JP2006267296A - 感光性転写シート及び感光性積層体、並びに、画像パターン形成方法及び配線パターン形成方法 - Google Patents

感光性転写シート及び感光性積層体、並びに、画像パターン形成方法及び配線パターン形成方法 Download PDF

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浩隆 松本
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Abstract

【課題】 多層レジスト系で、中間層に水溶性の光架橋性樹脂を用いることで、多層レジスト間での剥離による故障がなく、高感度、かつ良好な生保存性のある感光性転写シート及び感光性積層体を提供すること。
【解決手段】 支持体上に、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる感光層と、光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む層を有することを特徴とする感光性転写シート及び感光性積層体である。
【選択図】 図１

Description

本発明は、感光性転写シート及び感光性積層体、並びに、画像パターン形成方法及び配線パターン形成方法に関する。本発明は、特にプリント配線板製造用として有用な感光性転写シート及び感光性積層体、そして該感光性転写シート若しくは感光性積層体を用いてプリント配線板の等に画像パターン及び配線パターンを形成する方法に関する。
支持体と感光層とを有する感光性転写シートは、プリント配線板、カラーフィルター、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁などのディスプレイ用部材、印刷版、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの各種の画像形成材料などの製造のための画像様感光性転写シートとして広く利用されている。
プリント配線板の製造分野においては、透明支持体（例えばポリエチレンテレフタレート）と、その支持体の上に形成された感光層とからなる感光性転写シート（ドライフィルムレジストとも言う）を用いたフォトリソ技術によって、配線パターンを形成することが行われている。
例えば、スルーホールを有するプリント配線板の製造の場合、プリント配線板形成用基板（例えば、銅張積層板）にスルーホールを形成し、スルーホール内側壁部に金属めっき層を形成した後、基板表面に感光性転写シートの感光層を重ね合わせて密着させ、配線パターン形成領域とスルーホール開口部を含む領域のそれぞれに光を所定のパターン状に照射して感光層を硬化させて硬化領域を形成する。次いで、感光性転写シートの支持体を剥がし取り、配線パターン形成領域上の硬化領域及びスルーホール開口部領域上の硬化領域（テント膜と呼ばれている）以外の未硬化領域を現像液を利用して溶解除去した後、露出した金属層部分をエッチング処理し、その後に硬化領域を除去することにより、基板表面に配線パターンを生成させることが行われている。
前記テント膜を用いて、スルーホールの金属めっき層を保護する方法は、一般にテンティング法と呼ばれている。また多層構成のプリント配線板においてはビアホールと呼ばれる層間接続用のホールが設けられる場合があり、この場合にも同様に、配線パターン形成時には、テント膜によりビアホール部を保護することが必要である。
近年、プリント配線板への高密度化の要求が高くなってきており、より高解像度が可能なフォトレジストフィルムが求められている。フォトレジストフィルムの解像度を高くするためには、その感光層の厚みを薄くすることが有効である。しかし前述のように、感光層が硬化した硬化層はプリント配線板に形成されたスルーホール又はビアホールを保護する役割もあり、単純に感光層の厚みを薄くしてしまうと、感光性樹脂組成物の未硬化領域を溶解除去する工程や露出した金属層部分をエッチング処理する工程で、このテント膜が破れて保護すべきスルーホールなどに損傷を与えてしまうという問題が発生する。また、複数の感光層を積層して、解像度を向上させるとともに、レジストとなる層を厚くして、前記スルーホール又はビアホールを保護する方法もあるが、現像の際に各感光層の中間に設けられている層の周辺部が溶解し、各感光層間が浮き上がったり、又は微小露光パターンに対しては剥離してしまうという問題があった。
これまでにも、高解像度のパターン形成が可能であって、破れにくいテント膜を形成できる感光性転写シートの開発が盛んに行われており、その成果が次のように開示されている。
特許文献１には、カルボキシル基を有するバインダー成分、特定のビニルウレタン化合物と特定のアクリレート化合物とを含むモノマー成分及び光重合開始剤からなる感光層を有する感光性転写シートが記載されている。
特許文献２には、支持体の上に、アルカリ可溶性で、加熱による流動性が小さく、活性エネルギー線に感応する第一の感光層を設け、更にその上にアルカリ可溶性で、加熱による流動性が大きく、活性エネルギー線に感応する第二の感光層を設けてなる二層の感光層を有する感光性転写シートが記載されている。この特許文献では、感光性転写シートの第二の感光層をスルーホール内に埋め込むことによりスルーホールの金属層を保護することができると説明されている。
特許文献３には、支持体の上に第一の感光層と第二の感光層を有する感光性樹脂積層体であって、これらの二層が互いに異なるビニル共重合体を有し、かつ両層に特定の単官能モノマーを含む例が記載されており、その効果として、密着と解像が向上すると記載されている。
特許文献４には、支持体の上に非粘着性の感光層と粘着性の感光層とを有するフォトレジスト及びこれを用いるプリント配線板の形成方法が記載されており、その効果として、テント性と解像性が向上することが記載されている。
特許文献５には、基材上に、光重合速度が互いに異なる少なくとも二層の光重合性層（厚みは２５μｍ〜２．５ｍｍ）を有し、基材に近い側の重合速度が速い印刷レリーフ製造用の感光板が開示されており、印刷面の基部が頂部よりも広くなるようなレリーフ像を形成する例が記載されている。
特許文献６には、平凹版用感光性印刷版材が開示されており、感光層として、無公害なスチルバゾリウムのような置換スチリル残基を感光ユニットとする感光性ポリビニルアルコールを用い、経時安定性を向上させた印刷版材の例が記載されている。
非特許文献１には、光照射による物性の変化を利用する水溶性ポリマーの光架橋及び光架橋機能をもつ官能基を含むポリマーについて記載されており、前記水溶性ポリマーの光架橋剤として、重クロム酸塩、ジアゾニウム塩、水溶性アジド化合物が挙げられている。また、前記官能基を含むポリマーとして、ポリビニルアルコールにケイ皮酸ビニルをエステル化し、機械的強度の高い光２量化構造のポリケイ皮酸ビニル（ＰＶＡＣ）を合成した例が記載されている。
特開平１０−１４２７８９号公報 特開平８−５４７３２号公報 特開平１０−１１１５７３号公報 特開平３−１７６５０号公報 特公昭３７−１３０６号公報 特公平３−７０２１４号公報 フォトポリマーハンドブック ｐ１７〜ｐ３０（フォトポリマー懇話会編）（光架橋性樹脂）
本発明の課題は、二以上の感光層間での浮き上がりや微小露光パターンに対する剥離などの損傷が無く、画像内に厚みが異なる所望のパターンを容易に形成することできる感光性転写シート及び感光性積層体を提供することにある。
本発明の課題は、また、感光性転写シートあるいは感光性積層体を用いて、画像内に厚みが異なる所望のパターンを工業的に有利に形成することができる方法を提供することにもある。
本発明の課題は、特に、プリント配線板の製造に有効で、薄層化により高解像度化が可能であり、破れにくいテント膜を形成することができる感光性転写シートを提供することにある。
本発明の課題は、また、感光性転写シートを用いて、スルーホールやビアホールなどのホール部を有するプリント配線板を工業的に有利に製造できる方法を提供することにもある。
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 支持体上に、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる感光層と、
光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む層を有することを特徴とする感光性転写シートである。
＜２＞ 感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる第一感光層と、
バインダー、重合成化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなり、かつ前記第一感光層の光感度よりも相対的に高い光感度を示す第二感光層とからなり、
前記第一感光層と前記第二感光層とがこの順に積層されてなり、
前記第一感光層と前記第二感光層との間に、光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む中間層を有する前記＜１＞に記載の感光性転写シートである。
＜３＞ 中間層が、水及び炭素原子数１〜４のアルコールの少なくともいずれかに対して溶解性がある樹脂を主成分として含む前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜４＞ 光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかが、水及び炭素原子数１〜４のアルコールの少なくともいずれかに対して溶解性がある＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜５＞ 中間層の厚みが、０．１〜５μｍである＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜６＞ 光架橋性化合物が、スチルバゾリウムム基含有化合物、ジアゾニウム塩化合物及びアジド化合物から選ばれる化合物を少なくとも一つ含有する＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜７＞ 光架橋性樹脂が、スチルバゾリウム基含有ポリマー、ジアゾニウム基含有ポリマー及びアジド基含有ポリマーから選ばれるポリマーを少なくとも一つ含有する＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜８＞ 光架橋性樹脂が、一般式（Ｉａ）若しくは一般式（Ｉｂ）で示される構成単位を有するポリマーのいずれかを含有する＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
前記一般式（Ｉａ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ａｒ１は、アリール基、Ｅ１は、四級化された含窒素複素環残基を表す。
前記一般式（Ｉｂ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｅ２は、四級化された含窒素複素環残基、Ａｒ２は、アリール基を表す。
＜９＞ 光架橋性樹脂が、一般式（ＩＩ）で示される構成単位を有するポリマーを含有する＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
前記一般式（ＩＩ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｘ−は、１価の陰イオン、Ｒ３は、１価の置換基、ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に、Ｒ３は同一であってもよく、異なっていてもよい。
＜１０＞ 光架橋性樹脂が、一般式（ＩＩＩ）で示される構成単位を有するポリマーを含有する＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
前記一般式（ＩＩＩ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｒ４は、１価の置換基、ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に、Ｒ３は同一であってもよく、異なっていてもよい。
＜１１＞ 支持体が、透明の合成樹脂からなる＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜１２＞ 第二感光層の上に保護フィルムが配置されている＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜１３＞ プリント配線板の製造に用いられる＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の感光性転写シートである。
＜１４＞ 基体上に、前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の感光性転写シートが形成されたことを特徴とする感光性積層体である。
＜１５＞ 下記の工程を含む、基板上に、第一感光層と第二感光層とが共に硬化することにより形成された硬化樹脂が存在する領域と、
硬化樹脂が存在しない領域とから構成されるパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法；
（１） 基板上に、前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の感光性転写シートを、その第二感光層が基板側となる位置関係にて積層して積層体を得る積層体形成工程；
（２） 積層体の第一感光層の側から所定のパターンの光照射を行い、その光照射を受けた領域の第一感光層と第二感光層とを共に硬化させる硬化工程；
（３） 積層体から支持体を除去する支持体除去工程；
（４） 積層体を現像して、積層体中の未硬化部分を除去する未硬化部分除去工程。
＜１６＞ （３）の支持体除去工程を、工程（２）と工程（４）との間で行う代わりに、工程（１）と工程（２）との間で行う＜１５＞に記載のパターン形成方法。
＜１７＞ 工程（２）における硬化工程が、積層体の第一感光層の側から、互いに相違する少なくとも二レベルの照射エネルギー量の光を照射する領域を規定するパターンにて光照射し、光照射エネルギー量が相対的に大きい光照射を受けた領域の第一感光層と第二感光層とを共に硬化させ、光照射エネルギー量が相対的に小さい光照射を受けた領域の第二感光層を硬化させる硬化工程である＜１５＞から＜１６＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜１８＞ 工程（２）における光照射をレーザ光の照射により行う＜１５＞から＜１７＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜１９＞ 基板が、プリント配線板形成用基板である＜１５＞から＜１８＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２０＞ 基板が、ホール部を有するプリント配線板形成用基板である＜１５＞から＜１９＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２１＞ 基体上に感光性転写シートを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層し、露光する前記＜１５＞から＜２０＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２２＞ 露光が、形成するパターン情報に基づいて像様に行われる前記＜１５＞から＜２１＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２３＞ 露光が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成し、該制御信号に応じて変調させた光を用いて行われる前記＜１５＞から＜２２＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜２３＞に記載のパターン形成方法においては、形成するパターン形成情報に基づいて制御信号が生成され、該制御信号に応じて光が変調される。
＜２４＞ 露光が、光を照射する光照射手段と、形成するパターン情報に基づいて前記光照射手段から照射される光を変調させる光変調手段とを用いて行われる前記＜１５＞から＜２３＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜２５＞ 露光が、光変調手段により光を変調させた後、前記光変調手段における描素部の出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われる前記＜２４＞に記載のパターン形成方法である。
該＜２５＞に記載のパターン形成方法においては、前記光変調手段により変調した光が、前記マイクロレンズアレイにおける前記非球面を通ることにより、前記描素部における出射面の歪みによる収差が補正される。この結果、感光性転写シート上に結像させる像の歪みが抑制され、該感光性転写シートへの露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
＜２６＞ 非球面が、トーリック面である前記＜２５＞に記載のパターン形成方法である。
該＜２６＞に記載のパターン形成方法においては、前記非球面がトーリック面であることにより、前記描素部における放射面の歪みによる収差が効率よく補正され、感光性転写シート上に結像させる像の歪みが効率よく抑制される。この結果、前記感光性転写シートへの露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
＜２７＞ 露光が、アパーチャアレイを通して行われる前記＜１５＞から＜２６＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜２７＞に記載のパターン形成方法においては、露光が前記アパーチャアレイを通して行われることにより、消光比が向上する。この結果、露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
＜２８＞ 露光が、露光光と感光層とを相対的に移動させながら行われる前記＜１５＞から＜２７＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
該＜２８＞に記載のパターン形成方法においては、前記変調させた光と前記感光層とを相対的に移動させながら露光することにより、露光が高速に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、高精細なパターンが形成される。
＜２９＞ 露光が、感光層の一部の領域に対して行われる前記＜１５＞から＜２８＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜３０＞ 現像が行われた後、永久パターンの形成を行う前記＜１５＞から＜２９＞のいずれかに記載のパターン形成方法である。
＜３１＞ 永久パターンが、配線パターンであり、該永久パターンの形成がエッチング処理及びメッキ処理の少なくともいずれかにより行われる前記＜３０＞に記載のパターン形成方法である。
＜３２＞ 前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載の感光性転写シート及び前記＜１４＞に記載の感光性積層体のいずれかを備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記感光性転写シートにおける感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。
該＜３２＞に記載のパターン形成装置においては、前記光照射手段が、前記光変調手段に向けて光を照射する。前記光変調手段が、前記光照射手段から受けた光を変調する。前記光変調手段により変調した光が前記感光層に対して露光させる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、高精細なパターンが形成される。
＜３３＞ 光変調手段が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を、該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させる前記＜３２＞に記載のパターン形成装置である。
該＜３３＞に記載のパターン形成装置においては、前記光変調手段が前記パターン信号生成手段を有することにより、前記光照射手段から照射される光が該パターン信号生成手段により生成した制御信号に応じて変調される。
＜３４＞ 光変調手段が、ｎ個の描素部を有してなり、該ｎ個の描素部の中から連続的に配置された任意のｎ個未満の前記描素部を、形成するパターン情報に応じて制御可能である前記＜３２＞から＜３３＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。
該＜３４＞に記載のパターン形成装置においては、前記光変調手段におけるｎ個の描素部の中から連続的に配置された任意のｎ個未満の描素部をパターン情報に応じて制御することにより、前記光照射手段からの光が高速で変調される。
＜３５＞ 光変調手段が、空間光変調素子である前記＜３２＞から＜３４＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。
＜３６＞ 空間光変調素子が、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）である前記＜３５＞に記載のパターン形成装置である。
＜３７＞ 描素部が、マイクロミラーである前記＜３２＞から＜３６＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。
＜３８＞ 光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である前記＜３２＞から＜３７＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。
該＜３８＞に記載のパターン形成装置においては、前記光照射手段が２以上の光を合成して照射可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光によって行われる。この結果、前記感光性転写シートへの露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
＜３９＞ 光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザ光を集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する前記＜３２＞から＜３８＞のいずれかに記載のパターン形成装置である。
該＜３９＞に記載のパターン形成装置においては、前記光照射手段が、前記複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザ光が前記集合光学系により集光され、前記マルチモード光ファイバに結合可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光で行われる。この結果、前記感光性転写シートへの露光が極めて高精細に行われる。例えば、その後、前記感光層を現像すると、極めて高精細なパターンが形成される。
本発明の感光性転写シート及び感光性積層体は、二以上の感光層間での浮き上がりや微小露光パターンに対する剥離などの損傷がなく、画像内に厚みが異なる所望のパターンを容易に形成することができる。
また、本発明の感光性転写シートあるいは感光性積層体を用いて、画像内に厚みが異なる所望のパターンを工業的に有利に形成できる方法を提供することができる。
本発明の感光性転写シートは、プリント配線板の製造に有効で、薄層化により高解像度化が可能であり、破れにくいテント膜を形成することができる。
また、本発明の感光性転写シートを用いて、スルーホールやビアホールなどのホール部を有するプリント配線板を工業的に有利に製造できる方法を提供することができる。
本発明の感光性転写シート、感光性積層体、パターン形成方法及びパターン形成装置について順に説明する。
―感光性転写シート―
本発明の感光性転写シートは、支持体上に、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる感光層と、光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む層を有する感光性転写シートである。前記感光層は、単層でもよく、２以上の層でもよい。２以上の層形態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第一感光層、中間層及び第二感光層がこの順に積層された形態、第一感光層、中間層、第二感光層、中間層及び第三感光層がこの順に形成された形態、更に目的に応じて適宜選択されるその他の層が積層された形態でもよい。
――中間層――
前記中間層は、第一感光層と第二感光層の中間のように、二層以上の感光層の中間に配置される層で、各感光層に含まれる物質の移行防止や移行を抑制し、酸素や湿度などの外的影響を防止、抑制する機能を有するとともに、現像の際に前記二層以上の感光層の浮き上がりや剥離を防止する機能がある。即ち、前記中間層は、各感光層の成分が他の層に移行して感度や層の物性が変化してしまうのを防ぐとともに、現像の際、前記中間層自身の周辺部を溶解しないようにし、感光層の浮き上がりや剥離を防止することにより、隣接する前記感光層と前記中間層の各周辺端面を凹凸がない滑らかな面に形成する機能がある。また、前記中間層に水溶性の光架橋性樹脂又は光架橋性化合物を用いることで感光性転写シートの生保存性を向上させる機能がある。
前記中間層の材料としては、前記諸機能が維持され、前記光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含有するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水若しくは炭素原子数１〜４のアルコールに対して溶解性がある樹脂を主成分として含むものが好ましい。
前記溶解性とは、前記溶媒に対して溶解又は乳化、分散することを表し、溶解の場合には、具体的には、温度２０℃において、前記アルコール１００ｍｌに対して前記中間層０．１ｇ以上溶解できることをいい、１ｇ以上が好ましく、５ｇ以上がより好ましい。乳化、分散の場合には、温度２０℃において、乳化、分散直後に、沈降物が、１％以下であればよい。この範囲を超えると、均一な塗布ができないことがある。
――光架橋性化合物――
前記光架橋性化合物としては、水若しくは炭素原子数１〜４のアルコールに対して前記と同様の溶解性があれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチルバゾリウム基含有化合物、ジアゾニウム塩化合物及びアジド化合物から選ばれる化合物を少なくとも一つを含有するものが好ましい。
前記スチルバゾリウム基含有化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式（Ａ）で表される化合物などが挙げられる。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒａは、四級化された芳香族性含窒素複素環残基、Ｒｂは水素原子又は一価の置換基でｎは１〜５の整数である。ｎが２以上の場合、Ｒｂは同一でもよく異なっていてもよい。
Ｒａは、環構成窒素原子の少なくとも１個が四級化された芳香族性含窒素複素環残基であって、例えば、ピリジウム基、キノリニウム基、イソキノリニウム基、ピリミジニウム基、チアゾリウム基、ベンゾチアゾリウム基、ベンゾオキサゾリウム基などが挙げられる。これらの環には、更に置換基を有していてもよい。これらの中でも、二官能以上のスチルバゾリウム基含有化合物が好ましい。
前記二官能化合物の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１−メチル−２−スチリルピリジウム、１−メチル−４−スチリルピリジウム、１−エチル−２−スチリルピリジウム、１−エチル−４−スチリルピリジウム、１−アリル−４−スチリルピリジウム、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−スチリルピリジウム、１−（２−ヒドロキシエチル）−４−スチリルピリジウム、１−カルバモイルメチル−４−スチリルピリジウム、１−ベンジル−４−スチリルピリジウム、１−メチル−２−スチリルキノリニウム、１−エチル−２−スチリルキノリニウム、１−エチル−２−スチリルベンゾチアゾリウム、１−メチル−２−スチリルベンゾオキサゾリウム、１−メチル−４（γ−メトキシスチリル）ピリジウム、などが挙げられる。
これらの中でも、１−メチル−４−スチリルピリジウム、１−（２−ヒドロキシエチル）−４−スチリルピリジウム、１−メチル−４（γ−メトキシスチリル）ピリジウムが好ましい。これらの化合物は単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
前記一価の置換基としては、置換又は無置換のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヒドロキシエチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、スルホプロピル基、ジエチルアミノエチル基、シアノプロピル基、アダマンチル基、ｐ−クロロフェネチル基、エトキシエチル基、エチルチオエチル基、フェノキシエチル基、カルバモイルエチル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノエチル基など）置換又は無置換のアルケニル基（例えば、アリル基、スチリル基など）、置換又は無置換のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−カルボキシフェニル基、３，５−ジカルボキシフェニル基、ｍ−スルホフェニル基、ｐ−アセトアミドフェニル基、３−カプリルアミドフェニル基、ｐ−スルファモイルフェチル基、ｍ−ヒドロキシフェニル基、ｐ−ニトロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、ｐ−アニシル基、ｏ−アニシル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−Ｎ−メチルウレイドフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基など）、置換又は無置換のヘテロ環基（例えば、ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、チェニル基など）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など）、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基、置換又は無置換のアルキコシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−フェニルエトキシ基など）、置換又は無置換のアリーロキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−クロロフェノキシ基、α−ナフトキシ基など）、置換又は無置換のアシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基など）、置換又は無置換のアシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、カプロイルアミノ基など）、置換又は無置換のスルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基など）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、置換又は無置換のアミノ基（例えば、ジエチルアミノ基、ヒドロキシアミノ基など）、アルキルチオ基又はアリールチオ基（例えば、メチルチオ基、カルボキシエチル基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ基など）、アルキコシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基）、アリーロキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）などが挙げられる。
また、これらの置換基上に、更にアルキル基、アルケニル基、アリール基、キドロキシ基、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、スルホンアミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基などが置換されていてもよい。
前記二官能以上化合物として、具体的には、下記構造式（２３−１）〜(２３−９)などが挙げられる。


これらの中でも、前記構造式（２３−１）及び（２３−４）の化合物が好ましい。
前記ジアゾニウム塩化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（２４−１）〜（２４−１３）などが挙げられる。
これらの中でも、二官能以上のジアゾニウムが好ましい。これらの化合物は単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
塩の種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハロゲン、ＮＯ３−、１／２ＳＯ４２−、ＨＳＯ４−、１／３ＰＯ４３−、１／２ＺｎＣｌ２−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＣＨ３ＯＳＯ３−、Ａ６ＳＯ３−、（Ｐｈ）−ＳＯ３−などが挙げられる。なお、（Ｐｈ）はフェニル基を表す。これらの中でも、ＨＳＯ４−、１／３ＰＯ４３−、１／２ＺｎＣｌ２−が好ましい。
前記アジド化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（２５−１）〜（２５−２７）などが挙げられる。

これらの中でも、二官能以上のアジド化合物が好ましく、前記構造式（２５−１）、（２５−２）、（２５−３）、（２５−１１）などが好ましい。これら、スチリルピリジウム基含有化合物、ジアゾニウム塩アジド化合物は、単独でも、混合してもよく、例えば、下記のようなポリマーと混合して用いることができる。前記ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水溶性ポリマーが好ましく、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、カゼイン、ノボラック樹脂、フェノール樹脂などが挙げられる。また、下記構造式（２５−２８）〜（２５−３０）などのモノアジド化合物を好適に用いることができる。
―――光架橋性樹脂―――
前記光架橋性樹脂としては、水若しくは炭素原子数１〜４のアルコールに対して前記と同様の溶解性がであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチルバゾリウム基含有ポリマー、ジアゾニウム基含有ポリマー及びアジド基含有ポリマーから選ばれるポリマーを少なくとも一つ含有するものが好ましい。
前記スチルバゾリウム基含有ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（２７―１）〜（２７−３）などが挙げられる。
これらの他に、後述の構造式（３６−１）〜（３６−４０）などを用いることができる。これらのポリマーは単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの中でも、前記構造式（２７−１）が好ましい。
前記ジアゾニウム基含有ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（２８−１）〜（２８−５）などが挙げられる。

これらの他に、後述の構造式（４４−１）〜（４４−１７）などを用いることができる。これらのポリマーは単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの中でも、前記構造式（２８−１）、（２８−５）及び後述の構造式（４４−６）、（４４−７）、（４４−１１）、（４４−１２）などが好ましい。
前記アジド基含有ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（２９−１）〜（２９−３）などが挙げられる

これらの他に、後述の構造式（４４−１８）〜（４４−３９）などを用いることができる。これらのポリマーは単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの中でも、前記構造式（２９−１）、後述の構造式（４４−２９）、（４４−３０）、（４４−３２）、（４４−３４）などが好ましい。
また、前記光架橋性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式（Ｉａ）若しくは下記一般式（Ｉｂ）で示される構成単位を有するポリマーの少なくともいずれかを含有するものでもよい。
前記一般式（Ｉａ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ａｒ１は、アリール基、Ｅ１は、四級化された含窒素複素環残基を表す。
前記一般式（Ｉｂ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｅ２は、四級化された含窒素複素環残基、Ａｒ２は、アリール基を表す。
前記スチルバゾリウム基含有ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（３６−１）〜（３６−７）などが挙げられる。

ただし、Ｒａ１は、一価の置換基、Ｒａ２は、アルキル基、水素原子、アルコキシ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基を表す。
Ｒａ３は、一価の置換基、Ｒａ３が、複数ある場合、同一でもよく、異なっていてもよい。また、連続して環を形成してもよい。更に、下記構造式（３６−８）又はポリビニルアルコール類など水溶性ポリマーと下記構造式（３６−９）又は（３６−１０）の反応物も好適に用いられる。
下記構造式（３６−９）の具体例としては、１−メチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジウム、１−メチル−４−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−エチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジウム、１−エチル−４−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−アリル−４−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−（２−ヒドロキシエチル）−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−（２−ヒドロキシエチル）−４−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−カルバモイルメチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−カルバモイルメチル−４−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−メチル−２−（ｍ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−ベンジル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−ベンジル−４−（ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウム、１−−４−（ｐ−ホルミルスチリル）−５−エチルビリジニウム、１−メチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）キノリニウム、１−エチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）キノリニウム、１−エチル−４−（ｐ−ホルミルスチリル）キノリニウム、１−メチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ベンゾチアゾリウム、１−エチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ベンゾチアゾリウム、１−エチル−２−（ｐ−ホルミルスチリル）ベンゾオキサゾリウム）などが挙げられる。
下記構造式（３６−１０）の具体例としては、下記構造式（（３６−１１）〜（３６−２３）などが挙げられる。

ただし、前記構造式（３６−８）中のＲ１は、四級化された芳香族性含窒素複素環残基、Ｒ２は、水素原子又は低級アルコキシ基、ｍは、０又は１、ｎは１〜６の整数である。

ただし、前記構造式（３６−９）中のＲ１は、四級化された芳香族性含窒素複素環残基、Ｒ２は、水素原子又は低級アルコキシ基、ｍは、０又は１、ｎは１〜６の整数である。

ただし、前記構造式（３６−１０）中のＲ１は、四級化された芳香族性含窒素複素環残基、Ｒ２は、水素原子又は低級アルコキシ基、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ低級アルキル基であるか又は両方でアルキレン基を形成するものであり、ｍは、０又は１、ｎは１〜６の整数である。
前記構造式（３６−９）及び（３６−１０）中のＲ１は、環構成窒素原子の少なくとも１個が四級化された芳香族性含窒素複素環残基であって、このようなものとしいては、例えば、ピリジウム族、キノリニウム族、イソキノリニウム族、ピリミジリウム族、チアゾリウム族、ベンゾチアゾリウム族、ベンジオキサゾリウムなどが挙げられる。これらの環には、更にアルキル基、アルコキシル基、アミノ基、カルバモイル基などの置換基が存在してもよい。また、Ｒ２は、水素原子、又はメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基などの低級アルコキシ基である。

前記スチルバゾリウム基含有ポリマーの具体例としては、下記構造式（３６−２４）〜（３６−４０）などが挙げられる。



これらは、単独ポリマーでもよく、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニルなどとの共重合であってもよく、また、他のポリマーとの混合物であってもよい。他のポリマーとしては水溶性のポリマーが好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、カゼイン、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。
また、前記光架橋性樹脂としては、例えば、下記一般式（ＩＩ）で示される構成単位を有するポリマーを含有するものでもよい。
前記一般式（ＩＩ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｘ−は、１価の陰イオン、Ｒ３は、１価の置換基、ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合には、Ｒ３は同じでもよく、異なっていてもよい。
また、前記光架橋性樹脂としては、例えば、、下記一般式（ＩＩＩ）で示される構成単位を有するポリマーを含有するものでもよい。
前記一般式（ＩＩＩ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｒ４は、１価の置換基、ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合には、Ｒ４は同じでもよく、異なっていてもよい。
前記一般式（ＩＩ）及び前記一般式（ＩＩＩ）で表される前記光架橋性樹脂の具体例としては、下記の構造式に示すジアゾニウム基含有ポリマー、アジド基含有ポリマーなどが挙げられる。これらのポリマーは単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
前記ジアゾ基含有ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（４４−１）〜（４４−１７）などが挙げられる。

これらの中でも、前記構造式（４４−６）、（４４−７）、（４４−１１）、（４４−１２）などが好ましい。
前記アジド基含有ポリマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（４４−１８）〜（４４−３９）などが挙げられる。

これらの中でも、前記構造式（４４−２９）、（４４−３０）、（４４−３２）、（４４−３４）などが好ましい。
これらは、単独ポリマーでもよく、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドンなどとの共重合であってもよく、また、それらを二種以上混合してもよい。更に他のポリマーと混合してもよい。他のポリマーとしては水溶性のポリマーが好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、カゼイン、ポリアクリルアミドなどが挙げられる。
前記中間層の厚みとしては、前記諸機能が維持されるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜４μｍがより好ましく、１〜３μｍが特に好ましい。０．１μｍより薄いと、充分なバリアー性や剥離防止作用が得られない場合があり、５μｍを超えると現像に長時間を要するようになる。
前記中間層形成用のポリマー溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層と同様の塗布溶媒を用いてもよいし、水、あるいは水と溶剤との混合溶剤を用いてもよく、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール等のアルコール類などの前記親水性溶媒などを用いることができる。溶剤の使用は、固形分１０％〜９０％の塗布液になるように用いればよい。
――第一感光層及び第二感光層――
前記第一感光層及び第二感光層は、光照射部分が硬化して、該硬化部分が前記支持体に密着し現像液で溶解除去する際に、未硬化部分のみ溶解除去され、前記硬化部分が前記支持体に残存することにより目的のパターンを形成する機能を有する。前記第一感光層の光感度は、第二感光層よりも相対的に低く設定されることにより、前記感光性転写シート１枚で目的に応じた複数の厚みを形成することができる機能を有する。前記第一感光層及び第二感光層は、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなり、更に目的に応じて適宜選択されるその他の成分からなる。
――バインダー――
前記バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ水溶液に可溶であることが好ましく、あるいは少なくとも膨潤性を有することが好ましい。このようなバインダーとしては、例えば、酸性基（カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基など）を有するものが利用できるが、特にカルボキシル基を有するバインダーが代表的であり、例えば、カルボキシル基含有ビニル共重合体、カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられるが、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調整の容易さなどからカルボキシル基含有ビニル共重合体が好ましい。
前記カルボキシル基含有ビニル共重合体は、少なくとも（１）カルボキシル基含有ビニルモノマー、及び（２）これらと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。
前記カルボキシル基含有ビニルモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する単量体と無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物、ω―カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなども利用できる。また、カルボキシル基の前駆体としては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などの無水物含有モノマーを用いてもよい。なおこれらの内では、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
上記の共重合体の合成に用いることができるその他の共重合可能なモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリルなどが好ましい。具体的には、以下の様な化合物が挙げられる。
（メタ）アクリル酸エステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
（メタ）アクリルアミド類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。
スチレン類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えばｔ−Ｂｏｃなど）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
上記化合物の他にも、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなど）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン等も使用できる。
また、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ（２−アクリロイルオキシエチルエチル）、リン酸モノ（１−メチル−２−アクリロイルオキシエチルエステル）なども利用できる。
上記の化合物以外にも、例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることができる。
この様なウレタン基、又はウレア基を有するモノマーとしては、例えば、イソシアナート基と水酸基、又はアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアナート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物又は１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、又は水酸基含有モノマー又は１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
前記イソシアナート基含有モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記のような化合物が挙げられる（Ｒ１は水素原子又はメチル基を表す）。
前記モノイソシアネートとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シクロヘキシルイソシアネート、ｎ−ブチルイソシアネート、トルイルイソシアネート、ベンジルイソシアネート、フェニルイソシアネート等が挙げられる。
前記水酸基含有モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記のような化合物が挙げられる（Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、ｎは１以上の整数を表す）。
前記水酸基を１個含有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルコール類（メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ―プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−オクタデカノール、シクロペンタノール、シクロへキサノール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール等）、フェノール類（フェノール、クレゾール、ナフトール等）、更に置換基を含むものとして、フロロエタノール、トリフロロエタノール、メトキシエタノール、フェノキシエタノール、クロロフェノール、ジクロロフェノール、メトキシフェノール、アセトキシフェノール等も挙げられる。
１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとしては、例えば、ビニルベンジルアミンなどが挙げられる。
１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルキルアミン（メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉ―プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、オクタデシルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジオクチルアミン）、環状アルキルアミン（シクロペンチルアミン、シクロへキシルアミン等）、アラルキルアミン（ベンジルアミン、フェネチルアミン等）、アリールアミン（アニリン、トルイルアミン、キシリルアミン、ナフチルアミン等）、更にこれらの組み合わせ（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミン等）、更に置換基を含むアミン（トリフロロエチルアミン、ヘキサフロロイソプロピルアミン、メトキシアニリン、メトキシプロピルアミン等）等が挙げられる。
上記の化合物は一種のみでも、また二種以上を併用してもよい。その他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、スチレン、クロルスチレン、ブロモスチレン、及びヒドロキシスチレンなどが特に好ましい。
この様なビニル共重合体は、それぞれ相当するモノマーを公知の方法で常法に従って共重合させることで得られる。例えばこれらのモノマーを適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用して得られる。また水性媒体中に上記のモノマーを分散させた状態でいわゆる乳化重合等で重合をおこなってもよい。
溶液重合法で用いられる適当な溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、用いるモノマー、及び生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。また、ラジカル重合開始剤としては、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）の様なアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドの様な過酸化物、及び過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムの様な過硫酸塩などが利用できる。
これらのモノマーから得られるビニル共重合体中のカルボキシル基を有する重合性化合物に由来の繰り返し単位の含有率は、各感光層ともに共重合体の全繰り返し単位中の５〜５０モル％が好ましく、１０〜４０モル％がより好ましく、１５〜３５モル％が特に好ましい。該含有率が５モル％未満であるとアルカリ水への現像性が不足する場合があり、５０モル％を越えると硬化部（画像部）の現像液耐性が不足する場合がある。
カルボキシル基を有するバインダーの分子量は任意に調整が可能であるが、各感光層ともに質量平均分子量として２，０００〜３００，０００が好ましく、４，０００〜１５０，０００がより好ましい。質量平均分子量が２，０００未満であると膜の強度が不足しやすく、また安定な製造が困難になる傾向にある。また分子量が３００，０００を超えると現像性が低下する傾向にある。
また、これらのカルボキシル基を有するバインダーは、各感光層ともに一種でも二種以上のバインダーを併用してもよい。２種以上のバインダーを併用する場合としては、例えば、異なる共重合成分からなる２種以上のバインダー、異なる質量平均分子量の２種以上のバインダー、異なる分散度の２種以上のバインダー等が挙げられる。
カルボキシル基を有するバインダーは、そのカルボキシル基の一部又は全てが塩基性物質で中和されていてもよい。バインダーは、更にポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ゼラチン等構造の異なる樹脂を併用してもよい。
また、バインダーとしては、例えば、特許２８７３８８９号等に記載のアルカリ水溶液に可溶な樹脂なども挙げられる。
感光層中のバインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、各感光層ともに通常、１０〜９０質量％であり、２０〜８０質量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。該カルボキシル基を有するバインダー（及び必要に応じて併用される高分子結合剤）の含有量が少ないと、アルカリ現像性やプリント配線板形成用基板（例えば、銅張積層板）との密着性が低下しやすく、多くなり過ぎると、現像時間に対する安定性や硬化膜（テント膜）の強度が低下する傾向にある。また、感度調整の為に、上記範囲内で第二感光層に含有されているバインダーの含有率が第一感光層に含有されているバインダーの含有率より低く（重合性化合物の含有率を高く）するなどの調整を行ってもよい。
――重合性化合物――
前記重合性化合物（いわゆるモノマー）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、重合性基を２個以上含有するモノマー、あるいはオリゴマー（多官能モノマー、多官能オリゴマー）などが挙げられる。
重合性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合（例えば（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、スチリル基、ビニルエステルやビニルエーテルなどのビニル基、アリルエーテルやアリルエステルなどのアリル基など）、重合可能な環状エーテル基（例えばエポキシ基、オキセタン基など）などが挙げられる。これらの中でも、エチレン性不飽和結合が好ましい。
このような多官能モノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレン基の数が２〜１８であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカエチレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２から１８であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（例えば、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ドデカプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなど）、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，５−ベンタンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート（例えば、ＷＯ０１／９８８３２号公報に記載の化合物など）、エチレンオキサイド及び／又はプロピレンオキサイドを付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、キシレノールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
前記（メタ）アクリル酸エステル類の中でも、その入手の容易さから、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール鎖／プロピレングリコール鎖を少なくとも各々一つずつ有するアルキレングリコール鎖のジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド付加したトリメチロールプロパンのトリ（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
前記イタコン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イタコン酸エステル）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４ーブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、及びソルビトールテトライタコネート等が挙げられる。
前記クロトン酸と前記脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（クロトン酸エステル）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、及びソルビトールテトラジクロトネート等が挙げられる。
前記イソクロトン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（イソクロトン酸エステル）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、及びソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル（マレイン酸エステル）としては、例えば、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、及びソルビトールテトラマレート等が挙げられる。
また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸類から誘導されるアミドとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルアミド、オクタメチレンビス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミンビス（メタ）アクリルアミド、及びキシリレンビス（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
更に、ビスフェノール骨格を有する２，２−ビス〔４−（３−（メタ）アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（（メタ）アクリルオキシエトキシ）フェニル〕プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換したエチレンオキシ基の数が２から２０の２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリエトキシ）フェニル）プロパン（例えば２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンなど）、２，２−ビス〔４−（（メタ）アクリルオキシプロポキシ）フェニル〕プロパン、フェノール性のＯＨ基１個に置換したプロピレンオキシ基の数が２から２０の２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン（例えば２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシジプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシデカプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロイルオキシペンタデカプロポキシ）フェニル）プロパンなど）やこれらの化合物のポリエーテル部位として同一分子中にポリエチレンオキシド骨格とポリプロピレンオキシド骨格の両者を含む化合物なども挙げられる（例えば、ＷＯ０１／９８８３２号公報に記載の化合物など）。これらの化合物は、例えば、ＢＰＥ−２００，ＢＰＥ−５００，ＢＰＥ−１０００（新中村化学工業（株）製）などとして入手できる。
また、ビスフェノールとエチレンオキシドやプロピレンオキシドなどの付加物、重付加物として得られる末端に水酸基を有する化合物に対してイソシアネート基と重合基を有する化合物（２−イソシアネートエチル（メタ）アクリレート、α、α−ジメチル−ビニルベンジルイソシアネートなど）の付加体の様にビスフェノール骨格とウレタン基を有する重合性化合物も利用できる。
また、ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等のグリシジル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物も利用できる。
また、重合性基とウレタン基を含有する化合物も利用できる。この様な化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特公昭４８−４１７０８、特開昭５１−３７１９３、特公平５−５０７３７、特公平７−７２０８、特開２００１−１５４３４６、特開２００１−３５６４７６号公報などに記載されており、例えば、１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物（例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、ジフェニルジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３′−ジメチル−４，４′−ジフェニルジイソシアネートやこれらのジイソシアネートのビュレット体やイソシアヌレートなどの３量体、これらのジイソシアネート類とトリメチロールプロパン、ペンタエリスルトール、グリセリンなどの多官能アルコール、又はこれらのエチレンオキシド付加物など得られる多官能アルコールとの付加体など）と分子中に水酸基を含有するビニルモノマー（例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、など）とを付加せしめることで得られる１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。またトリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル化イソシアヌレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸のトリ（メタ）アクリレート等の様なイソシアヌレート環を有する化合物も利用できる。
また、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレートやポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー類、エポキシ化合物（ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテルなど）と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげることができる。またフタル酸やトリメリット酸などと前記の分子中に水酸基を含有するビニルモノマーから得られるエステル化物なども挙げられる。更に日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
また、アリルエステル（例えばフタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、マロン酸ジアリル、フタル酸ジアリル、トリメリット酸トリアリル、ベンゼンジスルホン酸ジアリル、トリアリルイソシアヌレートなど）；及びジアリルアミド（例えばジアリルアセトアミドなど）なども利用できる。
また、前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カチオン重合性のジビニルエーテル類（例えばブタンジオール−１，４−ジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテルなど）、エポキシ化合物（ノボラック型エポキシ樹脂、ブタンジオール−１，４−ジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテルなど）、オキセタン類（例えば１，４−ビス〔（３−エチルー３−オキセタニルメトキシ）メチル〕ベンゼンなど）を用いることもできる。またエポキシ化合物、オキセタン類としては、ＷＯ０１／２２１６５に記載の化合物を用いることもできる。
前記ビニルエステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジビニルサクシネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジスルホネート及びジビニルブタン−１，４−ジスルホネート等も利用できる。
前記スチレン化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジビニルベンゼン、４−アリルスチレン及び４−イソプロペンスチレンなどが挙げられる。
更に、上記化合物以外の化合物として、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｎ−β−ヒドロキシエチル−β−（メタクリルアミド）エチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクリロキシエチル）アクリルアミド、アリルメタクリレートなどの、異なったエチレン性不飽和二重結合を２個以上有する化合物も、本発明に好適に用いられる化合物として挙げられる。
これらの多官能モノマー、オリゴマーは、単独で又は２種類以上を組合せて用いることができる。
更に、必要に応じて、分子内に重合性基を１個含有する重合性化合物（単官能モノマー）を併用することもできる。単官能モノマーとしては、例えば、前述のバインダーの原料として例示した化合物、特開平６−２３６０３１号公報に開示されている２塩基のモノ（（メタ）アクリロイルオキシアルキルエステル）モノ（ハロヒドロキシアルキルエステル）の様な単官能モノマー（例えばγ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレートなど）などや、特許２７４４６４３号、ＷＯ００／５２５２９号、特許２５４８０１６号公報などに記載の化合物等が挙げられる。
前記感光層のモノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、各感光層ともに一般に５〜９０質量％であり、１５〜６０質量％が好ましく、２０〜５０質量％がより好ましい。モノマーの含有量が上記より少ないとテント膜の強度が低下し、多いと保存時のエッジフュージョン（ロール端部からのしみだし故障）が悪化する傾向にある。
また、全モノマーの内の重合性基を２ヶ以上含有する多官能モノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、一般に５〜１００質量％であり、２０〜１００質量％が好ましく、４０〜１００質量％がより好ましい。また、感度調整の為に、上記範囲内で第二感光層のモノマー含有率の方を高くするなどの調整を行なってもよい。
――光重合開始剤――
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前述のモノマー成分の重合を開始する能力を有する化合物は全て使用可能であり、特に紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものであれば好適に使用できる。例えば、約３００〜８００ｎｍ（３３０〜５００ｎｍがより好ましい。）内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも一種含有していることが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、またモノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
具体的には、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えばトリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの）、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル等を挙げることができる。これらの中でも、特にトリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素、オキシム誘導体、ヘキサアリールビイミダゾール、ケトン化合物を用いることが、感光層の感度、保存性、及び感光層とプリント配線板形成用基板との密着性等の観点から好ましい。
トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、次のような化合物が挙げられる。
若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−トリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン。
英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（４−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−１，３，５−トリアジン。
特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン。
独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシスチリル）フェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、例えば、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリ（ブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、例えば、２−（４−フェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−エチニルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−トリルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシフェニル）エチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−イソプロピルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−エチルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物、例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
特開平５−３４９２０号公報記載の２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−１，３，５−トリアジン、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、更に２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。
また、米国特許第４２１２９７６号明細書等に記載されているオキサジアゾール骨格を有する化合物等も挙げられる。
前記オキサジアゾール骨格を有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２−トリクロロメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾールなどが挙げられる。
本発明で好適に用いられるオキシム誘導体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式で示される化合物などが挙げられる。



本発明に使用することができるヘキサアリールビイミダゾールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２−フロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（３−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ（４−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス（４−メトキシフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２−ニトロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２−メチルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（２−トリフルオロメチルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、ＷＯ００／５２５２９号公報に記載の化合物等が挙げられる。
前記ビイミダゾール類は、例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，３３，５６５（１９６０）、及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，３６（１６）２２６２（１９７１）に開示されている方法により容易に合成することができる。
前記ケトン化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例えば４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシー２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドン等が挙げられる。
またこの他、アクリジン誘導体（例えば９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９、９’−アクリジニル）ヘプタン等）、Ｎ−フェニルグリシン等、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ベンゾトリアゾール−２−イルクマリン等があげられ、他に特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号公報などに記載のクマリン化合物が挙げられる）、アミン類（例えば、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸フェネチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミドエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス（４−ジメチルアミノベンゾエート）、３−ジメチルアミノ安息香酸のフェネチル及びペンタメチレンエステル、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、エチル（４−ジメチルアミノベンゾイル）アセテート、４−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチルアミノベンゾイン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−フェネチジン、トリベンジルアミン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルベンジルアミン、４−ブロム−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリドデシルアミン、アミノフルオラン類（ＯＤＢ，ＯＤＢＩＩ等）、クリスタルバイオレットラクトン、ロイコクリスタルバイオレット等）、アシルホスフィンオキシド類（例えばビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキシド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなど）、メタロセン類（例えばビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフロロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフロロホスフェイト（１―）など）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報、及び米国特許第３６１５４５５号明細書に開示されている化合物なども挙げられる。
更に米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、特開２００２−２２９１９４号公報に記載の有機ホウ素化合物やその他例示のラジカル発生剤など、またトリアリールスルホニウム塩（ヘキサフロロアンチモンやヘキサフロロホスフェートとの塩）、（フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウム塩などのようなホスホニウム塩化合物（カチオン重合開始剤として有効）、ＷＯ０１／７１４２８号公報記載のオニウム塩化合物などを用いることもできる。
前記光重合開始剤は、一つ又は二つ以上を併用して使用することができる。この様な組み合わせとしては、例えば、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のヘキサアリールビイミダゾールと４−アミノケトン類との組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物の組合せなど、またチオキサントンなどの芳香族ケトン化合物と水素供与体（例えばジアルキルアミノ含有化合物、フェノール化合物など）の組合せ、ヘキサアリールビイミダゾールとチタノセンとの組合せ、クマリン類とチタノセンとフェニルグリシン類との組合せも利用することができる。
前記光重合開始剤の使用量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、各感光層ともに感光層の全成分に対して、一般に０．１〜３０質量％が一般的であり、０．５〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。また、各感光層の感度差を光重合開始剤の含有量で調整する場合には、第二感光層に含有されている光重合開始剤の量が第一感光層に含有されている光重合性開始剤の量よりも多くすればよい。
前記第二感光層の光重合開始剤含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第一感光層の光重合開始剤の含有量に対して１．５〜１００倍が好ましく、１．８倍〜５０倍がより好ましく、２〜２０倍が特に好ましい。
――その他の成分――
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、増感剤、熱重合禁止剤、可塑剤、発色剤、着色剤、更に基体表面への密着促進剤、界面活性剤及びその他の助剤類（例えば顔料、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を併用してもよく、これによって目的とする感光性転写シートの安定性、写真性、焼きだし性、膜物性等の性質を調節することができる。前記の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第一感光層及び第二感光層のいずれにも添加可能であり、その添加量は目的に応じて決めればよく、またそれぞれの感光層への添加量は同じでも異なっていてもよい。
―――増感剤―――
各感光層の露光における感度や感光波長を調整する目的で増感剤を添加することができる。露光の光線（活性エネルギー線）として可視光線や紫外光・可視光レーザを用いる場合などに、増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤など）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動など）し、ラジカルや酸などの有用基を発生することが可能である。
前記増感剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリンなどが挙げられ、他に特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号などの各公報に記載のクマリン化合物が挙げられる。）なども利用できる。
前記重合開始剤と増感剤の組み合わせとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］などに記載の例などが挙げられる。
前記第一感光層と前記第二感光層のそれぞれが増感剤を含んでいてもよい。増感剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光性樹脂組成物の全成分に対し、一般に０．０５〜３０質量％であり、０．１〜２０質量％が好ましく、０．２〜１０質量％がより好ましい。増感剤の添加量が多いと感光層から保存時に析出し、あまりに少ないと活性エネルギー線への感度が低下し、露光プロセスに時間がかかり、生産性を低下することがある。
各感光層の感度差を増感剤で調整する場合には、第二感光層に含有されている増感剤の量が第一感光層に含有されている増感剤の量より多くすればよい。第二感光層の増感剤含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、第一感光層の増感剤の含有量に対して１．５〜１００倍が好ましく、１．８倍〜５０倍がより好ましく、２〜２０倍が特に好ましい。また第一感光層には増感剤を含有しないなどの調整をしてもよい。
―――熱重合禁止剤―――
前記熱重合禁止剤は、感光層の重合性化合物の熱的な重合又は経時的な重合を防止するために添加してもよい。熱重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、４−トルイジン、メチレンブルー、銅と有機キレート剤反応物、サリチル酸メチル、及びフェノチアジン、ニトロソ化合物、ニトロソ化合物とＡｌとのキレート等が挙げられる。
前記熱重合禁止剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層の重合性化合物に対して０．００１〜５質量％が好ましく、０．００５〜２質量％がより好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。熱重合禁止剤の添加量が、こを超えて多くなると活性エネルギー線に対する感度が低下する傾向にあり、こを超えて少なくなると保存時の安定性が低下する傾向にある。
―――可塑剤―――
前記可塑剤は、感光層の膜物性（可撓性）をコントロールするために添加してもよい。可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジフェニルフタレート、ジアリルフタレート、オクチルカプリールフタレート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジメチルグリコースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；４−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセパケート、ジオクチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチル等、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類などが挙げられる。
前記可塑剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層の全成分に対して０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が特に好ましい。
―――発色剤―――
前記発色剤は、露光後の感光層に可視像を与える（焼きだし機能）ために添加してもよい。
前記発色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリス（４−ジメチルアミノフェニル）メタン（ロイコクリスタルバイオレツト）、トリス（４−ジエチルアミノフェニル）メタン、トリス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン、トリス（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）メタン、ビス（４−ジブチルアミノフェニル）−〔４−（２−シアノエチル）メチルアミノフェニル〕メタン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）−２−キノリルメタン、トリス（４−ジプロピルアミノフェニル）メタン等のアミノトリアリールメタン類；３，６−ビス（ジメチルアミノ）−９−フェニルキサンチン、３−アミノ−６−ジメチルアミノ−２−メチル−９−（２−クロロフェニル）キサンチン等のアミノキサンチン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−（２−エトキシカルボニルフェニル）チオキサンテン、３，６−ビス（ジメチルアミノ）チオキサンテン等のアミノチオキサンテン類；３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９，１０−ジヒドロ−９−フェニルアクリジン、３，６−ビス（ベンジルアミノ）−９，１０−ジビドロ−９−メチルアクリジン等のアミノ−９，１０−ジヒドロアクリジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）フェノキサジン等のアミノフェノキサジン類；３，７−ビス（エチルアミノ）フェノチアゾン等のアミノフェノチアジン類；３，７−ビス（ジエチルアミノ）−５−ヘキシル−５，１０−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロフェナジン類；ビス（４−ジメチルアミノフェニル）アニリノメタン等のアミノフェニルメタン類；４−アミノ−４’−ジメチルアミノジフェニルアミン、４−アミノ−α、β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等のアミノヒドロケイ皮酸類；１−（２−ナフチル）−２−フェニルヒドラジン等のヒドラジン類；１，４−ビス（エチルアミノ）−２，３−ジヒドロアントラキノン類のアミノ−２，３−ジヒドロアントラキノン類；Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−フェネチルアニリン等のフェネチルアニリン類；１０−アセチル−３，７−ビス（ジメチルアミノ）フェノチアジン等の塩基性ＮＨを含むロイコ色素のアシル誘導体；トリス（４−ジエチルアミノ−２−トリル）エトキシカルボニルメンタン等の酸化しうる水素をもつていないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合物；ロイコインジゴイド色素；米国特許３，０４２，５１５号及び同第３，０４２，５１７号に記載されているような発色形に酸化しうるような有機アミン類（例、４，４’−エチレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、４，４’−メチレンジアミントリフェニルアミン、Ｎ−ビニルカルバゾール）などが挙げられる。これらのなかでもロイコクリスタルバイオレットなどのトリアリールメタン系化合物が好ましい。
更に、これらのロイコ体を発色させるためなどの目的で、ハロゲン化合物と組み合わせることが知られている。ハロゲン化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハロゲン化炭化水素（例えば四臭化炭素、ヨードホルム、臭化エチレン、臭化メチレン、臭化アミル、臭化イソアミル、ヨウ化アミル、臭化イソブチレン、ヨウ化ブチル、臭化ジフェニルメチル、ヘキサクロロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，１，２，２−テトラブロモエタン、１，２−ジブロモ−１，１，２−トリクロロエタン、１，２，３トリブロモプロパン、１−ブロモ−４−クロロブタン、１，２，３，４−テトラブロモブタン、テトラクロロシクロプロペン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ジブロモシキロヘキサン、１，１，１−トリクロロ−２，２−ビス（４−クロロフェニル）エタンなど）；ハロゲン化アルコール化合物（例えば、２，２，２−トリクロロエタノール、トリブロモエタノール、１，３−ジクロロ−２−プロパノール、１，１，１−トリクロロ−２−プロパノール、ジ（ヨードヘキサメチレン）アミノイソプロパノール、トリブロモ−ｔ−ブチルアルコール、２，２，３−トリクロロブタン−１，４−ジオールなど）；ハロゲン化カルボニル化合物（例えば１，１−ジクロロアセトン、１，３−ジクロロアセトン、ヘキサクロロアセトン、ヘキサブロモアセトン、１，１，３，３−テトラクロロアセトン、１，１，１−トリクロロアセトン、３，４−ジブロモ−２−ブタノン、１，４−ジクロロ−２−ブタノン−ジブロモシクロヘキサノンなど）；ハロゲン化エーテル化合物（例えば２−ブロモエチルメチルエーテル、２−ブロモエチルエチルエーテル、ジ（２−ブロモエチル）エーテル、１，２−ジクロロエチルエチルエーテルなど）；ハロゲン化エステル化合物（例えば酢酸ブロモエチル、トリクロロ酢酸エチル、トリクロロ酢酸トリクロロエチル、２，３−ジブロモプロピルアクリレートのホモポリマー及び共重合体、ジブロモプロピオン酸トリクロロエチル、α，β−ジグロロアクリル酸エチルなど）；ハロゲン化アミド化合物（例えばクロロアセトアミド、ブロモアセトアミド、ジクロロアセトアミド、トリクロロアセトアミド、トリブロモアセトアミド、トリクロロエチルトリクロロアセトアミド、２−ブロモイソプロピオンアミド、２，２，２−トリクロロプロピオンアミド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミドなど）；硫黄やリンを有する化合物（例えばトリブロモメチルフェニルスルホン、４−ニトロフェニルトリブロモメチルスルホン、４−クロルフェニルトリブロモメチルスルホン、トリス（２，３−ジブロモプロピル）ホスフェートなど）、２，４−ビス（トリクロロメチル）６−フェニルトリアゾールなどが挙げられる。有機ハロゲン化合物のうちでは同一炭素原子に結合した二個以上のハロゲン原子を持つハロゲン化物が好ましく、一個の炭素原子に三個のハロゲン原子を持つハロゲン化物がより好ましい。有機ハロゲン化合物は単独で使用してもよく、二種以上併用してもよい。これらのうちで有機ハロゲン化合物としては、トリブロモメチルフェニルスルホン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−フェニルトリアゾールが好ましい。
前記発色剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層の全成分に対して０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。また、ハロゲン化合物の量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層の全成分に対し０．００１〜５質量％が一般的で、０．００５〜１質量％が好ましい。
―――着色剤―――
前記着色剤は、取り扱い性の向上のために感光性樹脂組成物を着色したり、保存安定性を付与する機能がある。着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ブリリアントグリーン（例えばその硫酸塩）、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニル−イエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジＩＶ、ジフェニルチロカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチル−レッド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業（株）製）、ローダミンＢ、及びロータミン６Ｇ、ビクトリアピュアブルーＢＯＨなどが挙げられる。
カチオン着色剤の対アニオンとしては、有機酸又は無機酸の残基であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、臭素酸、ヨウ素酸、硫酸、リン酸、シュウ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の残基（アニオン）などが挙げられる。具体的には、マラカイトグリーンシュウ酸塩、マラカイトグリーン硫酸塩などが好ましい。
前記着色剤の好ましい添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層の全成分に対して０．００１〜１０質量％の量であり、０．０１〜５質量％が好ましく、０．１〜２質量％がより好ましい。
―――密着促進剤―――
前記密着促進剤は、各層間の密着性、あるいは感光性転写シートと感光層との密着性を向上させる機能があり、各層に用いることができる。
前記密着促進剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開平５−１１４３９号公報、特開平５−３４１５３２号公報、及び特開平６−４３６３８号公報などに記載の密着促進剤が好適に使用できる。具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、３−モルホリノメチル−１−フェニル−トリアゾール−２−チオン、３−モルホリノメチル−５−フェニル−オキサジアゾール−２−チオン、５−アミノ−３−モルホリノメチル−チアジアゾール−２−チオン、及び２−メルカプト−５−メチルチオ−チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、アミノ基含有ベンゾトリアゾール、シランカップリング剤などが挙げられる。
前記密着促進剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層の全成分に対して０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．１質量％〜５質量％が特に好ましい。
前記感光層には、例えば、Ｊ．コーサー著「ライトセンシテイブシステムズ」第５章に記載されているような有機硫黄化合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、光還元性色素、及び有機ハロゲン化合物などを含んでいてもよい。
前記有機硫黄化合物としては、例えば、ジ−ｎ−ブチルジサルファイド、ジベンジルジサルファイド、２−メルカプロベンズチアゾール、２−メルカプトベンズオキサゾール、チオフェノール、エチルトリクロロメタンスルフェネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。
前記過酸化物としては、例えば、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、メチルエチルケトンパーオキサイドなどが挙げられる。
前記レドツクス化合物としては、例えば、過酸化物と還元剤の組み合わせからなるものであり、第一鉄イオンと過硫酸イオン、第二鉄イオンと過酸化物などが挙げられる。
前記アゾ及びジアゾ化合物としては、例えば、α，α’−アゾビスイリブチロニトリル、２−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、４−アミノジフェニルアミンのジアゾニウム類などが挙げられる。
前記光還元性色素としては、例えば、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン、アクリフラビン、リポフラビン、チオニンなどが挙げられる。
―――界面活性剤―――
前記界面活性剤は、感光性転写シートを製造する時に発生する面状ムラを改善させる機能があり、添加して用いられる。
前記界面活性剤としては、例えば、アニオン系及びカチオン系界面活性剤やノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素含有界面活性剤などから適宜選択できる。添加量は、感光性樹脂組成物の固形分に対し、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．００１質量％未満では面状改良の効果が得られなく、１０質量％を超えると密着性が低下するという問題が発生しやすい。フッ素系の界面活性剤として炭素鎖３〜２０でフッ素原子を４０質量％以上含み、かつ非結合末端から数えて少なくとも３個の炭素原子に結合した水素原子がフッ素置換されているフルオロ脂肪族基を有するアクリレート又はメタクリレートを共重合成分として有する高分子界面活性剤なども好ましい。
――支持体――
前記支持体は、積層された各感光層などを支持するものであり、感光層を剥離可能、かつ光の透過性が良好であり、表面の平滑性が良好であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記支持体の材料としては、合成樹脂で、かつ透明なものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムなどが挙げられる。更に、これらの二種以上からなる複合材料も使用することができる。上記の中でポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、２〜１５０μｍが好ましく、５〜１００μｍがより好ましく、８〜５０μｍが特に好ましい。２μｍ未満では、支持体が伸び易く、ラミネートの際にしわが入り易くなることがあり、１５０μｍを超えると、ラミネートの際のレジストの基板への追従性が悪化することがある。
また、前記支持体は長尺支持体であることが好ましい。本発明の感光性転写シートを製造する際に使用する長尺支持体の長さとしては、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺体でロール状に巻かれて保管しうるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１０ｍ〜２００００ｍの長さのものを使用することができる。ユーザーが使いやすいようにスリット加工し１００ｍから１０００ｍで長尺体であってロール状にしてもよい。なお、この際には支持体が一番外側になるように巻き取られることが好ましい。また、前記ロール状の感光性転写シートをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から端面にはセパレーター（特に防湿性のもの、乾燥剤入りのもの）を設置することが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いることが好ましい。
――その他の層――
前記その他の層としては、保護フィルム層、支持体との剥離性や密着力を調整する層、ハレーション防止層、クッション層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層などが挙げられる
―――保護フィルム層―――
前記保護フィルム層は、第二感光層の上に表面保護用として積層することができる。前記保護フィルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体に使用されるものでもよく、紙、あるいはポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙などでもよい。これらのなかでも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
前記保護フィルム層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜５０μｍがより好ましく、１０〜３０μｍが特に好ましい。５μｍ未満では、感光層上にラミネートで保護フィルムを接着する際に、しわが入り易くなり、１００μｍを超えると、感光層上にラミネートで保護フィルムを接着する際に発生する気泡が保護フィルムを透過して抜けるのに非常に長い時間がかかり、感光層に厚みムラを作ってしまうことがある。
その際、感光層と支持体の接着力Ａと感光層と保護フィルム層の接着力Ｂとが、接着力Ａ＞接着力Ｂの関係になるようにする必要がある。
前記保護フィルム層と支持体との組合せとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレン、ポリ塩化ビニル／セロフアン、ポリイミド／ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレートなどをあげることができる。また、支持体及び保護フィルムの少なくとも一方を表面処理することにより、前記のような接着力の関係を満たすことができる。支持体の表面処理は感光層との接着力を高めるために施されてもよく、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザ光線照射処理などを挙げることができる。また、支持体と保護フィルムとの静摩擦係数も重要である。
これらの静摩擦係数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。０．３未満では滑り過ぎるため、ロール状にした時巻ズレが発生する。また１．４を超えた場合、良好なロール状に巻くことが困難となる。
前記保護フィルム層と感光層との接着性を調整するために、前記保護フィルムを表面処理してもよい。表面処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、。例えば、保護フィルムの表面に、ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレン、及びポリビニルアルコール等のポリマーからなる下塗層を設ける。一般に下塗層の形成は、上記ポリマーの塗布液を保護フィルムの表面に塗布した後、３０〜１５０℃（特に５０〜１２０℃）で１〜３０分間乾燥することにより行われる。
――感光性転写シートの一例――
本発明の感光性転写シートの一例として、感光層を二層有し、感光層間に中間層を有する構成について、図を用いて以下説明する。
図１において、感光性転写シート５１０は、支持体５１１、第一感光層５１２、中間層５１３、第二感光層５１４がこの順で積層されている。第一感光層５１２及び第二感光層５１４はそれぞれ、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなり、光の照射により硬化する。中間層５１３にも感光性樹脂組成物が含まれており、光の照射により硬化する。本発明の感光性転写シートは、第二感光層５１４が第一感光層５１２よりも相対的に光感度が高い点に主な特徴がある。ここで、光感度とは、それぞれの感光層が硬化するのに必要な光エネルギー量に相当し、光感度が高いとは、第二感光層５１４の硬化が、第一感光層５１２よりも少ない光の照射量で開始する、又は第二感光層５１４の硬化が、第一感光層５１２よりも少ない光の照射量で完了することを意味する。
図２は、図１の感光性転写シートに、更に保護フィルム５１５が積層された感光性転写シートである。
前記第一感光層、中間層及び第二感光層の各層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、第一感光層の厚みとしては、例えば、１〜１００μｍが好ましく、５〜８０μｍがより好ましく、１０〜５０μｍが特に好ましい。第一感光層の厚みが１μｍより薄いと、膜強度を強くするには不適当となる場合があり、厚みが１００μｍを超えると現像残渣が残りやすくなるなどの現像上の問題がでてくる場合がある。第一感光層の厚みは、第二感光層の厚みよりも大きいほうが好ましい。
前記中間層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜４μｍがより好ましく、１〜３μｍが特に好ましい。中間層の厚みが０．１μｍより薄いと、充分なバリアー性や剥離防止作用が得られない場合があり、厚みが５μｍを超えると現像に長時間を要するようになる。
前記第二感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜１５μｍが好ましく、１〜１２μｍがより好ましく、３〜１０μｍが特に好ましい。第二感光層の厚みが０．１μｍより薄いと、塗布の際の厚みムラがでやすくなり、厚みが１５μｍを超えると解像性が低下するなどの問題がでてくる。
本発明の感光性転写シートの層構成は、上記の図１及び図２で図示した層構成に限定されるものではなく、図１及び図２で示した層以外の層を有してもよい。例えば、支持体５１１と第一感光層５１２との間や、保護フィルム５１５と第二感光層５１４との間に、支持体や基板との剥離性や密着力を調整する層、ハレーション防止層などを設けてもよい。
次に本発明の感光性転写シート及び感光性積層体における光の照射量と感光層の硬化量との関係を、図３を参照しながら説明する。図３は、例えば、図１に示した感光性転写シート、あるいは図３に示した感光性転写シートから保護フィルムを剥離した感光性転写シートを、基板上に転写して積層体を形成させた場合、その積層体に対して、基板とは反対の側から、支持体を有している場合には支持体を通して、あるいは必要に応じて支持体を剥離して感光層に光を照射した場合の、光の照射量と、この照射（露光）と、それに続く現像処理により生成する硬化層の厚みとの関係を示すグラフ（感度曲線）である。図３において、横軸は、光の照射量を表し、縦軸は、光の照射により硬化させ、現像処理を行った後に得られた硬化層の厚みを表す。縦軸のＤは第二感光層から形成される硬化層の厚みを、Ｅは第一感光層から形成される硬化層の厚みと第二感光層から形成される硬化層の厚みと中間層の厚みとを合計した厚みを表す。
図３に示すように、本発明の感光性転写シートでは、支持体側から照射した光は、支持体を有する場合は支持体、第一感光層、そして第二感光層の順に進むにもかかわらず、第二感光層の硬化は、第一感光層よりも先に、少ない光エネルギー量で始まる。そして、第二感光層の全体が硬化した後、光エネルギー量を増加すると、第一感光層の硬化が始まり、更に光エネルギー量を多くすると、第一感光層の全体が硬化する。
前記第一感光層の感度と第二感光層の感度との関係については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第一感光層の光感度を１とした場合、第二感光層の光感度が２〜２００が好ましく、２．５〜１００がより好ましく、３〜５０が特に好ましい。２未満であると、感度差が小さすぎるために第二感光層のみ硬化させるべく露光しても第一感光層も一部硬化してしまうことになり、２００を超えると、感度差が大きすぎるために第一感光層と第二感光層を共に硬化させるべく高いエネルギーで露光した周辺の部分で拡散光により第二感光層が部分的に感光してしまいフレアが発生することになる。
前記第一感光層の硬化が始まるまでに必要な光エネルギー量Ｃとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、第二感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量Ａと同量であってもよいが、光エネルギー量Ａよりも大きい方が好ましい。
また、本発明の感光性転写シートは、三層以上の感光層からなり、各感光層の間に中間層を有するものでもよい。その一例として感光層が三層の場合の断面図を図４に示す。図４の感光層の上に保護フィルムを有する場合を図５に示す。
図４及び図５の感光性転写シート５５０において、支持体は５５１で表され、その支持体５５１の上に、第一の感光層５５２、中間層５５３、第二の感光層５５４、中間層５５３、そして第三の感光層５５５が順次積層されている。図５は、図４の感光性転写シートに保護層５５６が設けられた構成を示している。
これらの三層の感光層構成の場合でも、各感光層は、支持体に近い側の感光層の感度に比べて、支持体から離れた側の感光層の感度が相対的に高くなるように設計される。即ち、感光層の感度は、第三の感光層が最も高く、次いで第二の感光層が高く、第一の感光層の感度が最も低い。
図４及び図５に示した構成の感光性転写シートを用い、パターン形成に用いる光エネルギー量を必要な領域に応じて、第三感光層のみを硬化させる光エネルギー量Ｘ、第三の感光層と第二の感光層とを硬化させる光エネルギー量Ｙ、第三の感光層、第二の感光層、及び第一の感光層の全てを硬化させる光エネルギー量Ｚと光照射量を変化させることで、図６に示した様に、基板５５７の上に、第三の感光層５５５のみが硬化した厚みを有する領域、第三の感光層５５５、中間層５５３及び第二の感光層５５４とが硬化した厚みを有する領域、第三の感光層５５５、中間層５５３、第二の感光層５５４、中間層５５３及び第一の感光層５５２の全てが硬化した厚みを有する領域という三段階の異なる厚みを有するパターンを一種類の感光性転写シートで、それぞれの隣接する感光層に剥離等の損傷が生ずることがなく高品質のパターンを形成することが可能になる。
また同様に感光層がＮ層（感光層の数がＮ）で、支持体に近い側の感光層の感度に比べて、支持体から離れた側の感光層の感度が相対的に高い感光性転写シートを用いれば、Ｎ段階の異なる厚みを有する硬化層パターンを一種類の感光性転写シートで、それぞれの隣接する感光層に剥離等の損傷が生ずることがなく高品質のパターンを形成することが可能になる。
これまでに記載したように、本発明の感光性転写シートは、その露光量（いわゆる光エネルギー量）に応じて、露光及び現像処理により得られる硬化層の厚みを所望の厚みとすることが可能であり、露光量のパターンを必要に応じて変更することにより、基板に最も近い感光層のみを硬化させる領域から、順次厚みを変えて全ての感光層を硬化させる領域までを作り分けることが可能である。したがって、画像の内部で厚みが異なる三次元造形や、所望の領域のみの膜の強度を高くする、あるいは所望の領域のみの画像濃度を高める等の特性を付与した硬化樹脂画像などを一種類の感光性転写シートで形成することが可能となる。
したがって、本発明の感光性転写シートをプリント配線板の製造、特にスルーホールやビアホールを有するプリント配線板の製造に用いると、配線パターン形成領域には相対的に厚みが薄く、高解像の硬化層を形成し、スルーホール又はビアホールには相対的に厚い、高強度の硬化層を形成することができる。各感光層の間に中間層を設け硬化させることにより、それぞれの隣接する感光層に剥離等の損傷が生ずることがなく高品質のパターンを形成することができる。したがって、本発明の感光性転写シートを用いることにより、テンティング法として利用できる充分なテント膜強度を有し、かつ高解像度が必要な部分では充分な解像度の硬化樹脂パターンを容易に形成することができる。
本発明により、前記したような感度曲線を有する感光性転写シートは、各感光層の感度を支持体に近い側から支持体から離れた側に向かうにしたがって順に相対的に高くすることで実現できることが判明した。この感光層を二層以上とし、それらの感光層の感度を順次相対的に高くする方法は、公知の高感度化技術を全て用いることができる。即ち、例えば、高感度の開始剤の使用、増感剤の使用、光重合開始剤及び／又は増感剤の含有量の増量、あるいは感光層中の重合性化合物の含有率を多くする、重合抑制剤又は重合禁止剤の割合を少なくするなどの手法によって得ることができる。特に感光層が二層の場合であれば、例えば、高感度の開始剤を用いるほか、第二感光層に増感剤を添加する、第二感光層中の光重合開始剤及び／又は増感剤の含有量を第一感光層より多くする、あるいは第二感光層中の重合性化合物の含有率を第一感光層より多くするなどの手法によっても得ることができる。
本発明の、支持体上に、バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる第一感光層、そしてバインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなり、第一感光層の光感度よりも相対的に高い光感度を示す第二感光層がこの順に積層され、かつ第一感光層と第二感光層との間に中間層が配置されている感光性転写シートを用いて画像パターン（硬化樹脂パターン）を形成する場合、第二感光層の硬化が始まる光エネルギー量Ｓとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．０１〜１０ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、更に０．０２〜５ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、０．０３〜２．５ｍＪ／ｃｍ２が特に好ましい。第一感光層と第二感光層の感度差が特に重要であり、各層の感度の絶対値は技術的に達成可能な範囲で自由に設定することができる。
また、前記第二感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量Ａとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．０２〜２０ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、０．０４〜１５ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、０．０８〜１０ｍＪ／ｃｍ２が特に好ましい。
前記第二感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量Ａと第一感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量Ｂとの比（Ａ／Ｂ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．００５〜０．５が好ましく、０．０１〜０．４がより好ましく、０．０２〜０．３５が特に好ましい。０．００５未満では感度差が大きすぎるために第一感光層と第二感光層を共に硬化させるべく高いエネルギーで露光した周辺の部分で拡散光により第二感光層が部分的に感光してしまいフレアが発生することがあり、０．５を超えると、感度差が小さすぎるために第二感光層のみ硬化させるべく露光しても第一感光層も一部硬化してしまうことがある。
そして、前記第二感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量Ａと第一感光層の硬化が始まるまで必要な光エネルギー量Ｃとの比（Ｃ／Ａ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１〜１０が好ましく、１．１〜９がより好ましく、１．３〜８が特に好ましい。１．１未満では感度差が小さすぎるために第二感光層のみ硬化させるべく露光しても第一感光層も一部硬化してしまうことになり、９を超えると、感度差が大きすぎるために第一感光層と第二感光層を共に硬化させるべく高いエネルギーで露光した周辺の部分で拡散光により第二感光層が部分的に感光してしまいフレアが発生することになる。
また、前記光エネルギー量Ｃとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．１〜２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１〜１００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、２〜５０ｍＪ／ｃｍ２が特に好ましい。第一感光層と第二感光層の感度差が特に重要であり、各層の感度の絶対値は技術的に達成可能な範囲で自由に設定することができる。
――感光性転写シートの製造――
本発明の感光性転写シートは、例えば次のようにして製造することができる。まず、上記の各種材料を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて、第一感光層形成用の第一感光性樹脂組成物溶液と第二感光層形成用の第二感光性樹脂組成物溶液をそれぞれ調製し、更に中間層形成用の溶液を調製する。
前記第一感光性樹脂組成物溶液及び前記第二感光性樹脂組成物溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどを挙げることができ、これらは混合して用いてもよい。第一感光性樹脂組成物溶液、及び第二感光性樹脂組成物溶液には、公知の界面活性剤を添加してもよい。
次に、前記第一感光性樹脂組成物溶液を支持体の上に塗布し、乾燥することにより第一感光層を形成し、中間層形成用の塗布液を第一感光層の上に塗布、乾燥する。その上に第二感光性樹脂組成物溶液を塗布し、乾燥することにより、第二感光層を形成する。重層する際の塗布は、前述のように逐次塗布でもよいし、同時に重層で塗布してもよい。感光性樹脂組成物溶液の塗布方法は、特に限定されず、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、スリットコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法、ダイコート法、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、及びナイフコート法等の各種の方法を採用することができる。乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０〜１１０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。
前記感光層が三層以上で構成される場合でも、同様の操作を繰り返すことによって、所望の感光性転写シートを製造することができる。感光層を三層以上とすることで、感光層の厚みの総和を１０μｍ〜１ｍｍにすることも可能である。
本発明の感光性転写シートは、プリント配線板、カラーフィルターや柱材、リブ材、スペーサー、隔壁などのディスプレイ用部材、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの各種の画像形成材料、感光性転写シートとして広く利用することが可能である。このなかで、プリント配線板、ディスプレイ部材への応用が好ましく、特にプリント配線板への応用が好ましい。
―感光性積層体―
本発明の感光性積層体は、基体上に、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる第二感光層と、バインダー、重合成化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなり、かつ前記第二感光層の光感度よりも相対的に低い光感度を示す第一感光層とがこの順に積層されてなり、前記第二感光層と前記第一感光層との間に光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む中間層を有する積層体である。更に目的に応じて適宜選択されるその他の層が積層される。
本発明の感光性積層体は、前記感光性転写シートにおける支持体ではなく基体を用いている以外は前記感光性転写シートと同様の材料及び手段により積層される。
――基体――
前記基体は、本発明の感光性転写シートが転写される被転写体となるもので、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を持つものまで任意に選択できる。板状の基体が好ましく、いわゆる基板が使用される。具体的には、公知のプリント配線板製造用の基板、ガラス板（ソーダガラス板など）、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板などが挙げられる。
−パターン形成方法−
本発明の感光性転写シートを用いて、以下の方法及び装置によりパターンを形成することができる。
即ち、前記パターン形成方法は、（１）積層体形成工程、（２）硬化工程、（３）支持体除去工程、（４）未硬化部分除去工程及び目的に応じて適宜選択されるその他の工程からなり、基板上に、硬化樹脂が存在する領域と、存在しない領域とから構成されるパターンを形成する方法である。
――（１）積層体形成工程――
前記積層体形成工程は、基板上に、本発明の感光性転写シートを、その第二感光層が基板側となる位置関係にて積層して積層体を得る工程である。
前記積層体の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光性転写シートを加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層することが好ましい。前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、１５〜１８０℃が好ましく、６０〜１４０℃がより好ましい。
前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．２〜０．８ＭＰａがより好ましい。
前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラミネーター、真空ラミネーターなどが好適に挙げられる。
前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラミネーター（例えば、大成ラミネータ社製、ＶＰ−ＩＩ）などが好適に挙げられる。
――（２）硬化工程――
前記硬化工程は、積層体の第一感光層の側から所定の画像パターンの光照射を行い、その光照射を受けた領域の第一感光層と第二感光層とを共に硬化させる工程であり、積層体の第一感光層の側から、互いに相違する少なくとも二レベルの照射エネルギー量の光を照射する領域を規定するパターンにて光照射し、光照射エネルギー量が相対的に大きい光照射を受けた領域の第一感光層と第二感光層とを共に硬化させ、光照射エネルギー量が相対的に小さい光照射を受けた領域の第二感光層を硬化させる硬化工程であってもよい。
―――光照射―――
前記光照射（以下露光ともいう。）の対象としては、前記感光性転写シートにおける感光層である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、基体上に前記感光性転写シートを形成してなる積層体に対して行われることが好ましい。
前記露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、デジタル露光、アナログ露光等が挙げられるが、これらの中でもデジタル露光が好ましい。
前記デジタル露光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、形成するパターン形成情報に基づいて制御信号を生成し、該制御信号に応じて変調させた光を用いて行うことが好ましい。
前記デジタル露光の手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、光を照射する光照射手段、形成するパターン情報に基づいて該光照射手段から照射される光を変調させる光変調手段などが挙げられる。
――――光変調手段――――
前記光変調手段としては、光を変調することができる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｎ個の描素部を有することが好ましい。
前記ｎ個の描素部を有する光変調手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、空間光変調素子が好ましい。
前記空間光変調素子としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Ｓｐｅｃｉａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）、液晶光シャッタ（ＦＬＣ）などが挙げられ、これらの中でもＤＭＤが好適に挙げられる。
また、前記光変調手段は、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を有することが好ましい。この場合、前記光変調手段は、前記パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて光を変調させる。
前記制御信号としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、デジタル信号が好適に挙げられる。
以下、前記光変調手段の一例について図面を参照しながら説明する。
ＤＭＤ５０は図８に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６０上に、各々描素（ピクセル）を構成する多数（例えば、１０２４個×７６８個）の微小ミラー（マイクロミラー）６２が格子状に配列されてなるミラーデバイスである。各ピクセルにおいて、最上部には支柱に支えられたマイクロミラー６２が設けられており、マイクロミラー６２の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、マイクロミラー６２の反射率は９０％以上であり、その配列ピッチは縦方向、横方向とも一例として１３．７μｍである。また、マイクロミラー６２の直下には、ヒンジおよびヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル６０が配置されており、全体はモノリシックに構成されている。
ＤＭＤ５０のＳＲＡＭセル６０にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー６２が、対角線を中心としてＤＭＤ５０が配置された基板側に対して±α度（例えば±１２度）の範囲で傾けられる。図９（Ａ）は、マイクロミラー６２がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図９（Ｂ）は、マイクロミラー６２がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。したがって、パターン情報に応じて、ＤＭＤ５０の各ピクセルにおけるマイクロミラー６２の傾きを、図８に示すように制御することによって、ＤＭＤ５０に入射したレーザ光Ｂはそれぞれのマイクロミラー６２の傾き方向へ反射される。
なお、図８には、ＤＭＤ５０の一部を拡大し、マイクロミラー６２が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー６２のオンオフ制御は、ＤＭＤ５０に接続されたコントローラ３０２（図１９参照）によって行われる。また、オフ状態のマイクロミラー６２で反射したレーザ光Ｂが進行する方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
また、ＤＭＤ５０は、その短辺が副走査方向と所定角度θ（例えば、０．１°〜５°）を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図１０（Ａ）はＤＭＤ５０を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像（露光ビーム）５３の走査軌跡を示し、図１０（Ｂ）はＤＭＤ５０を傾斜させた場合の露光ビーム５３の走査軌跡を示している。
ＤＭＤ５０には、長手方向にマイクロミラーが多数個（例えば、１０２４個）配列されたマイクロミラー列が、短手方向に多数組（例えば、７５６組）配列されているが、図１０（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ５０を傾斜させることにより、各マイクロミラーによる露光ビーム５３の走査軌跡（走査線）のピッチＰ２が、ＤＭＤ５０を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ１より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、ＤＭＤ５０の傾斜角は微小であるので、ＤＭＤ５０を傾斜させた場合の走査幅Ｗ２と、ＤＭＤ５０を傾斜させない場合の走査幅Ｗ１とは略同一である。
次に、前記光変調手段における変調速度を速くさせる方法（以下「高速変調」と称する）について説明する。
前記光変調手段は、前記ｎ個の描素の中から連続的に配置された任意のｎ個未満の前記描素部をパターン情報に応じて制御可能であることが好ましい。前記光変調手段のデータ処理速度には限界があり、使用する描素数に比例して１ライン当りの変調速度が決定されるので、連続的に配列された任意のｎ個未満の描素部だけを使用することで１ライン当りの変調速度が速くなる。
以下、前記高速変調について図面を参照しながら更に説明する。
ファイバアレイ光源６６からＤＭＤ５０にレーザ光Ｂが照射されると、ＤＭＤ５０のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、レンズ系５４、５８により感光性転写シート１５０上に結像される。このようにして、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光が描素毎にオンオフされて、感光性転写シート１５０がＤＭＤ５０の使用描素数と略同数の描素単位（露光エリア１６８）で露光される。また、感光性転写シート１５０がステージ１５２と共に一定速度で移動されることにより、感光性転写シート１５０がスキャナ１６２により、ステージ移動方向と反対の方向に副走査され、露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。
なお、本例では、図１１（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ５０には、主走査方向にマイクロミラーが１０２４個配列されたマイクロミラー列が副走査方向に７６８組配列されているが、本例では、前記コントローラ３０２（図１９参照）により一部のマイクロミラー列（例えば、１０２４個×２５６列）だけが駆動するように制御がなされる。
この場合、図１１（Ａ）に示すようにＤＭＤ５０の中央部に配置されたマイクロミラー列を使用してもよく、図１１（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ５０の端部に配置されたマイクロミラー列を使用してもよい。また、一部のマイクロミラーに欠陥が発生した場合は、欠陥が発生していないマイクロミラー列を使用するなど、状況に応じて使用するマイクロミラー列を適宜変更してもよい。
ＤＭＤ５０のデータ処理速度には限界があり、使用する描素数に比例して１ライン当りの変調速度が決定されるので、一部のマイクロミラー列だけを使用することで１ライン当りの変調速度が速くなる。一方、連続的に露光ヘッドを露光面に対して相対移動させる露光方式の場合には、副走査方向の描素を全部使用する必要はない。
スキャナ１６２による感光性転写シート１５０の副走査が終了し、センサ１６４で感光性転写シート１５０の後端が検出されると、ステージ１５２は、ステージ駆動装置３０４により、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の最上流側にある原点に復帰し、再度、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の上流側から下流側に一定速度で移動される。
例えば、７６８組のマイクロミラー列の内、３８４組だけ使用する場合には、７６８組全部使用する場合と比較すると１ライン当り２倍速く変調することができる。また、７６８組のマイクロミラー列の内、２５６組だけ使用する場合には、７６８組全部使用する場合と比較すると１ライン当り３倍速く変調することができる。
以上説明した通り、本発明のパターン形成方法によれば、主走査方向にマイクロミラーが１，０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列されたＤＭＤを備えているが、コントローラにより一部のマイクロミラー列だけが駆動されるように制御することにより、全部のマイクロミラー列を駆動する場合に比べて、１ライン当りの変調速度が速くなる。
また、ＤＭＤのマイクロミラーを部分的に駆動する例について説明したが、所定方向に対応する方向の長さが前記所定方向と交差する方向の長さより長い基板上に、各々制御信号に応じて反射面の角度が変更可能な多数のマイクロミラーが２次元状に配列された細長いＤＭＤを用いても、反射面の角度を制御するマイクロミラーの個数が少なくなるので、同様に変調速度を速くすることができる。
また、前記露光の方法として、露光光と前記感光層とを相対的に移動しながら行うことが好ましく、この場合、前記高速変調と併用することが好ましい。これにより、短時間で高速の露光を行うことができる。
その他、図１２に示すように、スキャナ１６２によるＸ方向への１回の走査で感光性転写シート１５０の全面を露光してもよく、図１３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、スキャナ１６２により感光性転写シート１５０をＸ方向へ走査した後、スキャナ１６２をＹ方向に１ステップ移動し、Ｘ方向へ走査を行うというように、走査と移動を繰り返して、複数回の走査で感光性転写シート１５０の全面を露光するようにしてもよい。なお、この例では、スキャナ１６２は１８個の露光ヘッド１６６を備えている。なお、露光ヘッドは、前記光照射手段と前記光変調手段とを少なくとも有する。
前記露光は、前記感光層の一部の領域に対してされることにより該一部の領域が硬化され、後述の現像工程において、前記硬化させた一部の領域以外の未硬化領域が除去され、パターンが形成される。
次に、前記光変調手段を含むパターン形成装置の一例について図面を参照しながら説明する。
前記光変調手段を含むパターン形成装置は、図１４に示すように、シート状の感光性転写シート１５０を表面に吸着して保持する平板状のステージ１５２を備えている。
４本の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド１５８が設置されている。ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド１５８によって往復移動可能に支持されている。なお、前記パターン形成装置には、ステージ１５２をガイド１５８に沿って駆動するための図示しない駆動装置を有している。
設置台１５６の中央部には、ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の端部の各々は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側にはスキャナ１６２が設けられ、他方の側には感光性転写シート１５０の先端及び後端を検知する複数（例えば、２個）の検知センサ１６４が設けられている。スキャナ１６２及び検知センサ１６４は、ゲート１６０に各々取り付けられて、ステージ１５２の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ１６２及び検知センサ１６４は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。
スキャナ１６２は、図１５及び図１６（Ｂ）に示すように、ｍ行ｎ列（例えば、３行５列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば、１４個）の露光ヘッド１６６を備えている。この例では、感光性転写シート１５０の幅との関係で、３行目には４個の露光ヘッド１６６を配置した。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド１６６ｍｎと表記する。
露光ヘッド１６６による露光エリア１６８は、副走査方向を短辺とする矩形状である。従って、ステージ１５２の移動に伴い、感光性転写シート１５０には露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア１６８ｍｎと表記する。
また、図１６（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０が副走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本例では２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア１６８１１と露光エリア１６８１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア１６８２１と３行目の露光エリア１６８３１とにより露光することができる。
露光ヘッド１６６１１〜１６６ｍｎ各々は、図１７及び図１８に示すように、入射された光ビームをパターン情報に応じて前記光変調手段（各描素毎に変調する空間光変調素子）として、米国テキサス・インスツルメンツ社製のデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５０を備えている。ＤＭＤ５０は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えた前記コントローラ３０２（図１９参照）に接続されている。このコントローラ３０２のデータ処理部では、入力されたパターン情報に基づいて、露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。なお、制御すべき領域については後述する。また、ミラー駆動制御部では、パターン情報処理部で生成した制御信号に基づいて、露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、反射面の角度の制御に付いては後述する。
ＤＭＤ５０の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア１６８の長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源６６、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系６７、レンズ系６７を透過したレーザ光をＤＭＤ５０に向けて反射するミラー６９がこの順に配置されている。なお、図１７では、レンズ系６７を概略的に示してある。
レンズ系６７は、図１８に詳しく示すように、ファイバアレイ光源６６から出射した照明光としてのレーザ光Ｂを集光する集光レンズ７１、集光レンズ７１を通過した光の光路に挿入されたロッド状オプティカルインテグレータ（以下、ロッドインテグレータという）７２、及びロッドインテグレータ７２の前方つまりミラー６９側に配置された結像レンズ７４から構成されている。集光レンズ７１、ロッドインテグレータ７２及び結像レンズ７４は、ファイバアレイ光源６６から出射したレーザ光を、平行光に近くかつビーム断面内強度が均一化された光束としてＤＭＤ５０に入射させる。このロッドインテグレータ７２の形状や作用については、後に詳しく説明する。
レンズ系６７から出射したレーザ光Ｂは、ミラー６９で反射し、ＴＩＲ（全反射）プリズム７０を介してＤＭＤ５０に照射される。なお、図１７では、このＴＩＲプリズム７０は省略してある。
また、ＤＭＤ５０の光反射側には、ＤＭＤ５０で反射されたレーザ光Ｂを、感光性転写シート１５０上に結像する結像光学系５１が配置されている。この結像光学系５１は、図１７では概略的に示してあるが、図１８に詳細を示すように、レンズ系５２，５４からなる第１結像光学系と、レンズ系５７，５８からなる第２結像光学系と、これらの結像光学系の間に挿入されたマイクロレンズアレイ５５と、アパーチャアレイ５９とから構成されている。
マイクロレンズアレイ５５は、ＤＭＤ５０の各描素に対応する多数のマイクロレンズ５５ａが２次元状に配列されてなるものである。本例では、後述するようにＤＭＤ５０の１０２４個×７６８列のマイクロミラーのうち１０２４個×２５６列だけが駆動されるので、それに対応させてマイクロレンズ５５ａは１０２４個×２５６列配置されている。またマイクロレンズ５５ａの配置ピッチは縦方向、横方向とも４１μｍである。このマイクロレンズ５５ａは、一例として焦点距離が０．１９ｍｍ、ＮＡ（開口数）が０．１１で、光学ガラスＢＫ７から形成されている。なおマイクロレンズ５５ａの形状については、後に詳しく説明する。そして、各マイクロレンズ５５ａの位置におけるレーザ光Ｂのビーム径は、４１μｍである。
また、アパーチャアレイ５９は、マイクロレンズアレイ５５の各マイクロレンズ５５ａに対応する多数のアパーチャ（開口）５９ａが形成されてなるものである。アパーチャ５９ａの径は、例えば、１０μｍである。
前記第１結像光学系は、ＤＭＤ５０による像を３倍に拡大してマイクロレンズアレイ５５上に結像する。そして、前記第２結像光学系は、マイクロレンズアレイ５５を経た像を１．６倍に拡大して感光性転写シート１５０上に結像、投影する。したがって全体では、ＤＭＤ５０による像が４．８倍に拡大して感光性転写シート１５０上に結像、投影されることになる。
なお、前記第２結像光学系と感光性転写シート１５０との間にプリズムペア７３が配設され、このプリズムペア７３を図１８中で上下方向に移動させることにより、感光性転写シート１５０上における像のピントを調節可能となっている。なお同図中において、感光性転写シート１５０は矢印Ｆ方向に副走査送りされる。
前記描素部としては、前記光照射手段からの光を受光し出射することができる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、本発明のパターン形成方法により形成されるパターンが画像パターンである場合には、画素であり、前記光変調手段がＤＭＤを含む場合にはマイクロミラーである。
前記光変調素子が有する描素部の数（前記ｎ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光変調素子における描素部の配列としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、２次元状に配列していることが好ましく、格子状に配列していることがより好ましい。
―――光照射手段―――
前記光照射手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（超）高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、ハロゲンランプ、複写機用などの蛍光管、ＬＥＤ、半導体レーザ等の公知光源、又は２以上の光を合成して照射可能な手段が挙げられ、これらの中でも２以上の光を合成して照射可能な手段が好ましい。
前記光照射手段から照射される光としては、例えば、支持体を介して光照射を行う場合には、該支持体を透過し、かつ用いられる光重合開始剤や増感剤を活性化する電磁波、紫外から可視光線、電子線、Ｘ線、レーザ光などが挙げられ、これらの中でもレーザ光が好ましく、２以上の光を合成したレーザ（以下、「合波レーザ」と称することがある）がより好ましい。また支持体を剥離してから光照射を行う場合でも、同様の光を用いることができる。
前記紫外から可視光線の波長としては、例えば、３００〜１５００ｎｍが好ましく、３２０〜８００ｎｍがより好ましく、３３０ｎｍ〜６５０ｎｍが特に好ましい。
前記レーザ光の波長としては、例えば、２００〜１５００ｎｍが好ましく、３００〜８００ｎｍがより好ましく、３３０ｎｍ〜５００ｎｍが更に好ましく、４００ｎｍ〜４５０ｎｍが特に好ましい。
前記合波レーザを照射可能な手段としては、例えば、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射したレーザ光を集光して前記マルチモード光ファイバに結合させる集合光学系とを有する手段が好ましい。
以下、前記合波レーザを照射可能な手段（ファイバアレイ光源）について図を参照しながら説明する。
ファイバアレイ光源６６は図３４ａに示すように、複数（例えば、１４個）のレーザモジュール６４を備えており、各レーザモジュール６４には、マルチモード光ファイバ３０の一端が結合されている。マルチモード光ファイバ３０の他端には、コア径がマルチモード光ファイバ３０と同一でかつクラッド径がマルチモード光ファイバ３０より小さい光ファイバ３１が結合されている。図３４ｂに詳しく示すように、マルチモード光ファイバ３１の光ファイバ３０と反対側の端部は副走査方向と直交する主走査方向に沿って７個並べられ、それが２列に配列されてレーザ出射部６８が構成されている。
マルチモード光ファイバ３１の端部で構成されるレーザ出射部６８は、図３４ｂに示すように、表面が平坦な２枚の支持板６５に挟み込まれて固定されている。また、マルチモード光ファイバ３１の光出射端面には、その保護のために、ガラス等の透明な保護板が配置されるのが望ましい。マルチモード光ファイバ３１の光出射端面は、光密度が高いため集塵し易く劣化し易いが、上述のような保護板を配置することにより、端面への塵埃の付着を防止し、また劣化を遅らせることができる。
この例では、クラッド径が小さい光ファイバ３１の出射端を隙間無く１列に配列するために、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバ３０の間にマルチモード光ファイバ３０を積み重ね、積み重ねられたマルチモード光ファイバ３０に結合された光ファイバ３１の出射端が、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバ３０に結合された光ファイバ３１の２つの出射端の間に挟まれるように配列されている。
このような光ファイバは、例えば、図３５に示すように、クラッド径が大きいマルチモード光ファイバ３０のレーザ光出射側の先端部分に、長さ１〜３０ｃｍのクラッド径が小さい光ファイバ３１を同軸的に結合することにより得ることができる。２本の光ファイバは、光ファイバ３１の入射端面が、マルチモード光ファイバ３０の出射端面に、両光ファイバの中心軸が一致するように融着されて結合されている。上述した通り、光ファイバ３１のコア３１ａの径は、マルチモード光ファイバ３０のコア３０ａの径と同じ大きさである。
また、長さが短くクラッド径が大きい光ファイバにクラッド径が小さい光ファイバを融着させた短尺光ファイバを、フェルールや光コネクタ等を介してマルチモード光ファイバ３０の出射端に結合してもよい。コネクタ等を用いて着脱可能に結合することで、クラッド径が小さい光ファイバが破損した場合等に先端部分の交換が容易になり、露光ヘッドのメンテナンスに要するコストを低減できる。なお、以下では、光ファイバ３１を、マルチモード光ファイバ３０の出射端部と称する場合がある。
マルチモード光ファイバ３０及び光ファイバ３１としては、ステップインデックス型光ファイバ、グレーテッドインデックス型光ファイバ、及び複合型光ファイバの何れでもよい。例えば、三菱電線工業株式会社製のステップインデックス型光ファイバを用いることができる。本実施の形態では、マルチモード光ファイバ３０及び光ファイバ３１は、ステップインデックス型光ファイバであり、マルチモード光ファイバ３０は、クラッド径＝１２５μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２、入射端面コートの透過率＝９９．５％以上であり、光ファイバ３１は、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２である。
一般に、赤外領域のレーザ光では、光ファイバのクラッド径を小さくすると伝搬損失が増加する。このため、レーザ光の波長帯域に応じて好適なクラッド径が決定されている。しかしながら、波長が短いほど伝搬損失は少なくなり、ＧａＮ系半導体レーザから出射された波長４０５ｎｍのレーザ光では、クラッドの厚み｛（クラッド径−コア径）／２｝を８００ｎｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の１／２程度、通信用の１．５μｍの波長帯域の赤外光を伝搬させる場合の約１／４にしても、伝搬損失は殆ど増加しない。従って、クラッド径を６０μｍと小さくすることができる。
但し、光ファイバ３１のクラッド径は６０μｍには限定されない。従来のファイバアレイ光源に使用されている光ファイバのクラッド径は１２５μｍであるが、クラッド径が小さくなるほど焦点深度がより深くなるので、マルチモード光ファイバのクラッド径は８０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以下が特に好ましい。一方、コア径は少なくとも３〜４μｍ必要であることから、光ファイバ３１のクラッド径は１０μｍ以上が好ましい。
レーザモジュール６４は、図３６に示す合波レーザ光源（ファイバアレイ光源）によって構成されている。この合波レーザ光源は、ヒートブロック１０上に配列固定された複数（例えば、７個）のチップ状の横マルチモード又はシングルモードのＧａＮ系半導体レーザＬＤ１，ＬＤ２，ＬＤ３，ＬＤ４，ＬＤ５，ＬＤ６，及びＬＤ７と、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメータレンズ１１，１２，１３，１４，１５，１６，及び１７と、１つの集光レンズ２０と、１本のマルチモード光ファイバ３０と、から構成されている。なお、半導体レーザの個数は７個には限定されない。例えば、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝５０μｍ、ＮＡ＝０．２のマルチモード光ファイバには、２０個もの半導体レーザ光を入射することが可能であり、露光ヘッドの必要光量を実現して、かつ光ファイバ本数をより減らすことができる。
ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７は、発振波長が総て共通（例えば、４０５ｎｍ）であり、最大出力も総て共通（例えば、マルチモードレーザでは１００ｍＷ、シングルモードレーザでは３０ｍＷ）である。なお、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７としては、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長範囲で、上記の４０５ｎｍ以外の発振波長を備えるレーザを用いてもよい。
前記合波レーザ光源は、図３７及び図３８に示すように、他の光学要素と共に、上方が開口した箱状のパッケージ４０内に収納されている。パッケージ４０は、その開口を閉じるように作成されたパッケージ蓋４１を備えており、脱気処理後に封止ガスを導入し、パッケージ４０の開口をパッケージ蓋４１で閉じることにより、パッケージ４０とパッケージ蓋４１とにより形成される閉空間（封止空間）内に上記合波レーザ光源が気密封止されている。
パッケージ４０の底面にはベース板４２が固定されており、このベース板４２の上面には、前記ヒートブロック１０と、集光レンズ２０を保持する集光レンズホルダー４５と、マルチモード光ファイバ３０の入射端部を保持するファイバホルダー４６とが取り付けられている。マルチモード光ファイバ３０の出射端部は、パッケージ４０の壁面に形成された開口からパッケージ外に引き出されている。
また、ヒートブロック１０の側面にはコリメータレンズホルダー４４が取り付けられており、コリメータレンズ１１〜１７が保持されている。パッケージ４０の横壁面には開口が形成され、この開口を通してＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７に駆動電流を供給する配線４７がパッケージ外に引き出されている。
なお、図３８においては、図の煩雑化を避けるために、複数のＧａＮ系半導体レーザのうちＧａＮ系半導体レーザＬＤ７にのみ番号を付し、複数のコリメータレンズのうちコリメータレンズ１７にのみ番号を付している。
図３９は、前記コリメータレンズ１１〜１７の取り付け部分の正面形状を示すものである。コリメータレンズ１１〜１７の各々は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取った形状に形成されている。この細長形状のコリメータレンズは、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することによって形成することができる。コリメータレンズ１１〜１７は、長さ方向がＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の発光点の配列方向（図３９の左右方向）と直交するように、上記発光点の配列方向に密接配置されている。
一方、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７としては、発光幅が２μｍの活性層を備え、活性層と平行な方向、直角な方向の拡がり角が各々例えば１０°、３０°の状態で各々レーザ光Ｂ１〜Ｂ７を発するレーザが用いられている。これらＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７は、活性層と平行な方向に発光点が１列に並ぶように配設されている。
したがって、各発光点から発せられたレーザ光Ｂ１〜Ｂ７は、上述のように細長形状の各コリメータレンズ１１〜１７に対して、拡がり角度が大きい方向が長さ方向と一致し、拡がり角度が小さい方向が幅方向（長さ方向と直交する方向）と一致する状態で入射することになる。つまり、各コリメータレンズ１１〜１７の幅が１．１ｍｍ、長さが４．６ｍｍであり、それらに入射するレーザ光Ｂ１〜Ｂ７の水平方向、垂直方向のビーム径は各々０．９ｍｍ、２．６ｍｍである。また、コリメータレンズ１１〜１７の各々は、焦点距離ｆ１＝３ｍｍ、ＮＡ＝０．６、レンズ配置ピッチ＝１．２５ｍｍである。
集光レンズ２０は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取って、コリメータレンズ１１〜１７の配列方向、つまり水平方向に長く、それと直角な方向に短い形状に形成されている。この集光レンズ２０は、焦点距離ｆ２＝２３ｍｍ、ＮＡ＝０．２である。この集光レンズ２０も、例えば、樹脂又は光学ガラスをモールド成形することにより形成される。
また、ＤＭＤを照明する光照射手段に、合波レーザ光源の光ファイバの出射端部をアレイ状に配列した高輝度のファイバアレイ光源を用いているので、高出力でかつ深い焦点深度を備えたパターン形成装置を実現することができる。更に、各ファイバアレイ光源の出力が大きくなることで、所望の出力を得るために必要なファイバアレイ光源数が少なくなり、パターン形成装置の低コスト化が図られる。
また、光ファイバの出射端のクラッド径を入射端のクラッド径よりも小さくしているので、発光部径がより小さくなり、ファイバアレイ光源の高輝度化が図られる。これにより、より深い焦点深度を備えたパターン形成装置を実現することができる。例えば、ビーム径１μｍ以下、解像度０．１μｍ以下の超高解像度露光の場合にも、深い焦点深度を得ることができ、高速かつ高精細な露光が可能となる。したがって、高解像度が必要とされる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）の露光工程に好適である。
また、前記光照射手段としては、前記合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源に限定されず、例えば、１個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する１本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源を用いることができる。
また、複数の発光点を備えた光照射手段としては、例えば、図４０に示すように、ヒートブロック１００上に、複数（例えば、７個）のチップ状の半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７を配列したレーザアレイを用いることができる。また、図４１（Ａ）に示す、複数（例えば、５個）の発光点１１０ａが所定方向に配列されたチップ状のマルチキャビティレーザ１１０が知られている。マルチキャビティレーザ１１０は、チップ状の半導体レーザを配列する場合と比べ、発光点を位置精度良く配列できるので、各発光点から出射されるレーザ光を合波し易い。但し、発光点が多くなるとレーザ製造時にマルチキャビティレーザ１１０に撓みが発生し易くなるため、発光点１１０ａの個数は５個以下とするのが好ましい。
前記光照射手段としては、このマルチキャビティレーザ１１０や、図４１（Ｂ）に示すように、ヒートブロック１００上に、複数のマルチキャビティレーザ１１０が各チップの発光点１１０ａの配列方向と同じ方向に配列されたマルチキャビティレーザアレイを、レーザ光源として用いることができる。
また、合波レーザ光源は、複数のチップ状の半導体レーザから出射されたレーザ光を合波するものには限定されない。例えば、図２８に示すように、複数（例えば、３個）の発光点１１０ａを有するチップ状のマルチキャビティレーザ１１０を備えた合波レーザ光源を用いることができる。この合波レーザ光源は、マルチキャビティレーザ１１０と、１本のマルチモード光ファイバ１３０と、集光レンズ１２０と、を備えて構成されている。マルチキャビティレーザ１１０は、例えば、発振波長が４０５ｎｍのＧａＮ系レーザダイオードで構成することができる。
前記構成では、マルチキャビティレーザ１１０の複数の発光点１１０ａの各々から出射したレーザ光Ｂの各々は、集光レンズ１２０によって集光され、マルチモード光ファイバ１３０のコア１３０ａに入射する。コア１３０ａに入射したレーザ光は、光ファイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
マルチキャビティレーザ１１０の複数の発光点１１０ａを、上記マルチモード光ファイバ１３０のコア径と略等しい幅内に並設すると共に、集光レンズ１２０として、マルチモード光ファイバ１３０のコア径と略等しい焦点距離の凸レンズや、マルチキャビティレーザ１１０からの出射ビームをその活性層に垂直な面内のみでコリメートするロッドレンズを用いることにより、レーザ光Ｂのマルチモード光ファイバ１３０への結合効率を上げることができる。
また、図４２に示すように、複数（例えば、３個）の発光点を備えたマルチキャビティレーザ１１０を用い、ヒートブロック１１１上に複数（例えば、９個）のマルチキャビティレーザ１１０が互いに等間隔で配列されたレーザアレイ１４０を備えた合波レーザ光源を用いることができる。複数のマルチキャビティレーザ１１０は、各チップの発光点１１０ａの配列方向と同じ方向に配列されて固定されている。
この合波レーザ光源は、レーザアレイ１４０と、各マルチキャビティレーザ１１０に対応させて配置した複数のレンズアレイ１１４と、レーザアレイ１４０と複数のレンズアレイ１１４との間に配置された１本のロッドレンズ１１３と、１本のマルチモード光ファイバ１３０と、集光レンズ１２０と、を備えて構成されている。レンズアレイ１１４は、マルチキャビティレーザ１１０の発光点に対応した複数のマイクロレンズを備えている。
上記の構成では、複数のマルチキャビティレーザ１１０の複数の発光点１１０ａの各々から出射したレーザ光Ｂの各々は、ロッドレンズ１１３により所定方向に集光された後、レンズアレイ１１４の各マイクロレンズにより平行光化される。平行光化されたレーザ光Ｌは、集光レンズ１２０によって集光され、マルチモード光ファイバ１３０のコア１３０ａに入射する。コア１３０ａに入射したレーザ光は、光ファイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
更に他の合波レーザ光源の例を示す。この合波レーザ光源は、図４３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、略矩形状のヒートブロック１８０上に光軸方向の断面がＬ字状のヒートブロック１８２が搭載され、２つのヒートブロック間に収納空間が形成されている。Ｌ字状のヒートブロック１８２の上面には、複数の発光点（例えば、５個）がアレイ状に配列された複数（例えば、２個）のマルチキャビティレーザ１１０が、各チップの発光点１１０ａの配列方向と同じ方向に等間隔で配列されて固定されている。
略矩形状のヒートブロック１８０には凹部が形成されており、ヒートブロック１８０の空間側上面には、複数の発光点（例えば、５個）がアレイ状に配列された複数（例えば、２個）のマルチキャビティレーザ１１０が、その発光点がヒートブロック１８２の上面に配置されたレーザチップの発光点と同じ鉛直面上に位置するように配置されている。
マルチキャビティレーザ１１０のレーザ光出射側には、各チップの発光点１１０ａに対応してコリメートレンズが配列されたコリメートレンズアレイ１８４が配置されている。コリメートレンズアレイ１８４は、各コリメートレンズの長さ方向とレーザ光の拡がり角が大きい方向（速軸方向）とが一致し、各コリメートレンズの幅方向が拡がり角が小さい方向（遅軸方向）と一致するように配置されている。このように、コリメートレンズをアレイ化して一体化することで、レーザ光の空間利用効率が向上し合波レーザ光源の高出力化が図られると共に、部品点数が減少し低コスト化することができる。
また、コリメートレンズアレイ１８４のレーザ光出射側には、１本のマルチモード光ファイバ１３０と、このマルチモード光ファイバ１３０の入射端にレーザ光を集光して結合する集光レンズ１２０と、が配置されている。
前記構成では、レーザブロック１８０、１８２上に配置された複数のマルチキャビティレーザ１１０の複数の発光点１１０ａの各々から出射したレーザ光Ｂの各々は、コリメートレンズアレイ１８４により平行光化され、集光レンズ１２０によって集光されて、マルチモード光ファイバ１３０のコア１３０ａに入射する。コア１３０ａに入射したレーザ光は、光ファイバ内を伝搬し、１本に合波されて出射する。
前記合波レーザ光源は、上記の通り、マルチキャビティレーザの多段配置とコリメートレンズのアレイ化とにより、特に高出力化を図ることができる。この合波レーザ光源を用いることにより、より高輝度なファイバアレイ光源やバンドルファイバ光源を構成することができるので、本発明のパターン形成装置のレーザ光源を構成するファイバ光源として特に好適である。
なお、前記各合波レーザ光源をケーシング内に収納し、マルチモード光ファイバ１３０の出射端部をそのケーシングから引き出したレーザモジュールを構成することができる。
また、合波レーザ光源のマルチモード光ファイバの出射端に、コア径がマルチモード光ファイバと同一でかつクラッド径がマルチモード光ファイバより小さい他の光ファイバを結合してファイバアレイ光源の高輝度化を図る例について説明したが、例えば、クラッド径が１２５μｍ、８０μｍ、６０μｍ等のマルチモード光ファイバを、出射端に他の光ファイバを結合せずに使用してもよい。
ここで、本発明の前記パターン形成方法について更に説明する。スキャナ１６２の各露光ヘッド１６６において、ファイバアレイ光源６６の合波レーザ光源を構成するＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の各々から発散光状態で出射したレーザ光Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４，Ｂ５，Ｂ６，及びＢ７の各々は、対応するコリメータレンズ１１〜１７によって平行光化される。平行光化されたレーザ光Ｂ１〜Ｂ７は、集光レンズ２０によって集光され、マルチモード光ファイバ３０のコア３０ａの入射端面に収束する。
本例では、コリメータレンズ１１〜１７及び集光レンズ２０によって集光光学系が構成され、その集光光学系とマルチモード光ファイバ３０とによって合波光学系が構成されている。即ち、集光レンズ２０によって上述のように集光されたレーザ光Ｂ１〜Ｂ７が、このマルチモード光ファイバ３０のコア３０ａに入射して光ファイバ内を伝搬し、１本のレーザ光Ｂに合波されてマルチモード光ファイバ３０の出射端部に結合された光ファイバ３１から出射する。
各レーザモジュールにおいて、レーザ光Ｂ１〜Ｂ７のマルチモード光ファイバ３０への結合効率が０．８５で、ＧａＮ系半導体レーザＬＤ１〜ＬＤ７の各出力が３０ｍＷの場合には、アレイ状に配列された光ファイバ３１の各々について、出力１８０ｍＷ（＝３０ｍＷ×０．８５×７）の合波レーザ光Ｂを得ることができる。従って、６本の光ファイバ３１がアレイ状に配列されたレーザ出射部６８での出力は約１Ｗ（＝１８０ｍＷ×６）である。
ファイバアレイ光源６６のレーザ出射部６８には、この通り高輝度の発光点が主走査方向に沿って一列に配列されている。単一の半導体レーザからのレーザ光を１本の光ファイバに結合させる従来のファイバ光源は低出力であるため、多数列配列しなければ所望の出力を得ることができなかったが、前記合波レーザ光源は高出力であるため、少数列、例えば１列でも所望の出力を得ることができる。
例えば、半導体レーザと光ファイバを１対１で結合させた従来のファイバ光源では、通常、半導体レーザとしては出力３０ｍＷ（ミリワット）程度のレーザが使用され、光ファイバとしてはコア径５０μｍ、クラッド径１２５μｍ、ＮＡ（開口数）０．２のマルチモード光ファイバが使用されているので、約１Ｗ（ワット）の出力を得ようとすれば、マルチモード光ファイバを４８本（８×６）束ねなければならず、発光領域の面積は０．６２ｍｍ２（０．６７５ｍｍ×０．９２５ｍｍ）であるから、レーザ出射部６８での輝度は１．６×１０６（Ｗ／ｍ２）、光ファイバ１本当りの輝度は３．２×１０６（Ｗ／ｍ２）である。
これに対し、前記光照射手段が合波レーザを照射可能な手段である場合には、マルチモード光ファイバ６本で約１Ｗの出力を得ることができ、レーザ出射部６８での発光領域の面積は０．００８１ｍｍ２（０．３２５ｍｍ×０．０２５ｍｍ）であるから、レーザ出射部６８での輝度は１２３×１０６（Ｗ／ｍ２）となり、従来に比べ約８０倍の高輝度化を図ることができる。また、光ファイバ１本当りの輝度は９０×１０６（Ｗ／ｍ２）であり、従来に比べ約２８倍の高輝度化を図ることができる。
ここで、図４４（Ａ）及び（Ｂ）を参照して、従来の露光ヘッドと本実施の形態の露光ヘッドとの焦点深度の違いについて説明する。従来の露光ヘッドのバンドル状ファイバ光源の発光領域の副走査方向の径は０．６７５ｍｍであり、露光ヘッドのファイバアレイ光源の発光領域の副走査方向の径は０．０２５ｍｍである。図４４（Ａ）に示すように、従来の露光ヘッドでは、光照射手段（バンドル状ファイバ光源）１の発光領域が大きいので、ＤＭＤ３へ入射する光束の角度が大きくなり、結果として走査面５へ入射する光束の角度が大きくなる。このため、集光方向（ピント方向のずれ）に対してビーム径が太りやすい。
一方、図４４（Ｂ）に示すように、本発明のパターン形成装置における露光ヘッドでは、ファイバアレイ光源６６の発光領域の副走査方向の径が小さいので、レンズ系６７を通過してＤＭＤ５０へ入射する光束の角度が小さくなり、結果として走査面５６へ入射する光束の角度が小さくなる。即ち、焦点深度が深くなる。この例では、発光領域の副走査方向の径は従来の約３０倍になっており、略回折限界に相当する焦点深度を得ることができる。従って、微小スポットの露光に好適である。この焦点深度への効果は、露光ヘッドの必要光量が大きいほど顕著であり、有効である。この例では、露光面に投影された１描素サイズは１０μｍ×１０μｍである。なお、ＤＭＤは反射型の空間光変調素子であるが、図４４（Ａ）及び（Ｂ）は、光学的な関係を説明するために展開図とした。
露光パターンに応じたパターン情報が、ＤＭＤ５０に接続された図示しないコントローラに入力され、コントローラ内のフレームメモリに一旦記憶される。このパターン情報は、画像を構成する各描素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。
感光性転写シート１５０を表面に吸着したステージ１５２は、図示しない駆動装置により、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の上流側から下流側に一定速度で移動される。ステージ１５２がゲート１６０下を通過する際に、ゲート１６０に取り付けられた検知センサ１６４により感光性転写シート１５０の先端が検出されると、フレームメモリに記憶されたパターン情報が複数ライン分ずつ順次読み出され、データ処理部で読み出されたパターン情報に基づいて各露光ヘッド１６６毎に制御信号が生成される。そして、ミラー駆動制御部により、生成された制御信号に基づいて露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０のマイクロミラーの各々がオンオフ制御される。
ファイバアレイ光源６６からＤＭＤ５０にレーザ光が照射されると、ＤＭＤ５０のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、レンズ系５４、５８により感光性転写シート１５０の被露光面５６上に結像される。このようにして、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光が描素毎にオンオフされて、感光性転写シート１５０がＤＭＤ５０の使用描素数と略同数の描素単位（露光エリア１６８）で露光される。また、感光性転写シート１５０がステージ１５２と共に一定速度で移動されることにより、感光性転写シート１５０がスキャナ１６２によりステージ移動方向と反対の方向に副走査され、露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。
―――マイクロレンズアレイ―――
前記露光は、前記変調させた光を、マイクロレンズアレイを通して行うことが好ましく、更にアパーチャアレイ、結像光学系等などを通して行ってもよい。
前記マイクロレンズアレイとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したものが好適に挙げられる。
前記非球面としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、トーリック面が好ましい。
以下、前記マイクロレンズアレイ、前記アパーチャアレイ、及び前記結像光学系等について図面を参照しながら説明する。
図２０（Ａ）は、ＤＭＤ５０、ＤＭＤ５０にレーザ光を照射する光照射手段１４４、ＤＭＤ５０で反射されたレーザ光を拡大して結像するレンズ系（結像光学系）４５４、４５８、ＤＭＤ５０の各描素部に対応して多数のマイクロレンズ４７４が配置されたマイクロレンズアレイ４７２、マイクロレンズアレイ４７２の各マイクロレンズに対応して多数のアパーチャ４７８が設けられたアパーチャアレイ４７６、アパーチャを通過したレーザ光を被露光面５６に結像するレンズ系（結像光学系）４８０、４８２で構成される露光ヘッドを表す。
ここで図２１に、ＤＭＤ５０を構成するマイクロミラー６２の反射面の平面度を測定した結果を示す。同図においては、反射面の同じ高さ位置を等高線で結んで示してあり、等高線のピッチは５ｎｍである。なお同図に示すｘ方向及びｙ方向は、マイクロミラー６２の２つ対角線方向であり、マイクロミラー６２はｙ方向に延びる回転軸を中心として前述のように回転する。また、図２２の（Ａ）及び（Ｂ）にはそれぞれ、上記ｘ方向、ｙ方向に沿ったマイクロミラー６２の反射面の高さ位置変位を示す。
図２１及び図２２に示した通り、マイクロミラー６２の反射面には歪みが存在し、そして特にミラー中央部に注目してみると、１つの対角線方向（ｙ方向）の歪みが、別の対角線方向（ｘ方向）の歪みよりも大きくなっている。このため、マイクロレンズアレイ５５のマイクロレンズ５５ａで集光されたレーザ光Ｂの集光位置における形状が歪むという問題が発生し得る。
本発明のパターン形成方法においては前記問題を防止するために、マイクロレンズアレイ５５のマイクロレンズ５５ａが、従来とは異なる特殊な形状とされている。以下、その点について詳しく説明する。
図２３の（Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ、マイクロレンズアレイ５５全体の正面形状及び側面形状を詳しく示すものである。これらの図にはマイクロレンズアレイ５５の各部の寸法も記入してあり、それらの単位はｍｍである。本発明のパターン形成方法では、先に図１１を参照して説明したようにＤＭＤ５０の１０２４個×２５６列のマイクロミラー６２が駆動されるものであり、それに対応させてマイクロレンズアレイ５５は、横方向に１０２４個並んだマイクロレンズ５５ａの列を縦方向に２５６列並設して構成されている。なお、同図（Ａ）では、マイクロレンズアレイ５５の並び順を横方向についてはｊで、縦方向についてはｋで示している。
また、図２４の（Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ、マイクロレンズアレイ５５における１つのマイクロレンズ５５ａの正面形状及び側面形状を示すものである。なお同図（Ａ）には、マイクロレンズ５５ａの等高線を併せて示してある。各マイクロレンズ５５ａの光出射側の端面は、マイクロミラー６２の反射面の歪みによる収差を補正する非球面形状とされている。より具体的には、マイクロレンズ５５ａはトーリックレンズとされており、上記ｘ方向に光学的に対応する方向の曲率半径Ｒｘ＝−０．１２５ｍｍ、上記ｙ方向に対応する方向の曲率半径Ｒｙ＝−０．１ｍｍである。
したがって、上記ｘ方向及びｙ方向に平行な断面内におけるレーザ光Ｂの集光状態は、概略、それぞれ図２５の（Ａ）及び（Ｂ）に示す通りとなる。つまり、ｘ方向に平行な断面内とｙ方向に平行な断面内とを比較すると、後者の断面内の方がマイクロレンズ５５ａの曲率半径がより小であって、焦点距離がより短くなっている。
マイクロレンズ５５ａを前記形状とした場合の、該マイクロレンズ５５ａの集光位置（焦点位置）近傍におけるビーム径を計算機によってシミュレーションした結果を図２６ａ、ｂ、ｃ、及びｄに示す。また比較のために、マイクロレンズ５５ａが曲率半径Ｒｘ＝Ｒｙ＝−０．１ｍｍの球面形状である場合について、同様のシミュレーションを行った結果を図２７ａ、ｂ、ｃ及びｄに示す。なお、各図におけるｚの値は、マイクロレンズ５５ａのピント方向の評価位置を、マイクロレンズ５５ａのビーム出射面からの距離で示している。
また、前記シミュレーションに用いたマイクロレンズ５５ａの面形状は、下記計算式で計算される。
但し、前記計算式において、Ｃｘは、ｘ方向の曲率（＝１／Ｒｘ）を意味し、Ｃｙは、ｙ方向の曲率（＝１／Ｒｙ）を意味し、Ｘは、ｘ方向に関するレンズ光軸Ｏからの距離を意味し、Ｙは、ｙ方向に関するレンズ光軸Ｏからの距離を意味する。
図２６ａ〜ｄと図２７ａ〜ｄとを比較すると明らかなように、本発明のパターン形成方法ではマイクロレンズ５５ａを、ｙ方向に平行な断面内の焦点距離がｘ方向に平行な断面内の焦点距離よりも小さいトーリックレンズとしたことにより、その集光位置近傍におけるビーム形状の歪みが抑制される。そうであれば、歪みの無い、より高精細な画像を感光性転写シート１５０に露光可能となる。また、図２６ａ〜ｄに示す本実施形態の方が、ビーム径の小さい領域がより広い、すなわち焦点深度がより大であることが判る。。
なお、マイクロミラー６２のｘ方向及びｙ方向に関する中央部の歪の大小関係が、上記と逆になっている場合は、ｘ方向に平行な断面内の焦点距離がｙ方向に平行な断面内の焦点距離よりも小さいトーリックレンズからマイクロレンズを構成すれば、同様に、歪みの無い、より高精細な画像を感光性転写シート１５０に露光可能となる。
また、マイクロレンズアレイ５５の集光位置近傍に配置されたアパーチャアレイ５９は、その各アパーチャ５９ａに、それと対応するマイクロレンズ５５ａを経た光のみが入射するように配置されたものである。すなわち、このアパーチャアレイ５９が設けられていることにより、各アパーチャ５９ａに、それと対応しない隣接のマイクロレンズ５５ａからの光が入射することが防止され、消光比が高められる。
本来、上記目的で設置されるアパーチャアレイ５９のアパーチャ５９ａの径をある程度小さくすれば、マイクロレンズ５５ａの集光位置におけるビーム形状の歪みを抑制する効果も得られる。しかしそのようにした場合は、アパーチャアレイ５９で遮断される光量がより多くなり、光利用効率が低下することになる。それに対してマイクロレンズ５５ａを非球面形状とする場合は、光を遮断することがないので、光利用効率も高く保たれる。
また、本発明のパターン形成方法において、マイクロレンズ５５ａは、２次の非球面形状であってもよく、より高次（４次、６次・・・）の非球面形状であってもよい。前記高次の非球面形状を採用することにより、ビーム形状をさらに高精細にすることができる。
また、以上説明した実施形態では、マイクロレンズ５５ａの光出射側の端面が非球面（トーリック面）とされているが、２つの光通過端面の一方を球面とし、他方をシリンドリカル面としたマイクロレンズからマイクロレンズアレイを構成して、上記実施形態と同様の効果を得ることもできる。
さらに、以上説明した実施形態においては、マイクロレンズアレイ５５のマイクロレンズ５５ａが、マイクロミラー６２の反射面の歪みによる収差を補正する非球面形状とされているが、このような非球面形状を採用する代わりに、マイクロレンズアレイを構成する各マイクロレンズに、マイクロミラー６２の反射面の歪みによる収差を補正する屈折率分布を持たせても、同様の効果を得ることができる。
そのようなマイクロレンズ１５５ａの一例を図２９に示す。同図の（Ａ）及び（Ｂ）はそれぞれ、このマイクロレンズ１５５ａの正面形状及び側面形状を示すものであり、図示の通りこのマイクロレンズ１５５ａの外形形状は平行平板状である。なお、同図におけるｘ、ｙ方向は、既述した通りである。
また、図３０の（Ａ）及び（Ｂ）は、このマイクロレンズ１５５ａによる上記ｘ方向及びｙ方向に平行な断面内におけるレーザ光Ｂの集光状態を概略的に示している。このマイクロレンズ１５５ａは、光軸Ｏから外方に向かって次第に増大する屈折率分布を有するものであり、同図においてマイクロレンズ１５５ａ内に示す破線は、その屈折率が光軸Ｏから所定の等ピッチで変化した位置を示している。図示の通り、ｘ方向に平行な断面内とｙ方向に平行な断面内とを比較すると、後者の断面内の方がマイクロレンズ１５５ａの屈折率変化の割合がより大であって、焦点距離がより短くなっている。このような屈折率分布型レンズから構成されるマイクロレンズアレイを用いても、前記マイクロレンズアレイ５５を用いる場合と同様の効果を得ることができる。
なお、先に図２４及び図２５に示したマイクロレンズ５５ａのように面形状を非球面としたマイクロレンズにおいて、併せて上述のような屈折率分布を与え、面形状と屈折率分布の双方によって、マイクロミラー６２の反射面の歪みによる収差を補正するようにしてもよい。
また、上記の実施形態では、ＤＭＤ５０を構成するマイクロミラー６２の反射面の歪みによる収差を補正しているが、ＤＭＤ以外の空間光変調素子を用いる本発明のパターン形成方法においても、その空間光変調素子の描素部の面に歪みが存在する場合は、本発明を適用してその歪みによる収差を補正し、ビーム形状に歪みが生じることを防止可能である。
次に、前記結像光学系について更に説明する。
前記露光ヘッドでは、光照射手段１４４からレーザ光が照射されると、ＤＭＤ５０によりオン方向に反射される光束線の断面積が、レンズ系４５４、４５８により数倍（例えば、２倍）に拡大される。拡大されたレーザ光は、マイクロレンズアレイ４７２の各マイクロレンズによりＤＭＤ５０の各描素部に対応して集光され、アパーチャアレイ４７６の対応するアパーチャを通過する。アパーチャを通過したレーザ光は、レンズ系４８０、４８２により被露光面５６上に結像される。
この結像光学系では、ＤＭＤ５０により反射されたレーザ光は、拡大レンズ４５４、４５８により数倍に拡大されて被露光面５６に投影されるので、全体の画像領域が広くなる。このとき、マイクロレンズアレイ４７２及びアパーチャアレイ４７６が配置されていなければ、図２０（Ｂ）に示すように、被露光面５６に投影される各ビームスポットＢＳの１描素サイズ（スポットサイズ）が露光エリア４６８のサイズに応じて大きなものとなり、露光エリア４６８の鮮鋭度を表すＭＴＦ（Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ Ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）特性が低下する。
一方、マイクロレンズアレイ４７２及びアパーチャアレイ４７６を配置した場合には、ＤＭＤ５０により反射されたレーザ光は、マイクロレンズアレイ４７２の各マイクロレンズによりＤＭＤ５０の各描素部に対応して集光される。これにより、図２０（Ｃ）に示すように、露光エリアが拡大された場合でも、各ビームスポットＢＳのスポットサイズを所望の大きさ（例えば、１０μｍ×１０μｍ）に縮小することができ、ＭＴＦ特性の低下を防止して高精細な露光を行うことができる。なお、露光エリア４６８が傾いているのは、描素間の隙間を無くす為にＤＭＤ５０を傾けて配置しているからである。
また、マイクロレンズの収差によるビームの太りがあっても、アパーチャアレイによって被露光面５６上でのスポットサイズが一定の大きさになるようにビームを整形することができると共に、各描素に対応して設けられたアパーチャアレイを通過させることにより、隣接する描素間でのクロストークを防止することができる。
更に、光照射手段１４４に後述する高輝度光源を使用することにより、レンズ４５８からマイクロレンズアレイ４７２の各マイクロレンズに入射する光束の角度が小さくなるので、隣接する描素の光束の一部が入射するのを防止することができる。即ち、高消光比を実現することができる。
―――その他の光学系―――
本発明のパターン形成方法では、公知の光学系の中から適宜選択したその他の光学系と併用してもよく、例えば、１対の組合せレンズからなる光量分布補正光学系などが挙げられる。
前記光量分布補正光学系は、光軸に近い中心部の光束幅に対する周辺部の光束幅の比が入射側に比べて出射側の方が小さくなるように各出射位置における光束幅を変化させて、光照射手段からの平行光束をＤＭＤに照射するときに、被照射面での光量分布が略均一になるように補正する。以下、前記光量分布補正光学系について図面を参照しながら説明する。
まず、図３０（Ａ）に示したように、入射光束と出射光束とで、その全体の光束幅（全光束幅）Ｈ０、Ｈ１が同じである場合について説明する。なお、図３０（Ａ）において、符号５１、５２で示した部分は、前記光量分布補正光学系における入射面及び出射面を仮想的に示したものである。
前記光量分布補正光学系において、光軸Ｚ１に近い中心部に入射した光束と、周辺部に入射した光束とのそれぞれの光束幅ｈ０、ｈ１が、同一であるものとする（ｈ０＝ｈｌ）。前記光量分布補正光学系は、入射側において同一の光束幅ｈ０，ｈ１であった光に対し、中心部の入射光束については、その光束幅ｈ０を拡大し、逆に、周辺部の入射光束に対してはその光束幅ｈ１を縮小するような作用を施す。すなわち、中心部の出射光束の幅ｈ１０と、周辺部の出射光束の幅ｈ１１とについて、ｈ１１＜ｈ１０となるようにする。光束幅の比率で表すと、出射側における中心部の光束幅に対する周辺部の光束幅の比「ｈ１１／ｈ１０」が、入射側における比（ｈ１／ｈ０＝１）に比べて小さくなっている（（ｈ１１／ｈ１０）＜１）。
このように光束幅を変化させることにより、通常では光量分布が大きくなっている中央部の光束を、光量の不足している周辺部へと生かすことができ、全体として光の利用効率を落とさずに、被照射面での光量分布が略均一化される。均一化の度合いは、例えば、有効領域内における光量ムラが３０％以内、好ましくは２０％以内となるようにする。
前記光量分布補正光学系による作用、効果は、入射側と出射側とで、全体の光束幅を変える場合（図３１（Ｂ），（Ｃ））においても同様である。
図３１（Ｂ）は、入射側の全体の光束幅Ｈ０を、幅Ｈ２に“縮小”して出射する場合（Ｈ０＞Ｈ２）を示している。このような場合においても、前記光量分布補正光学系は、入射側において同一の光束幅ｈ０、ｈ１であった光を、出射側において、中央部の光束幅ｈ１０が周辺部に比べて大きくなり、逆に、周辺部の光束幅ｈ１１が中心部に比べて小さくなるようにする。光束の縮小率で考えると、中心部の入射光束に対する縮小率を周辺部に比べて小さくし、周辺部の入射光束に対する縮小率を中心部に比べて大きくするような作用を施している。この場合にも、中心部の光束幅に対する周辺部の光束幅の比「Ｈ１１／Ｈ１０」が、入射側における比（ｈ１／ｈ０＝１）に比べて小さくなる（（ｈ１１／ｈ１０）＜１）。
図３１（Ｃ）は、入射側の全体の光束幅Ｈ０を、幅Η３に“拡大”して出射する場合（Ｈ０＜Ｈ３）を示している。このような場合においても、前記光量分布補正光学系は、入射側において同一の光束幅ｈ０、ｈ１であった光を、出射側において、中央部の光束幅ｈ１０が周辺部に比べて大きくなり、逆に、周辺部の光束幅ｈ１１が中心部に比べて小さくなるようにする。光束の拡大率で考えると、中心部の入射光束に対する拡大率を周辺部に比べて大きくし、周辺部の入射光束に対する拡大率を中心部に比べて小さくするような作用を施している。この場合にも、中心部の光束幅に対する周辺部の光束幅の比「ｈ１１／ｈ１０」が、入射側における比（ｈ１／ｈ０＝１）に比べて小さくなる（（ｈ１１／ｈ１０）＜１）。
このように、前記光量分布補正光学系は、各出射位置における光束幅を変化させ、光軸Ｚ１に近い中心部の光束幅に対する周辺部の光束幅の比を入射側に比べて出射側の方が小さくなるようにしたので、入射側において同一の光束幅であった光が、出射側においては、中央部の光束幅が周辺部に比べて大きくなり、周辺部の光束幅は中心部に比べて小さくなる。これにより、中央部の光束を周辺部へと生かすことができ、光学系全体としての光の利用効率を落とさずに、光量分布の略均一化された光束断面を形成することができる。
次に、前記光量分布補正光学系として使用する１対の組合せレンズの具体的なレンズデータの１例を示す。この例では、前記光照射手段がレーザアレイ光源である場合のように、出射光束の断面での光量分布がガウス分布である場合のレンズデータを示す。なお、シングルモード光ファイバの入射端に１個の半導体レーザを接続した場合には、光ファイバからの射出光束の光量分布がガウス分布になる。本発明のパターン形成方法では、このような場合の適用も可能である。また、マルチモード光ファイバのコア径を小さくしてシングルモード光ファイバの構成に近付ける等により光軸に近い中心部の光量が周辺部の光量よりも大きい場合にも適用可能である。
下記表１に基本レンズデータを示す。
表１から判る。ように、１対の組合せレンズは、回転対称の２つの非球面レンズから構成されている。光入射側に配置された第１のレンズの光入射側の面を第１面、光出射側の面を第２面とすると、第１面は非球面形状である。また、光出射側に配置された第２のレンズの光入射側の面を第３面、光出射側の面を第４面とすると、第４面が非球面形状である。
表１において、面番号Ｓｉはｉ番目（ｉ＝１〜４）の面の番号を示し、曲率半径ｒｉはｉ番目の面の曲率半径を示し、面間隔ｄｉはｉ番目の面とｉ＋１番目の面との光軸上の面間隔を示す。面間隔ｄｉ値の単位はミリメートル（ｍｍ）である。屈折率Ｎｉはｉ番目の面を備えた光学要素の波長４０５ｎｍに対する屈折率の値を示す。下記表２に、第１面及び第４面の非球面データを示す。
上記の非球面データは、非球面形状を表す下記式（Ａ）における係数で表される。
上記式（Ａ）において各係数を以下の通り定義する。
Ｚ：光軸から高さρの位置にある非球面上の点から、非球面の頂点の接平面（光軸に垂直な平面）に下ろした垂線の長さ（ｍｍ）
ρ：光軸からの距離（ｍｍ）
Ｋ：円錐係数
Ｃ：近軸曲率（１／ｒ、ｒ：近軸曲率半径）
ａｉ：第ｉ次（ｉ＝３〜１０）の非球面係数
表２に示した数値において、記号“Ｅ”は、その次に続く数値が１０を底とした“べき指数″であることを示し、その１０を底とした指数関数で表される数値が“Ｅ”の前の数値に乗算されることを示す。例えば、「１．０Ｅ−０２」であれば、「１．０×１０−２」であることを示す。
図３３は、前記表１及び表２に示す１対の組合せレンズによって得られる照明光の光量分布を示している。横軸は光軸からの座標を示し、縦軸は光量比（％）を示す。なお、比較のために、図３２に、補正を行わなかった場合の照明光の光量分布（ガウス分布）を示す。図３２及び図３３から判る。ように、光量分布補正光学系で補正を行うことにより、補正を行わなかった場合と比べて、略均一化された光量分布が得られている。これにより、光の利用効率を落とさずに、均一なレーザ光でムラなく露光を行うことができる。
―（３）支持体除去工程―
前記支持体除去工程は、前記基体上に転写された本発明の感光性転写シートの支持体を取り除く工程であり、未硬化部分を現像により溶解除去する前に除かれていればよいため、工程（２）と工程（４）との間で行ってもよく、工程（１）と工程（２）との間で行なってもよい。
―（４）未硬化部分除去工程―
前記未硬化部分除去工程は、前記露光により前記感光性転写シートにおける感光層を露光し、該感光層の露光した領域を硬化させた後、未硬化領域を除去することにより現像し、パターンを形成する工程である。
前記未硬化部分除去工程は、例えば、現像手段により好適に実施することができる。前記現像手段としては、現像液を用いて現像することができる限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記現像液を噴霧する手段、前記現像液を塗布する手段、前記現像液に浸漬させる手段などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、前記現像手段は、前記現像液を交換する現像液交換手段、前記現像液を供給する現像液供給手段などを有していてもよい。
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ性液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。
前記弱アルカリ性の水溶液のｐＨとしては、例えば、約８〜１２が好ましく、約９〜１１がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液又は炭酸カリウム水溶液などが挙げられる。
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５℃〜４０℃が好ましい。
前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等）などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。
―その他の工程−
前記その他の工程としては、特に制限はなく、公知のパターン形成における工程の中から適宜選択することが挙げられるが、例えば、エッチング工程、メッキ工程などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記エッチング工程としては、公知のエッチング処理方法の中から適宜選択した方法により行うことができる。
前記エッチング処理に用いられるエッチング液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記金属層が銅で形成されている場合には、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などが挙げられ、これらの中でも、エッチングファクターの点から塩化第二鉄溶液が好ましい。
前記エッチング工程によりエッチング処理した後に前記パターンを除去することにより、前記基体の表面に永久パターンを形成することができる。
前記永久パターンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、配線パターンなどが好適に挙げられる。
前記メッキ工程としては、公知のメッキ処理の中から適宜選択した適宜選択した方法により行うことができる。
前記メッキ処理としては、例えば、硫酸銅メッキ、ピロリン酸銅メッキ等の銅メッキ、ハイフローはんだメッキ等のはんだメッキ、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）メッキ、スルファミン酸ニッケル等のニッケルメッキ、ハード金メッキ、ソフト金メッキ等の金メッキなど処理が挙げられる。
前記メッキ工程によりメッキ処理した後に前記パターンを除去することにより、また更に必要に応じて不要部をエッチング処理等で除去することにより、前記基体の表面に永久パターンを形成することができる。
次に、本発明の感光性転写シートを用いたスルーホールを有するプリント配線板の製造方法について、添付図面の図７を参照しながら説明する。図７は、図１に示した感光性転写シート、あるいは図２に示した感光性転写シートを用いる場合を示している。
まず、図７（Ａ）に示すように、スルーホール５２２を有し、表面が金属めっき層５２３で覆われたプリント配線板製造用基板５２１を用意する。プリント配線板製造用基板５２１としては、銅張積層基板及びガラス−エポキシなどの絶縁基材に銅めっき層を形成した基板、又はこれらの基板に層間絶縁膜を積層し、銅めっき層を形成した基板（積層基板）を用いることができる。
次に、図７（Ｂ）に示すように、感光性転写シート５１０を、保護フィルムを有する場合には、この保護フィルムを剥離して、その第二感光層５１４がプリント配線板形成用基板５２１の表面に接する様にして加圧ローラ５３１を用いて圧着する（積層体形成工程）。これにより、プリント配線板形成用基板５２１、第二感光層５１４、中間層５１３、第一感光層５１２、そして支持体５１１がこの順で積層された積層体が得られる。感光性転写シートの積層は、室温（１５〜３０℃）あるいは加熱下（３０〜１８０℃）で行うことができる。６０〜１４０℃の加熱下で行うことが好ましい。圧着ロールのロール圧は、１〜１０ｋｇ／ｃｍ２が好ましい。圧着速度は、１〜３ｍ／分が好ましい。またプリント配線板形成用基板５２１を予備加熱しておいてもよい。また、減圧下で積層してもよい。
感光性転写シートを用いる代わりに、感光性転写シート製造用の第二感光性樹脂組成物溶液、中間層溶液、第一感光性樹脂組成物溶液とをこの順にプリント配線板形成用基板の表面に直接塗布し、乾燥することによって、プリント配線板形成用基板、第二感光層、中間層、そして第一感光層がこの順で積層された積層体を得ることもできる。
次に、図７（Ｃ）に示すように、積層体の支持体５１１側の面から、光を照射して感光層を硬化させる。なおこの際、必要に応じて（例えば支持体の光透過性が不十分な場合など）支持体を剥離してから光照射を行なってもよい。プリント配線板形成用基板５２１のパターン形成領域には、第二感光層５１４を硬化させるために必要な光エネルギー量の光を所定のパターン状に照射して、パターン形成用の硬化層５１６の領域を形成する（配線部の硬化工程）。
前記プリント配線板形成用基板のスルーホール５２２の開口部及びその周囲には、第一感光層５１２と第二感光層５１４とをそれぞれ硬化させるために必要な光エネルギー量の光を照射して、スルーホールの金属層保護用硬化層５１７の領域を形成する（ホール部の硬化工程）。
前記配線部の硬化工程とホール部露光工程とは、それぞれ独立しておこなってもよいが、並行して行う方が好ましい。露光は、フォトマスクを介して光を照射することにより行うか、レーザ露光装置を用いてレーザー光を照射することにより行う。特に、後者のレーザ露光装置を用いる方法は、高価なマスクを使用せずにパターン形成が可能なので、マスクに起因する工程上の問題が無くなることから、少量多品種の製品の製造などに適している。
フォトマスクを介して光を照射する場合には、配線パターン形成用の硬化層５１６の領域形成用のフォトマスクを介して第二感光層のみを硬化させる光エネルギー量を照射し、スルーホールの金属層保護用の硬化層５１７の領域形成用のフォトマスクを介して第二感光層と第一感光層の両層を硬化させる光エネルギー量を照射する様に露光を２回行う方法も利用できる。あるいは配線パターン形成用の硬化層５１６の領域部に対応する光透過率が低く、スルーホールの金属層保護用の硬化層５１７の領域部に対応する光透過率が高くなるように作成されたフォトマスクを用いて一括露光を行うこともできる。一方レーザ露光装置を用いてレーザ光を照射する場合では、それぞれの必要な領域で光照射量を変更しながら走査露光を行うことが好ましい。
支持体を未だ剥離していない場合には、図７（Ｄ）に示すように、積層体から支持体５１１を除去する（支持体除去工程）。
次に、図７（Ｅ）に示すように、プリント配線板形成用基板５２１上の第一感光層５１２、中間層５１３及び第二感光層５１４の未硬化領域を、適当な現像液にて溶解除去して、配線パターン形成用の硬化層５１６とスルーホールの金属層保護用硬化層５１７のパターンを形成し、基板表面の金属層５２３を露出させる（未硬化部分除去工程）。
前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤など感光性樹脂組成物に対応した現像液を用いればよく、弱アルカリ水溶液が好ましい。この弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。また現像に用いる弱アルカリ水溶液のｐＨは約８〜１２、特に約９〜１１とすることが好ましい。具体的には、０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液などを用いることができる。また現像液の温度は感光層の現像性に合わせて調整できるが、一般に約２５℃〜４０℃が好ましい。また、該現像液には界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えばエチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や現像を促進させるため有機溶剤（アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類など）を併用してもよい。現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液を使用してもよく、有機溶剤単独でもよい。
また、現像後に必要に応じて後加熱処理や後露光処理によって、硬化部の硬化反応を更に促進させる処理をおこなってもよい。現像は上記のようなウエット現像法でもよいし、ドライ現像法で行ってもよい。
次いで、図７（Ｆ）に示すように、基板表面の露出した金属層５２３をエッチング液で溶解除去する（エッチング工程）。スルーホール５２２の開口部は硬化樹脂組成物（テント膜）５１７で覆われているので、エッチング液がスルーホール内に入り込んでスルーホール内の金属めっきを腐食することなく、スルーホールの金属めっきは所定の形状で残ることになる。これよりプリント配線板形成用基板５２１に配線パターン５２４が形成される。金属層５２３が銅で形成されている場合、エッチング液としては塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液、過酸化水素系エッチング液などを用いることができる。これらの中でも特に塩化第二鉄溶液がエッチングファクターの点から好ましい。
次に、図７（Ｇ）に示すように、強アルカリ水溶液などにて、硬化層５１６、５１７を剥離片５１８として、プリント配線板形成用基板から除去する（硬化物除去工程）。強アルカリ水溶液の塩基成分としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。また用いる強アルカリ水溶液のｐＨは約１２〜１４、特に約１３〜１４とすることが好ましい。具体的には、１〜１０質量％の水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などを用いることができる。
また、プリント配線板は多層構成のプリント配線板でもよい。また本発明の感光性転写シートは上記のエッチングプロセスのみでなく、めっきプロセスに使用してもよい。めっき法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硫酸銅めっき、ピロリン酸銅めっきなどの銅めっき、ハイフローはんだめっきなどのはんだめっき、ワット浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）めっき、スルファミン酸ニッケルなどのニッケルめっき、ハード金めっき、ソフト金めっきなどの金めっきなどがある。
−プリント配線板及びカラーフィルタの製造方法−
本発明の前記パターン形成方法は、プリント配線板の製造、特にスルーホール又はビアホールなどのホール部を有するプリント配線板の製造、及び、カラーフィルタの製造に好適に使用することができる。以下、本発明のパターン形成方法を利用したプリント配線板の製造方法及びカラーフィルタの製造方法の一例について説明する。
――カラーフィルタの製造方法――
ガラス基板等の基体上に、本発明の前記感光性転写シートにおける感光層を貼り合わせ、該感光性転写シートから支持体を剥離する場合に、帯電した前記支持体（フィルム）と人体とが不快な電気ショックを受けることがあり、あるいは帯電した前記支持体に塵埃が付着する等の問題がある。このため、前記支持体上に導電層を設けたり、前記支持体自体に導電性を付与する処理を施すことが好ましい。また、前記導電層を前記感光層とは反対側の前記支持体上に設けた場合は、耐傷性を向上させるために疎水性重合体層を設けることが好ましい。
次に、前記感光層を赤、緑、青、黒のそれぞれに着色した赤色感光層を有する感光性転写シートと、緑色感光層を有する感光性転写シートと、青色感光層を有する感光性転写シートと、黒色感光層を有する感光性転写シートを調製する。赤画素用の前記赤色感光層を有する感光性転写シートを用いて、赤色感光層を前記基体表面に積層して積層体を形成した後、像様に露光、現像して赤の画素を形成する。赤の画素を形成した後、前記積層体を加熱して未硬化部分を硬化させる。これを緑、青の画素のついても同様にして行い、各画素を形成する。
前記積層体の形成は、前記ガラス基板上に前記感光性転写シートを積層してもよく、また、前記感光性転写シート製造用の感光性樹脂組成物溶液などを前記ガラス基板の表面に直接塗布し、乾燥させることにより前記ガラス基板上に感光層及び支持体を積層してもよい。また、赤、緑、青の三種の画素を配置する場合は、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等どのような配置であってもよい。
前記画素を形成した面上に前記黒色感光層を有する感光性転写シートを積層し、画素を形成していない側から背面露光し、現像してブラックマトリックスを形成する。該ブラックマトリックスを形成した積層体を加熱することにより、未硬化部分を硬化させ、カラーフィルタを製造することができる。
本発明のパターン形成方法及びパターン形成装置は、前記感光層の感度低下を抑制でき、かつ、高精細なパターンを形成可能な感光性転写シートを用いるため、より小さいエネルギー量の光で露光することができ、露光スピードが上がるため、処理スピードが上がる点で有利である。
本発明の前記パターン形成方法は、本発明の前記感光性転写シートを用いるため、各種パターンの形成、配線パターン等の永久パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの製造に好適に使用することができ、特に高精細な配線パターンの形成に好適に使用することができる。本発明のパターン形成装置は、本発明の前記感光性転写シートを備えているため、各種パターンの形成、配線パターン等の永久パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどの製造に好適に使用することができ、特に高精細な配線パターンの形成に好適に用いることができる。
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１〜５）
−感光性転写シートの製造−
厚み２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに、下記の組成からなる第一感光性樹脂組成物溶液を塗布し、乾燥して厚み２５μｍの感光層（第一感光層）を形成した。
＜第一感光性樹脂組成物溶液の組成＞
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルメタクリレート／２−エチルへキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（モル比）；５５／１１．７／４．５／２８．８、質量平均分子量；９００００、Ｔｇ；７０℃） １５質量部
・ドデカプロピレングリコールジアクリレート ６．５質量部
・テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５質量部
・Ｎ−メチルアクリドン ０．０４質量部
・２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール ０．８質量部
・ケトオキシム化合物（表１記載） ０．３２質量部
・４−トルエンスルホンアミド ０．５質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩 ０．０２質量部
・１，２，４−トリアゾール ０．０１質量部
・ロイコクリスタルバイオレット ０．２質量部
・トリブロモメチルフェニルスルホン ０．１質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
次に、第一感光層の上に、表３に示すように下記の組成からなる水溶性ポリマー溶液を塗布し、乾燥して厚み１．６μｍの中間層を形成した。
＜中間層溶液Ａの組成＞
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５ クラレ（株）製） １９質量部
・架橋性ポリマー又は架橋性化合物（表３記載） １２質量部
・水 ２００質量部
・メタノール １８０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
次に、前記中間層の上に下記組成からなる第二感光性樹脂組成物溶液を塗布し、乾燥して厚み５μｍの感光層（第二感光層）を形成した。
＜第二感光性樹脂組成物溶液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルメタクリレート／２−エチルへキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合体組成（モル比）；４０／２６．７／４．５／２８．８、質量平均分子量；９００００、Ｔｇ；７０℃） １５質量部
・ドデカプロピレングリコールジアクリレート ６．５質量部
・テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５質量部
・Ｎ−メチルアクリドン ０．１６質量部
・２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール １．０４質量部
・ケトオキシム化合物（表１記載） ０．３２質量部
・４−トルエンスルホンアミド ０．５質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩 ０．０２質量部
・１，２，４−トリアゾール ０．０１質量部
・ロイコクリスタルバイオレット ０．２質量部
・トリブロモメチルフェニルスルホン ０．１質量部
・メチルエチルケトン １０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール ２０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
最後に第二感光層の上に、厚みが２０μｍの前記ポリエチレンフィルムを積層して感光性転写シートを得た。いずれの層も厚みムラが±５％以内であった。こうして得た感光性転写シートの感度を後述の方法により測定したところ、最短現像時間は２５秒、前記第二感光層を硬化させるために必要な前記光エネルギー量Ａは、４ｍＪ／ｃｍ２であり、前記第一感光層を硬化させるために必要な前記光エネルギー量Ｂは４０ｍＪ／ｃｍ２であり、前記第一感光層の硬化が始まるまでに必要な前記光エネルギー量Ｃは１４ｍＪ／ｃｍ２（前記光エネルギー量Ｃと、前記光エネルギー量Ａとの比Ｃ／Ａは３．５、前記光エネルギー量Ａと、前記光エネルギー量Ｂとの比Ａ／Ｂは０．１）であった。また、前記第一感光層の光感度を１とした場合、前記第二感光層の光感度は１０であった。更に、現像時における中間層の密着性は表４に示すように、大幅に改良された。
（比較例１）
実施例１おいて、中間層溶液１を中間層溶液Ａとして同様の感光性転写シートを作成し、比較例１の感光性転写シートとした。こうして得た感光性転写シートの感度を後述の方法により測定したところ、最短現像時間は２５秒、前記第二感光層を硬化させるために必要な前記光エネルギー量Ａは、４ｍＪ／ｃｍ２であり、前記第一感光層を硬化させるために必要な前記光エネルギー量Ｂは４０ｍＪ／ｃｍ２であり、前記第一感光層の硬化が始まるまでに必要な前記光エネルギー量Ｃは１４ｍＪ／ｃｍ２（前記光エネルギー量Ｃと、前記光エネルギー量Ａとの比Ｃ／Ａは３．５、前記光エネルギー量Ａと、前記光エネルギー量Ｂとの比Ａ／Ｂは０．１）であった。また、前記第一感光層の光感度を１とした場合、前記第二感光層の光感度は１０であった。更に、現像時における中間層の剥離についての結果を表４に示す。
＜中間層溶液Ａの組成＞
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５ クラレ（株）製） １９質量部
・水 ２００質量部
・メタノール １８０質量部
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−感度の測定方法−
（１）最短現像時間の測定方法
表面を研磨、水洗、乾燥した銅張積層板（スルーホールなし）の表面に、感光性転写シートの保護フィルムを剥がしながら、感光性転写シートの第二感光層が基板に接するように感光性転写シートをラミネーター（ＭＯＤＥＬ８Ｂ−７２０−ＰＨ、大成ラミネーター（株）製）を用いて圧着して、銅張積層板、第二感光層、中間層、第一感光層、そしてポリエチレンテレフタレートフィルムがこの順で積層された積層体を作成する。圧着条件は圧着ロール温度１０５℃、圧着ロール圧力３ｋｇ／ｃｍ２、そして圧着速度１ｍ／分とした。積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし取り、銅張積層板上の感光層の全面に３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を０．１５ＭＰａの圧力にてスプレーする。炭酸ナトリウム水溶液のスプレー開始から銅張積層板上の感光層が溶解除去されるまでに要した時間を測定し、これを最短現像時間とする。
（２）感度の測定
最短現像時間の測定と同様にして基板上に感光性転写シートを積層する。感光性転写シートの感光層に、ポリエチレンテレフタレートフィルム側から４０５ｎｍのレーザ光源を有する露光装置を用いて、０．１ｍＪ／ｃｍ２から２１／２倍間隔で１００ｍＪ／ｃｍ２まで光エネルギー量の異なる光を照射して、感光層を硬化させる。室温にて１０分間静置した後、積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし取る。銅張積層板上の樹脂組成物層の全面に、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧０．１５ＭＰａにて上記（１）で求めた最短現像時間の２倍の時間スプレーし、未硬化の樹脂組成物を溶解除去して、残った硬化層の厚みを測定する。次いで、光の照射量と、硬化層の厚みとの関係をプロットして感度曲線を得る。こうして得た感度曲線から硬化層の厚みが５μｍとなった時の光エネルギー量（光エネルギー量Ａ）、硬化層の厚みが３１．６μｍとなった時の光エネルギー量（光エネルギー量Ｂ）、及び硬化層の厚みが５μｍを超えた時の光エネルギー量（光エネルギー量Ｃ）を読み取る。
−解像度の測定方法−
上記（１）の最短現像時間の評価方法と同じ条件で、銅張積層板、第二感光層、中間層、第一感光層、そしてポリエチレンテレフタレートフィルムがこの順で積層された積層体を作成して、室温（２３℃、５５％ＲＨ）にて１０分間静置する。得られた積層体のポリエチレンテレフタレートフィルムの上から、４０５ｎｍのレーザ光源を有する露光装置を用いて、ライン／スペース＝１／１でライン幅１０μｍ〜５０μｍまで５μｍ刻みで各線幅の露光を行う。この際の露光量は、各感光性転写シートの第二感光層が硬化する光エネルギー量である。室温にて１０分間静置した後、積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし取る。銅張積層板上の樹脂組成物層の全面に、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧０．１５ＭＰａにて前記で求めた最短現像時間の２倍の時間スプレーし、未硬化の樹脂組成物を溶解除去する。この様にして得られた硬化樹脂パターン付き銅張積層板の表面を光学顕微鏡で観察し、硬化樹脂パターンのラインにツマリ、ヨレ等の異常のない最小のライン幅を測定し、これを解像度とする。解像度は数値が小さいほど良好である。
−プリント配線板の製造、並び評価−
内壁に銅めっき層が形成された、直径３ｍｍのスルーホールを有し、表面が研磨、水洗、乾燥された銅張積層板の上に、保護フィルムを剥離した感光性転写シートの第二感光層を重ね、ラミネートし、前述と同様にして銅張積層板、第二感光層、中間層、第一感光層、そしてポリエチレンテレフタレートフィルムがこの順で積層された積層体を作成して、室温（２３℃、５５％ＲＨ）にて１０分間静置する。得られた積層体のポリエチレンテレフタレートフィルムの上から、４０５ｎｍのレーザ光源を有する露光装置を用いて、銅張積層板の配線パターン形成領域に、各感光性転写シートの第二感光層が硬化する光エネルギー量の光を所定のパターン状に照射し、一方、銅張積層板のスルーホールの開口部及びその周囲領域に、各感光性転写シートの第一感光層が硬化する光エネルギー量の光を照射して、感光層を露光した。露光後、積層体からポリエチレンテレフタレートフィルムを剥がし取り、次いで前述の評価法と同様に炭酸ナトリウム水溶液を感光層表面にスプレーして、第一感光層及び第二感光層の未硬化領域を溶解除去して、硬化層レリーフを得た。得られた硬化層パターンを顕微鏡で観察し、配線パターン形成領域上の硬化層、及びスルーホール開口部上の硬化層に剥がれやテント膜の破れ（テント性）などの欠陥の有無を観察した。
なお、この際の硬化層の厚みをレーザ顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス（株）製）で測定したところ、配線パターン形成領域上の硬化層の厚みは５μｍであり、スルーホール開口部上の硬化層の厚みは３１．６μｍであった。
次いで、銅張積層板の表面に、塩化鉄エッチャント（塩化第二鉄含有エッチング溶液）をスプレーして、硬化層で覆われていない露出した領域の銅層を溶解除去する。次いで２質量％の水酸化ナトリウム水溶液をスプレーして硬化物レリーフを除去して、スルーホールを有し、表面に配線パターン状の銅層を備えたプリント配線板を得る。得られたプリント配線板のスルーホール内壁の、銅めっき層の異常の有無を目視で観察した。
感光性転写シートについて、密着したパターンの直径（μｍ）、解像度（μｍ）、硬化層の剥がれ、テント破れ、スルーホール内銅めっきの異常の有無を評価した結果を表４に示す。
（実施例６）
実施例１において、露光装置を下記に説明するパターン形成装置に代えた以外は、実施例１と同様にして感光性転写シートを製造した。製造した感光性転写シートについて最短現像時間、感度及び解像度の評価を行った。結果を表４に示した。
なお、最短現像時間は１０秒であり、感光層を硬化させるために必要な最小の光エネルギー量は５．０ｍＪ／ｃｍ２であった。
−パターン形成装置−
前記光照射手段として図３４〜３９に示す合波レーザ光源と、前記光変調手段として図１１に示す主走査方向にマイクロミラーが１０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７６８組配列された内、１０２４個×２５６列のみを駆動するように制御したＤＭＤ５０と、図２０に示した一方の面がトーリック面であるマイクロレンズ４７４をアレイ状に配列したマイクロレンズアレイ４７２及び該マイクロレンズアレイを通した光を前記感光層に結像する光学系４８０、４８２とを有するパターン形成装置を用いた。
表４の結果より、実施例１〜７の感光性転写シートでは、硬化層の剥がれは発生ぜず、テント破れ、スルーホール内の銅メッキ異常は皆無であった。他方、比較例１では、硬化層の剥がれ葉ないものの、一部（２００〜３５０μｍφ）で破れが発生し、スルーホール内の銅メッキは一部（２００〜３５０μｍφ）で銅が消失していた。また、感度及び解像度については、いずれの感度も１０（ｍＪ／ｃｍ２）以下であり感度低下が抑制され、かつ、高解像度であることが判った。特に、トーリック面を有する実施例７のパターン形成装置を用いた場合には、解像度が向上することが判った。
本発明の感光性転写シート及び感光性積層体は、解像度、エッチング性、テント性、及び露光速度及び光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む中間層を各感光層間に形成することにより各感光層間の密着性に優れ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、該感光層を短時間で現像でき、しかも現像後における現像液の汚れを抑制可能であるため、各種パターンの形成、配線パターン等の永久パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができ、特に高精細な配線パターンの形成に好適に用いることができる。
本発明のパターンを形成する方法は、本発明の前記感光性転写シートを備えているため、各種パターンの形成、配線パターン等の永久パターンの形成、カラーフィルタ、柱材、リブ材、スペーサー、隔壁等の液晶構造部材の製造、ホログラム、マイクロマシン、プルーフの製造などに好適に用いることができ、特に高精細な配線パターンの形成に好適に用いることができる。
図１は、本発明に従う感光性転写シートの一例の模式断面図である。 図２は、本発明に従う感光性転写シートの他の例の模式断面図である。 図３は、本発明の感光性転写シートに支持体側から光を照射したときの、光の照射量と硬化層の厚みとの関係を表す感度曲線を示すグラフである。 図４は、本発明に従う感光性転写シートの他の例の模式断面図である。 図５は、本発明に従う感光性転写シートの他の例の模式断面図である。 図６は、本発明に従う感光層が三層である感光性転写シートを用いて形成が可能な画像例（硬化層パターン）を示す模式図である。 図７は、本発明に従うスルーホールを有するプリント配線板の製造工程を示す工程図である。 図８は、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図の一例である。 図９（Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤの動作を説明するための説明図の一例である。 図１０（Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤを傾斜配置しない場合と傾斜配置する場合とで、露光ビームの配置及び走査線を比較して示した平面図の一例である。 図１１（Ａ）及び（Ｂ）は、ＤＭＤの使用領域の例を示す図の一例である。 図１２は、スキャナによる１回の走査で感光性転写シートを露光する露光方式を説明するための平面図の一例である。 図１３（Ａ）及び（Ｂ）は、スキャナによる複数回の走査で感光性転写シートを露光する露光方式を説明するための平面図の一例である。 図１４は、パターン形成装置の一例の外観を示す概略斜視図の一例である。 図１５は、パターン形成装置のスキャナの構成を示す概略斜視図の一例である。 図１６（Ａ）は、感光性転写シートに形成される露光済み領域を示す平面図の一例であり、図１６（Ｂ）は、各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す図の一例である。 図１７は、光変調手段を含む露光ヘッドの概略構成を示す斜視図の一例である。 図１８は、図１７に示す露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の断面図の一例である。 図１９は、パターン情報に基づいて、ＤＭＤの制御をするコントローラの一例である。 図２０（Ａ）は、結合光学系の異なる他の露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った断面図の一例であり、図２０（Ｂ）は、マイクロレンズアレイ等を使用しない場合に被露光面に投影される光像を示す平面図の一例であり、図２０（Ｃ）は、マイクロレンズアレイ等を使用した場合に被露光面に投影される光像を示す平面図の一例である。 図２１は、ＤＭＤを構成するマイクロミラーの反射面の歪みを等高線で示す図の一例である。 図２２（Ａ）及び（Ｂ）は、前記マイクロミラーの反射面の歪みを、該ミラーの２つの対角線方向について示すグラフの一例である。 図２３は、パターン形成装置に用いられたマイクロレンズアレイの正面図（Ａ）と側面図（Ｂ）の一例である。 図２４は、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズの正面図（Ａ）と側面図（Ｂ）の一例である。 図２５は、マイクロレンズによる集光状態を１つの断面内（Ａ）と別の断面内（Ｂ）について示す概略図の一例である。 図２６ａは、本発明のマイクロレンズの集光位置近傍におけるビーム径をシミュレーションした結果を示す図の一例である。 図２６ｂは、図２６ａと同様のシミュレーション結果を、別の位置について示す図の一例である。 図２６ｃは、図２６ａと同様のシミュレーション結果を、別の位置について示す図の一例である。 図２６ｄは、図２６ａと同様のシミュレーション結果を、別の位置について示す図の一例である。 図２７ａは、従来のパターン形成方法において、マイクロレンズの集光位置近傍におけるビーム径をシミュレーションした結果を示す図の一例である。 図２７ｂは、図２７ａと同様のシミュレーション結果を、別の位置について示す図の一例である。 図２７ｃは、図２７ａと同様のシミュレーション結果を、別の位置について示す図の一例である。 図２７ｄは、図２７ａと同様のシミュレーション結果を、別の位置について示す図の一例である。 図２８は、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。 図２９は、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズの正面図（Ａ）の一例と側面図（Ｂ）の一例である。 図３０は、図２９のマイクロレンズによる集光状態を１つの断面内（Ａ）の一例と別の断面内（Ｂ）について示す概略図の一例である。 図３１（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）は、光量分布補正光学系による補正の概念についての説明図の一例である。 図３２は、光照射手段がガウス分布でかつ光量分布の補正を行わない場合の光量分布を示すグラフの一例である。 図３３は、光量分布補正光学系による補正後の光量分布を示すグラフの一例である。 図３４ａ（Ａ）は、ファイバアレイ光源の構成を示す斜視図であり、図３４ａ（Ｂ）は、（Ａ）の部分拡大図の一例であり、図３４ａ（Ｃ）及び（Ｄ）は、レーザ出射部における発光点の配列を示す平面図の一例である。 図３４ｂは、ファイバアレイ光源のレーザ出射部における発光点の配列を示す正面図の一例である。 図３５は、マルチモード光ファイバの構成を示す図の一例である。 図３６は、合波レーザ光源の構成を示す平面図の一例である。 図３７は、レーザモジュールの構成を示す平面図の一例である。 図３８は、図３７に示すレーザモジュールの構成を示す側面図の一例である。 図３９は、図３７に示すレーザモジュールの構成を示す部分側面図である。 図４０は、レーザアレイの構成を示す斜視図の一例である。 図４１（Ａ）は、マルチキャビティレーザの構成を示す斜視図の一例であり、図４１（Ｂ）は、（Ａ）に示すマルチキャビティレーザをアレイ状に配列したマルチキャビティレーザアレイの斜視図の一例である。 図４２は、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例である。 図４３（Ａ）は、合波レーザ光源の他の構成を示す平面図の一例であり、図４３（Ｂ）は、（Ａ）の光軸に沿った断面図の一例である。 図４４（Ａ）及び（Ｂ）は、従来の露光装置における焦点深度と本発明のパターン形成方法（パターン形成装置）による焦点深度との相違を示す光軸に沿った断面図の一例である。
符号の説明
ＬＤ１〜ＬＤ７ ＧａＮ系半導体レーザ
１０ ヒートブロック
１１〜１７ コリメータレンズ
２０ 集光レンズ
３０〜３１ マルチモード光ファイバ
４４ コリメータレンズホルダー
４５ 集光レンズホルダー
４６ ファイバホルダー
５０ デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）
５２ レンズ系
５３ 反射光像（露光ビーム）
５４ 第２結像光学系のレンズ
５５ マイクロレンズアレイ
５６ 被露光面（走査面）
５５ａ マイクロレンズ
５７ 第２結像光学系のレンズ
５８ 第２結像光学系のレンズ
５９ アパーチャアレイ
６４ レーザモジュール
６６ ファイバアレイ光源
６７ レンズ系
６８ レーザ出射部
６９ ミラー
７０ プリズム
７１ 集光レンズ
７２ ロッドインテグレータ
７３ 組合せレンズ
７４ 結像レンズ
１００ ヒートブロック
１１０ マルチキャビティレーザ
１１１ ヒートブロック
１１３ ロッドレンズ
１２０ 集光レンズ
１３０ マルチモード光ファイバ
１３０ａ コア
１４０ レーザアレイ
１４４ 光照射手段
１５０ 感光性転写シート
１５２ ステージ
１５５ａ マイクロレンズ
１５６ 設置台
１５８ ガイド
１６０ ゲート
１６２ スキャナ
１６４ センサ
１６６ 露光ヘッド
１６８ 露光エリア
１７０ 露光済み領域
１８０ ヒートブロック
１８４ コリメートレンズアレイ
３０２ コントローラ
３０４ ステージ駆動装置
４５４ レンズ系
４６８ 露光エリア
４７２ マイクロレンズアレイ
４７４ マイクロレンズ
４７６ アパーチャアレイ
４７８ アパーチャ
４８０ レンズ系
５１０ 感光性転写シート
５１１ 支持体
５１２ 第一感光層
５１３ 中間層
５１４ 第二感光層
５１５ 保護フィルム
５１６ 薄膜硬化層
５１７ 厚膜硬化層
５１８ 剥離片
５２１ プリント配線板形成用基板
５２２ スルーホール
５２３ 金属めっき層
５２４ 配線パターン
５３１ 加圧ローラ
５５０ 感光性転写シート
５５１ 支持体
５５２ 第一感光層
５５３ 中間層
５５４ 第二感光層
５５５ 第三感光層
５５６ 保護フィルム
５５７ 基板

Claims (20)

  1. 支持体上に、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる感光層と、
    光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む層を有することを特徴とする感光性転写シート。
  2. 感光層が、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなる第一感光層と、
    バインダー、重合成化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物からなり、かつ前記第一感光層の光感度よりも相対的に高い光感度を示す第二感光層とからなり、
    前記第一感光層と前記第二感光層とがこの順に積層されてなり、
    前記第一感光層と前記第二感光層との間に、光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかを含む中間層を有する請求項１に記載の感光性転写シート。
  3. 中間層が、水及び炭素原子数１〜４のアルコールの少なくともいずれかに対して溶解性がある樹脂を主成分として含む請求項１から２のいずれかに記載の感光性転写シート。
  4. 光架橋性樹脂及び光架橋性化合物の少なくともいずれかが、水及び炭素原子数１〜４のアルコールの少なくともいずれかに対して溶解性がある請求項１から３のいずれかに記載の感光性転写シート。
  5. 中間層の厚みが、０．１〜５μｍである請求項１から４のいずれかに記載の感光性転写シート。
  6. 光架橋性化合物が、スチルバゾリウム基含有化合物、ジアゾニウム塩化合物及びアジド化合物から選ばれる化合物を少なくとも一つ含有する請求項１から５のいずれかに記載の感光性転写シート。
  7. 光架橋性樹脂が、スチルバゾリウム基含有ポリマー、ジアゾニウム基含有ポリマー及びアジド基含有ポリマーから選ばれるポリマーを少なくとも一つ含有する請求項１から６のいずれかに記載の感光性転写シート。
  8. 光架橋性樹脂が、一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）のいずれかで示される構成単位を有するポリマーのいずれかを含有する請求項１から７のいずれかに記載の感光性転写シート。
    前記一般式（Ｉａ）において、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ａｒ１は、アリール基、Ｅ１は、四級化された含窒素複素環残基を表す。
    前記一般式（Ｉｂ）において、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｅ２は、四級化された含窒素複素環残基、Ａｒ２は、アリール基を表す。
  9. 光架橋性樹脂が、一般式（ＩＩ）で示される構成単位を有するポリマーを含有する請求項１から８のいずれかに記載の感光性転写シート。
    前記一般式（ＩＩ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｘ−は、１価の陰イオン、Ｒ３は、１価の置換基、ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に、Ｒ３は同一であってもよく、異なっていてもよい。
  10. 光架橋性樹脂が、一般式（ＩＩＩ）で示される構成単位を有するポリマーを含有する請求項１から９のいずれかに記載の感光性転写シート。
    前記一般式（ＩＩＩ）において、Ａは、Ａは、単結合、２価及び３価の少なくともいずれかの連結基、Ｂは、単結合及びアルキレンオキサイド鎖のいずれか、Ｒ４は、１価の置換基、ｎは、１〜４の整数を表す。ｎが２以上の場合に、Ｒ３は同一であってもよく、異なっていてもよい。
  11. 支持体が、透明の合成樹脂からなる請求項１から１０のいずれかに記載の感光性転写シート。
  12. 第二感光層の上に保護フィルムが配置されている請求項１から１１のいずれかに記載の感光性転写シート。
  13. プリント配線板の製造に用いられる請求項１から１２のいずれかに記載の感光性転写シート。
  14. 基体上に、請求項１から１３のいずれかに記載の感光性転写シートが形成されたことを特徴とする感光性積層体。
  15. 下記の工程を含む、基板上に、第一感光層と第二感光層とが共に硬化することにより形成された硬化樹脂が存在する領域と、
    硬化樹脂が存在しない領域とから構成されるパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法；
    （１） 基板上に、請求項１から１３のいずれかに記載の感光性転写シートを、その第二感光層が基板側となる位置関係にて積層して積層体を得る積層体形成工程；
    （２） 積層体の第一感光層の側から所定のパターンの光照射を行い、その光照射を受けた領域の第一感光層と第二感光層とを共に硬化させる硬化工程；
    （３） 積層体から支持体を除去する支持体除去工程；
    （４） 積層体を現像して、積層体中の未硬化部分を除去する未硬化部分除去工程。
  16. （３）の支持体除去工程を、工程（２）と工程（４）との間で行う代わりに、工程（１）と工程（２）との間で行う請求項１５に記載のパターン形成方法。
  17. 工程（２）における硬化工程が、積層体の第一感光層の側から、互いに相違する少なくとも二レベルの照射エネルギー量の光を照射する領域を規定するパターンにて光照射し、光照射エネルギー量が相対的に大きい光照射を受けた領域の第一感光層と第二感光層とを共に硬化させ、光照射エネルギー量が相対的に小さい光照射を受けた領域の第二感光層を硬化させる硬化工程である請求項１５から１６のいずれかに記載のパターン形成方法。
  18. 工程（２）における光照射をレーザ光の照射により行う請求項１５から１７のいずれかに記載のパターン形成方法。
  19. 基板が、プリント配線板形成用基板である請求項１５から１８のいずれかに記載のパターン形成方法。
  20. 基板が、ホール部を有するプリント配線板形成用基板である請求項１５から１９のいずれかに記載のパターン形成方法。
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