JP2006284930A - 基板処理装置及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 膜の膜厚ムラを無くすことのできる基板処理装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 素子基板１９上に液状組成物を塗布した後に、表示領域５上の外周に形成された画素電極１３を囲むようにして配置された第１の部材３１と該第１の部材３１で囲まれた内部に、各画素電極１３の間を仕切るようにして升の目状に配置された第２の部材３２を備えた整流板３０を載置した。そして、素子基板１９を加熱させて、塗布された液状組成物中の溶媒を溶媒気体として蒸発させるようにした。
【選択図】 図３

Description

本発明は、基板処理装置及び電気光学装置の製造方法に関するものである。

近年、液晶ディスプレイに替わるフラットパネルディスプレイとして有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、「有機ＥＬディスプレイ」という）が注目されている。有機ＥＬディスプレイは、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という）を発光素子として使用した自発発光型ディスプレイであるので、液晶ディスプレイのようにバックライトを使用しないため低消費電力化が図れる等の利点が挙げられる。

この種の有機ＥＬディスプレイにおける発光層や正孔輸送層といった機能層としては、一般に高分子系有機材料と低分子系有機材料とに分類されており、その中でも高分子系材料については、所定の溶媒に溶解または分散させて液滴化し、それを液滴吐出ヘッドのノズルから吐出して基板上に塗布する液滴吐出法が提案されている。この方法では、基板上に液状組成物を塗布した後、加熱処理を施すことで液状組成物中の溶媒を蒸発させて前記有機材料から成る機能層（発光層や正孔輸送層等）を成膜化する。この液滴吐出法によると、液滴の直径をμｍオーダーにまでにすることができるので、機能層の高精細パターニングが可能である。

しかし、前記液滴吐出法では、基板上に塗布された液状組成物の蒸発が極めて速く、また、基板上の塗布領域の周囲では、基板中央の領域に塗布された液状組成物から蒸発した溶媒分子分圧が低いため、一般的に速く乾きはじめる。また、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子によるアクティブ駆動を行う場合、ＴＦＴ素子領域や、配線等の形状、配置の関係上、画素配置がＸ，Ｙ方向ともに等間隔ではない場合があり、各画素上に塗布された液状組成物の周囲で局所的な蒸発溶媒分子分圧に差が生じる。このような画素上に塗布された有機材料液体の乾燥時間の差は、画素内、画素間での機能層の膜厚ムラを引き起こす。このような膜厚ムラは、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの原因となってしまう。

そこで、表示領域の周囲に表示画素と同じ形状、同ピッチの表示には寄与しない、所謂ダミー画素を設けることで塗布領域を広げ、表示領域の周辺にも有機材料液体を塗布することで、表示領域内の溶媒分子分圧を均一にすることが提案されている（特許文献１）。
特開平１１−５４２７０号公報

しかしながら、上記したような方法を採用しても、画素内、画素間での機能層の膜厚ムラを十分に抑制することができないという問題があった。この原因としては、真空乾燥処理時において、基板の横方向に沿った気流が発生するが、この気流によって、基板上の任意の位置での液状組成物の乾燥状態が、他の位置での液状組成物の乾燥状態によって影響されてしまうということが挙げられる。これにより、画素間において形成される膜の形状や膜厚のばらつきが発生してしまう。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、膜の膜厚ムラを無くすことのできる基板処理装置及び電気光学装置の製造方法を提供することにある。

本発明の基板処理装置は、膜を形成する膜材料を溶媒中に溶解または分散して形成された液状組成物が塗布された基板上の塗布領域を囲む整流板を備え、前記液状組成物の溶媒を除去する。

これによれば、隔壁によって液状組成物が塗布された領域から除去された溶媒気体は、基板に対して横方向に流れる気流による干渉を受けない。従って、塗布領域内における溶媒の分子分圧は均一になるので、形成される膜は、塗布領域内において均一となる。また、従来のように、表示に寄与しない画素、所謂ダミー画素を形成する必要もなくなるので、基板の挟額縁化を図ることができる。

この基板処理装置において、前記基板は、前記塗布領域に複数の画素電極をマトリクス状に備え、前記整流板は、前記複数の画素電極の各々を仕切るようにして配置されていてもよい。

これによれば、塗布された液状組成物は隔壁によって画素電極毎に仕切られるで、隣接する画素電極上に塗布された液状組成物中の溶媒気体の気流による干渉を受けない。この結果、膜の膜厚は、画素電極毎にばらつきのないものになる。

この基板処理装置において、前記基板は、前記塗布領域に複数の画素電極をマトリクス状に備え、前記液状組成物は、前記画素電極に供給される電気信号によって赤色の光を出射する発光材料を含んだ赤用液状組成物、緑色の光を出射する発光材料を含んだ緑用液状組成物、青色の光を出射する発光材料を含んだ青用液状組成物であり、前記塗布領域は、前記赤用液状組成物が塗布される第１の塗布領域、前記緑用液状組成物が塗布される第２の塗布領域、前記青用液状組成物が塗布される第３の塗布領域に区分され、前記整流板は、前記第１の塗布領域、前記第２の塗布領域、前記第３の塗布領域を仕切るように配置されていてもよい。

これによれば、赤、緑及び青色の光を出射する発光材料が形成される基板において、その各色の液状組成物毎に独立して溶媒が除去される。そして、各画素電極ごとに隔壁を設ける必要はないので、基板処理装置の構造を簡素にすることができる。

この基板処理装置において、前記赤色の光を出射する発光材料を含んだ赤用液状組成物が塗布されて形成される赤用発光領域、前記緑色の光を出射する発光材料を含んだ緑用液状組成物が塗布されて形成される緑用発光領域、前記青色の光を出射する発光材料を含んだ青用液状組成物が塗布されて形成される青用発光領域のうちの少なくともいずれかは、大きさが異なっており、前記整流板は、前記赤用発光領域、前記緑用発光領域、前記青用発光領域をそれぞれ仕切るようにして配置されていてもよい。

これによれば、各画素の発光領域が異なった場合においても、その発光領域の大きさによる乾燥ムラが抑制される。
この基板処理装置において、前記整流板は、金属で構成されていてもよい。

これによれば、例えば、隔壁をステンレス鋼で構成することで、基板処理装置の剛性が向上する。従って、基板上に載置したり、取り外したりする際の基板処理装置の操作性を良くなる。

この基板処理装置において、前記液状組成物の溶媒は、減圧乾燥法或いは加熱乾燥法によって除去されてもよい。
これによれば、溶媒を減圧乾燥法或いは加熱乾燥法によって除去する場合においても、
各画素電極上に形成される膜は均一になる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に、機能材料からなる機能層を備えた複数の発光素子を備えた電気光学装置の製造方法において、前記基板上に前記機能材料を溶媒に溶解または分散した液状組成物を吐出する液状組成物吐出工程と、前記記基板上に前記液状組成物が吐出されて塗布された塗布領域に、該塗布領域を隔壁によって囲み、前記溶媒を除去する溶媒除去工程とを備えている。

これによれば、隔壁によって液状組成物が塗布された領域から除去された溶媒気体は、基板に対して横方向に流れる気流による干渉を受けない。従って、塗布領域内における溶媒の分子分圧は均一になるので、形成される膜は、塗布領域内において均一となる。また、従来のように、表示に寄与しない画素、所謂ダミー画素を形成する必要もなくなるので、基板の挟額縁化を図ることができる。

この電気光学装置の製造方法において、前記液状組成物吐出工程は、前記液状組成物として赤色の光を出射する発光材料を含んだ赤用液状組成物、緑色の光を出射する発光材料を含んだ緑用液状組成物、青色の光を出射する発光材料を含んだ青用液状組成物を、それぞれ吐出し、前記溶媒除去工程は、前記赤用液状組成物が塗布される第１の塗布領域、前記緑用液状組成物が塗布される第２の塗布領域、前記青用液状組成物が塗布される第３の塗布領域に区分し、前記第１の塗布領域、前記第２の塗布領域、前記第３の塗布領域毎に隔壁によって囲み、前記溶媒を除去するようにしてもよい。

これによれば、赤、緑及び青色の光を出射する発光材料が形成される基板において、その各色の液状組成物毎に独立して溶媒が除去される。
この電気光学装置の製造方法において、前記溶媒除去工程は、前記基板を減圧下に晒すことで行われるようにしてもよい。

これによれば、溶媒は、液状体が塗布された基板を減圧雰囲気中に配置することで、除去される。従って、各画素電極上には機能材料で構成された層が形成される。
この電気光学装置の製造方法において、前記溶媒除去工程は、前記基板を加熱することで行われるようにしてもよい。

これによれば、溶媒は、液状体が塗布された基板を加熱することで除去される。従って、各画素電極上には機能材料で構成された層が形成される。

（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した一実施形態について図面に従って説明する。
まず、電気光学装置の一例である有機ＥＬディスプレイについて説明する。

図１は、本発明の基板処理装置を使用して製造された有機ＥＬディスプレイの正面図である。
図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、ディスプレイ部２と、該ディスプレイ部２の下側部（図１中Ｙ矢印方向）に接続されたフレキシブル回路基板３とから構成されている。

ディスプレイ部２は、基板４を備えている。基板４は、本実施形態では、ガラス板で構成されている。基板４は、その中央に略四角形状の塗布領域である表示領域５を備えている。基板４上であって、表示領域５以外の領域（以下、「非表示領域」という）６には、一対の走査線駆動回路７等が形成されている。

表示領域５には、行方向（図１中Ｘ矢印方向）にｍ個の画素８が、また、列方向（図１中Ｙ矢印方向）にｎ個の画素８が、それぞれ等ピッチで形成されている。つまり、表示領域５には、ｍ×ｎ個の画素８がマトリクス状に形成されている。各画素８には、赤色用有機ＥＬ素子９Ｒ、緑色用有機ＥＬ素子９Ｇ及び青色用有機ＥＬ素子９Ｂが含まれている。そして、行方向に沿っては、赤色用有機ＥＬ素子９Ｒ→緑色用有機ＥＬ素子９Ｇ→青色用有機ＥＬ素子９Ｂ→赤色用有機ＥＬ素子９Ｒ→緑色用有機ＥＬ素子９Ｇ→…→青色用有機ＥＬ素子９Ｂの順に繰り返して配置されている。また、Ｙ矢印方向（列方向）に沿っては、同色の有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂが配置されている。

図２は、有機ＥＬディスプレイ１の図１中ａ−ａ線断面図である。
図２に示すように、各色用有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂは、基板４上に形成された回路形成層４ａ上に形成されている。この回路形成層４ａは、各色用有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂに駆動電力を供給する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１０といった各種回路素子や前記走査線駆動回路７等（図１参照）を構成する回路素子の一部または全部が形成された層である。回路形成層４ａ上の表示領域５に対応した領域には、各画素８をマトリクス状に区画するバンク（隔壁）１１が形成されている。

バンク１１は、回路形成層４ａ上に形成された親液性バンク１１ａと、該親液性バンク１１ａ上に形成された撥液性バンク１１ｂとから構成されている。親液性バンク１１ａは、元来、親液性を備えた材料であって、例えば、酸化珪素（ＳｉＯ_２）で構成されたものである。また、親液性を備えていないものであっても、通常用いられる公知の親液化処理を施すことで表面を親液化したものであってもよい。一方、撥液性バンク１１ｂは、元来、撥液性を備えた材料、例えば、フッ素系樹脂で構成されたものであってもよい。また、撥液性を備えていないものであっても、通常用いられるアクリル樹脂やポリイミド樹脂等の有機樹脂をパターン形成し、ＣＦ₄プラズマ処理等により表面を撥液化したものであっ
てもよい。

そして、図２に示すように、バンク１１によって区画形成された各凹状領域１２の底部には、画素電極１３が形成されている。各画素電極１３上には、本実施形態においては、正孔輸送層１４、発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの順に積層されてなる機能層１６が形成されている。各画素電極１３は、対応する薄膜トランジスタ１０とコンタクトホールＨを介して電気的に接続されている。各発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂは、それぞれ有機発光材料で構成されている。発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂのうち、発光層１５Ｒは、赤色の光を出射する発光層であり、発光層１５Ｇは、緑色の光を出射する発光層であり、発光層１５Ｂは、青色の光を出射する発光層である。

各バンク１１及び発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ上全面に渡って陰極１７が形成されている。この陰極１７は、非表示領域６の一部を覆うように形成されている。また、回路形成層４ａの外周縁部には陰極１７全面を覆うように封止部材１８が形成されている。そして、前記した画素電極１３、正孔輸送層１４、赤用発光層１５Ｒ及び陰極１７が積層されて図１に示した赤色用有機ＥＬ素子９Ｒが構成される。また、画素電極１３、正孔輸送層１４、緑用発光層１５Ｇ及び陰極１７が積層されて緑色用有機ＥＬ素子９Ｇが構成される。同様に、画素電極１３、正孔輸送層１４、青用発光層１５Ｒ及び陰極１７が積層されて青色用有機ＥＬ素子９Ｂが構成される。

このような構成を有する有機ＥＬディスプレイ１は、図２に示すように、その各正孔輸送層１４が対応する画素電極１３上全面に密着して形成されている。これは、図示しない他の正孔輸送層１４においても同様であり、対応する各画素電極１３上全面に渡って密着して形成されている。また、各正孔輸送層１４上に形成される発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１
５Ｂは、対応する正孔輸送層１４上全面に渡って密着して形成されている。これは、図示しない他の発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂにおいても同様であり、対応する各正孔輸送層１４上全面に渡って密着して形成されている。さらに、各正孔輸送層１４及び発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの膜厚は、各凹状領域１２内において均一である。さらにまた、各正孔輸送層１４及び発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの膜厚は、全ての凹状領域１２間においても均一である。

尚、説明の便宜上、基板４上に、回路形成層４ａ、バンク１１（凹状領域１２）及び画素電極１３が形成されたものを素子基板１９という。
また、図１に示すように、一対の走査線駆動回路７は、非表示領域６には表示領域５を挟むようにして配置されている。各走査線駆動回路７は、前記したマトリクス状に配置された画素８のうちの所望の１行の画素８群を選択する走査信号を出力する。

一方、フレキシブル回路基板３上には、データ線駆動回路２０と制御回路２１とが形成されている。データ線駆動回路２０は、前記走査線駆動回路７が出力した走査信号によって選択された行の画素５群に対して、その各色用有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂの発光輝度を決定する電気信号を出力する。これにより、画素電極１３には、電気信号が供給される。制御回路２１は、各走査線駆動回路７及びデータ線駆動回路２０の駆動を制御するための各種制御信号を生成し、その生成した制御信号を各駆動回路７，２０にそれぞれ出力する。

次に、有機ＥＬディスプレイ１の機能層１６を形成する際に用いられる基板処理装置としての整流板について図３及び図４に従って説明する。
図３は、整流板の全体斜視図であり、図４は、その上面図である。

図３に示すように、整流板３０は、表示領域５上の外周に形成された画素電極１３（１３ａ）を囲むようにして配置された第１の部材３１を備えている。ここで、表示領域５は略四角形状であるので、第１の部材３１は、略直方形状を成している。また、第１の部材３１の高さｄは、画素電極１３の縦・横の各辺の長さに比べて十分に長くなるように形成されている。

また、図４に示すように、整流板３０は、その第１の部材３１で囲まれた内部を升の目状に仕切る長い板状の複数の第２の部材３２を備えている。第２の部材３２は、基板４上にマトリクス状に配置されたｍ×ｎ個の各画素電極１３の間を仕切るようにして配置されている。即ち、第１の部材３１を表示領域５上の外周囲に形成された画素電極１３に沿って載置したとき、表示領域５内に形成された各画素電極１３と同じピッチでＸ，Ｙ矢印方向に沿うように第２の部材３２が配置される。また、第２の部材３２の高さは、第１の部材３１の高さｄと同じである。さらに、第１及び第２の部材３１，３２は、本実施形態においては、所定の厚みを有したステンレス鋼で構成されている。従って、整流板３０は、適当な剛性を有している。

次に、図５〜図８に従って有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を説明する。有機ＥＬディスプレイ１は、整流板３０を使用して機能層１６を形成するようにしたものであって、同機能層１６以外の各膜は、公知の方法によって形成されるものである。従って、機能層１６以外の各膜の形成方法は、その説明を省略する。

まず、図５（ａ）に示すように、正孔輸送層１４を構成する膜材料または機能材料としての正孔輸送層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｐを吐出する液滴吐出ヘッド４０を選択する。この液滴吐出ヘッド４０は、図５中Ｘ矢印方向に沿って延設されたガイドレール４１に支持されてＸ矢印方向または反Ｘ矢印方向（走査方向）に移動可能で
ある。

そして、液滴吐出ヘッド４０の位置をガイドレール４１に沿って調整して、該ヘッド４０のノズル４０ａが、素子基板１９の所定の画素電極１３（例えば１行目、１列目の画素電極１３）と対向する位置に合わせる。この状態で、図５（ａ）に示すように、ノズル４０ａから液滴化した液状組成物Ｌｐを吐出して対向する画素電極１３上に塗布する（液状組成物吐出工程）。すると、バンク１１の親液性バンク１１ａに接触することによって画素電極１３上全面に液状組成物Ｌｐが濡れ広がる。また、撥液性バンク１１ｂによって隣接した他の画素電極１３上には液状組成物Ｌｐが濡れ広がることはない。

続いて、図５（ｂ）に示すように、液滴吐出ヘッド４０をＸ矢印方向に沿って各画素ピッチずつ移動させながら、ノズル４０ａから液滴化した液状組成物Ｌｐを吐出して、１行分のｍ個の画素電極１３上に液状組成物Ｌｐを塗布する。

その後、他の行の画素電極１３上にも前記と同様にして、液状組成物Ｌｐを順次塗布することで素子基板１９上にある全ての画素電極１３上に液状組成物Ｌｐを塗布する（図５（ｃ）参照）。

次に、素子基板１９上に前記した整流板３０を載置する。このとき、第１の部材３１を表示領域５上の外周囲に形成された画素電極１３に沿うように載置する。すると、図６（ａ）に示すように、画素電極１３上に塗布された液状組成物Ｌｐが第２の部材３２によって隣接する他の画素電極１３上に塗布された液状組成物Ｌｐと仕切られる。そして、この状態で、加熱乾燥法によって溶媒を除去する。詳しくは、素子基板１９を、たとえば、ホットプレートを使用して加熱する。すると、塗布された液状組成物Ｌｐ中の溶媒が気化して溶媒気体として蒸発することで、液状組成物Ｌｐ中から溶媒が除去される（溶媒除去工程）。

このとき、溶媒気体は、第２の部材３２に沿って上方向に蒸発していく。従って、所定の画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、第２の部材３２によって、隣接する他の画素電極１３上から蒸発した溶媒気体による気流による干渉を受けることはない。また、第１の部材３１によって表示領域５上の外周囲に形成された画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、表示領域５の外周にある気体の気流による干渉を受けることはない。つまり、各画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、基板４に対して横方向に流れる気流による干渉を受けない。この結果、表示領域５内における溶媒の分子分圧が均一になる。

すると、図６（ｂ）に示すように、各画素電極１３上に正孔輸送層１４が形成される。この形成された各正孔輸送層１４の膜厚は、各画素電極１３内において均一になる。
その後、素子基板１９上から整流板３０を取り外す。続いて、膜材料または機能材料である赤用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｒを吐出する液滴吐出ヘッドを選択する。その後、膜材料または機能材料である緑用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｇを吐出する液滴吐出ヘッド、膜材料または機能材料である青用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｂを吐出する液滴吐出ヘッドを選択する。そして、図７（ａ）に示すように、各液滴吐出ヘッドのノズルから液滴化した液状組成物Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂを吐出して先に形成した各正孔輸送層１４上に塗布する。

その後、再び、素子基板１９上に、第１の部材３１を表示領域５上の外周囲に形成された画素電極１３に沿うように整流板３０を載置する。すると、図７（ｂ）に示すように、塗布された液状組成物Ｌｐが第２の部材３２によって各画素電極１３毎に仕切られる。そして、この状態で、素子基板１９を、たとえば、ホットプレートを使用して加熱する。すると、塗布された液状組成物Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂ中の溶媒が溶媒気体として蒸発することで
、液状組成物Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂから溶媒が除去される。このとき、溶媒気体は、第２の部材３２に沿って上方向に蒸発していく。従って、所定の画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、第２の部材３２によって、隣接する他の画素電極１３上から蒸発した溶媒気体による気流による干渉を受けない。また、第１の部材３１によって表示領域５上の外周囲に形成された画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、表示領域５の外周にある気体の気流による干渉を受けない。つまり、各画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、基板４に対して横方向に流れる気流による干渉を受けない。この結果、表示領域５内における溶媒の分子分圧が均一になる。

すると、図７（ｃ）に示すように、対応する正孔輸送層１４上に、赤、緑及び青用発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが形成される。そして、この形成された各赤、緑及び青用発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの膜厚は、各画素電極１３において均一になる。

その後、バンク１１と各発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂとの上に、ＬｉＦ層、Ｃａ層、Ａｌ層等を蒸着方法等により積層し、陰極１７を形成する。その後、封止部材１８によりディスプレイ部２を封止する。さらに、ディスプレイ部２と、別途製造されたフレキシブル回路基板３とを接続して、有機ＥＬディスプレイ１が製造される。

上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、素子基板１９上に液状組成物Ｌｐを塗布した後に、表示領域５上の外周に形成された画素電極１３を囲むようにして配置された第１の部材３１と該第１の部材３１で囲まれた内部に、各画素電極１３の間を仕切るように配置された第２の部材３２を備えた整流板３０を載置した。そして、素子基板１９を加熱させて、塗布された液状組成物Ｌｐ中の溶媒を溶媒気体として蒸発させるようにした。

従って、各画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、第１及び第２の部材３１，３２によって基板４に対して横方向に流れる気流による干渉を受けない。この結果、表示領域５内における溶媒の分子分圧が均一になるため、各正孔輸送層１４の膜厚は、画素電極１３毎にばらつきのないものになる。従って、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの無い表示品位の優れた有機ＥＬディスプレイ１を製造することができる。また、従来のように、表示に寄与しない画素、所謂ダミー画素を形成する必要もなくなるので、基板４の挟額縁化を図ることができる。
（２）さらに、本実施形態によれば、各正孔輸送層１４上に赤用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｒ、緑用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｇ、青用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｂをそれぞれ塗布した後に、整流板３０を使用して各液状組成物中の溶媒を除去するようにした。従って、表示領域５内における溶媒の分子分圧が均一になるため、各赤、緑及び青用発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの膜厚は、画素電極１３毎にばらつきのないものになる。従って、輝度ムラ、発光色ムラ等の表示ムラの無い表示品位の優れた有機ＥＬディスプレイ１を製造することができる。
（３）本実施形態によれば、整流板３０は、所定の厚みを有したステンレス鋼で構成した。この結果、整流板３０は、適当な剛性を有しているので、整流板３０を素子基板１９上に載置したり、取り外したりする際の操作性を向上させることができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を図８に従って説明する。この第２実施形態においては、上記第１実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。

図６は、第２実施形態の整流板５０の斜視図である。図６に示すように、整流板５０は、上記第１実施形態と同様に、表示領域５上の外周に形成された画素電極１３を囲むよう
にして配置された第１の部材３１を備えているが、その内部には、基板４上に列方向（図１中Ｙ矢印方向）に沿って配置されたｍ枚の第３の部材５１のみが配置されている。従って、素子基板１９上に、第１の部材３１を表示領域５上の外周囲に形成された画素電極１３に沿うように整流板５０を載置すると、第３の部材５１によって同色の有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂが配置される画素電極１３毎に仕切られる。つまり、赤色の有機ＥＬ素子９Ｒの画素電極１３が形成された列方向の基板４上の第１の塗布領域Ｇ１、緑色の有機ＥＬ素子９Ｇの画素電極１３が形成された列方向の基板４上の第２の塗布領域Ｇ２、青色の有機ＥＬ素子９Ｂの画素電極１３が形成された列方向の基板４上の第３の塗布領域Ｇ３に区分される。そして、第３の部材５１によって、隣接する塗布領域Ｇ１〜Ｇ３が仕切られる。

従って、赤用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｒ、緑用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｇ、青用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｂ毎に、独立してその溶媒が除去される。この結果、所定の色用発光層材料が含まれた液状組成物中の溶媒から蒸発した溶媒気体は、隣接した他の色用発光層材料が含まれた液状組成物中の溶媒から蒸発した溶媒気体による干渉を受けない。

上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、表示領域５上の外周に形成された画素８を囲むようにして配置された第１の部材３１と、同色の有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂが配置される画素電極１３毎を仕切る第３の部材５１とを備えた整流板５０を使用して、素子基板１９上に塗布された各液状組成物Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂ中の溶媒を除去するようにした。従って、赤用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｒ、緑用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｇ、青用発光層材料が溶媒中に溶解または分散した液状組成物Ｌｂ毎に、独立してその溶媒が除去される。このとき、同じ種類の液状組成物であればその溶媒分子分圧に影響が生じない場合、各赤、緑及び青用発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの膜厚のばらつきを抑えることができる。従って、整流板の構成をより簡素なものにすることができる。
（第３実施形態）
次に、本発明を具体化した第３実施形態を図９に従って説明する。この第３実施形態においては、上記第１実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。

図９は、第３実施形態の整流板６０の斜視図である。図９に示すように、整流板６０は、表示領域５上の外周に形成された画素電極１３を囲むようにして配置された第１の部材３１のみを備えている。従って、表示領域５上の外周囲に形成された画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、表示領域５の外周にある気体の気流による干渉を受けない。

上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、表示領域５上の外周に形成された画素電極１３を囲むようにして配置された第１の部材３１のみを備えた整流板６０を使用して、素子基板１９上に塗布された各液状組成物Ｌ，Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂ中の溶媒を除去するようにした。従って、表示領域５上の外周に形成された画素電極１３上から蒸発した溶媒気体は、表示領域５の外周にある気体の気流による干渉を受けない。従って、表示領域５をその外周と仕切ることでその溶媒分子分圧に影響が生じない場合、各正孔輸送層１４、赤、緑及び青用発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの膜厚のばらつきを抑えることができる。従って、整流板の構成を上記第１実施形態の整流板３０に比べてより簡素なものにすることができる。
（第４実施形態）
次に、本発明を具体化した第４実施形態を図１０に従って説明する。この第４実施形態においては、第４実施形態では、素子基板が上記第１実施形態の素子基板と異なっている
他は全て同じである。従って、上記第１実施形態と同じ構成部材についてはその符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。

図１０は、第４実施形態に係る素子基板１９Ａに整流板３０を配置して溶媒を除去する際の説明図であり、（ａ）は上面図、（ｂ）は断面図である。
図１０（ａ）に示すように、第４実施形態の素子基板１９Ａは、赤用発光領域としての各赤用画素９Ｒの発光領域（発光層１５Ｒの面積）が緑用発光領域としての緑用画素９Ｇの発光領域（発光層１５Ｇの面積）及び青用発光領域としての青用画素９Ｂの発光領域（発光層１５Ｂの面積）に比べて小さくなっている。また、緑用画素９Ｇの発光領域（発光層１５Ｇの面積）は、青用画素９Ｂの発光領域（発光層１５Ｂの面積）にほぼ等しくなっている。これは、例えば、赤用画素９Ｒを構成する液状組成物Ｌｒの発光効率が、緑用画素９Ｇを構成する液状組成物Ｌｇ及び青用画素９Ｂを構成する液状組成物Ｌｂに比べて低い発光材料を使用した場合に、その発光材料の発光効率の差に合わせて各色の発光領域の大きさをパネル全体での色ムラが生じないように調整する。

このように、発光領域の大きさが色毎に異なる場合においても、図１０（ｂ）に示すように、その各画素９Ｒ，９Ｇ，９Ｂを囲むように各バンク１１上に、第１及び第２の部材３１，３２を備えた整流板３０を載置して、溶媒を除去するようにする。

上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）本実施形態によれば、各赤用画素９Ｒの発光領域（発光層１５Ｒの面積）が緑用画素９Ｇの発光領域（発光層１５Ｇの面積）及び青用画素９Ｂの発光領域（発光層１５Ｂの面積）に比べて小さい素子基板１９Ａにおいて、各画素９Ｒ，９Ｇ，９Ｂを囲むように第１及び第２の部材３１，３２を備えた整流板７０を使用して溶媒を除去するようにした。

一般的に、発光領域が小さい方が発光領域が大きいものに比べて乾燥が速くなるため、隣接する発光領域で小さい発光領域を有した画素と隣接した側の方の乾燥が速くなり、そちら側の膜厚が厚くなる。このように、隣接する画素９，９Ｇ，９Ｂ間で、その発光領域の大きさが異なることによって乾燥速度が異なる場合においても、赤、緑及び青用発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの膜厚のばらつきを抑えることができる。

尚、発明の実施形態は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
○上記各実施形態では、膜として有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂを構成する正孔輸送層１４、発光層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに適応したが、これに限定されるものではない。要は、電気光学素子の製造工程の一部において、電気光学素子を構成する膜を形成する際に、液状体を塗布して乾燥させるような工程を含んでいるものであれば、どんなものであってもよい。

○上記各実施形態では、整流板３０，５０，６０，７０は、ステンレス鋼で構成されていたが、特に、これに限定されるものではない。例えば、樹脂で構成されていてもよい。
○上記各実施形態では、素子基板１９を加熱して溶媒を除去するようにした。これを、そうではなく、素子基板１９を減圧下に晒すことで溶媒を除去するようにしてもよい。このようにすることでも、上記と同様な効果を得ることができる。

○上記実施形態では、電気光学装置として、有機ＥＬ素子９Ｒ，９Ｇ，９Ｂを備えた有機ＥＬディスプレイ１に具体化して好適な効果を得たが、有機ＥＬディスプレイ以外の例えばデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を用いたディスプレイ、電子放出素子を用いたディスプレイ（ＦＥＤ）やＳＥＤ（Ｓｕｒｆａｃｅ−Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−Ｅｍｉｔｔｅｒ Ｄｉｓｐｌａｙ）に具体化してもよい。また。電子写真
装置の光ヘッド（光プリンタのヘッドやデジタルラボのヘッド）に使用してもよい。

有機ＥＬディスプレイの正面図。 有機ＥＬディスプレイの断面図。 整流板の全体斜視図。 整流板の上面図。 （ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を説明するための図。 同じく、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。 同じく、（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図。 第２実施形態に係る整流板の斜視図。 第３実施形態に係る整流板の斜視図。 第４実施形態に係る素子基板に整流板を配置して溶媒を除去する際の説明図であり、（ａ）は上面図、（ｂ）は断面図である。

符号の説明

Ｇ１…第１の塗布領域、Ｇ２…第２の塗布領域、Ｇ３…第３の塗布領域、Ｌｐ，Ｌｒ，Ｌｇ，Ｌｂ…液状組成物としての赤，緑及び青用液状組成物、４…基板、５…塗布領域としての表示領域、１３…画素電極、１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ…膜及び機能層としての赤用発光層、緑用発光層、青用発光層、３０…基板処理装置としての整流板。

Claims (10)

1. 膜を形成する膜材料を溶媒中に溶解または分散して形成された液状組成物が塗布された基板上の塗布領域を囲む整流板を備え、前記液状組成物の溶媒を除去することを特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記基板は、前記塗布領域に複数の画素電極をマトリクス状に備え、
   前記整流板は、前記複数の画素電極の各々を仕切るようにして配置されていることを特徴とする基板処理装置。
3. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記基板は、前記塗布領域に複数の画素電極をマトリクス状に備え、
   前記液状組成物は、前記画素電極に供給される電気信号によって赤色の光を出射する発光材料を含んだ赤用液状組成物、緑色の光を出射する発光材料を含んだ緑用液状組成物、青色の光を出射する発光材料を含んだ青用液状組成物であり、
   前記塗布領域は、前記赤用液状組成物が塗布される第１の塗布領域、前記緑用液状組成物が塗布される第２の塗布領域、前記青用液状組成物が塗布される第３の塗布領域に区分され、
   前記整流板は、前記第１の塗布領域、前記第２の塗布領域、前記第３の塗布領域を仕切るように配置されていることを特徴とする基板処理装置。
4. 請求項３に記載の基板処理装置において、
   前記赤色の光を出射する発光材料を含んだ赤用液状組成物が塗布されて形成される赤用発光領域、前記緑色の光を出射する発光材料を含んだ緑用液状組成物が塗布されて形成される緑用発光領域、前記青色の光を出射する発光材料を含んだ青用液状組成物が塗布されて形成される青用発光領域のうちの少なくともいずれかは、大きさが異なっており、
   前記整流板は、前記赤用発光領域、前記緑用発光領域、前記青用発光領域をそれぞれ仕切るようにして配置されていることを特徴とする基板処理装置。
5. 請求項１乃至４のいずれか一つに記載の基板処理装置において、
   前記整流板は、金属で構成されていることを特徴する基板処理装置。
6. 請求項１乃至５のいずれか一つに記載の基板処理装置において、
   前記液状組成物の溶媒は、減圧乾燥法或いは加熱乾燥法によって除去されることを特徴とする基板処理装置。
7. 基板上に、機能材料からなる機能層を備えた複数の発光素子を備えた電気光学装置の製造方法において、
   前記基板上に前記機能材料を溶媒に溶解または分散した液状組成物を吐出する液状組成物吐出工程と、
   前記基板上に前記液状組成物が吐出されて塗布された塗布領域に、該塗布領域を隔壁によって囲み、前記溶媒を除去する溶媒除去工程と
   を備えていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
8. 請求項７に記載の電気光学装置の製造方法において、
   前記液状組成物吐出工程は、前記液状組成物として赤色の光を出射する発光材料を含んだ赤用液状組成物、緑色の光を出射する発光材料を含んだ緑用液状組成物、青色の光を出射する発光材料を含んだ青用液状組成物を、それぞれ吐出し、
   前記溶媒除去工程は、前記赤用液状組成物が塗布される第１の塗布領域、前記緑用液状
   組成物が塗布される第２の塗布領域、前記青用液状組成物が塗布される第３の塗布領域に区分し、前記第１の塗布領域、前記第２の塗布領域、前記第３の塗布領域毎に隔壁によって囲み、前記溶媒を除去することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
9. 請求項７または８に記載の電気光学装置の製造方法において、
   前記溶媒除去工程は、前記基板を減圧下に晒すことで行われるようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
10. 請求項７または８に記載の電気光学装置の製造方法において、
    前記溶媒除去工程は、前記基板を加熱することで行われるようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

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