JP2006284345A - ガスクロマトグラフ用試料導入装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】温度ムラが少なく、昇温時の追従性を損なうこともなく、しかも空冷方式との併用も可能な冷媒による冷却方式を用いたGC用試料導入装置を提供する。
【解決手段】複数の冷媒噴射口52を試料気化室1に近接して配設し、これに接続する冷媒供給手段を備えてGC用試料導入装置を構成する。このように構成することにより、複数の冷媒噴射口52から広範囲に冷媒を吹き付けるので温度ムラの問題が解消され、また、この冷媒噴射口52は試料気化室1に接触しないから、試料気化室1の昇温特性に悪影響を与えることもなく、さらに、冷却風の流れを遮らない構造であるから、冷却ファン7による空冷方式との併用も可能となる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、ガスクロマトグラフまたはガスクロマトグラフを含む複合分析装置(以下、これらを一括して単にガスクロマトグラフと呼び、GCと略記する)における試料導入装置に関する。
一般にGCでは、溶媒に溶かした液状の試料を溶媒の沸点以上の温度に保った試料気化室に注入し、ここで気化した試料をカラムに送り込んで分析する場合が多い。しかし、農薬など熱的に分解しやすい試料を分析する場合は、低温の試料気化室内に挿入されたカラムの頂部に液体試料を注入し、その後、温度プログラムに従って試料気化室およびカラムの温度を上昇させて試料を気化させる方法が用いられる。これをコールドオンカラム法(OCI)と呼び、この方法に用いられる試料導入装置には、プログラム温度制御が可能な試料気化室とこの試料気化室を強制的に冷却する冷却手段とを備えていることが要求される。
図4にこのような要件を備えた従来の試料導入装置の一例を示す。
同図において、試料気化室1は、その要部を構成する気化室円筒11、その頂部に設けられた試料注入口15とこれを封じるゴム製のセプタム14、及び気化室円筒11の外周に捲設されたヒータ18等で構成される。カラム2は気化室円筒11の底部から挿入されナット17で固定されている。カラム2の先端に取り付けられたインサート20は、気化室円筒11の中心軸上に位置するようにライナー19により支持されている。キャリアガスは上部のキャリアガスライン41から流入しカラム2内を図の下方に向けて流れるが、一部はセプタムパージライン42から排出される。試料気化室1は、上部の試料やガスの導入部を除く大部分がカバー8で囲われている。カバー8は、一部に冷却風の出口となる開口部82を持ち、また他の一部は延長されて図示しない冷却ファンに通じるダクト81を形成している。
図4に示す従来装置の動作は大略以下の如くである。
まず、キャリアガスライン41から所定流量のキャリアガスを流した状態で、ダクト81の先に設けた図示しない冷却ファンから送風して、試料気化室1を試料溶媒の沸点以下の所定温度まで冷却し、次に、所定量の液体試料をシリンジ(図示しない)により試料注入口15からセプタム14を刺通してインサート20内に注入する。注入された液体試料はキャリアガスの流れにより液状のままカラム2に導入される。その後、プログラム温度制御装置(図示しない)により所定のプログラムに従ってヒータ18に供給される電力を制御することにより、試料気化室1の温度を上昇させると、液体試料は気化し、ガス状態でカラム2内を運ばれる過程で分析が行われる。
なお、上記の従来例は特許文献1において提案されたものであるが、図4の構成からインサート20を除いた構成が基本的なコールドオンカラム試料導入装置として一般に知られている。この他、プログラム昇温を伴う試料導入法としてはプログラム昇温気化法(PTV)が知られており、上記コールドオンカラム試料導入装置は、ライナー19を交換することによりPTVにも利用できるものが多く、OCI/PTVと略称されることもある。
上記の従来例は、試料気化室1を空気で冷却する空冷方式であるが、この方式では室温近辺の温度までしか冷却できない。室温以下まで冷却する必要が有る場合は、従来から冷媒(例えば液化二酸化炭素)を用いる冷却方式が採られた。図5は、試料気化室1を冷却するいくつかの方式を示すもので、試料気化室1の細部構造等は省略して模式的に示してある。
同図(a)は、比較のため前述の空冷方式を示したもので、図中の矢印は空気の流れを示す。
同図(b)は、試料気化室1に向けてパイプ(冷媒用配管51)の先から冷媒を噴射する構成であり、図中の矢印は冷媒の流れを示す。構造が簡単で、空冷方式と併用することで冷媒の消費量を抑えることができる利点があるが、試料気化室1が局所的に冷却されるため、温度ムラを生じやすいことが欠点である。
同図(c)は、試料気化室1をジャケット55で包み、ジャケット55内に冷媒を流すようにしたものである。この場合は、温度ムラは解消されるが、ジャケット55が有るため熱容量が増加して昇温時の追従性が悪くなり、またジャケット55が冷却風を遮るため空冷方式と併用できないという欠点がある。
特開平10−239294号公報
上述したように、従来の冷媒による冷却方式には一長一短が有り、十分に満足できるものではなかった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、温度ムラが少なく、昇温時の追従性を損なうこともなく、しかも空冷方式との併用も可能な冷媒による冷却方式を用いたGC用試料導入装置を提供することを目的とする。
本発明は、上記課題を解決するために、複数の冷媒噴射口を試料気化室に近接して配設し、これに接続する冷媒供給手段を備えてGC用試料導入装置を構成する。このように構成することにより、複数の冷媒噴射口から広範囲に冷媒を吹き付けるので温度ムラの問題が解消され、また、この冷媒噴射口は試料気化室に近接してはいるが非接触であるから、試料気化室の昇温特性に悪影響を与えることもなく、さらに、冷却風の流れを遮らない構造であるから、空冷方式との併用も可能となる。
本発明は上記のように構成されているので、GC用試料導入装置において温度ムラの少ない冷却と迅速な昇温を両立させることができる上に、空冷方式と併用して高温から室温付近までは空冷で、室温付近以下は冷媒で冷却することにより冷媒の消費量を減らし、経済的な装置運用が可能となる。
また、冷媒用ノズルを着脱可能に構成することも可能で、この場合は、既成のGC装置に対してアタッチメントとして簡単に装着して機能アップを図ることができる。
本発明が提供するGC用試料導入装置は次のような特徴を有する。即ち、第1の特徴は複数の冷媒噴射口を試料気化室に近接して配置するように構成された点にあり、第2の特徴はこれに接続された冷媒供給手段を着脱可能に有する点である。
従って、最良の形態の基本的な構成は、これら複数の冷媒噴射口を試料気化室に近接して配置する構成とこれに接続された着脱可能な冷媒供給手段を具備するGC用試料導入装置である。
図1は本発明の一実施例を示すもので、同図(a)は側断面図、(b)は平面配置図を示す。以下図示例に従って説明する。
同図において、図4または図5と同一の構成要素には同符号を付してあるので、再度の説明は省く。本実施例が従来装置と異なる点は、ノズル5が存在することである。ノズル5は、試料気化室1に近接してこれとほぼ並行に設けられた中空筒(この例では四角筒であるが円筒でもよい)であり、試料気化室1に向き合う面には複数の冷媒噴射口52が穿設され、下端には冷媒用配管51が接続されており、筒の両端は封じられているので、ノズル5の内部空間は冷媒噴射口52と冷媒用配管51を通してのみ外部と連通する。ノズル5は、ノズル取付具56でカバー8に取り付けられており、必要に応じて簡単に着脱できる。
このように構成された本実施例装置は以下のように動作する。
試料気化室1が高温の状態から試料を導入するには、先ず冷却ファン7を作動させて試料気化室1に冷却風を送って冷やす。室温付近まで温度が下がった時点で冷却ファン7を止め、冷媒用配管51からノズル5に冷媒(例えば、液化二酸化炭素)を送り込むと、冷媒が複数の冷媒噴射口52から試料気化室1に向けて一斉に噴射され、これにより試料気化室1は室温以下の温度まで冷却される。
図2は、本実施例の動作状態を示すもので、冷媒が試料気化室1に向けて噴射される様子を模式的に示す。同図に矢印で示すように、複数の冷媒噴射口52から試料気化室1の広い範囲に冷媒が吹き付けられ、試料気化室1の広い範囲が一様に冷却されるので、温度ムラは殆ど生じない。
図1または図2には示されていない冷媒をノズル5に供給する手段について、次に図3を用いて説明する。図3は、本発明を適用したGCの構成例を示すものである。
同図において、キャリアガスはキャリアガスボンベ44から供給され、流量制御部4と試料導入部10を順に経て、オーブン3に収容されたカラム2を通過して検出器6へと流れることは従来の一般的なGCと同様である。本発明を適用したGCにおいては、これに冷媒ボンベ54及びバルブ53等から成る簡単な構成の冷媒供給手段が付加される。即ち、図示のように、冷媒は冷媒ボンベ54から出てバルブ53で調整され、冷媒用配管51を通ってノズル5に供給され、前述したように冷媒噴射口52(この図では明示されない)から試料気化室1に向けて噴射される。
なお、本実施例は、図1または図2に示すように、冷却ファン7を備えて空冷・冷媒両方式を併用するものであるが、冷却ファン7を省いて冷媒方式のみで冷却するように構成することも可能である。その場合、高温からクールダウンする過程でも冷媒を消費するので運転コストが高くなる反面、装置コストは低減できる。しかし、試料気化室1を室温以下まで冷却する必要があるのはむしろ希少ケースであるから、冷却ファン7を標準的に装備し、これに必要に応じて着脱可能なノズル5と冷媒供給手段を付加するのが本発明を実施する上での好ましい形態である。
本発明は、ガスクロマトグラフまたはガスクロマトグラフを含む複合分析装置に利用できる。
本発明の一実施例を示す図である。 本発明の一実施例の動作状態を示す図である。 本発明を適用したガスクロマトグラフの構成例を示す図である。 従来の構成の一例を示す図である。 従来の冷却方式を説明する図である。
符号の説明
1 試料気化室
2 カラム
3 オーブン
4 流量制御部
5 ノズル
6 検出器
7 冷却ファン
8 カバー
10 試料導入部
11 気化室円筒
14 セプタム
15 試料注入口
17 ナット
18 ヒータ
19 ライナー
20 インサート
41 キャリアガスライン
42 セプタムパージライン
44 キャリアガスボンベ
51 冷媒用配管
52 冷媒噴射口
53 バルブ
54 冷媒ボンベ
55 ジャケット
56 ノズル取付具
81 ダクト
82 開口部

Claims (2)

  1. プログラム温度制御可能な試料気化室と該試料気化室を強制的に冷却する冷却手段とを備えたガスクロマトグラフ用試料導入装置において、前記冷却手段が、前記試料気化室に近接して配設された複数の冷媒噴射口とこれに接続される冷媒供給手段を備えて成ることを特徴とするガスクロマトグラフ用試料導入装置。
  2. 前記複数の冷媒噴射口が着脱可能な単一のユニット上に配設されていることを特徴とする請求項1記載のガスクロマトグラフ用試料導入装置。
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