut out from a semiconductor ingot such as a silicon single crystal, a number of steps are involved from a processing process of the semiconductor substrate to an element formation process. With the recent miniaturization of devices, the device characteristics to be achieved are becoming more and more severe, and the semiconductor wafers are required to have more complete crystal quality and surface cleaning. In addition to fine particles, metal elements and halogen elements, which have been attracting attention in the past, organic substances are starting to be checked. This is because, for example, problems such as abnormal growth of an oxide film occur when organic substances adhere to the wafer.

シリコン等の半導体ウェーハを収納する収納容器は、例えば、すべての構成部品を単独樹脂で成型した場合には、勘合がうまくいかず、半導体ウェーハを適切に収納して保持することはできない。そのため、成型後の収縮等を計算することにより、複数の各構成部品はそれぞれ異なる材質が選択されて成型されるが、このような既存の収納容器であっても、樹脂に含まれる揮発性成分が、収納される半導体ウェーハの汚染原因となり、近年の半導体ウェーハの品質要求を満たす保管機能を有するには、不十分である。   For example, when a storage container for storing a semiconductor wafer such as silicon is molded with a single resin, all the components are not fit properly, and the semiconductor wafer cannot be properly stored and held. Therefore, by calculating the shrinkage after molding, etc., each of the plurality of component parts is molded by selecting different materials, but even in such an existing storage container, the volatile component contained in the resin However, it becomes a cause of contamination of the semiconductor wafer to be stored, and is insufficient to have a storage function that satisfies the quality requirements of recent semiconductor wafers.

このような既存の収納容器は、例えば、ポリプロピレンを主原料とするものが多用されており、かかる容器のシリコンウェーハへの有害性は、所定時間熱処理した後、シリコンウェーハを収容して所定時間常温で保持した後、シリコンウェーハの表面変質層の有無を目視確認するという簡単な方法で、検査するものがある(特許文献1)。   Such existing storage containers, for example, are mainly made of polypropylene as a main raw material, and the harmfulness of such containers to silicon wafers is that after the heat treatment for a predetermined time, the silicon wafer is stored for a predetermined time at room temperature. After being held in step 1, there is a method of inspecting by a simple method of visually confirming the presence or absence of a surface altered layer of a silicon wafer (Patent Document 1).

また、このような既存の収納容器にシリコンウェーハを保持した後に、ウェーハ表面に付着した揮発性成分(イオン系汚染、有機物汚染など)を分析することにより、シリコンウェーハ収容容器が、シリコンウェーハ品質に与える影響を調べることができる(特許文献2)。   In addition, after holding the silicon wafer in such an existing storage container, the silicon wafer container can improve the quality of the silicon wafer by analyzing volatile components (ionic contamination, organic contamination, etc.) adhering to the wafer surface. The influence given can be investigated (Patent Document 2).

しかし、かかる樹脂製のシリコンウェーハ収納容器は、上述のように材質が異なる複数の部品を組み立てたものであるため、上述のような方法で検出されたシリコンウェーハ表面の変質層や揮発性成分のデータだけでは、シリコンウェーハ表面に汚染があった場合、その付着成分がどの樹脂に起因するのかを特定することができないため、近年のシリコンウェーハの品質要求を満たす保管機能を有するシリコンウェーハ収納容器の開発、特にその材料選択に必要なデータとしては不十分である。   However, since the resin-made silicon wafer storage container is formed by assembling a plurality of parts having different materials as described above, the altered layer or volatile component on the surface of the silicon wafer detected by the above-described method is used. If the data alone is contaminated, it is not possible to specify which resin the adhering component is caused by. Therefore, a silicon wafer storage container with a storage function that satisfies the quality requirements of recent silicon wafers cannot be specified. The data required for development, especially the selection of its materials, is insufficient.

特開平5−259254号公報JP-A-5-259254 特開2004−340685号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-340685

そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、特に、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に保存した場合の半導体ウェーハの表面に付着する成分が、どの樹脂に起因するのかを判定することができ、高品質の半導体ウェーハ収納容器の開発に有効なデータを確実に得ることができる半導体ウェーハ収納容器用材料の評価方法およびこれに用いられる評価用容器を提供することである。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and the object of the present invention is, in particular, a semiconductor wafer when stored in a resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts made of different materials are assembled. Method for evaluating materials for semiconductor wafer storage containers, which can determine which resin is responsible for the component adhering to the surface of the wafer, and can reliably obtain data effective for the development of high-quality semiconductor wafer storage containers And providing an evaluation container used therefor.

上記目的を達成するために、本発明によれば、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に用いる材料の評価方法であって、前記半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される樹脂の一つを用い、材質が該樹脂だけからなる評価用容器を作製した後、該評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持して所定時間経過後、前記半導体ウェーハを取り出して表面に付着した成分を分析することにより、前記樹脂が前記半導体ウェーハ収納容器用材料に適しているか否かを判定することを特徴とする半導体ウェーハ収納容器用材料の評価方法が提供される(請求項1)。   In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a method for evaluating a material used for a resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts made of different materials are assembled, which is used as the material for the semiconductor wafer storage container. One of the resins used is made of an evaluation container made of only the resin, the semiconductor wafer is held in the evaluation container, and after a predetermined time has elapsed, the semiconductor wafer is taken out and placed on the surface. By analyzing the adhering component, it is determined whether or not the resin is suitable for the semiconductor wafer storage container material. A method for evaluating a semiconductor wafer storage container material is provided. ).

このように、材質が評価する樹脂だけからなる評価用容器を作製した後、その中に半導体ウェーハを保持して所定時間経過後、ウェーハ表面に付着した成分を分析することによって、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に保存した場合の半導体ウェーハ表面に付着する成分が、どの樹脂に起因するのかを判定することができ、高品質の半導体ウェーハ収納容器の開発における材料選択に有効なデータを得ることができる。   In this way, after producing an evaluation container made only of a resin whose material is to be evaluated, a semiconductor wafer is held therein, and after a predetermined time has elapsed, the components adhering to the wafer surface are analyzed, whereby a plurality of different materials are obtained. It is possible to determine which resin is responsible for the component that adheres to the semiconductor wafer surface when it is stored in a resin-made semiconductor wafer storage container assembled with the above parts, and a material for the development of high-quality semiconductor wafer storage containers Data effective for selection can be obtained.

このとき、前記半導体ウェーハ収納容器用材料として、シリコンウェーハ収納容器用材料を評価することが好ましい(請求項2)。
このように、前記半導体ウェーハ収納容器用材料として、シリコンウェーハ収納容器用材料を評価することにより、近年のシリコンウェーハの品質要求を満たす十分な保管機能を有するシリコンウェーハ収納容器の開発に有効なデータを得ることである。
At this time, it is preferable to evaluate a silicon wafer storage container material as the semiconductor wafer storage container material.
As described above, by evaluating the silicon wafer storage container material as the semiconductor wafer storage container material, the data is effective for the development of a silicon wafer storage container having a sufficient storage function to satisfy the quality requirements of recent silicon wafers. Is to get.

また、前記評価用容器として、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状のものを用いて、前記保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持することが好ましい(請求項3)。   Further, the container for evaluation has a holding part for holding a semiconductor wafer at the upper part, and has a reverse saddle shape with the lower part opened, and after holding the semiconductor wafer in the holding part, It is preferable to hold the semiconductor wafer in the evaluation container by superimposing another evaluation container having the same shape from above.

上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状の、材質が評価する樹脂だけからなる評価用容器は、評価樹脂を一組の金型を用いて射出成型するだけで製造ができるため簡便であり、この保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、評価用容器の中での半導体ウェーハの簡便な保持が可能となり、実質上1種類のみの部品を用いて容器を構成できるので、低コストで効率的な評価を行うことができる。さらに、この評価用容器を使用する場合、異なる樹脂を評価する場合であっても、成型する樹脂の収縮率が問題とならず、同じ金型を使用することができるため、非常に経済的である。   An evaluation container having a holding part for holding a semiconductor wafer at the upper part and having an inverted bowl shape with the lower part opened and made of only a resin to be evaluated is injection-molded using a set of molds. It is simple because it can be manufactured only, and after holding the semiconductor wafer in this holding part, another evaluation container of the same shape is overlapped from the upper part of the semiconductor wafer. Since the semiconductor wafer can be easily held and the container can be configured using substantially only one type of component, an efficient evaluation can be performed at low cost. Furthermore, when this evaluation container is used, even when different resins are evaluated, the shrinkage rate of the resin to be molded does not matter, and the same mold can be used. is there.

さらに、前記半導体ウェーハ表面に付着した成分の分析を、ガスクロマトグラフィ、ガスクロマトグラフ質量分析またはイオンクロマトグラフィで行うことが好ましい(請求項4)。
このように、前記半導体ウェーハ表面に付着した成分の分析を、ガスクロマトグラフィ、ガスクロマトグラフ質量分析またはイオンクロマトグラフィで行うことにより、成分の解析を高精度に行うことができ、解析対象の評価樹脂が半導体ウェーハ収納容器用材料に適しているか否かの判定を的確に行うことができる。
Furthermore, it is preferable to analyze the component adhering to the surface of the semiconductor wafer by gas chromatography, gas chromatography mass spectrometry or ion chromatography.
Thus, by analyzing the component adhering to the surface of the semiconductor wafer by gas chromatography, gas chromatograph mass spectrometry or ion chromatography, the component can be analyzed with high accuracy, and the evaluation resin to be analyzed is a semiconductor. It is possible to accurately determine whether or not the wafer storage container material is suitable.

また、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持する所定時間を6時間以上とすることが好ましい(請求項5)。
このように6時間以上、評価用容器の中に半導体ウェーハを保持することにより、評価用容器を構成する樹脂の揮発性成分が、評価用容器内で十分に揮発し、かつ、ウェーハ表面に付着して検出可能になることが期待できる。
Further, it is preferable that a predetermined time for holding the semiconductor wafer in the evaluation container is 6 hours or more.
Thus, by holding the semiconductor wafer in the evaluation container for 6 hours or more, the volatile component of the resin constituting the evaluation container is sufficiently volatilized in the evaluation container and adheres to the wafer surface. And can be expected to be detectable.

さらに、本発明によれば、半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される樹脂を評価するための評価用容器であって、材質が前記評価する樹脂だけからなり、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状のものであり、前記保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持するものであることを特徴とする評価用容器が提供される(請求項6)。   Furthermore, according to the present invention, there is provided an evaluation container for evaluating a resin used as a material for a semiconductor wafer storage container, wherein the material is made of only the resin to be evaluated, and the holding portion that holds the semiconductor wafer on the upper part And holding the semiconductor wafer in the holding part, and then superimposing another evaluation container of the same shape from the upper part of the semiconductor wafer, An evaluation container characterized in that the semiconductor wafer is held in the evaluation container (claim 6).

このように、材質が、半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される評価対象の樹脂だけからなり、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状の評価用容器は、評価する樹脂を一組の金型により射出成型できるため、簡便に製造することができ、さらに、異なる樹脂を評価する場合であっても、成型する樹脂の収縮率が問題とならず、同じ金型を使用することができるため、非常に経済的である。この評価用容器の保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、評価用容器の中での半導体ウェーハの簡便な保持が可能となり、実質上1種類のみの部品を用いて容器を構成できるので、低コストで効率的な評価を行うことができる容器となる。   As described above, the evaluation container is an inverted container having a holding part for holding a semiconductor wafer at the upper part and having an open lower part, which is made of only a resin to be used as a semiconductor wafer storage container material. Since the resin to be evaluated can be injection-molded with a set of molds, it can be easily manufactured, and even when different resins are evaluated, the shrinkage rate of the resin to be molded does not matter. Since the same mold can be used, it is very economical. After holding the semiconductor wafer in the holding part of the evaluation container, the semiconductor wafer can be easily held in the evaluation container by stacking another evaluation container having the same shape from the upper part of the semiconductor wafer. Since the container can be configured using substantially only one type of component, the container can be efficiently evaluated at low cost.

また、本発明によれば、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料の評価方法であって、前記樹脂材料の一つを用い、材質が該樹脂だけからなる評価用容器を作製した後、該評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持して所定時間経過後、前記半導体ウェーハを取り出して表面に付着した成分を分析することにより、前記樹脂が半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料に適しているか否かを判定することを特徴とする樹脂材料の評価方法が提供される(請求項7)。   Further, according to the present invention, there is provided a method for evaluating a resin material used for handling a semiconductor wafer, wherein one of the resin materials is used to produce an evaluation container made of only the resin, and then the evaluation is performed. Whether the resin is suitable for the resin material used to handle the semiconductor wafer by holding the semiconductor wafer in a container and analyzing the components attached to the surface after taking out the semiconductor wafer after a predetermined time has passed A method for evaluating a resin material, characterized by determining whether or not, is provided (claim 7).

このように、本発明の評価方法は、半導体ウェーハ収納容器用材料に限定されず、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料の評価に適用することができる。材質が半導体ウェーハを取り扱うのに用いる評価対象となる樹脂だけからなる評価用容器を作製した後、その中に半導体ウェーハを保持して所定時間経過後、ウェーハ表面に付着した成分を分析することによって、当該樹脂材料の揮発成分が半導体ウェーハを取り扱うのに許容できるものであるか否かを判定することができ、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料の選択に有効なデータを得ることができる。   Thus, the evaluation method of the present invention is not limited to semiconductor wafer storage container materials, and can be applied to the evaluation of resin materials used to handle semiconductor wafers. By producing a container for evaluation consisting of only the resin to be evaluated used for handling semiconductor wafers, holding the semiconductor wafer in it and analyzing the components attached to the wafer surface after a predetermined time Therefore, it can be determined whether or not the volatile component of the resin material is acceptable for handling the semiconductor wafer, and data effective for selecting the resin material used for handling the semiconductor wafer can be obtained.

さらに、本発明によれば、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料を評価するための評価用容器であって、材質が前記評価する樹脂だけからなり、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状のものであり、前記保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持するものであることを特徴とする評価用容器が提供される(請求項8)。   Furthermore, according to the present invention, there is provided an evaluation container for evaluating a resin material used for handling a semiconductor wafer, the material is made of only the resin to be evaluated, and has a holding portion for holding the semiconductor wafer on the upper portion. In addition, the evaluation is performed by stacking another evaluation container having the same shape from the upper part of the semiconductor wafer after holding the semiconductor wafer in the holding part, and having the inverted bottom shape with the lower part opened. An evaluation container characterized in that the semiconductor wafer is held in a container for use (claim 8).

このように、本発明の評価対象は、半導体ウェーハ収納容器用材料に限定されず、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料も評価対象とされる。材質が、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる評価対象となる樹脂だけからなり、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状の評価用容器は、評価する樹脂を一組の金型により射出成型できるため、簡便に製造することができ、さらに、異なる樹脂を評価する場合であっても、成型する樹脂の収縮率が問題とならず、同じ金型を使用することができるため、非常に経済的である。この評価用容器の保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、評価用容器の中での半導体ウェーハの簡便な保持が可能となり、実質上1種類のみの部品を用いて容器を構成できるので、低コストで効率的な評価を行うことができる。   Thus, the evaluation object of the present invention is not limited to the semiconductor wafer storage container material, and the resin material used for handling the semiconductor wafer is also the evaluation object. An evaluation container with an inverted saddle shape having a holding part for holding a semiconductor wafer in the upper part and having a lower part opened is made of only a resin to be evaluated used for handling a semiconductor wafer. Since it can be injection-molded with a set of molds, it can be easily manufactured, and even when different resins are evaluated, the shrinkage rate of the molded resin does not matter and the same mold is used. It can be very economical. After holding the semiconductor wafer in the holding part of the evaluation container, the semiconductor wafer can be easily held in the evaluation container by stacking another evaluation container having the same shape from the upper part of the semiconductor wafer. Since the container can be configured using substantially only one type of component, efficient evaluation can be performed at low cost.

このように、本発明により、例えば材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に保存した半導体ウェーハ表面に付着する成分が、どの樹脂に起因するのかを判定することができ、高品質の半導体ウェーハ収納容器の開発、特に材料選択に有効なデータを得ることが可能となった。しかも、低コストで評価できる。
また、本発明は、半導体ウェーハ収納容器用材料に限定されず、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料の評価にも用いることができ、半導体製造工程等におけるクリーン度の上昇に貢献することが期待できる。
In this way, according to the present invention, for example, it is possible to determine which resin is caused by the component adhering to the semiconductor wafer surface stored in the resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts having different materials are assembled, It has become possible to obtain effective data for the development of high-quality semiconductor wafer storage containers, especially for material selection. Moreover, it can be evaluated at a low cost.
In addition, the present invention is not limited to semiconductor wafer storage container materials, but can also be used for evaluation of resin materials used for handling semiconductor wafers, and is expected to contribute to an increase in cleanliness in semiconductor manufacturing processes and the like. it can.

近年のシリコンウェーハをはじめとした半導体ウェーハの品質要求を満たす保管機能を有する半導体ウェーハ収納容器の開発における問題点に関して、材質が異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に半導体ウェーハを保持した後にウェーハ表面を分析するだけでは、ウェーハの表面に付着する成分がどの樹脂に起因するのかを特定することができなかった。   Regarding problems in the development of semiconductor wafer storage containers that have storage functions that meet the quality requirements of semiconductor wafers such as silicon wafers in recent years, semiconductor wafers are placed in resin-made semiconductor wafer storage containers in which multiple parts of different materials are assembled. By simply analyzing the wafer surface after holding it, it was not possible to determine which resin caused the component adhering to the wafer surface.

そこで、本発明者等は、鋭意研究を重ね、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に用いる材料の評価方法であって、前記半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される樹脂の一つを用い、材質が該樹脂だけからなる評価用容器を作製した後、該評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持して所定時間経過後、前記半導体ウェーハを取り出して表面に付着した成分を分析することにより、前記樹脂が前記半導体ウェーハ収納容器用材料に適しているか否かを判定することによって、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に保存した場合の半導体ウェーハ表面に付着する成分が、どの樹脂に起因するのかを判定することができ、高品質の半導体ウェーハ収納容器の開発に有効なデータを得ることができることを見出した。   Therefore, the present inventors have conducted extensive research and are a method for evaluating a material used for a resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts having different materials are assembled, and is used as the material for the semiconductor wafer storage container. After producing an evaluation container made of only the resin using one of the resins, the semiconductor wafer is held in the evaluation container, and after a predetermined time has elapsed, the semiconductor wafer is taken out and attached to the surface When the resin is stored in a resin-made semiconductor wafer storage container in which multiple parts of different materials are assembled by determining whether the resin is suitable for the semiconductor wafer storage container material by analyzing the components It is possible to determine which resin is responsible for the components adhering to the surface of semiconductor wafers, which is effective for the development of high-quality semiconductor wafer storage containers. Data has been found that can be obtained.

以下、本発明の実施の形態について表および図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明では、例えば次の表1や図3に示すような材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に用いる材料の評価を行う。
表1は、市販されている半導体ウェーハ収納容器の部品と材料の一例(商品名:MW300F、MW300G)を示している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the tables and the drawings, but the present invention is not limited thereto.
In the present invention, for example, materials used for a resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts having different materials as shown in Table 1 and FIG. 3 are assembled are evaluated.
Table 1 shows an example of parts and materials (trade names: MW300F, MW300G) of commercially available semiconductor wafer storage containers.

Figure 2006300566
Figure 2006300566

一方、図3は、半導体ウェーハ収容容器の一例を示しており、本体部のボディ15に半導体ウェーハを収納するインサート部のボディ13を挿入し、ガスケット14、フロントリテーナー12を装着して、ドア11を閉めることによって、半導体ウェーハを保管する等の方法で使用され、通常、その各部品の材料は表1のようにその組成が異なるものが用いられる。   On the other hand, FIG. 3 shows an example of a semiconductor wafer storage container, in which a body 13 of an insert part for housing a semiconductor wafer is inserted into a body 15 of a main body part, a gasket 14 and a front retainer 12 are attached, and a door 11 Is used in such a way as to store a semiconductor wafer, and the materials of the respective parts are usually different in composition as shown in Table 1.

また、ポリプロピレン(PP)製の容器では、例えば、本体にポリプロピレンを使用する一方で、蓋(ドア)にポリカーボネート(PC)、ウェーハ押さえにポリブチルテレフタレート製(PBT)、ガスケット(パッキン)にシリコーンゴム、ポリオレフィン系エラストマー、ポリエステル系エラストマーが使用される場合がある。しかも、同じポリカーボネート等であっても、配合や重合度等が異なる場合もある。   In addition, in polypropylene (PP) containers, for example, polypropylene is used for the main body, while polycarbonate (PC) is used for the lid (door), polybutyl terephthalate (PBT) is used for the wafer holder, and silicone rubber is used for the gasket (packing). Polyolefin elastomers and polyester elastomers may be used. Moreover, even if the same polycarbonate or the like is used, the blending or polymerization degree may be different.

以上のように、部品材料の成型後の収縮等を考慮すると、すべての構成部品を単独樹脂で成型した場合には、勘合がうまくいかないため、成型後の収縮等を計算することにより、各構成部品のそれぞれに複数の異なる材質が選択されて成型される。また、それぞれの部品には、それぞれの使用目的があり、全く同じ材質で全ての目的を達成するように容器を構成することは、実質上不可能である。例えば、シールを目的とするパッキンは、柔軟性が要求され、インサートのボディは、ウェーハを傷つけないとともに支える必要があり、ある程度の強度と適度な柔らかさが要求される。一方、本体のボディは、外部からの衝撃に耐える強度が要求される。   As mentioned above, considering the shrinkage after molding of the component material, when all the component parts are molded with a single resin, the fitting does not work, so each component part is calculated by calculating the shrinkage after molding, etc. A plurality of different materials are selected and molded for each. In addition, each part has its own purpose of use, and it is virtually impossible to configure the container so that all the purposes are achieved with the same material. For example, packing for sealing purposes is required to be flexible, and the body of the insert must be supported while not damaging the wafer, and requires a certain degree of strength and appropriate softness. On the other hand, the body of the main body is required to have strength to withstand external impacts.

そこで、本発明では、半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される樹脂のそれぞれが、収納する半導体ウェーハへ与える影響を評価するために、まず、評価するそれぞれの樹脂について単独の材料のみからなる評価用容器を作製する。この評価用容器は、その樹脂の揮発成分の分析に用いるものであるから、評価対象とする樹脂のみからなることが重要であり、ウェーハの保管や搬送を目的とするものではないから、その形状は、実際に使用される容器と同じにする必要はなく、より簡単な形状でよい。   Therefore, in the present invention, in order to evaluate the influence of each of the resins used as the semiconductor wafer storage container material on the semiconductor wafer to be stored, first, for each evaluation resin, the evaluation is made of only a single material. Make a container. Since this evaluation container is used for analysis of the volatile components of the resin, it is important that it only consists of the resin to be evaluated, and it is not intended for storage or transportation of wafers. Need not be the same as the container actually used, but may be of a simpler shape.

図2に示すように、本発明で作製する評価用容器1は、材質が評価する樹脂だけからなり、上部に半導体ウェーハを保持する保持部2を有し、下部が開放された逆椀形状のものである。このような形状であれば、射出成型により、一組の金型で複数個、容易に作製することができる上に、その保持部2に半導体ウェーハWを保持した後、該半導体ウェーハWの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、評価用容器の逆椀形状の側部3および逆椀形状の天井部4により囲うことができ、単一の材質からなる、実質上1種類の形状のみの部品を用いて、容器を構成することができるため非常に好ましい。さらにこの場合、複数の異なる樹脂を評価する場合であっても、成型する樹脂の収縮率が問題とならず、同じ金型を使用することができるため、非常に経済的である。   As shown in FIG. 2, the evaluation container 1 produced in the present invention is made of only a resin whose material is evaluated, and has a holding part 2 that holds a semiconductor wafer in the upper part, and has an inverted bowl shape in which the lower part is opened. Is. With such a shape, a plurality of molds can be easily manufactured by a single mold by injection molding, and after holding the semiconductor wafer W in the holding portion 2, the upper portion of the semiconductor wafer W The other evaluation containers having the same shape are overlapped with each other so that the evaluation container can be surrounded by the inverted saddle-shaped side portion 3 and the inverted saddle-shaped ceiling portion 4 and is substantially made of a single material. This is very preferable because the container can be configured by using only one type of upper part. Further, in this case, even when a plurality of different resins are evaluated, the shrinkage rate of the resin to be molded does not matter and the same mold can be used, which is very economical.

ここで、保持部2は、図2(A)のようにリング状に半導体ウェーハWの周辺部を支持できる構造であれば密封度が高くなるのでよいが、半導体ウェーハWを3点支持する構造であってもよく、安定に半導体ウェーハWを支持することができる構造であれば、どのような構造であってもよい。
逆椀形状の側部3および天井部4は、保持する半導体ウェーハWを完全に密封できる構造であれば、効率的に揮発性成分を半導体ウェーハWに付着させることができるため好ましいが、必ずしも完全に密封する構造でなくても、評価用容器1が半導体ウェーハWと近接する部分が多い構造であればよい。
Here, as long as the holding part 2 has a structure that can support the peripheral part of the semiconductor wafer W in a ring shape as shown in FIG. 2A, the sealing degree may be high, but the structure that supports the semiconductor wafer W at three points. Any structure may be used as long as the semiconductor wafer W can be stably supported.
The inverted side-shaped side portion 3 and the ceiling portion 4 are preferably a structure that can completely seal the semiconductor wafer W to be held, because volatile components can be efficiently attached to the semiconductor wafer W. Even if it is not the structure sealed in, it is sufficient if the evaluation container 1 has a structure with many portions close to the semiconductor wafer W.

また、評価用容器は、複数の別体の部材、例えば、ウェーハを保持して収容する部材と蓋である部材をそれぞれ別体として成型して組み合せたものであっても、これらの材質が評価する樹脂だけからなるものであればよい。但し、この場合は、複数種の金型が必要となるし、評価する樹脂ごとに金型を作製する必要が生じる可能性もある。   Further, even if the evaluation container is formed by combining a plurality of separate members, for example, a member that holds and accommodates a wafer and a member that is a lid, separately, these materials are evaluated. As long as it consists only of resin to be used. However, in this case, a plurality of types of molds are required, and it may be necessary to manufacture a mold for each resin to be evaluated.

評価する樹脂だけからなる評価用容器の成型は、ペレットと呼ばれる樹脂原料を加熱して流動体とし、加圧して金型に注入して行う射出成型が好ましい。
なぜなら、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器は、それぞれの部材が、一般に射出成型により成型されるものであるからであり、また、ペレットである樹脂原料が起因となってウェーハ表面に付着する成分と、射出成型された樹脂が起因となってウェーハ表面に付着する成分とは、同一樹脂によっても異なる場合があるため、射出成型後の樹脂について評価する方が、より実際の使用状態に近いために正確なデータを得ることができるからである。
The molding of the evaluation container made of only the resin to be evaluated is preferably injection molding performed by heating a resin raw material called a pellet into a fluid and pressurizing it into a mold.
This is because a resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts made of different materials are assembled, each member is generally formed by injection molding, and is caused by a resin raw material that is a pellet. Because the component adhering to the wafer surface and the component adhering to the wafer surface due to the injection molded resin may differ depending on the same resin, it is better to evaluate the resin after injection molding This is because accurate data can be obtained because it is close to the actual use state.

保持する半導体ウェーハは、評価対象の半導体ウェーハ収納容器用材料を使用する半導体ウェーハ収納容器に収納するものと同一のものが好ましい。前記半導体ウェーハ収納容器用材料として、シリコンウェーハ収納容器用材料を評価する場合は、同一のシリコンウェーハを保持するのが好ましい。   The semiconductor wafer to be held is preferably the same as that stored in the semiconductor wafer storage container using the semiconductor wafer storage container material to be evaluated. When evaluating a silicon wafer storage container material as the semiconductor wafer storage container material, it is preferable to hold the same silicon wafer.

作製した評価用容器の一つで、半導体ウェーハの保持部に洗浄した半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同じ評価用容器を重ね合せることにより、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持する。   One of the prepared evaluation containers, after the cleaned semiconductor wafer is held in the semiconductor wafer holding portion, another same evaluation container is overlaid from the upper part of the semiconductor wafer, so that the inside of the evaluation container is Holding the semiconductor wafer.

このようにして、6時間以上、評価用容器の中に半導体ウェーハを保持することにより、評価用容器を構成する樹脂の揮発性成分が、評価用容器内で十分に揮発し、かつ、ウェーハ表面に付着することが期待できる。3日以上保持するのがより好ましく、10日以内であれば、時間およびコストが小さく、さらに好ましい。   In this way, by holding the semiconductor wafer in the evaluation container for 6 hours or more, the volatile component of the resin constituting the evaluation container is sufficiently volatilized in the evaluation container, and the wafer surface Can be expected to adhere to. It is more preferable to hold for 3 days or more, and if it is within 10 days, the time and cost are small, and more preferable.

その後、半導体ウェーハを取り出して表面に付着した成分を分析することにより、前記樹脂が半導体ウェーハ収納容器用材料に適しているか否かを判定する。
半導体ウェーハ表面に付着した成分の分析は、ガスクロマトグラフィ又はガスクロマトグラフ質量分析により、高精度に行うことができるため好ましく、これにより、解析対象である評価樹脂が半導体ウェーハ収納容器用材料に適しているか否かの判定を的確に行うことができる。特に、熱を加えて発生するガス成分を質量分析で測定する加熱脱離ガスクロマトグラフ質量分析(TD−GC−MS)装置で評価することがさらに好ましく、これにより得られたスペクトルパターンから、付着成分の違いや付着量の差が分かり、樹脂の種類ごとに、半導体ウェーハに与える影響の特性を把握することができる。なお、半導体ウェーハの表面に付着した成分を分析できる手法であれば、イオンクロマトグラフィ等の他の手法を用いてもよい。
Thereafter, the semiconductor wafer is taken out and analyzed for components adhering to the surface to determine whether or not the resin is suitable for the semiconductor wafer storage container material.
Analysis of components adhering to the surface of the semiconductor wafer is preferable because it can be performed with high accuracy by gas chromatography or gas chromatography mass spectrometry, so that the evaluation resin to be analyzed is suitable as a material for a semiconductor wafer storage container. It is possible to accurately determine whether or not. In particular, it is more preferable to evaluate by a thermal desorption gas chromatograph mass spectrometry (TD-GC-MS) apparatus that measures the gas component generated by applying heat by mass spectrometry. And the difference in adhesion amount can be understood, and the characteristics of the influence on the semiconductor wafer can be grasped for each type of resin. It should be noted that other techniques such as ion chromatography may be used as long as they can analyze components adhering to the surface of the semiconductor wafer.

以上のような本発明の方法により、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に保存する場合の半導体ウェーハ表面に付着する成分が、どの樹脂に起因するかを判定することができ、さらに、複数の樹脂に関して同一条件で本発明の分析を行って結果の相対的な比較をすることによっても、高品質の半導体ウェーハ収納容器の開発、特にその材料選択において大きな貢献が期待できる。   By the method of the present invention as described above, it is determined which resin is caused by the component adhering to the semiconductor wafer surface when storing in a resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts of different materials are assembled. In addition, by conducting the analysis of the present invention on a plurality of resins under the same conditions and comparing the results, it is expected to make a significant contribution to the development of high-quality semiconductor wafer storage containers, especially the selection of their materials. it can.

また、これまで半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される樹脂について説明してきたが、本発明の評価方法および評価用容器は、これに限定されることなく、半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料の評価にも適用できる。例えば、ウェーハを載置するボート等の冶具、ウェーハをハンドリングするロボット等のウェーハを保持する部材等、ウェーハと直接接触する部材、あるいは、ウェーハ製造工程におけるクリーンルーム内で用いられるすべての樹脂材料についての評価に適用できる。すなわち、これらの評価対象となる樹脂だけからなる評価用容器を作製し、その容器の中に半導体ウェーハを保持し、表面付着成分を分析すればよい。   In addition, the resin used as the material for the semiconductor wafer storage container has been described so far. However, the evaluation method and the evaluation container of the present invention are not limited to this, and the resin material used for handling the semiconductor wafer. Applicable to evaluation. For example, all the resin materials used in the clean room in the wafer manufacturing process, such as jigs such as boats for placing wafers, members for holding wafers such as robots for handling wafers, etc. Applicable for evaluation. That is, an evaluation container made only of the resin to be evaluated may be manufactured, a semiconductor wafer may be held in the container, and the surface adhesion component may be analyzed.

以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(実施例)
評価する樹脂として、3種類のポリプロピレン(PP−A、PP−B、PP−C)を用意した。PP−Aは、半導体ウェーハ収納容器用材料として現行で使用されているポリプロピレンであり、PP−Bは、PP−Aの添加剤の配合変更をおこなった改良型のポリプロピレンであり、PP−Cは、別のメーカー製のポリプロピレンである。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
(Example)
Three types of polypropylene (PP-A, PP-B, PP-C) were prepared as resins to be evaluated. PP-A is a polypropylene that is currently used as a material for semiconductor wafer storage containers, PP-B is an improved polypropylene that has undergone a change in the formulation of PP-A additives, and PP-C , Polypropylene from another manufacturer.

まず、3種類のポリプロピレンのそれぞれについて、材質がそのポリプロピレン樹脂だけからなるように、図2に示すように、上部に半導体ウェーハを保持する保持部2を有し、下部が開放された逆椀形状の評価用容器1を、射出成型により4個ずつ(各2セット(1セット2個)、合計6セット)作製した。   First, as shown in FIG. 2, each of the three types of polypropylene is made of only the polypropylene resin, and has a holding portion 2 for holding a semiconductor wafer at the top, and an inverted saddle shape with the bottom open. Four evaluation containers 1 were prepared by injection molding (each two sets (one set two), a total of six sets).

成型した各組の評価用容器の中に、洗浄後のシリコンウェーハ(各2セット、合計6セット)を一週間保持し、その後シリコンウェーハ表面の付着成分を加熱脱離ガスクロマトグラフ質量分析(TD−GC−MS)装置で評価した。そのGCスペクトルを図1に示す。上からPP−A、PP−B、PP−Cのスペクトルパターン(各2セット)を表しており、各ピークの1本1本が有機物種を表し、ピーク強度がその付着量を表している。なお、予め洗浄直後にシリコンウェーハ表面を加熱脱離ガスクロマトグラフ質量分析装置で評価したが全てのシリコンウェーハでピークは全く検出されなかった。   The cleaned silicon wafers (2 sets each, 6 sets in total) are held for one week in each set of evaluation containers, and then the attached components on the silicon wafer surface are subjected to thermal desorption gas chromatograph mass spectrometry (TD- (GC-MS) apparatus. The GC spectrum is shown in FIG. The spectrum patterns of PP-A, PP-B, and PP-C (2 sets each) are shown from the top, and each one of each peak represents an organic species, and the peak intensity represents the amount of adhesion. In addition, although the silicon wafer surface was evaluated in advance with a heated desorption gas chromatograph mass spectrometer immediately after washing, no peak was detected at all in all silicon wafers.

まず、これらの結果を、材質の異なる複数の部品を組み立てた実際に使用されている既存のポリプロピレン製容器のスペクトルパターンと比較することにより、ポリプロピレンに起因するシリコンウェーハに付着する有機物種を特定することができた。
次に、図1に示した、PP−AとPP−BとPP−Cのスペクトルパターンを比較すると、現行のPP−Aや別のメーカー製のPP−Cに現れているピーク(例えば、矢印で示すピーク)は、改良型のPP−Bにおいては、現れていないか、または、非常に小さいことがわかる。
このことから、改良型のPP−Bが、現行のPP−Aや別のメーカー製のPP−Cより、シリコンウェーハ収納容器用材料として適していると判断することができた。
なお、PP−A、PP−B、PP−Cのそれぞれ同じ樹脂で成型したA−1とA−2、B−1とB−2、C−1とC−2が、それぞれ同じ結果が得られており、本法が再現性のある方法であることが確認できた。
First, by comparing these results with the spectrum pattern of an existing polypropylene container that is actually used by assembling multiple parts of different materials, the species of organic matter adhering to the silicon wafer caused by polypropylene is identified. I was able to.
Next, comparing the spectral patterns of PP-A, PP-B, and PP-C shown in FIG. 1, peaks appearing in current PP-A and PP-C made by another manufacturer (for example, arrows) In the improved PP-B, it can be seen that it does not appear or is very small.
From this, it could be judged that the improved PP-B is more suitable as a material for a silicon wafer storage container than the current PP-A or PP-C manufactured by another manufacturer.
In addition, A-1 and A-2, B-1 and B-2, and C-1 and C-2 respectively molded with the same resin of PP-A, PP-B, and PP-C have the same results. It was confirmed that this method is a reproducible method.

以上のように、本発明により、材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に保存した場合の半導体ウェーハ表面に付着する成分が、どの樹脂に起因するのかを判定することができ、高品質の半導体ウェーハ収納容器の開発、特に材料選択に有効なデータを得ることができた。   As described above, according to the present invention, it is possible to determine which resin is caused by a component adhering to the semiconductor wafer surface when stored in a resin-made semiconductor wafer storage container in which a plurality of parts of different materials are assembled. The development of high-quality semiconductor wafer storage containers, especially data useful for material selection, was obtained.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は単なる例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is merely an example, and the present invention has the same configuration as that of the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

3種類のポリプロピレン(PP−A、PP−B、PP−C、各2セット)を、本発明の評価方法で評価したときのGCスペクトルを示した図である。It is the figure which showed GC spectrum when three types of polypropylene (PP-A, PP-B, PP-C, 2 sets each) are evaluated by the evaluation method of this invention. 本発明の評価用容器の一例とその使用方法を示した概略図である。(A)評価用容器の一例の概略平面図である。(B)評価用容器の一例の概略断面図である。(C)評価用容器の使用方法の一例を示す概略断面図である。It is the schematic which showed an example of the container for evaluation of this invention, and its usage. (A) It is a schematic plan view of an example of the container for evaluation. (B) It is a schematic sectional drawing of an example of the container for evaluation. (C) It is a schematic sectional drawing which shows an example of the usage method of the container for evaluation. 既存の半導体ウェーハ収容容器の一例である。(A)容器を少し開いた場合の斜視図である。(B)容器を開いて構成部品を取り出した場合の斜視図である。It is an example of the existing semiconductor wafer storage container. (A) It is a perspective view at the time of opening a container a little. (B) It is a perspective view at the time of opening a container and taking out a component.

符号の説明Explanation of symbols

1…評価用容器、 2…保持部、 3…逆椀形状の側部、 4…逆椀形状の天井部、
10…半導体ウェーハ収納容器、 11…ドア、 12…フロントリテーナー、
13…インサート部のボディ、 14…ガスケット、 15…本体部のボディ、
W…半導体ウェーハ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Container for evaluation, 2 ... Holding part, 3 ... Side part of inverted saddle shape, 4 ... Ceiling part of inverted saddle shape,
10 ... Semiconductor wafer storage container, 11 ... Door, 12 ... Front retainer,
13 ... Body of insert part, 14 ... Gasket, 15 ... Body of body part,
W: Semiconductor wafer.

Claims (8)

材質の異なる複数の部品を組み立てた樹脂製の半導体ウェーハ収納容器に用いる材料の評価方法であって、前記半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される樹脂の一つを用い、材質が該樹脂だけからなる評価用容器を作製した後、該評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持して所定時間経過後、前記半導体ウェーハを取り出して表面に付着した成分を分析することにより、前記樹脂が前記半導体ウェーハ収納容器用材料に適しているか否かを判定することを特徴とする半導体ウェーハ収納容器用材料の評価方法。   A method for evaluating a material used for a semiconductor wafer storage container made of a resin in which a plurality of parts having different materials are assembled, wherein one of the resins used as the material for the semiconductor wafer storage container is used, and the material is only from the resin. After producing a container for evaluation, the semiconductor wafer is held in the container for evaluation, and after a predetermined time has elapsed, the semiconductor wafer is taken out and analyzed for components adhering to the surface, whereby the resin becomes the semiconductor. A method for evaluating a semiconductor wafer storage container material, comprising: determining whether the material is suitable for a wafer storage container material. 前記半導体ウェーハ収納容器用材料として、シリコンウェーハ収納容器用材料を評価することを特徴とする請求項1に記載の半導体ウェーハ収納容器用材料の評価方法。   The method for evaluating a semiconductor wafer storage container material according to claim 1, wherein a silicon wafer storage container material is evaluated as the semiconductor wafer storage container material. 前記評価用容器として、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状のものを用いて、前記保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体ウェーハ収納容器用材料の評価方法。   The container for evaluation has a holding part for holding a semiconductor wafer in the upper part, and uses an inverted bowl shape with the lower part opened, and after holding the semiconductor wafer in the holding part, from the upper part of the semiconductor wafer 3. The semiconductor wafer storage container material according to claim 1, wherein the semiconductor wafer is held in the evaluation container by superimposing another evaluation container having the same shape. 4. Evaluation method. 前記半導体ウェーハ表面に付着した成分の分析を、ガスクロマトグラフィ、ガスクロマトグラフ質量分析またはイオンクロマトグラフィで行うことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の半導体ウェーハ収納容器用材料の評価方法。   The material for a semiconductor wafer storage container according to any one of claims 1 to 3, wherein the component adhering to the surface of the semiconductor wafer is analyzed by gas chromatography, gas chromatography mass spectrometry, or ion chromatography. Evaluation method. 前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持する所定時間を6時間以上とすることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の半導体ウェーハ収納容器用材料の評価方法。   The method for evaluating a material for a semiconductor wafer storage container according to any one of claims 1 to 4, wherein a predetermined time for holding the semiconductor wafer in the evaluation container is 6 hours or more. . 半導体ウェーハ収納容器用材料として使用される樹脂を評価するための評価用容器であって、材質が前記評価する樹脂だけからなり、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状のものであり、前記保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持するものであることを特徴とする評価用容器。   An evaluation container for evaluating a resin used as a material for a semiconductor wafer storage container, the material is made of only the resin to be evaluated, has a holding part for holding a semiconductor wafer at the upper part, and the lower part is opened. After holding the semiconductor wafer in the holding portion, by overlapping another evaluation container of the same shape from the top of the semiconductor wafer, the evaluation container An evaluation container characterized by holding a semiconductor wafer. 半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料の評価方法であって、前記樹脂材料の一つを用い、材質が該樹脂だけからなる評価用容器を作製した後、該評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持して所定時間経過後、前記半導体ウェーハを取り出して表面に付着した成分を分析することにより、前記樹脂が半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料に適しているか否かを判定することを特徴とする樹脂材料の評価方法。   A method for evaluating a resin material used for handling a semiconductor wafer, wherein one of the resin materials is used, and an evaluation container made of only the resin is manufactured, and then the semiconductor wafer is placed in the evaluation container. After a predetermined time has passed and the semiconductor wafer is taken out, it is determined whether or not the resin is suitable for the resin material used for handling the semiconductor wafer by analyzing the components adhering to the surface. Evaluation method of resin material. 半導体ウェーハを取り扱うのに用いる樹脂材料を評価するための評価用容器であって、材質が前記評価する樹脂だけからなり、上部に半導体ウェーハを保持する保持部を有し、下部が開放された逆椀形状のものであり、前記保持部に半導体ウェーハを保持した後、該半導体ウェーハの上部からもう1つの同一形状の前記評価用容器を重ね合せることにより、前記評価用容器の中に前記半導体ウェーハを保持するものであることを特徴とする評価用容器。   An evaluation container for evaluating a resin material used for handling a semiconductor wafer, wherein the material is made of only the resin to be evaluated, and has a holding portion for holding the semiconductor wafer in the upper portion and the lower portion is opened. After the semiconductor wafer is held in the holding portion, the semiconductor wafer is placed in the evaluation container by superimposing another evaluation container having the same shape from the upper part of the semiconductor wafer. The container for evaluation characterized by holding.
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