JP2006292527A - 3次元形状計測装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】非接触計測プローブユニットの重力補償機構を改善することで、3次元形状計測装置の計測精度を向上させる。
【解決手段】ベースB上に立設された筐体10にボイスコイルモータ1と空気バネ2を支持させ、XYステージ7上の被測定物Wの高さを計測する非接触計測プローブユニット4を、ボイスコイルモータ1によって重力方向であるZ軸方向に駆動する。非接触計測プローブユニット4を搭載するZステージ3の重力補償を空気バネ2によって行い、ボイスコイルモータ1とエアースライダ6と空気バネ2とを組み合わせることで、小型でしかも信頼性と安全性の高い重力補償機構を実現する。
【選択図】図1
【解決手段】ベースB上に立設された筐体10にボイスコイルモータ1と空気バネ2を支持させ、XYステージ7上の被測定物Wの高さを計測する非接触計測プローブユニット4を、ボイスコイルモータ1によって重力方向であるZ軸方向に駆動する。非接触計測プローブユニット4を搭載するZステージ3の重力補償を空気バネ2によって行い、ボイスコイルモータ1とエアースライダ6と空気バネ2とを組み合わせることで、小型でしかも信頼性と安全性の高い重力補償機構を実現する。
【選択図】図1
Description
本発明は、Z軸方向に走査するプローブによって被測定物の3次元形状を高精度に計測する3次元形状計測装置に関するものである。
形状計測用のプローブユニット等の移動体を重力方向であるZ軸方向に走査させる3次元形状計測装置や加工機等においては、プローブユニットの重力を補償する機構が無いと、移動に必要な推力が重力方向と反重力方向とで異なり、また大きな推力が必要となるため、アクチュエータの容量が大きくなり、その結果、大型化によるコストアップや、アクチュエータのゲイン調整が難しく、発振による計測精度の低下等の問題が発生する。このために、何らかの重力補償機構を付加して、アクチュエータの大型化の問題やゲイン調整の問題を解決することが必須である。
特許文献1には、バネ定数が既知のバネを用いて、バネの張力と、Z軸方向(重力方向)に移動する移動体の重力とを相殺させる方法が開示されている。これは、移動体の移動量によってバネの張力が変化するため、張力補償機構を付加することによってバネの張力を一定に保つようにしている。
また、特許文献2に開示されたものは、移動体の重力補償機構としてリニアモータ(電磁アクチュエータ)やエアーシリンダを用い、エアーシリンダへの供給圧力をコントロールして、推力を補償しており、特許文献3においては、移動体の重量と同等レベルのカウンタウエイトを用いる重力補償機構が提案されている。
さらに、特許文献4においては、特許文献3に開示されたものに対して、移動体とカウンタウエイトを連結する連結部材と、その連結部材を巻回支持する滑車と、カウンタウエイトの重力方向のみを移動自在とする案内を付加した機構が提案されている。
市販されている3次元計測器においては、大型の移動体を、まず粗動アクチュエータによってZ軸方向へ移動させて位置決めし、その位置で計測に使用する対物レンズだけを圧電素子等の微動アクチュエータで動かす構成のZ軸走査機構が知られている。
特開平7−115056号公報
特開2000−163130号公報
特開平5−057606号公報
特開2003−084087号公報
しかしながら上記従来技術による重力補償機構は、以下のような未解決の課題があった。まず、特許文献1に開示されたものは、張力を補償する機構が複雑であるためにコスト高で、また、必要スペースが大きくなる。さらに、バネは経時的にバネ定数が変化するため、バネ長のメンテナンスを定期的に実施するという手間も発生する。
特許文献2においては、リニアモータが常に推力を出し続けなくてはならず、ドライバに対する負荷が過大で、ドライバの故障や発熱による各部材の膨張による精度低下、ストール状態でリニアモータが発生するトルクが不安定であることによる発振等のデメリットがある。また、エアーシリンダによる重力補償では、シリンダ内部とロッド/ハウジング間の摩擦抵抗があり、この摩擦抵抗が移動体を移動させるアクチュエータの速度変動や推力変動を引き起こし、精度低下を招くおそれがある。
特許文献3においては、カウンタウエイトを付加することによって大型化するうえに、全体荷重にさらに増大し、装置全体に剛性強化が必要となり、筐体や軸受等の主要パーツのコスト高にもつながる。また、カウンタウエイトに案内がないと、Z軸方向(重力方向)に動作させた際に、カウンタウエイト自体がいろいろな方向に振れてしまい、移動体の位置決めを精度よく行うことができない。そこで、特許文献4においては、カウンタウエイトのZ軸方向(重力方向)に案内を付加した構成を提案しているが、結局のところ、カウンタ方式であるため大型化、コスト高の問題は解決できない。
市販の3D形状計測器でみられる粗微動システムでは、アクチュエータが複数存在するため制御が複雑であり、精度面でも課題がある。また、部品点数が多くコスト高でもある。
本発明は、上記従来の技術の有する未解決の課題に鑑みてなされたものであり、Z軸方向に走査する計測プローブユニットの重力補償機構を小型化し、位置決めの際に加わる外乱を押さえて、高精度な3次元計測を可能にする3次元形状計測装置を提供することを目的とするものである。
上記の目的を達成するため、本発明の3次元形状測定装置は、被測定物を保持する被測定物保持手段と、前記被測定物の高さを計測する計測プローブユニットと、前記計測プローブユニットに対して、前記被測定物保持手段をX、Y軸方向に相対移動させるXYステージと、前記計測プローブユニットをZ軸方向に案内するエアースライダと、前記計測プローブユニットをZ軸方向に往復駆動するボイスコイルモータと、前記計測プローブユニットの重力を補償するための空気バネを介して、前記計測プローブユニットを支持する支持手段と、前記計測プローブユニットのZ軸方向の移動量を計測するリニアスケールと、前記空気バネの供給圧力を制御する圧力制御手段と、を有することを特徴とする。
重力方向であるZ軸方向に走査する計測プローブユニットの重力補償をするために用いる空気バネは、固有振動数が低く、従って防振効果が高く、内圧を変えるだけで広い荷重範囲に対応可能である。また、固有振動数が一定であり、しかも、エアーシリンダのようにロッド等を必要とせず、従って、摩擦抵抗もないために、コンパクトにレイアウト可能である。また、メンテナンスフリーで、重力方向のメカニカルストッパにも併用できるという特性を有するため、外乱を押さえて、計測プローブユニットの高精度な位置制御を可能とし、3次元形状計測装置の小型化、高精度化を大幅に促進することができる。加えて、安全面でもメカニカルなダンパ等の付帯機構を付加する必要がないという利点がある。
図1に示す3次元形状計測装置において、重力方向であるZ軸方向のアクチュエータとしてボイスコイルモータ1、重力補償手段として空気バネ2を用いたZステージ3に非接触計測プローブユニット(計測プローブユニット)4を搭載し、被測定物Wから反射される光を非接触計測プローブユニット4のフォトダイオードで受光し、Zステージ3のZ軸方向の位置をリニアスケール5によって検出する。Zステージ3のZ軸方向のガイドには非接触案内手段であるエアースライダ6を用いる。このように、ボイスコイルモータ1と、防振性が高く小型で、摩擦によるロスのない空気バネ2による重力補償と、エアースライダ6による案内とを組み合わせたZ軸走査機構を用いることで、3次元形状計測装置の計測精度を大幅に改善し、装置の小型化も促進できる。
図1に示す3次元形状計測装置において、アクチュエータであるボイスコイルモータ1の仕様は、定格DC48V1A、ストローク50mm、分解能0.1μmのものを選定した。
空気バネ2は、φ40mm、ストローク50mm、耐圧882kPaであり、一端をZステージ3に固定し、他端を、筐体10に支持された支持手段である固定プレート11に固定する。空気バネ2にはエアーチューブ2aを配管し、その経路に圧力計付きレギュレータ2bと、精密圧空制御弁2c等を有する圧力制御手段を配設した。非接触計測プローブユニット4を載せた移動体であるZステージ3の重さが18Kgであるため、前記圧力制御手段によって、重力補償用の空気バネ2への供給圧力を147kPaとして重力バランスを保った。
精密圧空制御弁2cは100msecごとに圧力をサンプリングし、重力バランスが崩れないように監視制御するためのものである。さらにNCタイプであり、通電OFFで供給口がクローズされ、精密圧空制御弁2cと空気バネ2間のエアーがエアーチューブ2a内に閉じ込められ、Zステージ3が重力方向に落ちても空気バネ2自体がエアーダンパ的な役割を果たし、安全装置として機能する。
停電や非常停止等で電気が切断されると、ボイスコイルモータの直動シャフトはフリーの状態となり重力方向に落下してしまう。さらに案内がエアースライダであるため、無抵抗でZステージが重力方向に落下することになってしまい、計測器の破壊等を招くため、安全装置が必要である。
3次元計測のための非接触計測プローブユニット4は、光源としてHe−Neレーザの1mW、光電変換器に高感度なアバランシェフォトダイオード、ピンホールに50μmを用いた共焦点光学系を組み込んだプローブユニットとなっている。プローブから射出されたレーザ光は作動距離24mmの位置で焦点を結ぶように設計されている。
この焦点位置で、最も光強度の高い光が、XYステージ7上の被測定物保持手段によって保持された被測定物Wから反射され、アバランシェフォトダイオードに検知され、プローブから射出されたレーザの被測定物W上での焦点位置(最も光強度の高いZ位置)に対応するプローブの位置をZステージ3と筐体10に固定されたリニアスケール5で計測することにより、被測定物Wの形状を計測する。
Zステージ3のZ軸方向の案内であるエアースライダ6は、供給圧力490kPa、供給流量15Nl/minで、真直度0.1μm以下であり、エアーチューブ6aの配管経路には精密レギュレータ6bを配設した。
ベースBに立設された筐体10の本体はアルミとして軽量化を図った。被測定物Wは、面精度λ/10のアルミ蒸着ミラー(アルミミラー)を使用した。表面からの反射率は90%以上であり、共焦点光学系を用いた3次元形状計測装置においては、被測定物からの反射光が多く、アバランシェフォトダイオードへの入射電圧が高く高精度が期待できるため、アルミミラーを用いた。
被測定物WをX、Y軸方向に走査するXYステージ7は、リニアモータとエアースライダを組み合わせて、XY位置情報はステージとベース面の位置を計測する分解能0.5μmのガラススケールを使用した。XYステージ7の供給圧力490kPa、供給流量15Nl/minで、真直度0.1μm以下であり、最小横方向分解能0.5μmピッチでX、Y軸方向に走査し、0.5μmピッチの形状を表す点群データの取得が可能である。
図2は、図1の3次元形状計測装置におけるボイスコイルモータ1の応答性を示すもので、ボイスコイルモータ1に対しての位置指令値に対して、実際の変位をリニアスケール5で読み取った値を比較したグラフである。移動ストローク200mmで移動速度1mm/sec、加減速時間8msecの条件でボイスコイルモータ1を動作させた。
このグラフからわかるように、応答性/追従性に関しては、指令値と実際の実測値との差が2μm以下で良好であった。さらにモータ発振による速度/位置偏差もみられず、また外乱の影響も受けていないことが証明された。これは空気バネ2による重力バランスが良好であるため、重力方向、反重力方向で同じモータゲインで問題がなく、外乱の影響も受けない重力補償がなされていることを示す。また、モータ容量も定格DC48V1Aで問題ないことを証明した。
図3は、図1の3次元形状計測装置によってアルミミラーの水平面を計測した結果である。計測条件は1000×1000μmのエリアをX、Y軸方向とも1μmピッチで計測した。また一点あたりの非接触計測プローブの計測用ストロークは200μmである。このグラフから、2μmの高精度で面形状が計測できたことがわかる。つまりボイスコイルモータ1を100μmオーダーで動作させた形状計測において、外乱等の影響なく計測できたことを示す。
また、Z軸アクチュエータがボイスコイルモータ1のみであるため、制御的な負荷が軽く、計測値の補正や複雑なシステムがなく、容易なロジックで計測システムが構築できるメリットもあった。加えて、シンプルな機構で部品点数が少なく小型でコンパクトな3次元形状計測装置を実現することができた。さらに安全試験として、非常停止ボタンを押し、ボイスコイルモータ1を移動方向フリーにし、移動体を重力方向に落下させたが、空気バネ2がエアーダンパの役割を果たし、装置を破壊することも、人的に危険もないことを証明した。ちなみに、一点あたりの計測に所要した時間は約0.7secであった。
本実施例では、計測時間よりもZ軸走査機構の評価がメインであったため、0.7sec/点と時間がかかっているが、ボイスコイルモータの選定や調整、移動体の軽量化等々で100Hzは期待できると推測される。
図1の3次元形状計測装置を用いて、被測定物であるアルミの平面ミラーを6度傾斜させ、ボイスコイルモータの走査ストロークをmmオーダーに設定した。
図4は、アルミミラーの水平面を6度傾けて計測した結果である。計測条件は10×10μmのエリアをX、Y軸方向とも1μmピッチで計測した。また一点あたりの非接触計測プローブの計測用ストロークは1mmであった。このグラフから、2μm以下の高精度で面形状が計測できたことがわかる。つまりボイスコイルモータをmmオーダーで動作させた形状計測において、外乱等の影響なく計測できたことを示す。
図1の3次元形状計測装置を用いて、被測定物であるアルミの平面ミラーに5mmの段差がある段差基準片を用い、段差の計測精度確認とボイスコイルモータの走査ストロークを10mmと設定して計測した。
図5は、5mmの段差を持つ面精度λ/10のアルミミラーの計測結果である。計測条件は3mm×3mmのエリアをX、Y軸方向とも200μmピッチで計測した。また一点あたりの非接触計測プローブの計測用ストロークは前述したように10mmである。このグラフから、2μm以下の高精度で段差寸法を計測し、やはり2μm以下の精度で面形状が計測できたことを示している。つまりボイスコイルモータを10mmオーダーで動作させた形状計測において、外乱等の影響なく計測できたことを示す。
本発明のZ軸走査機構は、3次元形状計測装置に限らず、重力補償を必要とする加工機、FAハンドリングマシン等に幅広く適用できる。
1 ボイスコイルモータ
2 空気バネ
3 Zステージ
4 非接触計測プローブユニット
5 リニアスケール
6 エアースライダ
7 XYステージ
10 筐体
11 固定プレート
2 空気バネ
3 Zステージ
4 非接触計測プローブユニット
5 リニアスケール
6 エアースライダ
7 XYステージ
10 筐体
11 固定プレート
Claims (2)
- 被測定物を保持する被測定物保持手段と、前記被測定物の高さを計測する計測プローブユニットと、前記計測プローブユニットに対して、前記被測定物保持手段をX、Y軸方向に相対移動させるXYステージと、前記計測プローブユニットをZ軸方向に案内するエアースライダと、前記計測プローブユニットをZ軸方向に往復駆動するボイスコイルモータと、前記計測プローブユニットの重力を補償するための空気バネを介して、前記計測プローブユニットを支持する支持手段と、前記計測プローブユニットのZ軸方向の移動量を計測するリニアスケールと、前記空気バネの供給圧力を制御する圧力制御手段と、を有する3次元形状計測装置。
- 前記支持手段が、前記ボイスコイルモータを支持することを特徴とする請求項1記載の3次元形状計測装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005112976A JP2006292527A (ja) | 2005-04-11 | 2005-04-11 | 3次元形状計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005112976A JP2006292527A (ja) | 2005-04-11 | 2005-04-11 | 3次元形状計測装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006292527A true JP2006292527A (ja) | 2006-10-26 |
Family
ID=37413253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005112976A Pending JP2006292527A (ja) | 2005-04-11 | 2005-04-11 | 3次元形状計測装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006292527A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021525366A (ja) * | 2018-05-25 | 2021-09-24 | ピーヴィエー テプラ アナリティカル システムズ ゲーエムベーハーPVA TePla Analytical Systems GmbH | 超音波顕微鏡、および音響パルストランスデューサを運ぶキャリア |
-
2005
- 2005-04-11 JP JP2005112976A patent/JP2006292527A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2021525366A (ja) * | 2018-05-25 | 2021-09-24 | ピーヴィエー テプラ アナリティカル システムズ ゲーエムベーハーPVA TePla Analytical Systems GmbH | 超音波顕微鏡、および音響パルストランスデューサを運ぶキャリア |
JP7410057B2 (ja) | 2018-05-25 | 2024-01-09 | ピーヴィエー テプラ アナリティカル システムズ ゲーエムベーハー | 超音波顕微鏡、および音響パルストランスデューサを運ぶキャリア |
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