JP2006252996A - Female die material for barrier rib pattern forming, and forming method of female die for barrier rib pattern forming, barrier rib pattern forming method, plasma display panel - Google Patents

Female die material for barrier rib pattern forming, and forming method of female die for barrier rib pattern forming, barrier rib pattern forming method, plasma display panel Download PDF

Info

Publication number
JP2006252996A
JP2006252996A JP2005068820A JP2005068820A JP2006252996A JP 2006252996 A JP2006252996 A JP 2006252996A JP 2005068820 A JP2005068820 A JP 2005068820A JP 2005068820 A JP2005068820 A JP 2005068820A JP 2006252996 A JP2006252996 A JP 2006252996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
forming
partition wall
pattern
female mold
female
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005068820A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Hanaoka
実 花岡
Keiji Oda
啓二 小田
Takayoshi Tanabe
隆喜 田辺
Katsuyuki Takase
勝行 高瀬
Zen Komiya
全 小宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Pioneer Corp
Original Assignee
JSR Corp
Pioneer Electronic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp, Pioneer Electronic Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2005068820A priority Critical patent/JP2006252996A/en
Priority to PCT/JP2006/304787 priority patent/WO2006095869A1/en
Publication of JP2006252996A publication Critical patent/JP2006252996A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
    • H01J9/242—Spacers between faceplate and backplate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
    • B29C43/021—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
    • B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C43/52—Heating or cooling
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
    • B29L2011/0016—Lenses

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To form a barrier rib (female die for forming barrier rib) having a sufficient height by only one exposure and having a desired cross-section shape when an additive method is adopted in formation of a barrier rib. <P>SOLUTION: A liquid photo-curing composition which contains a multi-functional radical reactive compound, a photo-polymerization initiator, and a photo-sensitizer and has a light transmissivity of 10-60% at the maximum emission wavelength of irradiation light when hardening a film of 100 μm thickness is used, and by this liquid photo-curing composition, a photosensitive resin film 4 for forming a female die 4A is formed, thereby, the female die 4A of parabolic edge section with a wide bottom face can be formed. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、隔壁パターン形成用雌型材料、隔壁パターン形成用雌型の形成方法、隔壁パターン形成方法、プラズマディスプレイパネルに関するものである。   The present invention relates to a female material for forming a partition wall pattern, a method for forming a female mold for forming a partition wall pattern, a method for forming a partition wall pattern, and a plasma display panel.

プラズマディスプレイパネルは、一対の平面基板間に形成された気密空間内を、ストライプ状又はマトリクス状に区画して複数の放電セルを形成し、この複数の放電セル内で選択的に放電を発生させ、この放電によって放電セル内に形成した蛍光層を発光させて画像を表示するものである。   A plasma display panel forms a plurality of discharge cells by dividing an airtight space formed between a pair of flat substrates into a stripe shape or a matrix shape, and generates a discharge selectively in the plurality of discharge cells. The phosphor layer formed in the discharge cell by this discharge emits light to display an image.

前述した放電セルは、基板（背面基板）上に形成される隔壁によって区画されているが、この隔壁の基板上でのパターンは、基板上に形成された電極（アドレス電極）との間に高精度な相対位置関係が求められるので、この隔壁を基板上に精度良く形成するために、各種の隔壁形成方法が提案され、また実施されている。   The discharge cells described above are partitioned by barrier ribs formed on the substrate (back substrate). The pattern of the barrier ribs on the substrate is high between the electrodes (address electrodes) formed on the substrate. Since an accurate relative positional relationship is required, various partition wall forming methods have been proposed and implemented in order to accurately form the partition wall on the substrate.

この隔壁形成方法の中で、現在広く量産に採用されている方法の一つにサンドブラスト法がある。このサンドブラスト法は、隔壁材料となる低融点ガラスペーストを基板上に塗布して乾燥させた後、その上に、サンドブラスト工程では削れないマスクパターンを隔壁パターンに応じて形成し、微少粉体（研磨材）を吹き付けるサンドブラスト工程によってマスクで覆われていない箇所の隔壁材料乾燥膜を切削除去して隔壁を形成する方法である。   Among these partition wall forming methods, one of the methods widely used for mass production at present is the sand blast method. In this sandblasting method, a low melting point glass paste as a partition wall material is applied onto a substrate and dried, and then a mask pattern that cannot be removed in the sandblasting process is formed on the substrate in accordance with the partition wall pattern. This is a method of cutting and removing the partition wall material dry film at a portion not covered with a mask by a sandblasting process in which a material is sprayed to form a partition wall.

このサンドブラスト法は、フォトリソグラフィによってマスクパターンを形成するので、高精度な隔壁位置の設定が可能であり、比較的短時間で処理が完了するので、量産に適した方法として広く採用されているが、放電セルの形状（隔壁側面の形状）がサンドブラスト工程によって決められてしまうので、放電セルの形状を任意に設定することができず、また、奥行きのある放電セル、即ち高さのある隔壁の形成には適さないという問題がある。   This sandblast method is widely adopted as a method suitable for mass production because the mask pattern is formed by photolithography, so that the position of the partition wall can be set with high accuracy and the processing is completed in a relatively short time. The shape of the discharge cell (the shape of the side wall of the partition wall) is determined by the sandblasting process, so the shape of the discharge cell cannot be arbitrarily set, and the depth of the discharge cell, that is, the height of the partition wall There is a problem that it is not suitable for formation.

また、前述したサンドブラスト法の他に、アディティブ法（雌型形成法）と呼ばれる隔壁形成方法が知られている。このアディティブ法は、基板上の隔壁を形成する以外の部分に感光性樹脂によるフォトリソグラフィ工程によって雌型のパターンを形成した後、雌型間の隔壁となる部分に隔壁材のペーストを充填し、その後雌型を除去することによって隔壁パターンを形成する方法である。   In addition to the above-described sandblasting method, a partition wall forming method called an additive method (female forming method) is known. In this additive method, after forming a female pattern by a photolithographic process using a photosensitive resin on a portion other than forming the partition on the substrate, a portion of the partition between the female molds is filled with a partition material paste, Thereafter, the partition pattern is formed by removing the female mold.

このアディティブ法の工程を図１によって説明する。まず、電極Ｊ１ａが形成された基板Ｊ１上にドライフィルムレジストを載置するか、或いは感光性樹脂ペーストを塗布することによって、感光性樹脂膜Ｊ２を形成する（同図（ａ））。そして、隔壁パターンに応じた光不透過部Ｍａを有するフォトマスクＭを感光性樹脂膜Ｊ２上に設置し、反応光（紫外線）を照射して露光を行い（同図（ｂ）、その後の現像処理によって雌型Ｊ２Ａを得る（同図（ｃ））。その後、形成された雌型Ｊ２Ａ間に隔壁材ペーストを充填し（同図（ｄ））、雌型Ｊ２Ａを除去することで、隔壁Ｊ３のパターンを形成する。この際、雌型Ｊ２Ａを除去する工程としては、基板Ｊ１をアルカリ水溶液等に浸漬させて雌型Ｊ２Ａを膨潤剥離させる方法と、雌型Ｊ２Ａとその間に充填された隔壁材を共に焼成して、雌型Ｊ２Ａを分解除去すると同時に、隔壁材をガラス化させる方法がある。   The steps of this additive method will be described with reference to FIG. First, a photosensitive resin film J2 is formed by placing a dry film resist on the substrate J1 on which the electrode J1a is formed, or by applying a photosensitive resin paste (FIG. 1A). Then, a photomask M having a light-impermeable portion Ma corresponding to the partition pattern is placed on the photosensitive resin film J2, and exposed to reaction light (ultraviolet rays) to perform exposure (FIG. (B), subsequent development). A female mold J2A is obtained by the treatment (FIG. (C)), and then, a partition wall paste is filled between the formed female molds J2A (FIG. (D)), and the female mold J2A is removed, thereby separating the partition J3. At this time, the step of removing the female mold J2A includes a method of immersing the substrate J1 in an alkaline aqueous solution or the like to swell and peel the female mold J2A, and a partition material filled between the female mold J2A and the female mold J2A. Are fired together to decompose and remove the female mold J2A, and at the same time, the partition wall material is vitrified.

また、下記特許文献１には、このアディティブ法による隔壁形成の従来技術が記載されており、フォトマスクを介して感光性樹脂板の断面領域へ入射される照射光の照射角度を変化させて、感光性樹脂板にフォトレジスト加工を施すことによって、感光性樹脂板の開口を台形状にした雌型を形成して台形状の隔壁断面を形成することが開示されている。   Patent Document 1 below describes a conventional technique for forming a partition wall by this additive method, and changes an irradiation angle of irradiation light incident on a cross-sectional area of a photosensitive resin plate through a photomask, It is disclosed that a photoresist mold is applied to a photosensitive resin plate to form a female die having a trapezoidal opening in the photosensitive resin plate to form a trapezoidal partition wall cross section.

特開２００１−５７１４７号JP 2001-57147 A

表示画像の高精細化はプラズマディスプレイパネルの抱える主要な課題になっており、ＶＧＡ、ＸＧＡ、ＳＸＧＡ、ＱＸＧＡ、更に高精細な画像に対応するパネル形成技術の開発が進められている。この際、設定された画面サイズにおいて画像の高精細化を進めようとすると、個々の放電セルの開口面積或いはピッチが小さくなるが、良好な画質を得るためには放電セル内で十分な発光空間を確保する（プラズマ発生のためのガス占有体積を大きくして、発光効率を高める）必要があるので、放電セルの奥行き（高さ）を大きくすること、或いは放電セルの底面を広くすること等が必要になる。また、良好な発光効率を得るためには放電セルの形状を所望の形状に設計することも必要になる。   Increasing the definition of the display image has become a major problem of plasma display panels, and the development of panel forming technology that supports VGA, XGA, SXGA, QXGA, and even higher definition images is underway. At this time, if an attempt is made to increase the definition of the image with the set screen size, the opening area or pitch of each discharge cell is reduced, but a sufficient light emitting space is required in the discharge cell to obtain a good image quality. (It is necessary to increase the gas occupying volume for generating plasma and increase the light emission efficiency), so that the depth (height) of the discharge cell is increased or the bottom surface of the discharge cell is increased. Is required. In order to obtain good luminous efficiency, it is necessary to design the shape of the discharge cell to a desired shape.

このように、高精細且つ高画質の画像を得るために必要な放電セルを形成するには、放電セルを区画する隔壁の形成技術を改善する必要がある。しかしながら、前述したサンドブラスト法では、その方法から必然的に放電セルの開口面積に対して底面積が小さく成らざるを得ず、また、放電セルの奥行きを大きくすることにも適さないという根本的な不利がある。   As described above, in order to form a discharge cell necessary for obtaining a high-definition and high-quality image, it is necessary to improve a technique for forming partition walls that partition the discharge cell. However, the above-described sandblasting method inevitably requires a bottom area to be smaller than the opening area of the discharge cell, and is fundamentally not suitable for increasing the depth of the discharge cell. There are disadvantages.

そこで、高精細且つ高画質に対応する隔壁形成技術として前述したアディティブ法に期待が寄せられている。しかしながら、従来の技術では一回の露光で所望の高さ（１００〜３００μｍの隔壁高さを形成するもの）を有する雌型を形成できる感光性樹脂自体が得られておらず、十分な奥行きを有する放電セルを区画する隔壁を形成することができない問題があり、また、一般に、反応光が直接照射される表面よりも感光性樹脂膜の底面での反応が進み難くなるので、必然的に雌型の断面が逆台形になってしまい、放電セルの底面を広くして、放電セル内に所望の発光空間を形成することができないという問題がある。   Therefore, the above-described additive method has been expected as a partition wall forming technique that supports high definition and high image quality. However, in the conventional technique, a photosensitive resin itself capable of forming a female mold having a desired height (that forms a partition wall height of 100 to 300 μm) is not obtained by a single exposure, and a sufficient depth is not obtained. There is a problem that it is impossible to form barrier ribs that divide the discharge cells, and in general, the reaction at the bottom surface of the photosensitive resin film is more difficult to proceed than the surface directly irradiated with the reaction light. There is a problem that the cross section of the mold becomes an inverted trapezoid, and the bottom surface of the discharge cell is widened so that a desired light emitting space cannot be formed in the discharge cell.

更には、所望の形状の放電セルを形成しようとすると、前述した特許文献１に記載される従来技術のように、照射光の照射角度を変化させるなど煩雑な露光処理が必要になり、生産性の高い隔壁形成を行うことができない問題があった。   Furthermore, when it is intended to form a discharge cell having a desired shape, a complicated exposure process such as changing the irradiation angle of irradiation light is required as in the prior art described in Patent Document 1 described above, and productivity is increased. There is a problem that it is impossible to form a high partition wall.

本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、高精細且つ高画質の画像を得るための有効な隔壁形成方法を提供すること、隔壁形成にアディティブ法を採用するに際して、一回の露光で十分な高さを有し、且つ所望の断面形状を有する隔壁（隔壁を形成するための雌型）を形成することができること、等が本発明の目的である。   This invention makes it an example of a subject to cope with such a problem. That is, to provide an effective barrier rib forming method for obtaining a high-definition and high-quality image, and when adopting an additive method for barrier rib formation, it has a sufficient height with a single exposure and has a desired cross section. It is an object of the present invention to be able to form a partition wall (female mold for forming the partition wall) having a shape.

このような目的を達成するために、本発明は、以下の各独立請求項に係る構成を少なくとも具備するものである。   In order to achieve such an object, the present invention comprises at least the configurations according to the following independent claims.

［請求項１］プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型材料であって、多官能ラジカル反応性化合物、および光重合開始剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型材料。   [Claim 1] A liquid material for forming a barrier rib pattern of a plasma display panel by an additive method, which is a liquid photocurable composition containing a polyfunctional radical reactive compound and a photopolymerization initiator and having a thickness of 100 μm. A female mold material for forming a partition wall pattern, comprising a liquid photocurable composition having a light transmittance of 10 to 60% at a maximum emission wavelength of an irradiation light source used for curing a thick film.

［請求項5］プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型の形成方法であって、多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型の形成方法。   [Claim 5] A female-type forming method for forming a barrier rib pattern of a plasma display panel by an additive method, which is a liquid light containing a polyfunctional radical reactive compound, a photopolymerization initiator, and a photosensitizer. A female for partition wall pattern formation, comprising a curable composition and a liquid photocurable composition having a light transmittance of 10 to 60% at the maximum emission wavelength of an irradiation light source used for curing a 100 μm thick film. Mold formation method.

以下、本発明の実施形態を説明する。本発明の実施形態は、プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための隔壁パターン形成用雌型材料に特徴があり、多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴としている。ここで、最大発光波長とは、その照射光源の発光エネルギーが最大値となる波長であり、照射光源がＵＶランプである場合には、通常３６５ｎｍである。また、光線透過率は液状光硬化性組成物を１００μｍ厚に塗工して得られるフィルムを透過する最大発光波長光の透過率を表す。   Embodiments of the present invention will be described below. Embodiments of the present invention are characterized by a female material for barrier rib pattern formation for forming a barrier rib pattern of a plasma display panel by an additive method, and include a polyfunctional radical reactive compound, a photopolymerization initiator, and a photosensitizer. A liquid photocurable composition containing a liquid photocurable composition having a light transmittance of 10 to 60% at the maximum emission wavelength of an irradiation light source used for curing a 100 μm thick film. . Here, the maximum emission wavelength is a wavelength at which the emission energy of the irradiation light source becomes a maximum value, and is usually 365 nm when the irradiation light source is a UV lamp. The light transmittance represents the transmittance of light having a maximum emission wavelength that transmits a film obtained by coating the liquid photocurable composition to a thickness of 100 μm.

すなわち、本発明の実施形態で用いる液状光硬化性組成物は、多官能ラジカル反応性化合物と光開始剤を必須成分として含有する。使用する多官能ラジカル反応性化合物としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの両末端（メタ）アクリル酸付加体、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート（以下、「ビスフェノールＡのジエポキシ（メタ）アクリレート」ともいう。）、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。   That is, the liquid photocurable composition used in the embodiment of the present invention contains a polyfunctional radical-reactive compound and a photoinitiator as essential components. Examples of polyfunctional radical reactive compounds used include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, and triethylene. Glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane diyldimethanol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexane Diol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate Bisphenol A diglycidyl ether end (meth) acrylic acid adduct, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of diol which is an adduct of ethylene oxide or propylene oxide of bisphenol A, Di (meth) acrylate of diol which is an adduct of ethylene oxide or propylene oxide of hydrogenated bisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol A (meta Epoxy obtained by adding acrylate (meth) acrylate (hereinafter, also referred to as "diepoxy bisphenol A (meth) acrylate".), Triethylene glycol divinyl ether.

これらの多官能ラジカル反応性化合物のうち、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルに（メタ）アクリレートを付加させたエポキシ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレートが好ましい。   Among these polyfunctional radical-reactive compounds, epoxy (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tricyclodecanediyldimethanol di (meth) acrylate, bisphenol obtained by adding (meth) acrylate to bisphenol A diglycidyl ether Di (meth) acrylate or tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate of diol which is an adduct of ethylene oxide or propylene oxide of A is preferable.

本発明の隔壁パターン形成用雌型材料である液状光硬化性組成物中の多官能ラジカル重合性化合物の配合割合は、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり３０重量部から９９．９重量部、より好ましくは５０重量部から９９重量部である。   The blending ratio of the polyfunctional radical polymerizable compound in the liquid photocurable composition which is the female pattern material for forming a partition wall pattern of the present invention is generally from 30 to 99 parts by weight per 100 parts by weight of the liquid photocurable composition. .9 parts by weight, more preferably 50 parts by weight to 99 parts by weight.

また、本発明の実施形態における液状光硬化性樹脂組成物には、単官能ラジカル重合性化合物を添加することもできる。そのような化合物としては、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタムの如きビニル基含有ラクタム、イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレートの如き脂環式構造含有（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテルを挙げることができる。   Moreover, a monofunctional radically polymerizable compound can also be added to the liquid photocurable resin composition in the embodiment of the present invention. Examples of such compounds include vinyl group-containing lactams such as N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl ( (Meth) acrylate, alicyclic structure-containing (meth) acrylate such as 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, vinylimidazole, vinylpyridine, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2- Hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate , Butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) ) Acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) ) Acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) Acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (Meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, diacetone (meth) acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, t-octyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meta ) Acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) And acrylate), N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, hydroxybutyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cetyl vinyl ether, and 2-ethylhexyl vinyl ether.

本発明の隔壁パターン形成用雌型材料である液状光硬化性組成物中の単官能ラジカル重合性化合物の配合量は、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり０重量部から６９重量部、より好ましくは０重量部から４９重量部である。   The blending amount of the monofunctional radically polymerizable compound in the liquid photocurable composition that is the female pattern material for forming a partition wall pattern of the present invention is generally from 0 to 69 parts by weight per 100 parts by weight of the liquid photocurable composition. Parts by weight, more preferably 0 to 49 parts by weight.

また、本発明の実施形態における液状光硬化性組成物には光重合開始剤が用いられる。光重合開始剤は、液状光硬化性組成物の光硬化反応を開始させる役割を担うことに加え、液状光硬化性組成物の光線透過率を制御するためにも添加される。液状光硬化性組成物の光線透過率は、光重合開始剤の配合量のみにより制御してもよいし、光重合開始剤に後述の光増感剤を併用してこれら両成分の配合量により制御してもよい。この光重合開始剤としては、例えば１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォフフィンオキシド；また、市販品としてはＩＲＵＧＡＣＵＲＥ１８４、３６９、６５１、５００、９０７、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１（以上、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製）；ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ製）；Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１１６、１１７３（以上、メルク製）；ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ製）等が挙げられる。   Moreover, a photoinitiator is used for the liquid photocurable composition in embodiment of this invention. The photopolymerization initiator is added to control the light transmittance of the liquid photocurable composition in addition to playing a role of initiating the photocuring reaction of the liquid photocurable composition. The light transmittance of the liquid photocurable composition may be controlled only by the blending amount of the photopolymerization initiator, or the photopolymerization initiator may be used in combination with a photosensitizer described later depending on the blending amount of these two components. You may control. Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4- Chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-c Rothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) ) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide; commercially available products include IRUGACURE 184, 369, 651, 500, 907, CGI 1700, CGI 1750, CGI 1850, CG 24-61 (above, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Lucirin LR8728 (manufactured by BASF); Darocure 1116, 1173 (manufactured by Merck); Ubekril P36 (manufactured by UCB) and the like.

この光重合開始剤の添加量は、得られた液状光硬化性組成物を硬化して得られる１００μｍ厚のフィルムの光線透過率に応じて調整する。光重合開始剤の好ましい添加量は、光重合開始剤種、光硬化に用いる光源の発光波長によっても異なるが、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり０．１重量部から２０重量部、より好ましくは０．５重量部から１０重量部である。   The addition amount of this photoinitiator is adjusted according to the light transmittance of the 100-micrometer-thick film obtained by hardening | curing the obtained liquid photocurable composition. The preferred addition amount of the photopolymerization initiator varies depending on the type of photopolymerization initiator and the emission wavelength of the light source used for photocuring, but is generally 0.1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the liquid photocurable composition. Part by weight, more preferably 0.5 to 10 parts by weight.

また、本発明の実施形態における液状光硬化性組成物では光増感剤を併用することが好ましい。光増感剤は、液状光硬化性組成物の光硬化反応における光重合開始剤の作用を増感する役割を担うことに加え、液状光硬化性組成物の光線透過率を制御するためにも添加される。一般に、光増感剤は、光重合開始剤よりも吸光係数が大きいために、光重合開始剤よりも少ない配合量で効果的に光線透過率を制御することができる。このため、光重合開始剤と光増感剤を併用して、液状光硬化性組成物の光線透過率を制御することが好ましい。この光増感剤としては、例えば４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、チオキサントン、２，４―ジメチルチオキサントン、２，３−ジエチルチオキサントン、市販品としてはユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ製）等が挙げられる。   Moreover, it is preferable to use a photosensitizer together in the liquid photocurable composition in the embodiment of the present invention. The photosensitizer plays a role of sensitizing the action of the photopolymerization initiator in the photocuring reaction of the liquid photocurable composition, and also for controlling the light transmittance of the liquid photocurable composition. Added. In general, since the photosensitizer has a larger extinction coefficient than the photopolymerization initiator, the light transmittance can be effectively controlled with a smaller blending amount than the photopolymerization initiator. For this reason, it is preferable to control the light transmittance of a liquid photocurable composition by using a photoinitiator and a photosensitizer together. Examples of the photosensitizer include 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, thioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2 , 3-diethylthioxanthone, commercially available products include Ubekryl P102, 103, 104, 105 (above, manufactured by UCB).

この光増感剤の添加量は、光重合開始剤と同様に、硬化フィルムの光線透過率に応じて調整する。光増感剤の好ましい添加量は、光増感剤種、光硬化に用いる光源の発光波長によっても異なるが、一般的には液状光硬化性組成物１００重量部あたり０．０１重量部から１５重量部、より好ましくは０．０５重量部から１０重量部、更に好ましくは０．１重量部から５重量部である。   The addition amount of this photosensitizer is adjusted according to the light transmittance of a cured film similarly to a photoinitiator. The preferred addition amount of the photosensitizer varies depending on the photosensitizer species and the emission wavelength of the light source used for photocuring, but generally 0.01 to 15 parts by weight per 100 parts by weight of the liquid photocurable composition. Parts by weight, more preferably 0.05 to 10 parts by weight, still more preferably 0.1 to 5 parts by weight.

また、本発明の実施形態における液状光硬化性組成物には、塗布膜厚を調整するために溶媒を加えて液状光硬化性組成物の粘性を制御することができる。そのための溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、塩化メチレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、水などが使用できる。これらの溶媒を組み合わせて使用することもできる。   Moreover, in order to adjust a coating film thickness, the viscosity of a liquid photocurable composition can be controlled by adding a solvent to the liquid photocurable composition in the embodiment of the present invention. As a solvent for that purpose, benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane, cyclohexanone, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, chloroform, methylene chloride, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, water and the like can be used. A combination of these solvents can also be used.

溶媒の添加量は液状光硬化性組成物の粘性を制御する目的で任意の割合で用いる事ができるが、溶剤の添加量が多すぎると塗布時に溶剤の乾燥に時間がかかり、また完全に溶剤が除去されずに得られる隔壁パターン形成用雌型材料の機械的強度が劣る場合がある。溶媒の添加量は液状光硬化性組成物１００重量部あたり９００重量部以下が好ましい。   The added amount of the solvent can be used at an arbitrary ratio for the purpose of controlling the viscosity of the liquid photocurable composition. However, if the added amount of the solvent is too large, it takes time to dry the solvent at the time of coating, and the solvent is completely removed. In some cases, the mechanical strength of the female material for forming a partition wall pattern obtained without removing the film is inferior. The amount of the solvent added is preferably 900 parts by weight or less per 100 parts by weight of the liquid photocurable composition.

このような本発明の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型材料、或いは前述の液状光硬化性組成物を用いる隔壁パターン形成用雌型の形成方法によると、前述の光透過率を１０〜６０％の範囲で任意に調整することで、隔壁パターン用雌型の断面形状を逆台形，長方形，台形に任意に設定することができる。   According to the method for forming the partition pattern forming female mold according to the embodiment of the present invention or the partition pattern forming female mold using the above-described liquid photocurable composition, the light transmittance described above is 10-60. By arbitrarily adjusting in the range of%, the cross-sectional shape of the partition wall pattern female mold can be arbitrarily set to an inverted trapezoid, a rectangle, and a trapezoid.

特に、前述の光透過率を４０％以上にすることで、底面が広い台形形状を有する雌型断面を得ることができ、底面が広い放電セルを区画する隔壁を形成することが可能になる。これによって、高精細画面を形成するために放電セルの開口面積を小さくした場合であっても、放電セルの底面積を広くすることで、十分な発光空間を確保することができ、良好な画質を得ることができる。   In particular, by setting the above-described light transmittance to 40% or more, it is possible to obtain a female cross section having a trapezoidal shape with a wide bottom surface, and it is possible to form a partition that partitions discharge cells with a wide bottom surface. As a result, even when the opening area of the discharge cell is reduced in order to form a high-definition screen, a sufficient light emitting space can be secured by widening the bottom area of the discharge cell, and good image quality can be obtained. Can be obtained.

また、前述の光透過率を比較的高くすることで、前述した液状光硬化性組成物の形成膜厚を厚くした場合であっても膜の底部を効率的に反応させることができるようになるので、高さの高い雌型を形成することができ、奥行きのある放電セルを区画する隔壁を形成することができる。   In addition, by making the light transmittance relatively high, the bottom of the film can be reacted efficiently even when the formation thickness of the liquid photocurable composition is increased. Therefore, a female mold having a high height can be formed, and a partition wall that partitions discharge cells having a depth can be formed.

また、前述した光重合開始剤、又は、光重合開始剤及び光増感剤の添加量によって前述した光線透過率を調整することができるので、この調整によって、隔壁パターン形成用雌型の断面形状を台形又は長方形或いはその複合形状に任意に設定することができる。そして、これによって形成される隔壁形状の設定によって、良好な発光効率が得られる放電セルの形状設計を行うことができる。   In addition, since the light transmittance described above can be adjusted by the amount of the photopolymerization initiator or the amount of the photopolymerization initiator and the photosensitizer added, the cross-sectional shape of the partition pattern forming female die can be adjusted by this adjustment. Can be arbitrarily set to a trapezoidal shape, a rectangular shape, or a composite shape thereof. And the shape design of the discharge cell which can obtain favorable luminous efficiency can be performed by the setting of the partition shape formed by this.

以下、更に具体的な隔壁パターン形成用雌型の形成方法を図面に基づいて説明する。図２は、本発明の一実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。   Hereinafter, a more specific method for forming the partition pattern forming female mold will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is an explanatory diagram showing a method for forming a partition pattern forming female die according to an embodiment of the present invention.

これによると、一工程として、基板１を支持板１０の上に設置し、電極２（アドレス電極）が形成されて誘電体層３（アドレス保護層）が必要に応じて形成された基板１の周囲に液漏れガイド板１１を立設し、液漏れガイド板１１で囲まれた基板１上に前述した液状光硬化性組成物を充填して、感光性樹脂膜４を形成する（同図（ａ））。ここでは、１００〜３００μｍ程度の高さを有する隔壁を形成するために、液漏れガイド板１１を用いて所望の厚さの感光性樹脂膜４を得るようにしている。   According to this, as a step, the substrate 1 is placed on the support plate 10, the electrode 2 (address electrode) is formed, and the dielectric layer 3 (address protection layer) is formed as necessary. A liquid leakage guide plate 11 is erected around the substrate, and the liquid photocurable composition is filled on the substrate 1 surrounded by the liquid leakage guide plate 11 to form the photosensitive resin film 4 (FIG. a)). Here, in order to form a partition having a height of about 100 to 300 μm, the photosensitive resin film 4 having a desired thickness is obtained using the liquid leakage guide plate 11.

また、これに限らず、前述した液状光硬化性組成物を所望の粘性を有する樹脂ペースト状にして、アプリケータ等によって基板１上に塗布するようにしても良い。この場合、１００〜３００μｍ程度の高さを有する隔壁を形成するためには、所望の厚さに塗布する必要があるので、樹脂ペーストに所望の粘性を付与することが必要になる。   In addition, the liquid photocurable composition described above may be formed into a resin paste having a desired viscosity and applied onto the substrate 1 with an applicator or the like. In this case, in order to form a partition having a height of about 100 to 300 μm, it is necessary to apply a desired thickness to the resin paste.

その後の工程として、この充填された液状光硬化性組成物からなる感光性樹脂膜４の上に隔壁パターンの光不透過部１２ａを有するフォトマスク１２を載置させ反応光（例えば、最大発光波長が３６５ｎｍである紫外線）を照射する。ここでは平行光線の一回露光で処理を完了する。これによると、光不透過部１２ａ以外の開口部を介して反応光が照射された部分が硬化し、光不透過部１２ａの下に未硬化部が形成される（同図（ｂ））。そして、その後の現像処理工程で、光不透過部１２ａ下の未硬化部を除去して隔壁パターンの雌型４Ａを得る（同図（ｃ））。   As a subsequent process, a photomask 12 having a light-opaque portion 12a having a partition wall pattern is placed on the photosensitive resin film 4 made of the filled liquid photocurable composition, and reaction light (for example, maximum emission wavelength) is placed. Is irradiated with ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm. Here, the process is completed with a single exposure of parallel rays. According to this, the portion irradiated with the reaction light through the opening other than the light impermeable portion 12a is cured, and an uncured portion is formed under the light impermeable portion 12a ((b) in the figure). Then, in a subsequent development processing step, the uncured portion under the light-impermeable portion 12a is removed to obtain a female die 4A having a partition pattern ((c) in the figure).

この際、前述の光線透過率を調整した液状光硬化性組成物が用いられることで、一回の平行光線露光であっても、雌型４Ａの断面形状を任意に設定することができ、例えば、４０％以上の光線透過率の液状光硬化組成物を用いることで、図示のように底面が上面より広い台形断面の雌型４Ａを得ることができる。   At this time, by using the liquid photocurable composition with the light transmittance adjusted as described above, the cross-sectional shape of the female die 4A can be arbitrarily set even in one parallel light exposure, for example, By using a liquid photocurable composition having a light transmittance of 40% or more, a female die 4A having a trapezoidal cross section with a bottom surface wider than the top surface as shown in the figure can be obtained.

図３は、本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。この実施形態では、基板１を支持板１０の上に設置し、電極２（アドレス電極）が形成されて誘電体層３（アドレス保護層）が必要に応じて形成された基板１上に、前述の液状光硬化性組成物を乾燥して形成したフィルム（ドライフィルムレジスト）を載置して感光性樹脂膜４を形成し、この感光性樹脂膜４の上に隔壁パターンの光不透過部１２ａを有するフォトマスク１２を載置させ、反応光（例えば、最大発光波長が３６５ｎｍである紫外線）を照射する（同図（ａ））。そして、その後の現像処理工程で、光不透過部１２ａ下の未硬化部を除去して隔壁パターンの雌型４Ａを得る（同図（ｂ））。   FIG. 3 is an explanatory view showing a method for forming a partition pattern forming female die according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, the substrate 1 is placed on the support plate 10, the electrode 2 (address electrode) is formed, and the dielectric layer 3 (address protection layer) is formed as necessary on the substrate 1. A film formed by drying the liquid photocurable composition (dry film resist) is placed to form a photosensitive resin film 4, and the light-impermeable portion 12a of the partition wall pattern is formed on the photosensitive resin film 4. The photomask 12 having the above is placed and irradiated with reaction light (for example, ultraviolet light having a maximum emission wavelength of 365 nm) (FIG. 1A). Then, in a subsequent development processing step, the uncured portion under the light-impermeable portion 12a is removed to obtain a female die 4A having a partition pattern ((b) in the figure).

これによっても前述の方法と同様に、図示のような底面が上面より広い台形断面の雌型４Ａを得ることができ、また、フィルム化した感光性樹脂膜４を用いるので、感光性樹脂膜４の形成を簡略化することができる。   In this way, similar to the above-described method, it is possible to obtain a female die 4A having a trapezoidal cross section whose bottom surface is wider than the top surface as shown in the figure, and since the photosensitive resin film 4 formed into a film is used, the photosensitive resin film 4 The formation of can be simplified.

図４は、本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。この実施形態では、一工程として、前述した光線透過率を所望の値に設定した前記の液状光硬化性組成物を乾燥硬化して複数のフィルム４０ａ〜４０ｄ等を形成する。そして、その後の工程で、形成する雌型の所望の断面形状に応じて、複数のフィルム４０ａ〜４０ｄを電極２或いは誘電体層３が形成された基板１上に積層する。また、その後の工程として、複数のフィルム４０ａ〜４０ｄ上に隔壁パターンの光不透過部１２ａを有するフォトマスク１２を載置させ反応光を照射し、更に、前述の実施形態と同様に、光不透過部１２ａ下の未硬化部を除去して隔壁パターンの雌型を得る。   FIG. 4 is an explanatory view showing a method for forming a partition pattern forming female die according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, as a step, the liquid photocurable composition having the above-described light transmittance set to a desired value is dried and cured to form a plurality of films 40a to 40d and the like. Then, in a subsequent process, a plurality of films 40a to 40d are laminated on the substrate 1 on which the electrode 2 or the dielectric layer 3 is formed according to the desired cross-sectional shape of the female mold to be formed. Further, as a subsequent process, a photomask 12 having a light-opaque portion 12a having a partition wall pattern is placed on the plurality of films 40a to 40d and irradiated with reaction light. The uncured part under the transmission part 12a is removed to obtain a female mold having a partition pattern.

この実施形態によると、複数のフィルム４０ａ〜４０ｄにおける前述した光線透過率を適宜異なる値に設定しておき、その積層順を適宜設定することで、フォトマスク１２を介して一回の露光で雌型の断面形状を任意に設定することができる。特に、フィルム４０ａ〜４０ｄの積層数を多くしてそれぞれ適当な光線透過率を設定することで、図示のように、所望の曲線断面を有する雌型を形成することも可能になる。これによると、良好な発光効率を得るために、放電セルの形状を任意に設計できることになり、高精細な放電セルの配置を形成した場合であっても、適正な発光空間を形成することができ、高画質の画像を得ることができる。   According to this embodiment, the light transmittance described above in the plurality of films 40a to 40d is set to a different value as appropriate, and the stacking order is set as appropriate, so that the female can be exposed once through the photomask 12. The cross-sectional shape of the mold can be arbitrarily set. In particular, by increasing the number of laminated films 40a to 40d and setting appropriate light transmittances, it is possible to form a female mold having a desired curved cross section as shown in the figure. According to this, in order to obtain good light emission efficiency, the shape of the discharge cell can be arbitrarily designed, and even when a high-definition discharge cell arrangement is formed, an appropriate light emission space can be formed. And high-quality images can be obtained.

このような各実施形態によって隔壁パターン形成用雌型を形成した後には、図１（ｄ）に示した隔壁材の充填工程、図１（ｅ）に示した雌型の除去工程を経て、隔壁のパターンを形成することができる。本発明の実施形態に係る隔壁パターンの形成方法では、形成された雌型間に、隔壁材を充填した後、雌型及び隔壁材を同時焼成する。   After forming the partition pattern forming female mold according to each of the embodiments, the partition wall filling process shown in FIG. 1D and the female mold removal process shown in FIG. The pattern can be formed. In the method for forming the partition pattern according to the embodiment of the present invention, the partition material is filled between the formed female molds, and then the female mold and the partition material are fired simultaneously.

この際に隔壁材の充填は、従来技術と同様に低融点ガラスペースト等の隔壁材ペーストを採用して、スキージ或いは塗布によって雌型間に充填する。この充填工程の後は、必要に応じて、雌型の溝部以外の部分に付着或いは飛び散った隔壁材を研磨等の手段でクリーニングし、雌型及び充填した隔壁材を同時に焼成して、雌型を分解除去すると同時に、隔壁材をガラス化し、基板１上に隔壁のパターンを形成する。この際、雌型と隔壁材を同時焼成することで、雌型がどのような形状（例えば底面が広い台形等）であっても、隔壁の成形物の形状を維持したままで、雌型を除去することができる。   At this time, the partition wall material is filled between the female molds by squeegeeing or coating using a partition wall material paste such as a low melting point glass paste as in the prior art. After this filling step, if necessary, the partition wall material adhering or splashing on the portion other than the groove portion of the female mold is cleaned by means such as polishing, and the female mold and the filled partition wall material are fired at the same time. At the same time, the barrier rib material is vitrified and a barrier rib pattern is formed on the substrate 1. At this time, by firing the female mold and the partition wall material at the same time, the female mold can be formed while maintaining the shape of the molded product of the partition wall, regardless of the shape of the female mold (for example, a trapezoid having a wide bottom surface). Can be removed.

前述した液状光硬化性組成物からなる隔壁パターン形成用雌型材料は、加熱することによって収縮する特性があり、焼成時に隔壁材へのストレスが無く、隔壁形成時の隔壁成形支持材としても有効であり、特に、隔壁の歪みや割れを無くす効果もある。また、この隔壁パターン形成用雌型材料は、焼成時には炭酸ガスと水蒸気が発生するのみで環境に有害なものは発生しないので、環境保護の観点からも有益なものである。   The above-mentioned female mold material for forming a partition pattern made of a liquid photocurable composition has the property of shrinking when heated, has no stress on the partition material during firing, and is also effective as a partition molding support material during partition formation. In particular, there is an effect of eliminating distortion and cracking of the partition walls. In addition, this female material for forming a partition wall pattern is useful from the viewpoint of environmental protection because carbon dioxide gas and water vapor are only generated during firing and nothing harmful to the environment is generated.

そして、前述したように形成された隔壁パターンによって放電セルが区画されたプラズマディスプレイパネルによると、高精細な画像を表示するために放電セルの密度を高くした場合であっても、放電セル内に十分な発光空間を形成することができると共に、発光効率を高めるように所望の形状に放電セルを設計することができる。特に、前述したように雌型を底面が広い台形にすることで隔壁の断面を逆台形断面にした場合には、放電セルの開口部に対して底面を広げることができ、効果的に発光空間を広げることができる。   According to the plasma display panel in which the discharge cells are partitioned by the barrier rib pattern formed as described above, even if the density of the discharge cells is increased in order to display a high-definition image, A sufficient light emission space can be formed, and the discharge cell can be designed in a desired shape so as to increase the light emission efficiency. In particular, as described above, when the female mold is trapezoidal with a wide bottom surface, the bottom surface of the partition wall can be widened with respect to the opening of the discharge cell, thereby effectively emitting light. Can be spread.

以下に、本発明の隔壁パターン形成用雌型材料の実施例を以下に示す。   Below, the Example of the female type | mold material for partition pattern formation of this invention is shown below.

撹拌機を備えた反応容器に、ビスフェノールＡのジエポキシアクリレート（昭和高分子（株）製ＶＲ−９０）を５０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）を１２．５部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャリティーケミカルズ（株）製Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）を１部、２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＥＸ）を表１に示す量、メチルエチルケトンを５０部添加した。容器中の混合物は、５０℃で３時間撹拌を行い、均一な溶液を得た。   In a reaction vessel equipped with a stirrer, 50 parts of bisphenol A diepoxy acrylate (VR-90 manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) and dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) are added. 5 parts, 1 part of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2,4-diethylthioxanthone (KAYACURE DETEX manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in the amounts shown in Table 1, methyl ethyl ketone 50 parts were added. The mixture in the container was stirred at 50 ° C. for 3 hours to obtain a uniform solution.

得られた溶液を塗布する基板Ｓとして、トリメトキシシリルプロピルメタアクリレートのエタノール溶液で表面処理を行ったガラス基板を用意した。   As a substrate S on which the obtained solution was applied, a glass substrate subjected to surface treatment with an ethanol solution of trimethoxysilylpropyl methacrylate was prepared.

このガラス基板上にアプリケータを用いて表１に示す例毎に液状光硬化性組成物を塗布した。塗布膜厚は、硬化後に約２２０μｍとなるように調整した。これを８０℃のオーブンに１０分間静置して乾燥を行った後、パターンマスクを表面に貼り付けてＵＶコンベアを用いてＵＶ照射した。ＵＶの照度は２０ｍＷ／ｃｍ２、照射光量は４５ｍＪ／ｃｍ２とした。 The liquid photocurable composition was apply | coated to this glass substrate for every example shown in Table 1 using the applicator. The coating film thickness was adjusted to be about 220 μm after curing. This was left to stand in an oven at 80 ° C. for 10 minutes for drying, and then a pattern mask was attached to the surface and irradiated with UV using a UV conveyor. The illuminance of UV was 20 mW / cm 2 and the amount of irradiation light was 45 mJ / cm 2 .

得られた硬化物をメチルエチルケトン／エタノール（１／１）の溶液に浸漬することで現像処理を行った。   The obtained cured product was immersed in a solution of methyl ethyl ketone / ethanol (1/1) for development processing.

得られた雌型の断面形状を顕微鏡で観察した。雌型形状と組成物の関係を表１に示す（表中の符号については図５を参照）。   The cross-sectional shape of the obtained female mold was observed with a microscope. The relationship between the female shape and the composition is shown in Table 1 (see FIG. 5 for the reference numerals in the table).

Figure 2006252996
Figure 2006252996

この実施例の結果から、光線透過率と角度θ（雌型のオーバーハング角度）の関係を図６に示す。図示のように、光線透過率を１０〜６０％の間で調整することで、オーバーハング角度θを約７０〜１１０の範囲で変化させることができる。すなわち、雌型断面を逆台形から長方形或いは台形に変えることが可能になる。   From the results of this example, the relationship between the light transmittance and the angle θ (female overhang angle) is shown in FIG. As shown in the drawing, the overhang angle θ can be changed in the range of about 70 to 110 by adjusting the light transmittance between 10 and 60%. That is, the female mold cross section can be changed from an inverted trapezoid to a rectangle or a trapezoid.

以上説明したように、本発明の実施形態或いは実施例によると、高精細且つ高画質の画像を得るための有効な隔壁形成方法を提供することができ、隔壁形成にアディティブ法を採用するに際して、一回の露光で十分な高さを有し、且つ所望の断面形状を有する隔壁（隔壁を形成するための雌型）を形成することができる。   As described above, according to the embodiment or example of the present invention, it is possible to provide an effective partition formation method for obtaining a high-definition and high-quality image, and when adopting the additive method for partition formation, A partition wall (female mold for forming a partition wall) having a sufficient height and a desired cross-sectional shape can be formed by one exposure.

従来技術の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art. 本発明の一実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the formation method of the female die for partition pattern formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the formation method of the female die for partition pattern formation which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る隔壁パターン形成用雌型の形成方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the formation method of the female die for partition pattern formation which concerns on other embodiment of this invention. 実施例（表１）の説明図である。It is explanatory drawing of an Example (Table 1). 実施例における光線透過率と雌型のオーバーハング角度の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the light transmittance in an Example, and the female overhang angle.

符号の説明Explanation of symbols

１ 基板
２ 電極
３ 誘電体層
４ 感光性樹脂膜
４Ａ 雌型
１０ 支持板
１１ 液漏れガイド板
１２ フォトマスク
１２ａ 光不透過部
４０ａ〜４０ｄ フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate 2 Electrode 3 Dielectric layer 4 Photosensitive resin film 4A Female type | mold 10 Support plate 11 Liquid leak guide plate 12 Photomask 12a Light impervious part 40a-40d Film

Claims (15)

プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型材料であって、
多官能ラジカル反応性化合物、および光重合開始剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型材料。 A female material for forming a partition pattern of a plasma display panel by an additive method,
A liquid photocurable composition containing a polyfunctional radical-reactive compound and a photopolymerization initiator and having a light transmittance of 10 to 60% at the maximum emission wavelength of an irradiation light source used for curing a 100 μm thick film A female mold material for forming a partition wall pattern, comprising a photocurable composition. プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型材料であって、
多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型材料。 A female material for forming a partition pattern of a plasma display panel by an additive method,
A liquid photocurable composition containing a polyfunctional radical-reactive compound, a photopolymerization initiator, and a photosensitizer, having a light transmittance of 10 to 10 at the maximum emission wavelength of an irradiation light source used for curing a 100 μm thick film. A female mold material for forming a partition wall pattern, comprising a liquid photocurable composition of 60%. 前記光線透過率を４０％以上にすることを特徴とする請求項１又は２に記載された隔壁パターン形成用雌型材料。   3. The female material for forming a partition wall pattern according to claim 1 or 2, wherein the light transmittance is 40% or more. 前記光重合開始剤および／または光増感剤の添加量は、前記光線透過率に応じて調整されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型材料。   The female mold for forming a partition wall pattern according to any one of claims 1 to 3, wherein the addition amount of the photopolymerization initiator and / or the photosensitizer is adjusted according to the light transmittance. material. プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型の形成方法であって、
多官能ラジカル反応性化合物、および光重合開始剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型の形成方法。 A method of forming a female mold for forming a partition pattern of a plasma display panel by an additive method,
A liquid photocurable composition containing a polyfunctional radical-reactive compound and a photopolymerization initiator and having a light transmittance of 10 to 60% at the maximum emission wavelength of an irradiation light source used for curing a 100 μm thick film A method for forming a female mold for forming a partition wall pattern, comprising a photocurable composition. プラズマディスプレイパネルの隔壁パターンをアディティブ法で形成するための雌型の形成方法であって、
多官能ラジカル反応性化合物、光重合開始剤、および光増感剤を含有する液状光硬化性組成物で、１００μｍ厚フィルムを硬化する際に用いる照射光源の最大発光波長における光線透過率が１０〜６０％である液状光硬化性組成物からなることを特徴とする隔壁パターン形成用雌型の形成方法。 A method of forming a female mold for forming a partition pattern of a plasma display panel by an additive method,
A liquid photocurable composition containing a polyfunctional radical-reactive compound, a photopolymerization initiator, and a photosensitizer, having a light transmittance of 10 to 10 at the maximum emission wavelength of an irradiation light source used for curing a 100 μm thick film. A method for forming a female mold for forming a partition wall pattern, comprising a liquid photocurable composition of 60%. 前記光線透過率を４０％以上にすることを特徴とする請求項５又は６に記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。   7. The method for forming a female pattern for forming a partition wall pattern according to claim 5, wherein the light transmittance is 40% or more. 前記光重合開始剤および／又は光増感剤の添加量は、前記光線透過率に応じて調整されることを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。   The female mold for forming a partition wall pattern according to any one of claims 5 to 7, wherein the addition amount of the photopolymerization initiator and / or photosensitizer is adjusted according to the light transmittance. Forming method. 前記光線透過率を前記光重合開始剤および／又は光増感剤の添加量によって調整することによって、前記雌型の断面形状を台形又は長方形或いはその複合形状に任意に設定することを特徴とする請求項５〜８のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。   By adjusting the light transmittance according to the amount of the photopolymerization initiator and / or photosensitizer added, the cross-sectional shape of the female mold is arbitrarily set to a trapezoidal shape, a rectangular shape, or a composite shape thereof. A method for forming a female pattern for forming a partition wall pattern according to any one of claims 5 to 8. 隔壁を形成しようとする基板の周囲に液漏れガイド板を立設し、該液漏れガイド板で囲まれた前記基板上に前記液状光硬化性組成物を充填する工程、
この充填された前記液状光硬化性組成物の上に前記隔壁パターンの光不透過部を有するフォトマスクを載置させ反応光を照射する工程、
前記光不透過部下の未硬化部を除去して前記隔壁パターンの雌型を得る工程を有することを特徴とする請求項５〜９のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。 A step of erecting a liquid leakage guide plate around a substrate on which a partition wall is to be formed, and filling the liquid photocurable composition on the substrate surrounded by the liquid leakage guide plate;
A step of placing a photomask having a light-impermeable portion of the partition pattern on the filled liquid photocurable composition and irradiating with reaction light;
The method for forming a female mold for forming a partition wall pattern according to any one of claims 5 to 9, further comprising a step of removing an uncured portion under the light-impermeable portion to obtain a female mold of the partition wall pattern. . 隔壁を形成しようとする基板上に前記液状光硬化性組成物を乾燥して形成したフィルムを載置する工程、
該フィルム上に前記隔壁パターンの光不透過部を有するフォトマスクを載置させ反応光を照射する工程、
前記光不透過部下の未硬化部を除去して前記隔壁パターンの雌型を得る工程を有することを特徴とする請求項５〜１０のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。 Placing a film formed by drying the liquid photocurable composition on a substrate on which a partition wall is to be formed;
Placing a photomask having a light-impermeable portion of the partition pattern on the film and irradiating reaction light;
The method for forming a female mold for forming a partition wall pattern according to any one of claims 5 to 10, further comprising a step of removing an uncured portion under the light-impermeable portion to obtain a female mold of the partition wall pattern. . 前記光線透過率を所望の値に設定した前記液状光硬化性組成物を乾燥して複数のフィルムを形成する工程、
前記雌型の所望の断面形状に応じて、前記複数のフィルムを隔壁を形成しようとする基板上に積層する工程、
該複数のフィルム上に前記隔壁パターンの光不透過部を有するフォトマスクを載置させ反応光を照射する工程、
前記光不透過部下の未硬化部を除去して前記隔壁パターンの雌型を得る工程を有することを特徴とする請求項５〜１０のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法。 Drying the liquid photocurable composition with the light transmittance set to a desired value to form a plurality of films;
A step of laminating the plurality of films on a substrate on which a partition wall is to be formed, according to a desired cross-sectional shape of the female mold,
Placing a photomask having a light-impermeable portion of the partition pattern on the plurality of films and irradiating reaction light;
The method for forming a female mold for forming a partition wall pattern according to any one of claims 5 to 10, further comprising a step of removing an uncured portion under the light-impermeable portion to obtain a female mold of the partition wall pattern. . 請求項５〜１２のいずれかに記載された隔壁パターン形成用雌型の形成方法によって形成された雌型間に、隔壁材を充填した後、前記雌型及び隔壁材を同時焼成して、隔壁のパターンを形成する隔壁パターン形成方法。   A partition wall material is filled between female dies formed by the method for forming a partition wall pattern forming female die according to any one of claims 5 to 12, and then the female mold and the partition wall material are fired at the same time. A partition wall pattern forming method for forming the pattern. 請求項１３の隔壁パターン形成方法によって形成された隔壁によって放電セルが区画されたプラズマディスプレイパネル。   A plasma display panel in which discharge cells are partitioned by barrier ribs formed by the barrier rib pattern forming method according to claim 13. 前記隔壁は逆台形断面を有することを特徴とする請求項１４に記載されたプラズマディスプレイパネル。   The plasma display panel of claim 14, wherein the barrier rib has an inverted trapezoidal cross section.
JP2005068820A 2005-03-11 2005-03-11 Female die material for barrier rib pattern forming, and forming method of female die for barrier rib pattern forming, barrier rib pattern forming method, plasma display panel Pending JP2006252996A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005068820A JP2006252996A (en) 2005-03-11 2005-03-11 Female die material for barrier rib pattern forming, and forming method of female die for barrier rib pattern forming, barrier rib pattern forming method, plasma display panel
PCT/JP2006/304787 WO2006095869A1 (en) 2005-03-11 2006-03-10 Material of female die for barrier rib pattern formation, method of forming female die for barrier rib pattern formation, method of forming barrier rib pattern, and plasma display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005068820A JP2006252996A (en) 2005-03-11 2005-03-11 Female die material for barrier rib pattern forming, and forming method of female die for barrier rib pattern forming, barrier rib pattern forming method, plasma display panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006252996A true JP2006252996A (en) 2006-09-21

Family

ID=36953458

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005068820A Pending JP2006252996A (en) 2005-03-11 2005-03-11 Female die material for barrier rib pattern forming, and forming method of female die for barrier rib pattern forming, barrier rib pattern forming method, plasma display panel

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2006252996A (en)
WO (1) WO2006095869A1 (en)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11212272A (en) * 1998-01-29 1999-08-06 Hitachi Chem Co Ltd Relief pattern, relief pattern for additive, relief pattern for forming barrier, production of relief pattern and photosensitive element used in same
JPH11306990A (en) * 1998-04-17 1999-11-05 Mitsubishi Electric Corp Ac color plasma display panel and its manufacture
JP2001006534A (en) * 1999-06-17 2001-01-12 Hitachi Chem Co Ltd Barrier rib forming element and manufacture of baririer rib using it
JP2003057818A (en) * 2001-08-20 2003-02-28 Asahi Kasei Corp Liquid photosensitive resin composition for thick film conductor circuit
JP2003178948A (en) * 2001-12-11 2003-06-27 Fuji Electric Co Ltd Method for forming photoresist film

Also Published As

Publication number Publication date
WO2006095869A1 (en) 2006-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2088163B1 (en) Curable composition containing hydroxyl group-containing thiol compound and cured product thereof
TWI599625B (en) Liquid solder resist composition and coated printed wiring board (1)
JP6116651B2 (en) Photo-curable resin composition for imprint molding, imprint molding cured body, and production method thereof
CN1690853B (en) Photosensitive resin composition and photosensitive dry film containing the same
JP2011039165A (en) Alkali-soluble photocurable composition, cured coating film using the composition and transparent member
WO2007061115A1 (en) Process for producing organic el, color filter and diaphragm
JP6864807B2 (en) Patterning material, patterning method, and patterning equipment
CN101051186A (en) Negative photosensitive resin composition
JP2006317698A (en) Photosensitive dry film for producing three-dimensional minute shaped object and photosensitive resin composition
JP2006308960A (en) Method for manufacturing microlens array, photosensitive resin composition for microlens array and photosensitive element for microlens array
EP2067606A1 (en) Method of photofabrication
JP2010096846A (en) Negative resist
JP6833211B2 (en) Photocurable resin composition for imprint molding
TWI564660B (en) Active energy ray-curable resin composition for forming pattern on light guiding plate
JP2005331938A (en) Photosensitive composition for black matrix
KR100959231B1 (en) A curable composition, a cured film, an antireflective film, and a method for producing the cured film
KR20070095425A (en) Photocurable resin composition for forming black matrix, photosensitive film using the same, method for forming black matrix, black matrix and plasma display panel having the black matrix
JP2005283840A (en) Photosensitive resin composition and optical waveguide
JP2006252996A (en) Female die material for barrier rib pattern forming, and forming method of female die for barrier rib pattern forming, barrier rib pattern forming method, plasma display panel
JP3960311B2 (en) Curable resin composition for die coating, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display device
JP4561280B2 (en) Microlens array manufacturing method, photosensitive resin composition for microlens array, and photosensitive element for microlens array
JP2009157125A (en) Film-like optical waveguide
CN107908048B (en) Spacer, manufacturing method thereof and display device
JP6833210B2 (en) Photocurable resin composition for imprint molding
JP5665351B2 (en) Manufacturing method of optical components