JP2006255700A - 流体処理システム - Google Patents
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims abstract description 102
- 230000004044 response Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 39
- 230000006854 communication Effects 0.000 claims description 23
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 23
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 17
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 17
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 15
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 14
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 13
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims 2
- 230000009471 action Effects 0.000 claims 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 114
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 17
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 17
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 230000005055 memory storage Effects 0.000 description 9
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 8
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007175 bidirectional communication Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- QGLZXHRNAYXIBU-WEVVVXLNSA-N aldicarb Chemical compound CNC(=O)O\N=C\C(C)(C)SC QGLZXHRNAYXIBU-WEVVVXLNSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 2
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 2
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 2
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 231100000225 lethality Toxicity 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000013641 positive control Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/08—Radiation
- A61L2/10—Ultraviolet radiation
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
- C02F9/20—Portable or detachable small-scale multistage treatment devices, e.g. point of use or laboratory water purification systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/36—Controlling
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B47/00—Circuit arrangements for operating light sources in general, i.e. where the type of light source is not relevant
- H05B47/20—Responsive to malfunctions or to light source life; for protection
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3228—Units having reflectors, e.g. coatings, baffles, plates, mirrors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/326—Lamp control systems
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B47/00—Circuit arrangements for operating light sources in general, i.e. where the type of light source is not relevant
- H05B47/20—Responsive to malfunctions or to light source life; for protection
- H05B47/28—Circuit arrangements for protecting against abnormal temperature
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Inverter Devices (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
- Circuit Arrangements For Discharge Lamps (AREA)
Abstract
【解決手段】安定器回路103が電磁放射線放出アセンブリ14と結合されている。好ましい流体処理システム10においては、安定器回路103は電磁放射線放出アセンブリ14と誘導結合されている。誘導結合型安定器回路103は、制御ユニット102からの予め定められた電気信号に応答して、電磁放射線放出アセンブリ14内に位置設定された電磁放射線放出デバイス60を誘導的に付勢する。さらに流体処理システム10は、流体処理システム10内で用いられる電磁放射線放出アセンブリ14及びフィルタアセンブリ16のさまざまな機能的及び動作上の様相を監視するために用いられる無線周波数識別システム124を内含している。
【選択図】図3
Description
本発明は一般に、水処理システム,より特定的には水処理システム内の紫外線ランプへの非接触電力伝達のための誘導結合型安定器に関する。
本発明は、これまでの家庭用又はオフィス用のユースポイント水処理システムに付随するいくつかの問題に取組んでいる。最初の問題は、内部で紫外線ランプアセンブリを利用する従来の水処理システムのエネルギー効率が低い、という点にある。ランプアセンブリは一般に、紫外線ランプのスイッチが投入されていない結果水処理システム内で微生物が増殖することを防ぐため、連続作動状態に放置される。従来のランプアセンブリのスイッチを投入すると、それは、水処理システム内の微生物を適切に破壊するのに必要とされる予め定められた強度レベルの光を出力するのに充分なほどに紫外線ランプ内の気体が励起されるまでに長いスタートアップ時間を要する。紫外線ランプが充分に励起される前に水処理システムから排出される水は、許容できないほど高いレベルの生きた微生物を含んでいる可能性がある。連続作動するランプアセンブリは、大量のエネルギーを使用し、従って効率が悪い。同様に、一晩中といったように連続作動状態にランプアセンブリが放置された場合、水処理システムユニット内に滞留する水は、不快なほどに暖かくなる可能性がある。
本発明は、誘導結合型安定器回路を内含する水処理システムのための電子制御システムを開示している。水処理システムは、なかんづく上水道からフィルタアセンブリまで水流を導くことによって水をろ過する。フィルタアセンブリは、水流から望ましくない微粒子を除去する。フィルタアセンブリ中を通過した後、水は交換可能な紫外線ランプアセンブリへと導かれる。紫外線ランプアセンブリは、水が紫外線ランプアセンブリ内を流れるにつれて水を高強度の紫外線に対して露呈させることにより給水中の有機物質を破壊する。紫外線ランプアセンブリは、動作の開始時から事実上瞬間的な高強度紫外線を提供するが、このことは、ウォームアップ時間を必要とする先行技術の水処理システムに比べた利点を提供する。紫外線ランプアセンブリを退出した後、水流は出口アセンブリを通して水処理システムから外に導かれる。
図1を参照すると、本発明は、水を精製するために一般に炭素ベースのフィルタ及び紫外線を使用する水処理システム10用の電子制御システムを開示している。本発明を評価するためには、好ましい水処理システム10の機械的側面の全般的背景を知ることが重要である。好ましい水処理システム10は、主ハウジング12,交換可能な紫外線ランプアセンブリ14及びフィルタアセンブリ16を内含している。紫外線ランプアセンブリ14及びフィルタアセンブリ16は主ハウジング12から取外し可能でかつ交換可能である。主ハウジング12は、底面囲い板18,背面囲い板20,前面囲い板22,上面囲い板24そして内部スリーブ囲い板26を内含している。表示装置106を通して水処理システム10の状態について情報を表示できるように、レンズ28が表示装置106を収容している(図3参照)。水処理システム10を組立てるためには、紫外線ランプアセンブリ14を主ハウジング12にしっかりと取付け、その後フィルタアセンブリ16を、紫外線ランプアセンブリ14全体を覆うようにかつ主ハウジング12に対して取付ける。
Claims (61)
- 流体処理システムにおいて電磁放射線を供給する方法であって、
制御ユニット(102)で所定の電気信号を生成する段階と、
前記制御ユニット(102)に接続された誘導結合型安定器回路(103)に前記所定の電気信号を導く段階と、
前記制御ユニット(102)からの前記所定の電気信号に応答して、前記誘導結合型安定器回路(103)内の電磁放射線放出デバイス(60)を誘導的に付勢する段階と、
前記誘導結合型安定器回路(103)のインピーダンスと前記電磁放射線放出デバイス(60)の反射インピーダンスとに基づいて前記誘導結合型安定器回路(103)を自己共振させる段階と、
を含む方法。 - 前記電磁放射線放出デバイス(60)が紫外線ランプである、請求項1に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)がパルス式白光ランプである、請求項1に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)が誘電体バリア放電ランプである、請求項1に記載の方法。
- 前記誘導結合型安定器回路(103)が、制御回路(142)、発振器(144)、駆動部(146)、半ブリッジ切換え回路(148)、直列共振タンク回路(150)、二次コイル(52)、共振ランプ回路(152)及び前記電磁放射線放出デバイス(60)を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記直列共振タンク回路(150)が前記二次コイル(52)に誘導結合されている、請求項5に記載の方法。
- 前記発振器(144)は、負荷変化が前記発振器(144)の発振の周波数を引き込むのを防止するバッファ回路(214)を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記駆動部(146)が多巻線変圧器(246)を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記半ブリッジ切換え回路(148)が、MOSFETトーテムポール半ブリッジ切換え回路(252)を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記直列共振タンク回路(150)が、誘導結合器(270)、一対のタンクコンデンサ(271,272)、一対のダイオード(274,276)及びコンデンサ(278)を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記共振ランプ回路(152)がコンデンサ(312)及びスタータ回路(314)を含む、請求項5に記載の方法。
- 前記誘導結合型安定器回路(103)及び前記制御ユニット(102)に電気的に接続された安定器フィードバック回路(122)を用いて前記制御ユニット(102)に対しフィードバック信号を導く段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記制御ユニット(102)を用いて前記フィードバック信号に基づき前記電磁放射線放出デバイス(60)の強度を調整する段階をさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 流量センサー回路(104)からの信号に応答して前記制御ユニット(102)を用いて前記所定の電気信号を生成する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 流体処理システムであって、
制御ユニット(102)と、
前記制御ユニット(102)に接続され、電磁放射線放出アセンブリ(14)と誘導結合されている誘導結合型安定器回路(103)と、
を含み、
前記誘導結合型安定器回路(103)が、前記制御ユニット(102)からの所定の電気信号に応答して前記電磁放射線放出アセンブリ(14)内の電磁放射線放出デバイス(60)を誘導的に付勢し、
前記誘導結合型安定器回路(103)が、前記電磁放射線放出アセンブリ(14)の反射インピーダンスの作用として自己共振するように動作可能である、
流体処理システム。 - 前記電磁放射線放出アセンブリ(14)が交換可能である、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)が紫外線ランプである、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)がパルス式白光ランプである、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)が誘電体バリア放電ランプである、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記誘導結合型安定器回路(103)が、制御回路(142)、発振器(144)、駆動部(146)、半ブリッジ切換え回路(148)、直列共振タンク回路(150)、二次コイル(52)、共振ランプ回路(152)及び前記電磁放射線放出デバイス(60)を含む、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記直列共振タンク回路(150)が、前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢するための前記二次コイル(52)に誘導結合されている、請求項20に記載の流体処理システム。
- 前記発振器(144)は、負荷変化が前記発振器(144)の発振の周波数を引き込むのを防止するバッファ回路(214)を含む、請求項20に記載の流体処理システム。
- 前記駆動部(146)が多巻線変圧器(246)を含む、請求項20に記載の流体処理システム。
- 前記半ブリッジ切換え回路(148)がMOSFETトーテムポール半ブリッジ切換え回路(252)を含む、請求項20に記載の流体処理システム。
- 前記直列共振タンク回路(150)が、誘導結合器(270)、一対のタンクコンデンサ(271,272)、一対のダイオード(274,276)及びコンデンサ(278)を含む、請求項20に記載の流体処理システム。
- 前記共振ランプ回路(152)が、コンデンサ(312)及びスタータ回路(314)を含む、請求項20に記載の流体処理システム。
- 前記制御ユニット(102)に電気的に接続された流量センサー回路(104)をさらに含み、該流量センサー回路(104)は、前記制御ユニット(102)に前記誘導結合型安定器回路(103)を付勢させるために用いられる、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記制御ユニット(102)に電気的に接続された表示装置(106)をさらに含む、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記制御ユニット(102)に電気的に接続された電磁放射線センサー回路(110)をさらに含む、請求項15に記載の流体処理システム。
- 前記電磁放射線センサー回路(110)が可視光センサーである、請求項29に記載の流体処理システム。
- 前記制御ユニット(102)に電気的に接続された周囲温度センサー回路(114)をさらに含む、請求項15に記載の流体処理システム。
- 動作中に前記制御ユニット(102)に対しフィードバックを提供するため、前記誘導結合型安定器回路(103)及び前記制御ユニット(102)と電気的に接続された安定器フィードバック回路(122)をさらに含む、請求項15に記載の流体処理システム。
- 流体処理システムにおいて電磁放射線を提供する方法であって、
制御ユニット(102)で所定の信号を生成する段階と、
前記制御ユニット(102)に接続され、出口カップ(36)にて誘導結合器(270)を含む安定器回路(103)に前記所定の信号を導く段階と、
前記出口カップ(36)との誘導的結合配置に、電磁放射線放出デバイス(60)に接続された二次コイル(52)を含む電磁放射線放出アセンブリ(14)を位置決めする段階と、
前記制御ユニット(102)からの前記所定の信号に応答して前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢する段階であって、前記二次コイル(52)は前記誘導結合器(270)により誘導的に付勢され、それにより前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢する段階と、
前記電磁放射線放出アセンブリ(14)の反射インピーダンスの作用として共振周波数を達成すべく前記安定器回路(103)を自励振動させる段階と、
を含む方法。 - 流体処理システムであって、
制御ユニット(102)と、
前記制御ユニット(102)に接続され、出口カップ(36)にて誘導結合器(270)を含む安定器回路(103)と、
電磁放射線放出デバイス(60)に接続された二次コイル(52)を有する電磁放射線放出アセンブリ(14)と、を備え、
前記誘導結合器(270)は、前記制御ユニット(102)からの所定の信号に応答して前記二次コイル(52)を誘導的に付勢し、それにより前記電磁放射線放出アセンブリ(14)内の前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢し、
前記安定器回路(103)は、前記電磁放射線放出アセンブリ(14)の反射インピーダンス及び前記二次コイル(52)の作用として共振周波数を維持すべく自励振動するように動作可能である、
流体処理システム。 - 流体処理システムにおいて電磁放射線を提供する方法であって、
出口カップ(36)に誘導結合器(270)を有する安定器回路(103)を提供する段階と、
前記出口カップ(36)で前記誘導結合器(270)との誘導的結合配置に、電磁放射線放出デバイス(60)に接続された二次コイル(52)を含む交換可能な電磁放射線放出アセンブリ(14)を配置する段階と、
前記誘導結合器(270)を付勢する段階であって、それによって前記二次コイルを誘導的に付勢して前記電磁放射線放出デバイス(60)を照明する段階と、
前記二次コイル(52)のインピーダンス及び前記誘導結合器(270)を通して反射される前記電磁放射線放出デバイス(60)のインピーダンスの作用として共振を達成するように帰還を用いて前記安定器回路(103)を制御する段階と、
を含む方法。 - 流体処理システムであって、
出口カップ(36)に誘導結合器(270)を有する安定器回路(103)と、
電磁放射線放出デバイス(60)に接続された二次コイル(52)を有する交換可能な電磁放射線放出アセンブリ(14)であって、動作中に前記誘導結合器(270)が前記二次コイル(52)を誘導的に付勢し、それにより前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢するものと、
を含み、
前記安定器回路(103)は、前記誘導結合器(270)を通して提供される前記電磁放射線放出アセンブリ(14)の反射インピーダンスの作用として共振を達成し自励振動するように動作可能である、
流体処理システム。 - 前記電磁放射線放出アセンブリ(14)を位置決めする段階は、共振周波数で電力伝達を最大化すべく前記誘導結合器(270)に反射される前記電磁放射線放出アセンブリ(14)のインピーダンスを設定することを含む、請求項33に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢する段階は、前記電磁放射線放出デバイス(60)と直列に接続されたコンデンサ(312)で前記電磁放射線放出デバイスに供給される電流を制限することを含む、請求項33に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢する段階は、それ自体、共振周波数で前記安定器回路(103)を発振させることを含む、請求項33に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢する段階は、前記電磁放射線放出アセンブリ(14)の共振周波数での前記電磁放射線放出デバイス(60)のための電力を提供することを含む、請求項33に記載の方法。
- 前記誘導的結合配置に電磁放射線放出アセンブリ(14)を位置決めする段階は、前記誘導結合器(270)と前記二次コイル(52)との間のギャップの選択により結合係数を調節することを含み、前記電磁放射線放出デバイス(60)の動作点が前記結合係数の作用として調節可能である、請求項33に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)を付勢する段階は、前記電磁放射線放出アセンブリ(14)によって前記安定器回路(103)に反射されるインピーダンスの作用として前記安定器回路(103)の共振周波数を維持することを含む、請求項33に記載の方法。
- 前記二次コイル(52)は結合係数を形成すべく前記誘導結合器(270)に隣接して位置決めされ、前記電磁放射線放出デバイス(60)の動作点は前記結合係数の作用として調節可能である、請求項34に記載の流体処理システム。
- 前記安定化回路(103)は更にタンクコンデンサ(271,272)を含み、共振周波数が前記誘導結合器(270)、前記タンクコンデンサ(271,272)及び前記電磁放射線放出アセンブリ(14)の作用として決定される、請求項34に記載の流体処理システム。
- 前記電磁放射線放出アセンブリ(14)は、更に、スタータ回路(314)及びコンデンサ(312)を含み、前記コンデンサ(312)は前記安定化回路(103)に反射されるインピーダンスを調節すべく前記電磁放射線放出デバイス(60)と直列に電気的接続される、請求項34に記載の流体処理システム。
- 前記安定器回路(103)は、前記電磁放射線放出デバイス(60)の反射インピーダンスの作用として共振周波数を維持すべく動作可能である、請求項34に記載の流体処理システム。
- 無線通信を介して前記電磁放射線放出デバイス(60)と通信すべく且つ前記制御ユニットに前記電磁放射線放出デバイス(60)の動作情報を提供すべく動作可能な無線周波数識別システム(124)を更に含む、請求項34に記載の流体処理システム。
- フィルタアセンブリ(16)を更に具備し、前記無線周波数識別システム(124)は、無線通信を介して前記フィルタアセンブリ(16)と通信すべく且つ前記制御ユニット(102)に前記フィルタアセンブリ(16)の動作情報を提供すべく動作可能である、請求項34に記載の流体処理システム。
- 前記誘導結合器(270)を付勢する段階は、スタートアップ中、前記二次コイル(52)における電流を最大化すべく、接地接続(182)に前記電磁放射線放出デバイス(60)を短絡させる段階を含む、請求項35に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)を短絡させる段階は、スタートアップ中、前記電磁放射線放出デバイス(60)の予熱を最大化することを含む、請求項49に記載の方法。
- 前記電磁放射線放出デバイス(60)を短絡させる段階は、前記電流を減少させ且つ前記電磁放射線放出デバイス(60)に全電圧を提供すべく、所定の時に前記短絡を除去することを含む、請求項49に記載の方法。
- 前記誘導的結合配置に前記交換可能な電磁放射線放出アセンブリ(14)を配置する段階は、同様の共振周波数で前記安定器回路(103)及び前記交換可能な電磁放射線放出アセンブリ(14)を構成することを含む、請求項35に記載の方法。
- 前記誘導的結合配置に前記交換可能な電磁放射線放出アセンブリ(14)を配置する段階は、前記出口カップ(36)内に前記二次コイル(52)を位置決めすることを含む、請求項35に記載の方法。
- 出口カップに誘導結合器(270)を有する安定器回路(103)を提供する段階は、前記誘導結合器(270)を形成すべく所定の直径にて前記出口カップ(36)の周囲のワイヤをラッピングすることを含む、請求項35に記載の方法。
- 前記二次コイル(52)は、前記誘導結合器(270)の構成の作用として所定の直径にワイヤをラッピングすることによって形成される、請求項35に記載の方法。
- 前記交換可能な電磁放射線放出アセンブリ(14)の交換が望まれるときに前記誘導結合器(270)との前記誘導的結合配置から前記二次コイル(52)を除去することを更に含む、請求項35に記載の方法。
- 前記誘導結合器(270)と前記二次コイル(52)との間のギャップを更に含み、前記電磁放射線放出デバイス(60)の動作点が前記ギャップの作用として調節可能である、請求項36に記載の流体処理システム。
- 前記出口カップ(36)は、前記出口カップ(36)内の前記二次コイル(52)を取り外し可能に収容するように形成される、請求項36に記載の流体処理システム。
- 前記交換可能な電磁放射線放出アセンブリ(14)は、前記二次コイル(52)からの電流を最大化すべく、スタートアップ中、前記電磁放射線放出デバイス(60)を接地接続(182)に短絡させるべく動作可能なスタータ回路(314)を含む、請求項36に記載の流体処理システム。
- 前記誘導結合型安定器回路(103)は、半ブリッジ切換え回路(148)を含み、前記誘導結合型安定器回路(103)を自己共振させる段階は、前記電磁放射線放出デバイス(60)への電力転送を最大化すべく前記半ブリッジ切換え回路(148)を制御する段階を具備する、請求項1に記載の方法。
- 前記誘導結合型安定器回路(103)は、直列共振タンク回路(150)及び半ブリッジ切換え回路(148)と結合された正帰還回路(218)を具備し、前記誘導結合型安定器回路(103)を自己共振させる段階は、前記電磁放射線放出デバイス(60)の反射インピーダンス及び前記直列共振タンク回路(150)のインピーダンスに基づき前記正帰還回路(218)で帰還信号を生成する段階と、共振周波数を達成すべく前記帰還信号の作用として前記半ブリッジ切換え回路(148)を制御する段階と、を具備する、請求項60に記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14009099P | 1999-06-21 | 1999-06-21 | |
US14015999P | 1999-06-21 | 1999-06-21 | |
US09/592,194 US6436299B1 (en) | 1999-06-21 | 2000-06-12 | Water treatment system with an inductively coupled ballast |
US09/596,416 US6451202B1 (en) | 1999-06-21 | 2000-06-12 | Point-of-use water treatment system |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001504853A Division JP2003529442A (ja) | 1999-06-21 | 2000-06-14 | 流体処理システム |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006221907A Division JP4819617B2 (ja) | 1999-06-21 | 2006-08-16 | 流体処理システム用の無線周波数識別システム |
JP2008108366A Division JP2008272748A (ja) | 1999-06-21 | 2008-04-17 | 流体処理システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006255700A true JP2006255700A (ja) | 2006-09-28 |
JP2006255700A5 JP2006255700A5 (ja) | 2007-12-20 |
JP4401362B2 JP4401362B2 (ja) | 2010-01-20 |
Family
ID=27495411
Family Applications (6)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001504853A Withdrawn JP2003529442A (ja) | 1999-06-21 | 2000-06-14 | 流体処理システム |
JP2005304983A Expired - Lifetime JP4440867B2 (ja) | 1999-06-21 | 2005-10-19 | 誘導結合型安定器回路 |
JP2006079611A Expired - Lifetime JP4401362B2 (ja) | 1999-06-21 | 2006-03-22 | 流体処理システム |
JP2006221907A Expired - Lifetime JP4819617B2 (ja) | 1999-06-21 | 2006-08-16 | 流体処理システム用の無線周波数識別システム |
JP2008108366A Withdrawn JP2008272748A (ja) | 1999-06-21 | 2008-04-17 | 流体処理システム |
JP2009199967A Expired - Lifetime JP4673422B2 (ja) | 1999-06-21 | 2009-08-31 | 誘導結合型安定器回路 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001504853A Withdrawn JP2003529442A (ja) | 1999-06-21 | 2000-06-14 | 流体処理システム |
JP2005304983A Expired - Lifetime JP4440867B2 (ja) | 1999-06-21 | 2005-10-19 | 誘導結合型安定器回路 |
Family Applications After (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006221907A Expired - Lifetime JP4819617B2 (ja) | 1999-06-21 | 2006-08-16 | 流体処理システム用の無線周波数識別システム |
JP2008108366A Withdrawn JP2008272748A (ja) | 1999-06-21 | 2008-04-17 | 流体処理システム |
JP2009199967A Expired - Lifetime JP4673422B2 (ja) | 1999-06-21 | 2009-08-31 | 誘導結合型安定器回路 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (6) | JP2003529442A (ja) |
CN (1) | CN1303002C (ja) |
AU (1) | AU5487800A (ja) |
CA (3) | CA2375336C (ja) |
HK (1) | HK1075881A1 (ja) |
WO (1) | WO2000078678A2 (ja) |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7212414B2 (en) | 1999-06-21 | 2007-05-01 | Access Business Group International, Llc | Adaptive inductive power supply |
US6673250B2 (en) * | 1999-06-21 | 2004-01-06 | Access Business Group International Llc | Radio frequency identification system for a fluid treatment system |
US7522878B2 (en) | 1999-06-21 | 2009-04-21 | Access Business Group International Llc | Adaptive inductive power supply with communication |
US6731071B2 (en) * | 1999-06-21 | 2004-05-04 | Access Business Group International Llc | Inductively powered lamp assembly |
US7385357B2 (en) | 1999-06-21 | 2008-06-10 | Access Business Group International Llc | Inductively coupled ballast circuit |
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JP4814219B2 (ja) | 2004-04-20 | 2011-11-16 | コウラー,グイド | 流体の殺菌装置および殺菌のための方法 |
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RU2548958C2 (ru) * | 2009-01-12 | 2015-04-20 | Эксесс Бизнесс Груп Интернешнл Ллс | Система обработки воды для местного применения |
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US9093258B2 (en) | 2011-06-08 | 2015-07-28 | Xenex Disinfection Services, Llc | Ultraviolet discharge lamp apparatuses having optical filters which attenuate visible light |
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CA2882404C (en) | 2012-08-30 | 2020-05-05 | Sembawang Shipyard Pte Ltd. | System and method of ballast water treatment with continuous biofouling control |
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GB2558367B (en) | 2014-09-18 | 2019-07-31 | Xenex Disinfection Services Llc | Room and area disinfection apparatuses utilizing pulsed light |
KR20180010186A (ko) | 2015-05-22 | 2018-01-30 | 액세스 비지니스 그룹 인터내셔날 엘엘씨 | 사용 시점 수처리 시스템 |
EP3432937A4 (en) * | 2016-03-24 | 2019-11-27 | 3M Innovative Properties Company | ROOM AIR CLEANER WITH RFID READER |
CN105858798A (zh) * | 2016-04-14 | 2016-08-17 | 佛山市顺德区美的饮水机制造有限公司 | 紫外杀菌装置及其控制方法和具有该装置的水龙头组件 |
JP7117148B2 (ja) * | 2018-05-21 | 2022-08-12 | スタンレー電気株式会社 | 紫外線照射装置 |
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GB9826671D0 (en) * | 1998-12-03 | 1999-01-27 | Process Scient Innovations | Filters and active devices |
-
2000
- 2000-06-14 WO PCT/US2000/016346 patent/WO2000078678A2/en active IP Right Grant
- 2000-06-14 CN CNB008118698A patent/CN1303002C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-14 CA CA002375336A patent/CA2375336C/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-14 AU AU54878/00A patent/AU5487800A/en not_active Abandoned
- 2000-06-14 JP JP2001504853A patent/JP2003529442A/ja not_active Withdrawn
- 2000-06-14 CA CA2541462A patent/CA2541462C/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-14 CA CA002598233A patent/CA2598233C/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-09-13 HK HK05108006A patent/HK1075881A1/xx unknown
- 2005-10-19 JP JP2005304983A patent/JP4440867B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-03-22 JP JP2006079611A patent/JP4401362B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2006-08-16 JP JP2006221907A patent/JP4819617B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2008
- 2008-04-17 JP JP2008108366A patent/JP2008272748A/ja not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-08-31 JP JP2009199967A patent/JP4673422B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4440867B2 (ja) | 2010-03-24 |
WO2000078678A2 (en) | 2000-12-28 |
JP2006129695A (ja) | 2006-05-18 |
WO2000078678A3 (en) | 2003-07-03 |
CA2541462C (en) | 2014-09-09 |
CA2375336A1 (en) | 2000-12-28 |
CN1620406A (zh) | 2005-05-25 |
CA2541462A1 (en) | 2000-12-28 |
HK1075881A1 (en) | 2005-12-30 |
JP2008272748A (ja) | 2008-11-13 |
JP4819617B2 (ja) | 2011-11-24 |
CA2598233C (en) | 2009-02-17 |
JP4673422B2 (ja) | 2011-04-20 |
CA2598233A1 (en) | 2000-12-28 |
AU5487800A (en) | 2001-01-09 |
JP2007021494A (ja) | 2007-02-01 |
CN1303002C (zh) | 2007-03-07 |
JP2003529442A (ja) | 2003-10-07 |
CA2375336C (en) | 2008-04-01 |
JP4401362B2 (ja) | 2010-01-20 |
JP2009291068A (ja) | 2009-12-10 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Request for written amendment filed |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
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A975 | Report on accelerated examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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A602 | Written permission of extension of time |
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|
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|
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|
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|
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|
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091027 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4401362 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121106 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121106 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131106 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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