JP2006248843A - 成形装置、成形方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 被成形物や型体の均一な加熱による成形品の品質向上と、成形完了後の冷却所用時間の短縮による生産効率の向上とを両立させる。
【解決手段】 スリーブ4の内部に対向して配置された上型2と下型3の間にガラス素材1を挟み、この上型2および下型3を上プレート8a、下プレート8bに設けられた上ヒーター10a、下ヒーター10bで所定の成形温度まで加熱した後、上プレート8a、下プレート8bで挟圧してプレス成形する成形方法において、スリーブ4を収容するリング本体5a、遮蔽板5b、流出口5cを備えた温度制御リング5を設け、上プレート8a、下プレート8bには、スリーブ4とリング本体7aの間隙Gに開口する上ガスブロー路9a、下ガスブロー路9bを形成した。成形後の冷却時に、上ガスブロー路9a、下ガスブロー路9bから間隙Gに不活性ガスを供給して上型2、下型3の冷却を促進し冷却所要時間を短縮する。
【選択図】 図2A
【解決手段】 スリーブ4の内部に対向して配置された上型2と下型3の間にガラス素材1を挟み、この上型2および下型3を上プレート8a、下プレート8bに設けられた上ヒーター10a、下ヒーター10bで所定の成形温度まで加熱した後、上プレート8a、下プレート8bで挟圧してプレス成形する成形方法において、スリーブ4を収容するリング本体5a、遮蔽板5b、流出口5cを備えた温度制御リング5を設け、上プレート8a、下プレート8bには、スリーブ4とリング本体7aの間隙Gに開口する上ガスブロー路9a、下ガスブロー路9bを形成した。成形後の冷却時に、上ガスブロー路9a、下ガスブロー路9bから間隙Gに不活性ガスを供給して上型2、下型3の冷却を促進し冷却所要時間を短縮する。
【選択図】 図2A
Description
本発明は、成形技術に関し、特に、レンズ、プリズム等の高精度な光学ガラス素子を精密プレス成形する際に使用する光学ガラス素子の製造方法に関するものである。より詳細には、光学機器の光学系レンズに使用される球面レンズ、非球面レンズの成形技術に関するものである。
たとえば、ガラス素材を用いて光学素子を製造する方法として、特許文献1に示されるような成形技術を用いることが知られている。
すなわち、筒状の胴型内に、先端部の成形面を対向させた上型および下型を収容して成形型を構成し、この上型および下型の間にガラス素材を挟んで、所定の成形温度に加熱した後、上型および下型をプレスにて挟圧することで、所定の形状にプレス成形されたガラスレンズを得るものである。
すなわち、筒状の胴型内に、先端部の成形面を対向させた上型および下型を収容して成形型を構成し、この上型および下型の間にガラス素材を挟んで、所定の成形温度に加熱した後、上型および下型をプレスにて挟圧することで、所定の形状にプレス成形されたガラスレンズを得るものである。
ところで、この特許文献1では、ガラス素材の全体を均一な加熱状態にするために成形型として熱伝導率の高い部材を用いるとともに、胴型内における熱の偏在によって温度差が生じることに起因してガラスレンズに歪みを生じることを防止するために成形型が載置される搬送プレート上に、成形型における胴型の周囲を所定の間隔をもって囲う断熱筒を配置する構成が開示されている。
ところが、従来の特許文献1の技術では、プレス成形後の冷却工程時に、胴型を囲む断熱筒の保温作用により、胴型を含む成形型全体からの放熱効率が低下し、成形型や胴型の冷却速度が遅くなるため、プレス成形後に型内からガラスレンズを取り出すこと可能な取出可能温度まで冷却するための冷却所用時間が長くなり、生産効率が低下するという問題があった。
特許第2836230号公報
本発明の目的は、被成形物や型体の均一な加熱による成形品の品質向上と、成形完了後の冷却所用時間の短縮による生産効率の向上とを両立させることが可能な成形技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、成形型の成形温度までの加熱、成形温度から取出可能温度までの冷却を効率化し、生産性の良いガラスレンズの成形技術を提供することにある。
本発明の第1の観点は、被成形物を保持する成形面を対向させた第1および第2型体と、
前記第1および第2型体の少なくとも一方を対向方向に案内する第1筒体と、
前記第1筒体が所定の間隙をもって収容される第2筒体と、
前記第1筒体内の前記第1および第2型体を対向方向に挟圧する第1および第2型支持部材と、
前記第1および第2型体に保持された前記被成形物を加熱する加熱手段と、
前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙にガスを供給するガス供給手段と、
を含む成形装置を提供する。
前記第1および第2型体の少なくとも一方を対向方向に案内する第1筒体と、
前記第1筒体が所定の間隙をもって収容される第2筒体と、
前記第1筒体内の前記第1および第2型体を対向方向に挟圧する第1および第2型支持部材と、
前記第1および第2型体に保持された前記被成形物を加熱する加熱手段と、
前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙にガスを供給するガス供給手段と、
を含む成形装置を提供する。
本発明の第2の観点は、被成形物を保持する成形面を対向させた第1および第2型体と、
前記第1および第2型体の少なくとも一方を対向方向に案内する第1筒体と、
前記第1筒体内の前記第1および第2型体を対向方向に挟圧する第1および第2型支持部材と、
前記第1および第2型体に保持された前記被成形物を加熱する加熱手段と、
前記第1および第2型支持部材の各々に支持され、各々が前記第1筒体を所定の間隙をもって収容する第1分離筒体および第2分離筒体と、
前記第1筒体と前記第1分離筒体および第2分離筒体の各々との間の前記間隙にガスを供給するガス供給手段と、
を含む成形装置を提供する。
前記第1および第2型体の少なくとも一方を対向方向に案内する第1筒体と、
前記第1筒体内の前記第1および第2型体を対向方向に挟圧する第1および第2型支持部材と、
前記第1および第2型体に保持された前記被成形物を加熱する加熱手段と、
前記第1および第2型支持部材の各々に支持され、各々が前記第1筒体を所定の間隙をもって収容する第1分離筒体および第2分離筒体と、
前記第1筒体と前記第1分離筒体および第2分離筒体の各々との間の前記間隙にガスを供給するガス供給手段と、
を含む成形装置を提供する。
本発明の第3の観点は、第1筒体内に成形面を対向させて収容される第1および第2型体の間に被成形物を配置する工程と、
前記第1および第2型体の間に被成形物を配置した前記第1筒体を所定の間隙をなすように第2筒体内に収容した状態で前記被成形物を加熱する工程と、
加熱された前記被成形物を前記第1および第2型体の前記成形面にて挟圧する工程と、
前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙にガスを供給して冷却する工程と、
を含む成形方法を提供する。
前記第1および第2型体の間に被成形物を配置した前記第1筒体を所定の間隙をなすように第2筒体内に収容した状態で前記被成形物を加熱する工程と、
加熱された前記被成形物を前記第1および第2型体の前記成形面にて挟圧する工程と、
前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙にガスを供給して冷却する工程と、
を含む成形方法を提供する。
上記した本発明によれば、第1および第2型体が収容される第1筒体を所定の間隙をなして第2筒体(あるいは第1および第2分離筒体)に収容することで、加熱手段による成形温度までの加熱に際して、第1筒体から外部への熱の放散が防止され、効率よく短時間に所定の加熱温度まで上昇させることができるとともに、たとえば、外側の第2筒体全体からの輻射熱により、内部の第1筒体および第1および第2型体、さらには被成形物を均一に加熱できる。この結果、均一な加熱下における加圧成形にて歪みの無い良質の成形品を得ることができる。
また、成形後の冷却に際しては、第1筒体と第2筒体の間隙にガス供給手段からガスを供給して流通させることで、第1筒体内の成形品を所望の取出可能温度まで短時間に高速に冷却することが可能となる。
この結果、加熱温度の均一化による成形品の品質の向上と、所定の成形温度までの加熱所用時間および加熱温度から取出可能温度までの冷却所用時間の短縮による生産性の向上とを両立させることができる。
したがって、たとえば、被成形物としてガラス素材を用いて、成形品としてガラス光学素子を得る場合には、ガラス光学素子の品質および生産性を向上させることができる。
本発明によれば、被成形物や型体の均一な加熱による成形品の品質向上と、成形完了後の冷却所用時間の短縮による生産効率の向上とを両立させることが可能となる。
また、型体としての成形型の成形温度までの加熱、成形温度からの冷却を効率化し、生産性の良い光学素子、例えばガラスレンズの成形技術を提供することができる。
また、型体としての成形型の成形温度までの加熱、成形温度からの冷却を効率化し、生産性の良い光学素子、例えばガラスレンズの成形技術を提供することができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
以下の説明では、成形方法および成形装置を、ガラス素材を用いた光学素子等のガラス成形品のプレス成形に適用した場合を例にとって説明する。
以下の説明では、成形方法および成形装置を、ガラス素材を用いた光学素子等のガラス成形品のプレス成形に適用した場合を例にとって説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の一実施の形態である成形方法を実施する成形装置の構成の一例を示す側面図であり、図2Aは、その一部を拡大して示す断面図、図2Bは、その一部を拡大して示す分解斜視図、図3、図4および図5は、本実施の形態の成形装置の作用の一例を工程順に示す断面図である。
図1は、本発明の一実施の形態である成形方法を実施する成形装置の構成の一例を示す側面図であり、図2Aは、その一部を拡大して示す断面図、図2Bは、その一部を拡大して示す分解斜視図、図3、図4および図5は、本実施の形態の成形装置の作用の一例を工程順に示す断面図である。
図1に例示されるように、本実施の形態の成形装置は、下ベース27の上に立設された複数のベースポール25に、ベースロック26を介して上ベース24を平行に固定した構成となっている。上ベース24の固定高さは、ベースロック26のベースポール25に対する螺着位置を変化させることで可変になっている。
下ベース27の中央部には、下ベース27を貫通して下軸11bが設けられ、この下軸11bは下ベース27に固定された下軸フランジ20を介して下ベース27に支持されている。下軸フランジ20に対する下軸11bの挿通部には、Oリング20aが設けられており、当該挿通部の気密設定が保持されている。
下軸11bの上端部には、この上端部を覆うとともに下ヒーター10bを内蔵した下プレート8bが載置され、下プレート8bの下面側を下軸11bに形成されたフランジ部側に引っ張る取り付け具(ボルト)15を介して下プレート8bは下軸11bに固定されている。
上ベース24の中央部には、下軸11bに対向する姿勢で上軸11aが挿通されており、挿通部にはOリング17が設けられ、気密が保持されている。
上軸11aの下端部には、この下端部を覆うとともに上ヒーター10aを内蔵した上プレート8aが前記下プレート8bに対向して設けられ、上プレート8aの上面側を上軸11aに形成されたフランジ部側に引っ張る取り付け具(ボルト)15にて上軸11aに固定されている。
上軸11aの下端部には、この下端部を覆うとともに上ヒーター10aを内蔵した上プレート8aが前記下プレート8bに対向して設けられ、上プレート8aの上面側を上軸11aに形成されたフランジ部側に引っ張る取り付け具(ボルト)15にて上軸11aに固定されている。
上軸11aの上端側には、U字形を伏せた形状の押し板30を介してプレスシリンダー31が接続される構成となっており、このプレスシリンダー31は、シリンダベース29、ベースポール28を介して、上ベース24に固定されている。そして、プレスシリンダー31の上下方向の推力によって、上軸11aは昇降駆動される。
下プレート8bと上プレート8aの間には後述の成形ユニットM1が配置される。上プレート8aおよび下プレート8bには、成形ユニットM1を加熱するための上ヒーター10aおよび下ヒーター10bと、上プレート8aおよび下プレート8bの加熱温度を外部から測定するための熱電対37(図2B参照)が設けられている。
下軸フランジ20の開口部上端には、上軸11aおよび下軸11bが収容されるチャンバー50の一部を構成する筒状のチャンバー側壁22の下端が接続され、接続部はOリング22aにて気密が保持されている。チャンバー側壁22の上端部と上ベース24の下面との間にはチャンバー50の一部を構成する筒状の収縮ベローズ23が設けられている。収縮ベローズ23はプレスシリンダー31で上軸11aを昇降させる際の当該上軸11aの移動量だけ伸縮が可能で、密閉機能を持ち合わせている。
これにより、上ベース24、収縮ベローズ23、チャンバー側壁22および下軸フランジ20、下軸11b、上軸11a、上プレート8a、下プレート8b、下軸11bにて後述の成形ユニットM1が収容されるチャンバー50が構成されている。
上ベース24には上ベース24を介してチャンバー50内に、たとえば窒素ガス(N2)等の不活性ガスを供給するための弁としてチャンバー弁32が設けられている。また下軸フランジ20の側面にはチャンバー50内を排気するための真空弁34が取り付けられ、ジャバラ管35を介して真空ポンプ36に連結されている。
下軸フランジ20の底面にはチャンバー50内の内圧の上限を規制するための弁として内圧弁33が設けられている。
上軸11aおよび下軸11bは、たとえば、耐蝕鋼材で構成されている。また、上プレート8aおよび下プレート8bは、たとえば、窒化アルミニウム等のセラミックスで構成されている。
上軸11aおよび下軸11bは、たとえば、耐蝕鋼材で構成されている。また、上プレート8aおよび下プレート8bは、たとえば、窒化アルミニウム等のセラミックスで構成されている。
下端部に上プレート8aを支持する上軸11aの軸心には、軸方向に上ガス供給路12aが穿設されている。この上ガス供給路12aの下端は、上軸11aに取り付け具15により固定されている上プレート8aの上側表面に放射状に穿設されるとともに上プレート8aの厚さ方向に貫通して穿設された複数の上ガスブロー路9aに連通している。また、上ガス供給路12aの上端は、上ベース24に設けた上ガス冷却弁18aを介して上ガス供給配管19aに接続されている。
また、上軸11aの上ベース24に対する貫通部には軸の温度上昇を規制するための冷却水路16が設けられている。
上端部に下プレート8bを支持する下軸11bの軸心には、軸方向に下ガス供給路12bが穿設されている。この下ガス供給路12bの上端は、下軸11bに取り付け具15により固定されている下プレート8bの下側表面に放射状に穿設されるとともに下プレート8bの厚さ方向に貫通して穿設された複数の下ガスブロー路9bに連通している。また、下ガス供給路12bの下端は、下軸11bの下端に設けた下ガス冷却弁18bを介して下ガス供給配管19bに接続されている。また下軸11bの下ベース27に対する貫通部にも同様に軸の温度上昇を規制するための冷却水路16が備えられている。
上端部に下プレート8bを支持する下軸11bの軸心には、軸方向に下ガス供給路12bが穿設されている。この下ガス供給路12bの上端は、下軸11bに取り付け具15により固定されている下プレート8bの下側表面に放射状に穿設されるとともに下プレート8bの厚さ方向に貫通して穿設された複数の下ガスブロー路9bに連通している。また、下ガス供給路12bの下端は、下軸11bの下端に設けた下ガス冷却弁18bを介して下ガス供給配管19bに接続されている。また下軸11bの下ベース27に対する貫通部にも同様に軸の温度上昇を規制するための冷却水路16が備えられている。
上ベース24には、上ヒーター10aへの給電配線および熱電対37の各々を外部の図示しない電源や制御装置と連結するためのコネクター21aが貫通して取り付けられている。このコネクター21aの上ベース24に対する貫通部は、Oリング24aにて気密封止されている。
下軸フランジ20の側面には、下ヒーター10bへの給電配線および熱電対37の各々を外部の図示しない電源や制御装置と連結するためのコネクター21bが取り付けられている。このコネクター21bの下軸フランジ20に対する貫通部は、Oリング20bにて気密封止されている。
一方、図2A、図2Bに例示されるように、本実施の形態1における成形ユニットM1は、対向する成形面2aおよび成形面3aの間にガラス素材1を挟む上型2および下型3と、この上型2および下型3が挿入されて、軸方向の摺動変移を規制する円筒状のスリーブ4を型セットとして含んでいる。
ガラス素材1は、たとえば、光学素子用の市販のガラス材である。
上型2および下型3は、各々が、たとえば、外径20mm、高さ20mmのカーボン材で構成され、上型2および下型3を収納して案内するスリーブ4は、たとえば、各々が、外径30mm、内径20.01mm、高さ40mmのカーボン材で構成されている。
上型2および下型3は、各々が、たとえば、外径20mm、高さ20mmのカーボン材で構成され、上型2および下型3を収納して案内するスリーブ4は、たとえば、各々が、外径30mm、内径20.01mm、高さ40mmのカーボン材で構成されている。
さらに型セットのスリーブ4の周囲には、この型セットとともに成形ユニットM1を構成する温度制御リング5(外径50mm×内径40mm)が設けられている。この温度制御リング5は、リング本体5a、遮蔽板5bおよび流出口5cを備えている。
遮蔽板5bは、スリーブ4の側面中央に位置してスリーブ4側にリング状に突出するように、リング本体5aの内周面に取り付けられている。流出口5cは、遮蔽板5bの上下に跨がって開口するように、リング本体5aの側面中央に設けられており、スリーブ4の外周面とリング本体5aの内周面との間に形成される間隙Gと、リング本体5aの外部空間とを連通させている。
上述の上プレート8aおよび下プレート8bに設けられた上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bは、成形ユニットM1のスリーブ4の外周面とリング本体5aの内周面との間に形成される間隙Gと連通する位置に開口されている。
そして、この成形ユニットM1が上プレート8aおよび下プレート8bの間に挟まれると、成形ユニットM1内の間隙Gを遮蔽板5bで上下に隔成して構成される上側温度制御室13と下側温度制御室14が形成される。
以下、本実施の形態1の作用の一例について説明する。
チャンバー側壁22を取り外して、成形ユニットM1を上プレート8aおよび下プレート8bにより挟み、その後、チャンバー側壁22を下軸フランジ20に接続して図1の状態のチャンバー50を形成する。
チャンバー側壁22を取り外して、成形ユニットM1を上プレート8aおよび下プレート8bにより挟み、その後、チャンバー側壁22を下軸フランジ20に接続して図1の状態のチャンバー50を形成する。
真空ポンプ36にてジャバラ管35まで常時真空状態を保ちチャンバー50が形成された後、真空弁34を開き成形ユニットM1の周囲およびチャンバー50内を、たとえば8.0pas程度の真空度まで減圧する。減圧が達成できた状態で上ヒーター10aおよび下ヒーター10bに電力を供給し上プレート8aおよび下プレート8bを、ガラス素材1の屈伏点(たとえば765℃)より高い770℃まで加熱する。
その際、上軸11aおよび下軸11bの冷却水路16には25℃〜30℃程度の冷却水を常時流して冷却する。また、上プレート8aおよび下プレート8bが成形ユニットM1の上下面に接触した状態では、上軸11aの上部にある押し板30にはプレスシリンダー31が接触していない状態とし、プレスシリンダー31が上ヒーター10aの熱の影響を受けないようにする。
(加熱工程)
図3に例示されるように、上型2に接触している上プレート8aは上ヒーター10aの熱を上型2の底面を介して成形面2aへと伝え、ガラス素材1を加熱していく。また上プレート8aから熱は周囲に放散されるため、上プレート8a、リング本体5a、スリーブ4及び遮蔽板5bにて形成された上側温度制御室13の空間をも加熱して上側温度制御室13を600℃以上に加熱する。このときの加熱時間は、たとえば約600秒程度である。
図3に例示されるように、上型2に接触している上プレート8aは上ヒーター10aの熱を上型2の底面を介して成形面2aへと伝え、ガラス素材1を加熱していく。また上プレート8aから熱は周囲に放散されるため、上プレート8a、リング本体5a、スリーブ4及び遮蔽板5bにて形成された上側温度制御室13の空間をも加熱して上側温度制御室13を600℃以上に加熱する。このときの加熱時間は、たとえば約600秒程度である。
下型3は下プレート8bに搭載された下ヒーター10bより加熱される。下型3とスリーブ4は下プレート8bより熱を受け徐々に熱が上昇して成形面3aに接するガラス素材1を加熱する。また下プレート8b、リング本体5a、スリーブ4と遮蔽板5bで形成される下側温度制御室14をも加熱する。
この結果、上側温度制御室13と下側温度制御室14はほぼ600℃〜720℃まで加熱されスリーブ4からの放熱量が格段に減少される。またリング本体5aや遮蔽板5bが約700℃近くにも加熱される。
このように、スリーブ4を間隙Gをなして囲む温度制御リング5の存在により、スリーブ4の内部に収容されている上型2、下型3およびガラス素材1を、目的の温度域まで短時間に効率よく均一に加熱できる。
(プレス工程)
ガラス素材1が、所定の温度まで加熱され、加熱軟化された状態で、プレスシリンダー31で押し板30に下降推力を伝え、上軸11a、上プレート8aを介して上型2を、たとえば、30kgfの下降推力にて加圧を行なう。これにより上プレート8aは降下してリング本体5aに当接して停止し、最終プレス位置が決定し、加熱軟化状態のガラス素材1は、上型2および下型3の間で、成形面2aおよび成形面3aで規定される外形形状にプレス成形され、この外形形状がそれぞれレンズ面とされたガラス成形品1’となる。このときに遮蔽板5bの上側に隔成される上側温度制御室13’は下側温度制御室14と同じ形状になる。この状態が図4である。
ガラス素材1が、所定の温度まで加熱され、加熱軟化された状態で、プレスシリンダー31で押し板30に下降推力を伝え、上軸11a、上プレート8aを介して上型2を、たとえば、30kgfの下降推力にて加圧を行なう。これにより上プレート8aは降下してリング本体5aに当接して停止し、最終プレス位置が決定し、加熱軟化状態のガラス素材1は、上型2および下型3の間で、成形面2aおよび成形面3aで規定される外形形状にプレス成形され、この外形形状がそれぞれレンズ面とされたガラス成形品1’となる。このときに遮蔽板5bの上側に隔成される上側温度制御室13’は下側温度制御室14と同じ形状になる。この状態が図4である。
なお、上述の図3および図4では、上ヒーター10a、下ヒーター10bから発生する熱の流れを矢印にて示している。
(冷却工程)
図5に例示されるように、上述のプレス工程にて上プレート8aがリング本体5aに当接したときに上ヒーター10aおよび下ヒーター10bの出力を停止して加熱工程は終了する。この図5では、不活性ガスの流れ、およびガラス成形品1’、上型2、下型3およびスリーブ4等からの放熱状況を矢印で示している。
(冷却工程)
図5に例示されるように、上述のプレス工程にて上プレート8aがリング本体5aに当接したときに上ヒーター10aおよび下ヒーター10bの出力を停止して加熱工程は終了する。この図5では、不活性ガスの流れ、およびガラス成形品1’、上型2、下型3およびスリーブ4等からの放熱状況を矢印で示している。
そしてチャンバー弁32を開放して、所定の流量(たとえば、10ml/min)の不活性ガスをチャンバー50内に供給してチャンバー50内を冷却する。
さらに所定の時間(たとえば、20秒)経過後に、上ガス冷却弁18aおよび下ガス冷却弁18bを開放し、上ガス供給配管19aおよび下ガス供給配管19bからの不活性ガスを上ガス供給路12aおよび下ガス供給路12bに供給する。このときの不活性ガス流量は、たとえば50ml/minである。供給された不活性ガスは上プレート8aおよび下プレート8bに備えられた上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bへと流出する。
さらに所定の時間(たとえば、20秒)経過後に、上ガス冷却弁18aおよび下ガス冷却弁18bを開放し、上ガス供給配管19aおよび下ガス供給配管19bからの不活性ガスを上ガス供給路12aおよび下ガス供給路12bに供給する。このときの不活性ガス流量は、たとえば50ml/minである。供給された不活性ガスは上プレート8aおよび下プレート8bに備えられた上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bへと流出する。
上ガスブロー路9aから流出された不活性ガスは上側温度制御室13’へと流出され、リング本体5aとスリーブ4の間を通り遮蔽板5bに衝突し、リング本体5aの側面に開口した流出口5cから外部空間のチャンバー50内へと流れる。
下ガスブロー路9bを流出した不活性ガスも同様に下方から上方に向かってスリーブ4とリング本体5aの間を通り遮蔽板5bに当たり流出口5cより外部空間のチャンバー50内へと流出する。
このような、上側温度制御室13’および下側温度制御室14における不活性ガスの流通により、スリーブ4およびその内部のガラス成形品1’、上型2および下型3は、効率良く冷却される。
そして、流出口5cからの不活性ガスの流入によりチャンバー50内の内圧が1気圧以上に上昇したら内圧弁33が開放してチャンバー50内の圧力上昇を調節(抑制)する。なお、上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bを流通する不活性ガスが上プレート8aおよび下プレート8bを通過して上側温度制御室13’および下側温度制御室14へと流出するため、上プレート8aおよび下プレート8bも冷却される。そのため上型2および下型3、ガラス成形品1’は、上プレート8aおよび下プレート8bとスリーブ4の側面の上側温度制御室13’、下側温度制御室14により全方向から効率よく冷却されることになる。
上プレート8aおよび下プレート8bの温度がガラス成形品1’の取出可能温度(たとえば50℃)まで低下したら、チャンバー50を開放して成形ユニットM1を取り出した後、この成形ユニットM1からガラス成形品1’を取り出す。
以上説明したように、本実施の形態1によれば、上型2および下型3に挟んだガラス素材1をスリーブ4に挿入し、このスリーブ4を、リング本体5a、遮蔽板5b、流出口5cで構成された温度制御リング5内に配置して成形ユニットM1とし、この成形ユニットM1を上プレート8aおよび下プレート8bの間に挟んで加熱することで、ガラス素材1の所望の成形温度までの加熱効率を高めるとともに、温度制御リング5の保温作用および均熱作用等により、短時間にて目的の成形温度まで均一に加熱することができる。
また上プレート8aおよび下プレート8bに設けられた上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bからスリーブ4と温度制御リング5の間隙に不活性ガスを供給して上プレート8a、下プレート8bおよびスリーブ4の冷却を行なうことで、上型2および下型3の上下、及び上型2および下型3の側面を効率良く冷却するので、短時間で効率よくガラス成形品1’の取出可能温度までの冷却が可能になる。
すなわち、ガラス素材1のプレス成形における加熱、冷却工程の所用時間を短縮でき生産効率を向上させることができる。
図9は、温度制御リング5を型セットに備えた本実施の形態1の場合の成形時の測定結果A(線A1:加熱工程、線A2:プレス工程、線A3:冷却工程)と、従来技術の断熱筒を用いた場合の成形時の測定結果C(線C1:加熱工程、線C2:プレス工程、線C3:冷却工程)とを比較した線図である。
図9は、温度制御リング5を型セットに備えた本実施の形態1の場合の成形時の測定結果A(線A1:加熱工程、線A2:プレス工程、線A3:冷却工程)と、従来技術の断熱筒を用いた場合の成形時の測定結果C(線C1:加熱工程、線C2:プレス工程、線C3:冷却工程)とを比較した線図である。
本実施の形態の場合の測定結果Aの方が、従来技術の測定結果Cよりも冷却工程を含めた全体の所要時間が短くなっており、従来技術に比較して生産性が向上することが明らかである。
なお、測定結果Bは、実施の形態1と同じガラス素材を用いて型セットを組み立てた後に、温度制御リング5を用いないで、且つ上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bから不活性ガスを流入させないで、更にガラス素材の軟化温度を510℃に設定して成形した場合の測定結果である。測定結果Bは、測定結果AおよびCよりも生産性が低下していたことは明らかである。
(実施の形態2)
図6は、本発明の他の実施の形態である成形装置における成形ユニットの変形例を示す分解組み立て斜視図であり、図7および図8は、その作用の一例を示す断面図である。
図6は、本発明の他の実施の形態である成形装置における成形ユニットの変形例を示す分解組み立て斜視図であり、図7および図8は、その作用の一例を示す断面図である。
なお、本実施の形態2の成形装置では、成形ユニット以外の構成は上述の実施の形態1と共通であるため、共通の符号を付して説明は割愛する。
本実施の形態2における成形ユニットM2は、上プレート8aの下面側にフック38を介して固定されたリング状の上リング6aと、下プレート8bの上面に載置されるリング状の下リング6bとで、型セットのスリーブ4を取り囲む温度制御リング6を構成したものである。上リング6aおよび下リング6bは、たとえば、窒化アルミニウム等のセラミックスで構成することができる。
本実施の形態2における成形ユニットM2は、上プレート8aの下面側にフック38を介して固定されたリング状の上リング6aと、下プレート8bの上面に載置されるリング状の下リング6bとで、型セットのスリーブ4を取り囲む温度制御リング6を構成したものである。上リング6aおよび下リング6bは、たとえば、窒化アルミニウム等のセラミックスで構成することができる。
この場合、スリーブ4の外周部の高さ方向の中央部には、スリーブ4側からリング状に突出するように、環状の遮蔽板6cが設けられている。
スリーブ4と上リング6aおよび下リング6bの内径、外径の寸法の大小関係は、上述の実施の形態1の場合と同様であり、スリーブ4の外周と上リング6aおよび下リング6bの内周との間には、間隙Gが形成され、この間隙Gを遮蔽板6cを境にして、上下に上側温度制御室13および下側温度制御室14が隔成される。
スリーブ4と上リング6aおよび下リング6bの内径、外径の寸法の大小関係は、上述の実施の形態1の場合と同様であり、スリーブ4の外周と上リング6aおよび下リング6bの内周との間には、間隙Gが形成され、この間隙Gを遮蔽板6cを境にして、上下に上側温度制御室13および下側温度制御室14が隔成される。
そして、上プレート8aに開口する上ガスブロー路9aは上側温度制御室13に連通し、下プレート8bに開口する下ガスブロー路9bは下側温度制御室14に連通している。
スリーブ4の高さ寸法は、上リング6a、下リング6bの高さと遮蔽板6cの厚さの和よりも大きく設定されており、上プレート8aがスリーブ4の上端に当接した最終プレス位置(図8参照)では、上リング6aの下端と遮蔽板6cとの間、および下リング6bと遮蔽板6cとの間には隙間が形成され、この隙間が、上側温度制御室13’および下側温度制御室14を外部に連通させる流出口6dとなる。
スリーブ4の高さ寸法は、上リング6a、下リング6bの高さと遮蔽板6cの厚さの和よりも大きく設定されており、上プレート8aがスリーブ4の上端に当接した最終プレス位置(図8参照)では、上リング6aの下端と遮蔽板6cとの間、および下リング6bと遮蔽板6cとの間には隙間が形成され、この隙間が、上側温度制御室13’および下側温度制御室14を外部に連通させる流出口6dとなる。
以下、本実施の形態2の作用の一例について説明する。
成形ユニットM2を上プレート8aおよび下プレート8bにより挟み、上述の図1の状態を形成する。真空ポンプ36にてジャバラ管35まで真空状態を保ちチャンバーが形成された後、真空弁34を開き成形ユニットM2の周囲およびチャンバー50内を、たとえば、8.0pas程度の真空度まで減圧する。この減圧が達成できた状態で、真空弁34を閉じ、上ヒーター10aおよび下ヒーター10bに電力を印加し、上プレート8aおよび下プレート8bを、たとえば、ガラス素材1の屈伏点(たとえば、765℃)より高い770℃まで加熱する。その際、上軸11aおよび下軸11bの冷却水路16には25℃〜30℃程度の冷却水を常時流通させて冷却しておく。上プレート8aおよび下プレート8bは成形ユニットM2の上下面(上型2および下型3)に接触し、上軸11aの上部にある押し板30にはプレスシリンダー31が接触していない状態として、プレスシリンダー31への熱的な影響を防止する。
成形ユニットM2を上プレート8aおよび下プレート8bにより挟み、上述の図1の状態を形成する。真空ポンプ36にてジャバラ管35まで真空状態を保ちチャンバーが形成された後、真空弁34を開き成形ユニットM2の周囲およびチャンバー50内を、たとえば、8.0pas程度の真空度まで減圧する。この減圧が達成できた状態で、真空弁34を閉じ、上ヒーター10aおよび下ヒーター10bに電力を印加し、上プレート8aおよび下プレート8bを、たとえば、ガラス素材1の屈伏点(たとえば、765℃)より高い770℃まで加熱する。その際、上軸11aおよび下軸11bの冷却水路16には25℃〜30℃程度の冷却水を常時流通させて冷却しておく。上プレート8aおよび下プレート8bは成形ユニットM2の上下面(上型2および下型3)に接触し、上軸11aの上部にある押し板30にはプレスシリンダー31が接触していない状態として、プレスシリンダー31への熱的な影響を防止する。
(加熱工程)
図7に例示されるように、上型2に接触している上プレート8aは上ヒーター10aの熱を上型2の底面を介して成形面2aへと伝え、ガラス素材1を加熱していく。また上プレート8aの熱は周囲に放熱されるため、上プレート8a、上リング6aとスリーブ4を通り遮蔽板6cに熱が伝わる。また形成された上側温度制御室13の空間をも加熱して上側温度制御室を600℃以上に加熱する。このとき成形ユニットM2の加熱時間は、たとえば約600秒程度である。
図7に例示されるように、上型2に接触している上プレート8aは上ヒーター10aの熱を上型2の底面を介して成形面2aへと伝え、ガラス素材1を加熱していく。また上プレート8aの熱は周囲に放熱されるため、上プレート8a、上リング6aとスリーブ4を通り遮蔽板6cに熱が伝わる。また形成された上側温度制御室13の空間をも加熱して上側温度制御室を600℃以上に加熱する。このとき成形ユニットM2の加熱時間は、たとえば約600秒程度である。
下型3は下プレート8bに搭載された下ヒーター10bより加熱される。下型3とスリーブ4は下プレート8bより熱を受け徐々に温度が上昇してガラス素材1を加熱する。また下プレート8b、下リング6bへと熱が伝わり、スリーブ4から遮蔽板6cへ熱が伝わる。これらの熱により下側温度制御室14が加熱される。
それにより上側温度制御室13と下側温度制御室14はほぼ600℃〜720℃まで加熱されスリーブ4からの放熱量が格段に減少される。上リング6a、下リング6b、遮蔽板6cが約700℃近くにも加熱される。
このように、上リング6aおよび下リング6b、さらには遮蔽板6cを設けたことにより、スリーブ4の内部のガラス素材1、上型2、下型3を効率よく、比較的短時間に均一に加熱することができる。
なお、上述の図7では、上ヒーター10a、下ヒーター10bから発生する熱の流れを矢印にて示している。
(プレス工程)
ガラス素材1が加熱軟化された状態で、プレスシリンダー31で押し板30に力を伝え、上軸11a、上プレート8aを介して上型2を、たとえば30kgfの下降推力にて加圧する。これにより上プレート8aは降下してスリーブ4に当接して最終プレス位置が決定する。このときに上側温度制御室13’は下側温度制御室14と同じ形状になる。
(プレス工程)
ガラス素材1が加熱軟化された状態で、プレスシリンダー31で押し板30に力を伝え、上軸11a、上プレート8aを介して上型2を、たとえば30kgfの下降推力にて加圧する。これにより上プレート8aは降下してスリーブ4に当接して最終プレス位置が決定する。このときに上側温度制御室13’は下側温度制御室14と同じ形状になる。
この状態が図8である。なお、この図8では、不活性ガスの流れ、およびガラス成形品1’、上型2、下型3およびスリーブ4等からの放熱状況を矢印で示している。
(冷却工程)
図8に例示されるプレス工程にて上プレート8aがスリーブ4に当接して停止した最終プレス位置において、上ヒーター10aおよび下ヒーター10bへの電力供給を停止して加熱工程は終了する。
(冷却工程)
図8に例示されるプレス工程にて上プレート8aがスリーブ4に当接して停止した最終プレス位置において、上ヒーター10aおよび下ヒーター10bへの電力供給を停止して加熱工程は終了する。
そしてチャンバー弁32を開放して、所定の流量(たとえば、10mml/min)の不活性ガスをチャンバー50内に供給してチャンバー50内を冷却する。さらに、所定の時間(たとえば、20秒)経過後に、上ガス冷却弁18aおよび下ガス冷却弁18bを開放し、上ガス供給配管19aおよび下ガス供給配管19bからの不活性ガスを上ガス供給路12aおよび下ガス供給路12bに供給する。このときの、上ガス供給配管19aおよび下ガス供給配管19bの各々からの不活性ガスの流量は、たとえば50ml/minである。
上ガス供給路12aおよび下ガス供給路12bに供給された不活性ガスは、上プレート8aおよび下プレート8bに備えられた上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bへと流出する。上ガスブロー路9aから流出された不活性ガスは上側温度制御室13’へと流出され、上リング6aとスリーブ4の間を通過し遮蔽板6cに衝突し、上リング6aの側面に開口した流出口6dから外部空間のチャンバー50へと流れる。
下ガスブロー路9bから流出した不活性ガスも、同様に下側温度制御室14内を下方から上方に向かってスリーブ4と下リング6bの間隙を通り、遮蔽板6cに当たり、流出口6dよりチャンバー50へ流出する。チャンバー50内の内圧が1気圧以上に上昇したら内圧弁33が開放して、チャンバー50内の圧力を大気圧に等しくなるように調節する。なお、上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bが上プレート8aおよび下プレート8bに穿設されているため、上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bを流通する不活性ガスは、上プレート8aおよび下プレート8bも冷却する。そのため上型2および下型3は上下の上プレート8aおよび下プレート8bとスリーブ4の側面の上側温度制御室13’、下側温度制御室14により全方向から効率よく冷却される。
上プレート8aおよび下プレート8bの温度が、ガラス成形品1’の取出可能温度(たとえば、50℃)まで降下した時点でチャンバー50を開放して、成形ユニットM2を取り出した後、成形ユニットM2からガラス成形品1’を取り出す。
上記した本実施の形態2によれば、上型2および下型3に挟んだガラス素材1をスリーブ4に挿入し、このスリーブ4を、上リング6a、遮蔽板6cで構成された上側温度制御室13(上側温度制御室13’)、および下リング6b、遮蔽板6cで構成された下側温度制御室14で取り囲む構成とすることで、上プレート8aおよび下プレート8bに設けられた上ヒーター10aおよび下ヒーター10bによる加熱効率を高め、短時間で成形ユニットM2を所望の成形温度まで均一に加熱することができる。
また、上プレート8aおよび下プレート8bに穿設された上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bから上側温度制御室13’および下側温度制御室14に不活性ガスを供給して冷却を行なうことで、上型2および下型3の上下に接する上プレート8a、下プレート8b、および上型2および下型3の側面に位置するスリーブ4を効率良く冷却でき、成形ユニットM2の全体を短時間に、所望の取り出し可能温度まで冷却することができる。
この結果、均一な加熱により、歪み等のない良質のガラス成形品1’を得ることができるとともに、加熱工程および冷却工程を含む成形工程全体の所要時間を短縮でき生産効率を向上させることができる。
図9の線図における測定結果A(線A1:加熱工程、線A2:プレス工程、線A3:冷却工程)は、本実施の形態2の場合における成形ユニットM2を用いた時の測定結果と略同様であった。よって、従来技術の測定結果Cに比較して、冷却効率が大きく改善されており、所望の取り出し可能温度までの冷却工程を含めた成形工程全体の所要時間の短縮が可能であり、生産効率が向上する。
(実施の形態3)
図10Aは、本発明のさらに他の実施の形態である成形装置における成形ユニットの変形例を示す分解組み立て斜視図であり、図10Bは、その断面図である。
図10Aは、本発明のさらに他の実施の形態である成形装置における成形ユニットの変形例を示す分解組み立て斜視図であり、図10Bは、その断面図である。
この実施の形態3の成形ユニットM3では、上型2および下型3を収容したスリーブ4を取り囲む温度制御リング7と、この温度制御リング7の上下に配置される温度制御プレート39を備えた点が、上述の実施の形態1と異なっている。
すなわち、上側の温度制御プレート39は、フック38を介して上プレート8aに固定され、下側の温度制御プレート39は、フック38を介して下プレート8bに固定されている。温度制御プレート39は、たとえば窒化アルミニウム等のセラミックスで構成されている。
なお、上側および下側の温度制御プレート39は、同一の構造を持ち、取付姿勢が上下方向に対称となるように異なるのみなので、本実施の形態3の説明では、両者に共通の符号を付して一方の構成のみを説明する。
本実施の形態3の場合、温度制御リング7は、リング本体7aと、このリング本体7aの内周部において高さ方向の中央に固定されてスリーブ4側にリング状に突出された遮蔽板7bと、リング本体7aの上下両端部を切欠いて形成された流出口7cを備えている。温度制御リング7の全体は、たとえば窒化アルミニウム等のセラミックスで構成されている。
リング本体7aとスリーブ4との間における内径および外径の寸法の大小関係は、上述の実施の形態1の場合と同様であり、スリーブ4の外周と、温度制御リング7(リング本体7a)の内周との間には間隙Gが形成されている。そして、この間隙Gを遮蔽板7bにて仕切ることで、遮蔽板7bの上下に、上側温度制御室13および下側温度制御室14が隔成されている。
また、リング本体7aの高さは、スリーブ4よりも高く、上側の温度制御プレート39がリング本体7aの上端に当接する位置が最終プレス位置である。
温度制御プレート39には、上プレート8aの下面(下プレート8bの上面)に接する側の主面に放射状に開口するスリット状のプレート温度制御室39aが設けられており、このプレート温度制御室39aの開口部の一部は、上プレート8a(下プレート8b)側の上ガスブロー路9a(下ガスブロー路9b)の開口部に連通している。
温度制御プレート39には、上プレート8aの下面(下プレート8bの上面)に接する側の主面に放射状に開口するスリット状のプレート温度制御室39aが設けられており、このプレート温度制御室39aの開口部の一部は、上プレート8a(下プレート8b)側の上ガスブロー路9a(下ガスブロー路9b)の開口部に連通している。
また、温度制御プレート39において、リング本体7a(スリーブ4)に接する側の主面には、スリーブ4とリング本体7aとの間の上側温度制御室13(下側温度制御室14)に連通する位置に垂直ガスブロー路39bが開口し、この垂直ガスブロー路39bは、プレート温度制御室39aに連通している。
同様に、温度制御プレート39の側面には、プレート温度制御室39aに連通する水平ガスブロー路39cが開口している。
これにより、上ガスブロー路9a(下ガスブロー路9b)を介してプレート温度制御室39aに流入する不活性ガスは、プレート温度制御室39aを通過し、一部が水平ガスブロー路39cから流出することで、温度制御プレート39の全体、すなわち、上型2(下型3)を上下方向から冷却しつつ、一部は、垂直ガスブロー路39bから上側温度制御室13(下側温度制御室14)に流入し、流出口7cから流出することで、上型2、下型3、スリーブ4を側面から冷却する。
これにより、上ガスブロー路9a(下ガスブロー路9b)を介してプレート温度制御室39aに流入する不活性ガスは、プレート温度制御室39aを通過し、一部が水平ガスブロー路39cから流出することで、温度制御プレート39の全体、すなわち、上型2(下型3)を上下方向から冷却しつつ、一部は、垂直ガスブロー路39bから上側温度制御室13(下側温度制御室14)に流入し、流出口7cから流出することで、上型2、下型3、スリーブ4を側面から冷却する。
本実施の形態の成形ユニットM3では、球状のガラス素材1を上型2および下型3で挟み、上型2および下型3の摺動を規制するスリーブ4に挿入していることは上述の実施の形態1と同様である。
なお、本実施の形態3では、上型2および下型3は、口径が高さ寸法よりも大きな偏平な形状を呈している。スリーブ4および温度制御リング7も同様である。
以下、本実施の形態3の作用の一例について説明する。
以下、本実施の形態3の作用の一例について説明する。
成形ユニットM3を上プレート8aおよび下プレート8bの間に挟み、図1のように、チャンバー50の内部に収容された状態とする。
真空ポンプ36にてジャバラ管35まで真空状態を保ちチャンバーが形成された後、真空弁34を開き成形ユニットM3の周囲およびチャンバー50内を、たとえば8.0pas程度の真空度にまで減圧する。減圧が達成できた状態で真空弁34を閉じ上ヒーター10aおよび下ヒーター10bに電力を供給して上プレート8aおよび下プレート8bを、ガラス素材1の成形温度(たとえば、770℃)まで加熱する。その際、上軸11aおよび下軸11bの冷却水路16には25℃〜30℃程度の冷却水を常時流して冷却する。上プレート8aおよび下プレート8bにそれぞれ固定された各温度制御プレート39は成形ユニットM3の上型2および下型3の上下面にそれぞれ接触し、上軸11aの上部にある押し板30にはプレスシリンダー31が接触していない状態とする。
真空ポンプ36にてジャバラ管35まで真空状態を保ちチャンバーが形成された後、真空弁34を開き成形ユニットM3の周囲およびチャンバー50内を、たとえば8.0pas程度の真空度にまで減圧する。減圧が達成できた状態で真空弁34を閉じ上ヒーター10aおよび下ヒーター10bに電力を供給して上プレート8aおよび下プレート8bを、ガラス素材1の成形温度(たとえば、770℃)まで加熱する。その際、上軸11aおよび下軸11bの冷却水路16には25℃〜30℃程度の冷却水を常時流して冷却する。上プレート8aおよび下プレート8bにそれぞれ固定された各温度制御プレート39は成形ユニットM3の上型2および下型3の上下面にそれぞれ接触し、上軸11aの上部にある押し板30にはプレスシリンダー31が接触していない状態とする。
(加熱工程)
上プレート8aは上ヒーター10aの熱を温度制御プレート39を介して上型2の底面を介して成形面2a、さらにはガラス素材1へと伝える。その際、プレート温度制御室39aの空間も加熱する。温度制御プレート39は放熱材のため熱を外部に流出する傾向にある。そこで加熱された温度制御プレート39の熱は上側温度制御室13へと放散される。そのためスリーブ4の側面の空間が加熱される仕組みになる。また加熱された上型2、スリーブ4から外周方向への放熱は上側温度制御室13へと流れ、リング本体7aへと移動する。しかし、リング本体7aの方が上側温度制御室13より温度が高いため熱は遮断される。同様に、下型3は、下プレート8bから温度制御プレート39を介して、上型2と同様に加熱される。
上プレート8aは上ヒーター10aの熱を温度制御プレート39を介して上型2の底面を介して成形面2a、さらにはガラス素材1へと伝える。その際、プレート温度制御室39aの空間も加熱する。温度制御プレート39は放熱材のため熱を外部に流出する傾向にある。そこで加熱された温度制御プレート39の熱は上側温度制御室13へと放散される。そのためスリーブ4の側面の空間が加熱される仕組みになる。また加熱された上型2、スリーブ4から外周方向への放熱は上側温度制御室13へと流れ、リング本体7aへと移動する。しかし、リング本体7aの方が上側温度制御室13より温度が高いため熱は遮断される。同様に、下型3は、下プレート8bから温度制御プレート39を介して、上型2と同様に加熱される。
また、上側温度制御室13と下側温度制御室14はリング本体7aや遮蔽板7bが、たとえば約700℃近くにも加熱される。
(プレス工程)
ガラス素材1が加熱軟化された状態で、プレスシリンダー31によって押し板30に下降推力を伝え、上軸11a、上プレート8a、温度制御プレート39を介して上型2を、たとえば30kgfの推力にて加圧を行なう。これにより上プレート8aは降下してリング本体7aに当接して停止し、この停止位置が最終プレス位置となる。このときに上側温度制御室13’は下側温度制御室14と同じ形状になる。この状態が、図10Bである。この図10Bでは、成形ユニットM3内における温度分布の一例を示す等温線が破線で示されている。
(プレス工程)
ガラス素材1が加熱軟化された状態で、プレスシリンダー31によって押し板30に下降推力を伝え、上軸11a、上プレート8a、温度制御プレート39を介して上型2を、たとえば30kgfの推力にて加圧を行なう。これにより上プレート8aは降下してリング本体7aに当接して停止し、この停止位置が最終プレス位置となる。このときに上側温度制御室13’は下側温度制御室14と同じ形状になる。この状態が、図10Bである。この図10Bでは、成形ユニットM3内における温度分布の一例を示す等温線が破線で示されている。
(冷却工程)
図10Bのように、プレス工程にて上プレート8aがリング本体7aに当接したときに、上ヒーター10aおよび下ヒーター10bの出力を停止して加熱状態は終了する。
図10Bのように、プレス工程にて上プレート8aがリング本体7aに当接したときに、上ヒーター10aおよび下ヒーター10bの出力を停止して加熱状態は終了する。
そしてチャンバー弁32を開放して所定の流量(たとえば、10mml/min)の不活性ガスをチャンバー50内に供給してチャンバー50内を冷却する。さらに、所定の時間(たとえば、20秒)経過後に、上ガス冷却弁18aおよび下ガス冷却弁18bを開放して、上ガス供給配管19aおよび下ガス供給配管19bから不活性ガスを上ガス供給路12aおよび下ガス供給路12bに供給する。このときの不活性ガスの流量は、たとえば、50ml/minである。供給された不活性ガスは上プレート8aおよび下プレート8bに備えられた上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bへと流出する。上ガスブロー路9aに流出した不活性ガスは、温度制御プレート39のプレート温度制御室39aへと流入し、一部が水平ガスブロー路39cから流出することで温度制御プレート39を冷却し、同時にプレート温度制御室39aを冷却する。
さらに、プレート温度制御室39aに流入した不活性ガスの一部は、垂直ガスブロー路39bから、上側温度制御室13’(上側温度制御室13)に流入してリング本体7aとスリーブ4の間を通過し、遮蔽板7bに衝突し、リング本体7aの側面の流出口7cから外部空間のチャンバー50へと流出する。
下プレート8bの下ガスブロー路9bから下側温度制御室14に流出した不活性ガスも同様に下方から上方に向かってスリーブ4とリング本体7aの間を通り遮蔽板7bに当たり流出口7cより外部空間のチャンバー50へと流出する。
このような不活性ガスの供給によって、チャンバー50の内圧が1気圧以上に上昇したら内圧弁33が開いて、チャンバー内の圧力を大気圧に調節する。なお、上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bが上プレート8aおよび下プレート8bを通過するため、上ガスブロー路9aおよび下ガスブロー路9bを流通する不活性ガスは、上プレート8aおよび下プレート8bも冷却をする。そのため上型2および下型3は型の底面の温度制御プレート39とスリーブ4側面の上側温度制御室13’、下側温度制御室14により全方向から効率よく冷却され、短時間に、成形ユニットM3の温度を、目的の取り出し可能温度まで降下させることができる。
上プレート8a、下プレート8bの温度が、所望の取り出し可能温度(たとえば、50℃)まで降下した時点でチャンバー50を開放して成形ユニットM3を取り出した後、この成形ユニットM3からガラス成形品1’を取り出す。
このように、本実施の形態3によれば、ガラス素材1を挟んだ上型2および下型3をスリーブ4に収容し、このスリーブ4を取り囲むように、温度制御リング7および上下の温度制御プレート39を配置することで、ガラス素材1、上型2、下型3の均一な加熱と加熱効率の向上を実現できる。また、冷却工程では、ガラス素材1、上型2、下型3の側面からの冷却と同時に温度制御プレート39による上下方向からの上型2および下型3の冷却を行うので、冷却効率を高め生産効率を向上させることができる。
特に、上型2および下型3に接する温度制御プレート39に設けられたプレート温度制御室39a内に不活性ガスを流通させることにより、上型2および下型3を上下方向から効率よく冷却でき、たとえば、上型2および下型3が偏平な形状の場合に、冷却効率の向上の効果が大きい。
また、リング本体7aの形状や、温度制御プレート39におけるプレート温度制御室39a、水平ガスブロー路39cの形状や大きさを種々変化させることで、成形ユニットM3の全体の温度や温度分布を制御して、ガラス素材1に随意の温度分布を発生させることができるようになり、プレス成形にてより多様な形状のガラス光学素子を製造することができる。
以上のように、本発明の各実施の形態によれば、たとえば、ガラス素材1を挟む上型2および下型3をスリーブ4に収容し、上型2および下型3の底面より加熱および冷却を行う成形方法において、スリーブ4の周囲に温度制御リング5、あるいは温度制御リング6、温度制御リング7等を配置してスリーブ4の周囲に、温度をコントロールする上側温度制御室13(上側温度制御室13’)、下側温度制御室14等を設け、この上側温度制御室13、下側温度制御室14に不活性ガスを供給することで、スリーブ4の内部の温度を急速に加熱および冷却することが可能となり、成形工程における加熱および冷却の所要時間の短縮が可能になった。そのため、たとえば、ガラス素材1を用いた光学素子の成形工程における生産性が向上する。
また、温度制御リング5、温度制御リング6、温度制御リング7、遮蔽板5b、遮蔽板6c、遮蔽板7bの位置や形状を変化させることで、ガラス素材1、上型2、下型3、スリーブ4の加熱時の温度分布、冷却時の温度分布を自在に制御できるため、多様の形状のガラス成形品を高い品質にて製造することができる。
以上の説明では、主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野であるガラス光学素子の成形技術に適用して場合を例にとって説明したが、熱可塑性の素材のプレス型成形に広く適用できる。
1 ガラス素材(被成形物)
1' ガラス成形品
2 上型(第1型体)
2a 成形面
3 下型(第2型体)
3a 成形面
4 スリーブ(第1筒体)
5 温度制御リング(第2筒体)
5a リング本体
5b 遮蔽板
5c 流出口
6 温度制御リング(第2筒体)
6a 上リング(第1分離筒体)
6b 下リング(第2分離筒体)
6c 遮蔽板
6d 流出口
7 温度制御リング(第2筒体)
7a リング本体
7b 遮蔽板
7c 流出口
8a 上プレート(第1型支持部材)
8b 下プレート(第2型支持部材)
9a 上ガスブロー路(ガス供給手段、第1ガス供給路)
9b 下ガスブロー路(ガス供給手段、第1ガス供給路)
10a 上ヒーター(加熱手段)
10b 下ヒーター(加熱手段)
11a 上軸
11b 下軸
12a 上ガス供給路
12b 下ガス供給路
13 上側温度制御室
13' 上側温度制御室
14 下側温度制御室
15 取り付け具
16 冷却水路
17 Oリング
18a 上ガス冷却弁
18b 下ガス冷却弁
19a 上ガス供給配管
19b 下ガス供給配管
20 下軸フランジ
20a Oリング
20b Oリング
21a コネクター
21b コネクター
22 チャンバー側壁
22a Oリング
23 収縮ベローズ
24 上ベース
24a Oリング
25 ベースポール
26 ベースロック
27 下ベース
28 ベースポール
29 シリンダベース
30 押し板
31 プレスシリンダー
32 チャンバー弁
33 内圧弁
34 真空弁
35 ジャバラ管
36 真空ポンプ
37 熱電対
38 フック
39 温度制御プレート(第3、第4型支持部材)
39a プレート温度制御室
39b 垂直ガスブロー路(第2ガス供給路)
39c 水平ガスブロー路(第2ガス供給路)
50 チャンバー
G 間隙
M1 成形ユニット
M2 成形ユニット
M3 成形ユニット
1' ガラス成形品
2 上型(第1型体)
2a 成形面
3 下型(第2型体)
3a 成形面
4 スリーブ(第1筒体)
5 温度制御リング(第2筒体)
5a リング本体
5b 遮蔽板
5c 流出口
6 温度制御リング(第2筒体)
6a 上リング(第1分離筒体)
6b 下リング(第2分離筒体)
6c 遮蔽板
6d 流出口
7 温度制御リング(第2筒体)
7a リング本体
7b 遮蔽板
7c 流出口
8a 上プレート(第1型支持部材)
8b 下プレート(第2型支持部材)
9a 上ガスブロー路(ガス供給手段、第1ガス供給路)
9b 下ガスブロー路(ガス供給手段、第1ガス供給路)
10a 上ヒーター(加熱手段)
10b 下ヒーター(加熱手段)
11a 上軸
11b 下軸
12a 上ガス供給路
12b 下ガス供給路
13 上側温度制御室
13' 上側温度制御室
14 下側温度制御室
15 取り付け具
16 冷却水路
17 Oリング
18a 上ガス冷却弁
18b 下ガス冷却弁
19a 上ガス供給配管
19b 下ガス供給配管
20 下軸フランジ
20a Oリング
20b Oリング
21a コネクター
21b コネクター
22 チャンバー側壁
22a Oリング
23 収縮ベローズ
24 上ベース
24a Oリング
25 ベースポール
26 ベースロック
27 下ベース
28 ベースポール
29 シリンダベース
30 押し板
31 プレスシリンダー
32 チャンバー弁
33 内圧弁
34 真空弁
35 ジャバラ管
36 真空ポンプ
37 熱電対
38 フック
39 温度制御プレート(第3、第4型支持部材)
39a プレート温度制御室
39b 垂直ガスブロー路(第2ガス供給路)
39c 水平ガスブロー路(第2ガス供給路)
50 チャンバー
G 間隙
M1 成形ユニット
M2 成形ユニット
M3 成形ユニット
Claims (10)
- 被成形物を保持する成形面を対向させた第1および第2型体と、
前記第1および第2型体の少なくとも一方を対向方向に案内する第1筒体と、
前記第1筒体が所定の間隙をもって収容される第2筒体と、
前記第1筒体内の前記第1および第2型体を対向方向に挟圧する第1および第2型支持部材と、
前記第1および第2型体に保持された前記被成形物を加熱する加熱手段と、
前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙にガスを供給するガス供給手段と、
を含むことを特徴とする成形装置。 - 請求項1記載の成形装置において、
前記ガス供給手段は、前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙に連通するように前記第1および第2型支持部材の各々に開口されたガス供給路を含むことを特徴とする成形装置。 - 請求項1記載の成形装置において、
前記第2筒体は、前記間隙を第1および第2型体の対向方向に二つの温度制御室に隔する遮蔽部材と、前記ガス供給手段から個々の前記温度制御室に供給される前記ガスを排出するガス排出口とを具備したことを特徴とする成形装置。 - 請求項1記載の成形装置において、
前記第1型支持部材と前記第1型体との間、および前記第2型支持部材と前記第2型体との間には、第3型支持部材および第4型支持部材がそれぞれ介設され、
前記ガス供給手段は、前記第1および第2型支持部材の各々に、前記第1および第2型体の対向方向に穿設された第1ガス供給路と、
前記第3および第4型支持部材に穿設され、一端が前記第1ガス供給路に接続され、他端が、前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙に連通するとともに、前記第3および第4型支持部材の外周部に開口するように分岐した第2ガス供給路と、
を含むことを特徴とする成形装置。 - 被成形物を保持する成形面を対向させた第1および第2型体と、
前記第1および第2型体の少なくとも一方を対向方向に案内する第1筒体と、
前記第1筒体内の前記第1および第2型体を対向方向に挟圧する第1および第2型支持部材と、
前記第1および第2型体に保持された前記被成形物を加熱する加熱手段と、
前記第1および第2型支持部材の各々に支持され、各々が前記第1筒体を所定の間隙をもって収容する第1分離筒体および第2分離筒体と、
前記第1筒体と前記第1分離筒体および第2分離筒体の各々との間の前記間隙にガスを供給するガス供給手段と、
を含むことを特徴とする成形装置。 - 請求項5記載の成形装置において、
前記第1筒体の外周部には、当該第1筒体と前記第1分離筒体および第2分離筒体の各々との間に形成される前記間隙を隔する遮蔽板が設けられ、前記ガス供給手段から前記間隙に供給される前記ガスは、前記遮蔽板と前記第1分離筒体および第2分離筒体の各々の開口部との間に形成される排出口を通じて排出されることを特徴とする成形装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の成形装置において、
前記加熱手段は、前記第1および第2型支持部材内に埋設されたヒータからなることを特徴とする成形装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の成形装置において、
前記被成形物は、ガラス素材であり、前記加熱手段にて前記ガラス素材を加熱軟化するまで加熱する工程と、前記第1および第2型体にて挟圧して前記成形面の外形形状を有する光学素子に成形する工程と、前記ガス供給手段から前記第1筒体および第2筒体の前記間隙に前記ガスを供給することで、前記光学素子の冷却を行う工程と、が行われることを特徴とする成形装置。 - 第1筒体内に成形面を対向させて収容される第1および第2型体の間に被成形物を配置する工程と、
前記第1および第2型体の間に被成形物を配置した前記第1筒体を所定の間隙をなすように第2筒体内に収容した状態で前記被成形物を加熱する工程と、
加熱された前記被成形物を前記第1および第2型体の前記成形面にて挟圧する工程と、
前記第1筒体と前記第2筒体の前記間隙にガスを供給して冷却する工程と、
を含むことを特徴とする成形方法。 - 請求項9記載の成形方法において、
前記被成形物は、ガラス素材であり、前記加熱手段にて前記ガラス素材を加熱軟化するまで加熱し、前記第1および第2型体にて挟圧して前記成形面の外形形状を有する光学素子に成形した後、前記第1筒体および第2筒体の前記間隙に前記ガスを供給することで、前記光学素子の冷却を行うことを特徴とする成形方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005067529A JP2006248843A (ja) | 2005-03-10 | 2005-03-10 | 成形装置、成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005067529A JP2006248843A (ja) | 2005-03-10 | 2005-03-10 | 成形装置、成形方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2006248843A true JP2006248843A (ja) | 2006-09-21 |
Family
ID=37089721
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JP2005067529A Withdrawn JP2006248843A (ja) | 2005-03-10 | 2005-03-10 | 成形装置、成形方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2006248843A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108927891A (zh) * | 2018-09-06 | 2018-12-04 | 海城市大德广消防门业材料有限公司 | 一种菱镁防火保温板立模成型设备及工艺 |
CN113246508A (zh) * | 2020-02-07 | 2021-08-13 | 株式会社大镐技术 | 透镜及模具移送系统 |
-
2005
- 2005-03-10 JP JP2005067529A patent/JP2006248843A/ja not_active Withdrawn
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