JP2006287207A5 - - Google Patents
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- （Ａ）砥粒、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、（Ｅ）酸化剤、および（Ｆ）水を含み、
前記（Ａ）砥粒の配合量が２〜１０質量％であり、
前記（Ｂ）有機酸が、キノリンカルボン酸、キノリン酸、２価の有機酸（ただしキノリン酸を除く）、およびヒドロキシル酸からなる群から選択される少なくとも１種であり、その配合量が０．０１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項１において、
前記（Ａ）砥粒が、無機粒子、有機粒子、および有機無機複合粒子からなる群から選ばれる少なくとも１種である、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項２において、
前記（Ａ）砥粒の平均粒径が５〜１０００ｎｍである、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項２において、
前記無機粒子がシリカである、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記（Ｂ）有機酸が、キノリンカルボン酸、キノリン酸、マレイン酸、マロン酸、クエン酸、およびリンゴ酸からなる群から選択される少なくとも１種であり、その配合量が０．０５〜２質量％である、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体が、ベンゾトリアゾールであり、その配合量が０．０１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項１ないし６のいずれかにおいて、
前記（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩の平均分子量が１，０００〜１００，０００であり、その配合量が０．００１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項７において、
前記（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩が、ポリアクリル酸のアンモニウム塩であり、その配合量が０．０１〜２質量％である、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記（Ｅ）酸化剤が過酸化水素であり、その配合量が０．０１〜５質量％である、化学機械研磨用水系分散体。 - 請求項１ないし９のいずれかにおいて、
ｐＨが１〜５である、化学機械研磨用水系分散体。 - 液（I）および液（II）を混合して、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットであって、
前記液（I）は、（Ａ）砥粒、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、および（Ｆ）水を含み、該（Ａ）砥粒の配合量が２〜１０質量％である水系分散体であり、
前記液（II）は、（Ｅ）酸化剤および（Ｆ）水を含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。 - 液（I）および液（II）を混合して、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットであって、
前記液（I）は、（Ａ）砥粒および（Ｆ）水を含む水系分散体であり、
前記液（II）は、（Ｂ）有機酸および（Ｆ）水を含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。 - 液（I）、液（II）、および液（III）を混合して、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキットであって、
前記液（I）は、（Ａ）砥粒および（Ｆ）水を含む水系分散体であり、
前記液（II）は、（Ｂ）有機酸および（Ｆ）水を含み、
前記液（III）は、（Ｅ）酸化剤および（Ｆ）水を含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。 - 請求項１２または１３において、
前記液（I）は、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、および（Ｅ）酸化剤から選ばれる１種類以上の成分をさらに含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。 - 請求項１２ないし１４のいずれかにおいて、
前記液（II）は、（Ａ）砥粒、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、および（Ｅ）酸化剤から選ばれる１種類以上の成分をさらに含む、化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット。 - 銅膜、バリアメタル膜および絶縁膜を、同一の条件においてそれぞれ化学機械研磨した場合に、銅膜の研磨速度ＲＣｕとバリアメタル膜の研磨速度ＲＢＭの比ＲＣｕ／ＲＢＭが５０以上であり、かつ、銅膜の研磨速度ＲＣｕと絶縁膜の研磨速度ＲＩｎの比ＲＣｕ／ＲＩｎが５０以上である化学機械研磨用水系分散体を使用して被研磨体を化学機械研磨した後、請求項１ないし１０のいずれかに記載の化学機械研磨用水系分散体を使用して該被研磨体を化学機械研磨することを含む、化学機械研磨方法。
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