JP2006222117A - Conveying apparatus of substrate material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板材の搬送装置に関する。すなわち、回路基板の製造工程で使用され、基板材を搬送しつつ表面処理する、表面処理装置の搬送装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate material transfer apparatus. That is, the present invention relates to a transport device for a surface treatment apparatus that is used in a circuit board manufacturing process and performs surface treatment while transporting a substrate material.
《技術的背景》
電子機器の高性能化,高機能化,小型軽量化に伴い、プリント配線基板等の回路基板も、高精度化,ファイン化,極薄化,多様化が進み、形成される回路の高密度化,微細化が著しい。例えば、表裏両面に回路が形成されたプリント配線基板も、極薄化が進展し、肉厚0.5mm以下のものも出現している。
そして、このような回路基板の製造工程では、各工程において、それぞれ表面処理装置が用いられており、表面処理装置では、搬送装置にて搬送される両面基板用の基板材に対し、上下から処理液が噴射され、もって基板材の薬液処理や洗浄処理が行われている。例えば基板材について、現像液,エッチング液,剥離液,洗浄液等の処理液が順次噴射され、もって現像,エッチング,剥膜,洗浄等の表面処理が順次実施されて、回路が形成され、回路基板が製造されている。
《Technical background》
As electronic devices become more sophisticated, more functional, smaller and lighter, printed circuit boards and other circuit boards are becoming more accurate, finer, thinner, and more diverse, resulting in higher circuit density. , The miniaturization is remarkable. For example, printed wiring boards having circuits formed on both front and back surfaces have been made extremely thin, and those having a thickness of 0.5 mm or less have also appeared.
In such a circuit board manufacturing process, a surface processing apparatus is used in each process, and the surface processing apparatus processes the substrate material for the double-sided substrate conveyed by the conveying apparatus from above and below. The liquid is ejected, and thus the substrate material is subjected to chemical treatment and cleaning treatment. For example, for a substrate material, a processing solution such as a developing solution, an etching solution, a stripping solution, and a cleaning solution is sequentially ejected, and surface treatments such as development, etching, stripping, and cleaning are sequentially performed to form a circuit, and a circuit board. Is manufactured.
《従来技術》
図6は、この種従来例の基板材の搬送装置の説明に供し、(1)図は、正面概略図、(2)図は、搬送される基板材の平面概略図、(3)図は、側面概略図である。
同図にも示したように、現像装置,エッチング装置,剥離装置,洗浄装置等、この種の表面処理装置1では、基板材Aが、搬送装置2の軸4に取付けられた上下の搬送ローラー3に挟まれて、水平面で搬送されつつ、スプレーノズル4から処理液Bが噴射され、もって所定の薬液処理や洗浄処理等の表面処理が行われて、表裏両面の回路面Cに回路Dが形成され、回路基板が製造されていた。
そして、このような表面処理装置1の搬送装置2の搬送ローラー3は、上下対をなすと共に、同じ高さレベルで前後左右に多数列設されており、このような搬送ローラー3が、基板材Aの表裏の回路面Cには無接触で、回路面C以外の左右両端ラインE更には中央ラインFを、上下から挟んで接触回転し、もって基板材Aを水平面で平板状に保持しつつ、搬送していた。又、スプレーノズル5は、搬送される基板材Aの上下に対向位置して、処理液Bを噴射していた。
<Conventional technology>
FIGS. 6A and 6B are provided for explaining the conventional substrate material transfer apparatus of this type. FIG. 6A is a schematic front view, FIG. 6B is a schematic plan view of the substrate material to be transferred, and FIG. FIG.
As shown in the figure, in this type of
And the
《先行技術文献情報》
このような従来の表面処理装置1や搬送装置2としては、例えば、次の特許文献1中に示されたものが挙げられる。
Examples of such a conventional
ところで、この種従来例の表面処理装置1の搬送装置2については、次の問題が指摘されていた。
《第1の問題点について》
第1に、a.この種の基板材Aは、前述したように極薄化傾向が著しく、腰が弱く軟らかい。そしてb.このような基板材Aに対して、処理液Bが噴射圧や重量を伴って噴射される。更にc.上下の搬送ローラー3は、回路面C以外にライン的に接触しているに過ぎない。
そこで、これらa.b.c.が原因となって、基板材Aを搬送装置2の搬送ローラー3にて水平搬送しつつ、上下のスプレーノズル5から処理液Bを噴射すると、基板材Aが搬送ローラー3にてスムーズに保持されず、各種の搬送トラブルGが多発し問題となっていた。
すなわち、基板材Aについて、搬送ローラー3への付着,巻付き,巻込み,吸い付きや、撓み,めくれ,しわ,湾曲,折曲,折り目,腰折れや、スリップ,引掛かり,落下や、擦り傷,損傷等の搬送トラブルGが、多発していた(図6の(3)図を参照)。このように従来例では、安定搬送が困難化することが多々あり、高精度が要求される基板材Aの表面処理に支障が生じる等、スムーズな搬送実現が切望されていた。
By the way, the following problems were pointed out about the conveying
<About the first problem>
First, a. As described above, this type of substrate material A has an extremely thin tendency, is weak and soft. And b. The treatment liquid B is sprayed onto the substrate material A with spray pressure and weight. C. The upper and
Therefore, these a. b. c. If the processing liquid B is sprayed from the upper and
That is, with respect to the substrate material A, adhesion to the conveying
《第2の問題点について》
第2に、具体的には、この種従来例の搬送装置2において、表裏両面に回路面Cを備えた基板材Aの安定搬送のためには、基板材Aの肉厚が、例えば0.5mm程度を越えることが必要となっていた。
肉厚が例えば0.5mm以下程度まで極薄化された基板材Aについては、安定搬送が困難視されていた。これに対し、このように極薄化された基板材Aそして回路基板のニーズは、最近ますます高まってきている。
About the second problem
Secondly, specifically, in this type of
For the substrate material A whose thickness is extremely reduced to, for example, about 0.5 mm or less, stable conveyance has been regarded as difficult. On the other hand, the needs for the substrate material A and the circuit board that have been made extremely thin in this way are increasing more and more recently.
《第3の問題点について》
第3に、このように極薄化された基板材Aの安定搬送をめざし、基板材Aを保持する搬送ローラー3の左右の幅方向Kの配設個数を、4個,5個,6個と増加させることも、試みられていた。
すなわち、基板材Aについて、左右の両端ラインEや中央ラインFに加え、更に両端ラインEと中央ラインF間にも、回路面Cではないラインを設けると共に、このような各ラインを、搬送装置2の搬送ローラー3で挟んで搬送することも試みられていた。
しかしながら、このような試みについては、回路面Cが大幅に減少してしまい、コスト高となる、という問題が指摘されていた。すなわち基板材Aについて、回路Dが形成される回路面Cの面付け面積が、エリア的に小さくなると共にトータルでも減少してしまい、基板材Aそして回路基板の製造コストが高くなる、という難点が生じていた。
<< About the third problem >>
Thirdly, with the aim of stable conveyance of the substrate material A thus thinned, the number of arrangements in the left and right width direction K of the
That is, for the substrate material A, in addition to the left and right end lines E and the center line F, a line other than the circuit surface C is provided between the end lines E and the center line F, and each such line is transferred to the transport device. Attempts have also been made to carry the paper sandwiched between two
However, with respect to such an attempt, a problem has been pointed out that the circuit plane C is greatly reduced and the cost is increased. That is, with respect to the substrate material A, the imposition area of the circuit surface C on which the circuit D is formed becomes small in area and also decreases in total, and the manufacturing cost of the substrate material A and the circuit substrate increases. It was happening.
《本発明について》
本発明の基板材の搬送装置は、このような実情に鑑み、上記従来例の課題を解決すべく、発明者の鋭意研究努力の結果なされたものである。
そして、表面処理装置の搬送装置において、→基板材の回路面以外を挟んで接触回転する搬送ローラーを、前後の搬送方向又は左右の幅方向について、段差配設してなる。→もって基板材が、湾曲状をなして搬送されるので、→噴射される処理液の圧や重さに耐え得る強度が付与されることを、特徴とする。
もって本発明は、第1に、極薄化が著しい基板材の安定搬送が実現され、第2に、具体的には肉厚0.5mm以下の基板材も、安定搬送可能となり、第3に、しかもこれが、コスト面に優れて実現される、基板材の搬送装置を提案することを、目的とする。
<< About the present invention >>
In view of such a situation, the substrate material transfer apparatus of the present invention has been made as a result of the inventor's diligent research efforts to solve the problems of the conventional example.
In the transport apparatus of the surface treatment apparatus, the transport rollers that rotate in contact with the substrate surface other than the circuit surface are arranged in steps in the front-rear transport direction or the left-right width direction. → As a result, the substrate material is conveyed in a curved shape. Therefore, the substrate material is characterized in that it has a strength that can withstand the pressure and weight of the sprayed processing liquid.
Therefore, according to the present invention, first, stable conveyance of a substrate material that is extremely thinned is realized, and secondly, specifically, a substrate material having a thickness of 0.5 mm or less can be stably conveyed. And it aims at proposing the conveyance apparatus of a board | substrate material by which this is implement | achieved excellent in the cost side.
《請求項1,2について》
このような課題を解決する本発明の技術的手段は、次のとおりである。まず、請求項1については次のとおり。
請求項1の基板材の搬送装置は、回路基板の製造工程で使用され、基板材を搬送しつつ表面処理する表面処理装置の搬送装置に関する。そして、搬送ローラーが段差配設され、もって該基板材が湾曲状をなして搬送されること、を特徴とする。
請求項2については次のとおり。請求項2の基板材の搬送装置は、請求項1において、該基板材について、表裏両面に回路面が形成される。該搬送ローラーは、軸に取付けられ、上下対をなすと共に前後左右に多数列設されており、該基板材の回路面には無接触で、回路面以外を上下から挟んで保持しつつ接触回転する。
又、該表面処理は、上下に配設されたスプレーノズルから、現像液,エッチング液,剥離液,洗浄液,又はその他の処理液を噴射することにより行われる。そして、上下の該搬送ローラーが、それぞれ、前後又は左右について段差配設されており、もって該基板材が、前後又は左右に略弧形にカーブした湾曲状をなして搬送されること、を特徴とする。
<< About
The technical means of the present invention for solving such a problem is as follows. First,
The substrate material transfer device according to
The surface treatment is performed by spraying a developing solution, an etching solution, a stripping solution, a cleaning solution, or other processing solution from spray nozzles disposed above and below. The upper and lower transport rollers are respectively provided with steps in the front-rear or left-right direction, so that the substrate material is transported in a curved shape curved in a substantially arc shape in the front-rear or left-right direction. And
《請求項3,4,5,6について》
請求項3については次のとおり。請求項3の基板材の搬送装置は、請求項2において、該基板材が、肉厚が極薄であり腰が弱く柔軟ではあるが、湾曲状をなす搬送姿勢により、該スプレーノズルから噴射された該処理液の圧と重さに耐え得る強度が、付与されていること、を特徴とする。
請求項4については次のとおり。請求項4の基板材の搬送装置は、請求項3において、上下対をなす該搬送ローラーが、少なくとも、該基板材の回路面以外の左右側縁の両端ラインを、上下から挟んで接触回転し、更に必要に応じ、該基板材の回路面以外の中央ラインをも、上下から挟んで接触回転すること、を特徴とする。
請求項5については次のとおり。請求項5の基板材の搬送装置は、請求項4において、該搬送ローラーが、前後の搬送方向について繰り返し上下に段差配設され、該基板材を挟み込む高さレベルが、水平から一定周期で徐々に高くそして徐々に低く設定されている。もって該基板材が、波状に湾曲状をなして搬送されること、を特徴とする。
請求項6については次のとおり。請求項6の基板材の搬送装置は、請求項4において、該搬送ローラーが、左右の幅方向について上下に段差配設され、該基板材の中央ラインを挟み込む高さレベルが、該基板材の両端ラインを挟み込む高さレベルより、高く設定されている。もって該基板材が、中央が高く左右両端が低い湾曲状をなして搬送されること、を特徴とする。
<<
《本発明の特徴》
本発明の基板材の搬送装置は、以上説明したように、表面処理装置の搬送装置において、→基板材の回路面以外を挟んで接触回転する搬送ローラーを、前後の搬送方向又は左右の幅方向について、段差配設してなる。→もって基板材が、湾曲状をなして搬送されるので、→噴射される処理液の圧や重さに耐え得る強度が付与されることを、特徴とする。
そこで、本発明の基板材の搬送装置は、次の効果を発揮する。
<Features of the present invention>
As described above, the substrate material conveying apparatus of the present invention is configured such that, in the conveying device of the surface treatment apparatus, the conveying roller that rotates in contact with the substrate surface other than the circuit surface is moved in the front-rear conveying direction or the left-right width direction. Is provided with a step. → As a result, the substrate material is conveyed in a curved shape. Therefore, the substrate material is characterized in that it has a strength that can withstand the pressure and weight of the sprayed processing liquid.
Therefore, the board | substrate material conveying apparatus of this invention exhibits the following effect.
《第1の効果》
第1に、表面処理装置において搬送トラブルが解消され、極薄化が著しい基板材の安定搬送が実現される。
すなわち、本発明の基板材の搬送装置では、搬送ローラーの段差配設により、表裏両面に回路面を備えた基板材は、湾曲状をなし補強されているので、安定搬送が実現される。すなわち基板材は、a.極薄化が著しく腰が弱く軟らかく、b.処理液が圧と重量を伴って噴射され、c.上下の搬送ローラーが、回路面以外にライン的に接触しているに過ぎないが、搬送トラブルなく搬送される。
前述した水平搬送するこの種従来例において指摘されていた、基板材の付着,巻付き,巻込み,吸い付きや,撓み,めくれ,しわ,湾曲,折曲,折り目,腰折れや、スリップ,引掛かり,落下や、擦り傷,損傷等は、確実に防止され、精度の高い表面処理が実現される。
<< First effect >>
First, the conveyance trouble is eliminated in the surface treatment apparatus, and the stable conveyance of the substrate material that is extremely thin is realized.
That is, in the board | substrate material conveying apparatus of this invention, since the board | substrate material provided with the circuit surface on both front and back was curved and reinforced by the level | step difference arrangement | positioning of a conveyance roller, stable conveyance is implement | achieved. That is, the substrate material is a. Ultra thinning is extremely weak and soft, b. Treatment liquid is injected with pressure and weight, c. The upper and lower transport rollers are merely in line contact with each other than the circuit surface, but are transported without transport trouble.
As mentioned above in this conventional example of horizontal conveyance, adhesion, winding, winding, sucking, bending, turning, wrinkling, bending, folding, folding, waist folding, slipping, catching, etc. Drops, scratches, damages, etc. are reliably prevented, and highly accurate surface treatment is realized.
《第2の効果》
第2に、具体的には、例えば肉厚0.5mm以下程度まで極薄化された基板材も、安定搬送可能となる。
すなわち、本発明の基板材の搬送装置では、上述したように、表裏両面に回路面を備えた基板材のスムーズな安定搬送が実現され、例えば肉厚0.5mm以下程度に極薄化された基板材についても、更には肉厚0.1mm程度まで極薄化された基板材についても、確実に安定搬送可能となった。
前述したこの種従来例のように、肉厚0.5mm以下の基板材の搬送が困難化することはなく、最近の回路基板の極薄化ニーズに十分対応可能である。
<< Second effect >>
Second, specifically, even a substrate material that has been extremely thinned to a thickness of, for example, about 0.5 mm or less can be stably conveyed.
That is, in the board | substrate material conveyance apparatus of this invention, as mentioned above, the smooth stable conveyance of the board | substrate material provided with the circuit surface on both front and back was implement | achieved, for example, it was thinned to about 0.5 mm or less in thickness. With respect to the substrate material as well as the substrate material that has been extremely thinned to a thickness of about 0.1 mm, it has been possible to reliably and stably convey the substrate material.
Unlike the conventional example of this type described above, it is not difficult to transport a substrate material having a thickness of 0.5 mm or less, and it can sufficiently meet the recent needs for ultra-thin circuit boards.
《第3の効果》
第3に、しかもこれらは、コスト面に優れて実現される。すなわち、本発明の基板材の搬送装置では、搬送ローラーの段差配設により、上述した安定搬送が実現される。
前述したこの種従来例で試みられたように、搬送ローラーの左右幅方向の配設個数を、増加させることによらず、そして基板材の回路面の面付け面積を、小さく減少させることもなく、実現される。従って、基板材そして回路基板の製造コストを上昇させることなく、基板材の安定搬送が実現される。
このように、この種従来例に存した課題がすべて解決される等、本発明の発揮する効果は、顕著にして大なるものがある。
《Third effect》
Thirdly, these are realized with excellent cost. That is, in the board | substrate material conveying apparatus of this invention, the stable conveyance mentioned above is implement | achieved by the level | step difference arrangement | positioning of a conveyance roller.
As attempted in this type of conventional example, the number of conveyance rollers arranged in the left-right width direction is not increased, and the imposition area of the circuit surface of the substrate material is not reduced small. Realized. Therefore, stable conveyance of the substrate material is realized without increasing the manufacturing cost of the substrate material and the circuit board.
As described above, the effects exerted by the present invention are remarkably large, such as all the problems existing in this type of conventional example are solved.
《図面について》
以下、本発明の基板材の搬送装置を、図面に示した発明を実施するための最良の形態に基づいて、詳細に説明する。
図1は、第1例の側面説明図である。図2は、同第1例の平面説明図であり、(1)図は上側の搬送ローラーを、(2)図は、下側の搬送ローラーを示す。図3は、同第1例の正面説明図である。
図4は、第2例の側面説明図である。図5は、第3例の正面説明図である。なお図7は、基板(基板材)の模式化した平面説明図である。
《About drawing》
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a substrate material conveying apparatus according to the present invention will be described in detail based on the best mode for carrying out the invention shown in the drawings.
FIG. 1 is an explanatory side view of the first example. FIGS. 2A and 2B are plan explanatory views of the first example, in which FIG. 2A shows an upper conveyance roller, and FIG. 2B shows a lower conveyance roller. FIG. 3 is an explanatory front view of the first example.
FIG. 4 is an explanatory side view of the second example. FIG. 5 is an explanatory front view of the third example. FIG. 7 is a schematic plan view of a substrate (substrate material).
《回路基板Hについて》
この基板材Aの表面処理装置6の搬送装置7は、回路基板Hの製造工程で使用される。そこでまず、図7を参照しつつ、回路基板Hの概略について説明しておく。
回路基板Hは、AV機器,パソコン,携帯電話,デジカメ,その他各種の電子機器において、電気的接続用に用いられており、部品間を接続するための回路Dパターンを、絶縁層の外表面や内部に形成してなる。
そして回路基板Hは、片面基板と両面基板とに分けられる他、多層基板(含、最近のビルドアップ法のもの)その他各種のものがあり、硬質のリジット系基板とフィルム状のフレキシブル系基板とにも、分けられる。そして、この表面処理装置6は両面基板、つまり表裏両面の外表面に回路Dつまり回路面Cが形成される両面基板を、対象とする。
又、このような回路基板Hの一環として、IC,LSI素子,受動部品,駆動部品,コンデンサー等々の半導体部品が、回路Dと一体的に組み込まれたモジュール基板(半導体一体型のパッケージ基板)や、ガラスベースに回路Dと共に半導体部品が埋め込まれたガラス基板、つまりプラズマディスプレイPDP用のガラス基板や液晶LCD用のガラス基板、更にはCSP,PBGA等も出現している。勿論、本明細書において回路基板Hとは、従来よりのプリント配線基板の外、このようなものも広く包含する。
<< About circuit board H >>
The
The circuit board H is used for electrical connection in AV equipment, personal computers, mobile phones, digital cameras, and other various electronic equipment, and the circuit D pattern for connecting parts is formed on the outer surface of the insulating layer, It is formed inside.
The circuit board H can be divided into a single-sided board and a double-sided board, as well as a multi-layer board (including the recent build-up method) and other various types, such as a rigid rigid board and a film-like flexible board. Also divided. And this
As part of such a circuit board H, a module board (semiconductor integrated package board) in which semiconductor parts such as ICs, LSI elements, passive parts, driving parts, capacitors and the like are integrated with the circuit D, A glass substrate in which a semiconductor component is embedded in a glass base together with a circuit D, that is, a glass substrate for a plasma display PDP, a glass substrate for a liquid crystal LCD, CSP, PBGA, and the like have also appeared. Of course, in the present specification, the circuit board H includes a wide variety of such circuit boards in addition to the conventional printed wiring board.
そして回路基板Hは、電子機器の高性能化,高機能化,小型軽量化に伴い、高精度化,ファイン化,そして極薄化,フレキシブル化,更には多層化,多様化等が進み、外表面(表面や裏面)に形成される回路D、更には内部に形成される回路Dの高密度化,微細化が著しい。
回路基板H例えばプリント配線基板は、製造に際しての1枚の縦横のカットサイズが、例えば500mm×500mm程度よりなる。肉厚は、絶縁層(コア材)部分が、従来の1.6mmから1.0mm〜60μm程度、昨今では50μmから10μm前後まで、極薄化されている。回路D部分(銅箔部分)の肉厚も、75μm〜35μm、昨今では16μm〜10μm前後まで、極薄化されている。回路D幅や回路D間スペースも、30μm〜15μm程度、昨今では10μm前後と微細化傾向にある。
そして両面基板の回路基板Hも、肉厚の極薄化が進展し、肉厚0.5mm以下のものも出現している。
回路基板Hは、概略このようになっている。
With the increase in performance, functionality, and size and weight of electronic devices, circuit boards H have become more accurate, finer, and thinner, more flexible, more multilayered, and more diverse. The circuit D formed on the front surface (front surface and back surface), and further, the circuit D formed inside is remarkably increased in density and miniaturization.
The circuit board H, for example, a printed wiring board, has a vertical and horizontal cut size of about 500 mm × 500 mm, for example. The thickness of the insulating layer (core material) is extremely thin from the conventional 1.6 mm to about 1.0 mm to 60 μm, and recently from about 50 μm to about 10 μm. The thickness of the circuit D portion (copper foil portion) is also extremely thinned to 75 μm to 35 μm, and recently, around 16 μm to 10 μm. The width of the circuit D and the space between the circuits D are also about 30 μm to 15 μm, and in recent years, there is a tendency toward miniaturization of about 10 μm.
And the circuit board H of the double-sided board has also been made extremely thin, and those with a thickness of 0.5 mm or less have also appeared.
The circuit board H is roughly like this.
《回路基板Hの製造方法の1例について》
次に、この基板材Aの表面処理装置6,搬送装置7が使用される、回路基板Hの製造方法について、図7等を参照して説明する。まず、第1例の製造方法について述べる。この製造方法において、回路基板H例えばプリント配線基板は、次のステップを辿って製造される。
最初に、ガラスクロス製,セラミックス製,又はポリイミド製,その他のフィルム状樹脂製の絶縁層(コア材)の外表面に、銅箔が熱プレス等により張り付けられた、銅張り積層板たる基板材Aが準備される。
そして、このように準備された基板材Aについて、張り付けられた銅箔表面を粗化する表面粗化処理(ソフトエッチング)が行われた後、短尺のワークサイズの各葉に切断される。表面粗化処理は、従来は機械研磨によって行われていたが、最近は処理液Bの噴射によって行われることが多くなっている。
そして多くの場合、スルホール用の孔あけ加工が、レーザ等を使用して実施される。スルホールは、基板材A(回路基板H)の両外表面間の微細な貫通孔よりなり、1枚について、極小径のものが数百個以上形成され、その径は、0.5mm〜0.2mm程度以下のものが多くなっている。そしてスルホールは、両外表面の回路D(銅箔)間や多層基板の回路D(銅箔)間の導通接続用や、回路Dに実装される半導体部品の取り付け用として使用される。
なお最近は、孔あけ加工を要するスルホールに代えて、小突起状・略円錐台状の接点たるバンプを形成し、もって多層基板等について、このバンプにより、スルホールと同様の機能を実現する技術も開発されている。バンプは、回路Dに準じ、現像工程,エッチング工程,剥膜工程を辿って製造される。
<< One Example of Manufacturing Method of Circuit Board H >>
Next, a method for manufacturing the circuit board H in which the
First, a substrate material that is a copper-clad laminate, in which a copper foil is bonded to the outer surface of an insulating layer (core material) made of glass cloth, ceramics, polyimide, or other film-like resin by hot pressing or the like A is prepared.
And about the board | substrate material A prepared in this way, after the surface roughening process (soft etching) which roughens the paste | laminated copper foil surface is performed, it cut | disconnects to each leaf of a short work size. The surface roughening treatment is conventionally performed by mechanical polishing, but recently, it is frequently performed by spraying the treatment liquid B.
In many cases, drilling for through holes is performed using a laser or the like. The through holes are formed of fine through holes between both outer surfaces of the substrate material A (circuit board H), and several hundreds of extremely small diameters are formed on one sheet, and the diameter is 0.5 mm to 0.00 mm. The number is about 2 mm or less. The through-holes are used for conductive connection between the circuits D (copper foil) on both outer surfaces and between the circuits D (copper foil) on the multilayer substrate, and for mounting semiconductor components mounted on the circuit D.
Recently, instead of through-holes that require drilling, bumps that are contact points in the form of small protrusions and substantially frustoconical shapes have been formed. Has been developed. The bumps are manufactured following the development process, the etching process, and the film removal process according to the circuit D.
さてしかる後、基板材Aの銅箔の外表面に、感光性のレジストが膜状に塗布又は張り付けられる。それから、回路Dのネガフィルムつまり予め回路D設計された回路D写真を当て、露光することにより、外表面のレジストは、露光されて硬化した回路D形成部分を残し、その他の不要部分が、処理液Bたる現像液の噴射により溶解除去される。
それから、このような基板材Aの銅箔は、レジストが硬化して被覆された回路D形成部分を残し、現像によりレジストが溶解除去されて露出した不要部分が、処理液Bたるエッチング液(塩化第二銅,塩化第二鉄,その他の腐食液)の噴射により、溶解除去・エッチングされる。それから、残っていた回路D形成部分のレジストが、処理液Bたる剥離液の噴射により剥膜除去され、もって、残った回路D形成部分の銅箔にて、基板材Aの外表面に、所定導体パターンの回路Dが形成され、回路基板Hが製造される。
又、上述した現像工程,エッチング工程,剥膜工程には、それぞれ後処理用に、又は剥膜工程の後にまとめて後処理用に、処理液Bとして水洗液,中和剤液,その他の洗浄液を噴射する洗浄工程が付設されている。この洗浄工程では、基板材Aの外表面(含むスルホール内等)に付着していた現像液,エッチング液,剥離液等の処理液Bが、洗浄,除去される。
更に、洗浄工程の後には、乾燥工程が付設されている。すなわち、洗浄工程で洗浄された基板材Aの外表面(含むスルホール内等)には、処理液Bである水洗液その他の洗浄液や,それらの水分が付着しているので、酸化防止等のためこれらを除去すべく、事後直ちに乾燥工程において乾燥処理される。
第1例の製造方法は、このようなウェットプロセス法よりなる。第1例の製造方法は、このようになっている。
After that, a photosensitive resist is applied or pasted on the outer surface of the copper foil of the substrate material A in the form of a film. Then, by applying and exposing a negative film of circuit D, that is, a circuit D photograph previously designed for circuit D, the resist on the outer surface is left exposed and cured circuit D forming part, and other unnecessary parts are processed. It is dissolved and removed by spraying the developer as the liquid B.
Then, such a copper foil of the substrate material A leaves a circuit D forming portion where the resist is cured and coated, and an unnecessary portion exposed by dissolving and removing the resist by development is treated with an etching solution (chlorinated chloride). It is removed and etched by injection of cupric, ferric chloride, and other corrosive liquids. Then, the remaining resist of the circuit D forming portion is stripped by spraying the stripping liquid as the processing liquid B, and the predetermined circuit D is formed on the outer surface of the substrate material A with the copper foil of the remaining circuit D forming portion. The circuit D of the conductor pattern is formed, and the circuit board H is manufactured.
Further, in the above-described development process, etching process, and film removal process, a washing liquid, a neutralizer liquid, and other cleaning liquids are used as the processing liquid B for the post-processing, or for the post-processing after the film-forming process. A cleaning process for injecting water is attached. In this cleaning step, the processing liquid B such as the developing solution, the etching solution, and the stripping solution that has adhered to the outer surface of the substrate material A (including the inside of the through hole) is cleaned and removed.
Furthermore, a drying process is attached after the cleaning process. That is, the outer surface of the substrate material A cleaned in the cleaning process (including the inside of the through hole) is attached with the cleaning liquid or other cleaning liquid as the processing liquid B, and their moisture, for preventing oxidation. In order to remove these, a drying process is performed immediately after the fact in the drying step.
The manufacturing method of the first example includes such a wet process method. The manufacturing method of the first example is as described above.
《回路基板Hの製造方法の他の例について》
次に、第2例の製造方法について述べる。回路基板H例えばプリント配線基板の製造方法としては、上述した第1例のウェットプロセス法が代表的であるが、第2例のセミアディティブ法も多用されつつある。
このセミアディティブ法では、まず、予めスルホールが形成された基板材Aの外表面に、無電解銅メッキが施される。→それから、この無電解銅メッキに、感光性のレジストを膜状に塗布又は張り付けた後、→回路Dフィルムである回路D写真を当て、露光する。→そしてレジストは、露光されて硬化した部分を残し、他の部分つまり回路D形成部分が、処理液Bたる現像液の噴射により溶解除去される。
しかる後、→回路D形成部分、つまり現像によりレジストが溶解除去されたメッキパターン部分、つまり無電解銅メッキが露出した部分に対し、電解銅メッキが施されて、→回路Dが形成される。→なお、残っていた硬化した回路D形成部分以外のレジストは、処理液Bたる剥離液の噴射により剥膜除去され、→露出した無電解銅メッキが、処理液Bたるエッチング液の噴射によりクイックエッチングされて、融解除去される。→なお、各工程の後処理用として、前述した所に準じ、洗浄液を処理液Bとした洗浄工程や、乾燥工程が付設される。
第2例のセミアディティブ法では、このようにして、電解銅メッキにて回路Dが形成され、もって回路基板Hが製造される。第2例の製造方法は、このようになっている。
ところで、プリント配線基板その他の回路基板Hの製造方法は、最近ますます多様化しつつあり、上述した第1例,第2例以外にも、各種方法が開発,使用されている。本発明は勿論、このような各種の回路基板Hの製造方法にも、適用される。
回路基板Hの製造方法は、このようになっている。
<< Other Examples of Manufacturing Method of Circuit Board H >>
Next, a manufacturing method of the second example will be described. As a method for manufacturing a circuit board H, for example, a printed wiring board, the wet process method of the first example described above is representative, but the semi-additive method of the second example is also being used frequently.
In this semi-additive method, first, electroless copper plating is applied to the outer surface of the substrate material A on which through holes have been previously formed. Then, after applying or pasting a photosensitive resist to the electroless copper plating, a circuit D film as a circuit D film is applied and exposed. The resist remains exposed and hardened, and the other part, that is, the circuit D forming part is dissolved and removed by spraying the developing solution as the processing liquid B.
Thereafter, electrolytic copper plating is applied to the circuit D formation portion, that is, the plating pattern portion where the resist is dissolved and removed by development, that is, the portion where the electroless copper plating is exposed, and the circuit D is formed. → The remaining resist other than the hardened circuit D forming portion is removed by spraying the stripping liquid as the processing liquid B, and the exposed electroless copper plating is quick by spraying the etching liquid as the processing liquid B. Etched and melted away. → In addition, as a post-treatment for each process, a cleaning process using the cleaning liquid as the processing liquid B and a drying process are provided according to the above-described place.
In the semi-additive method of the second example, the circuit D is thus formed by electrolytic copper plating, and thus the circuit board H is manufactured. The manufacturing method of the second example is as described above.
By the way, the manufacturing method of printed circuit boards and other circuit boards H has been increasingly diversified recently, and various methods have been developed and used in addition to the first and second examples described above. Of course, the present invention is also applied to the manufacturing method of such various circuit boards H.
The manufacturing method of the circuit board H is as described above.
《表面処理装置6について》
まず、本発明の基板材Aの搬送装置7が使用される表面処理装置6について、図1,図2,図3,図4,図5等を参照して、説明する。この表面処理装置6は、回路基板Hの製造工程で使用され、基板材Aを搬送しつつ表面処理する。
すなわち、この表面処理装置6は、回路基板Hの製造工程の例えば表面粗化工程,その他の前処理工程,現像工程,エッチング工程,剥膜工程,洗浄工程,その他の後処理工程等において、例えば表面粗化装置,現像装置,エッチング装置,剥離装置,又は洗浄装置として使用される。もって、搬送される基板材Aに対し、それぞれ例えば表面粗化液,現像液,エッチング液,剥離液,又は洗浄液等の処理液Bを噴射して、基板材Aを薬液処理,洗浄処理等、表面処理する。
そして表面処理装置6は、処理室であるチャンバー8内に、基板材Aを搬送方向Jに搬送するコンベヤである搬送装置7と、搬送される基板材Aに処理液Bを噴射するスプレーノズル5と、を有している。
<< About the
First, the
That is, the
Then, the
スプレーノズル5は、搬送される基板材Aに対向位置しており、例えば表面粗化液,現像液,エッチング液,剥離液,又は洗浄液等の処理液Bを、噴射する。すなわちスプレーノズル5は、搬送装置7の搬送ローラー9,10にて搬送される基板材Aの真上と真下に、それぞれ上下間隔を存しつつ配設されている。そして、前後の搬送方向Jと左右の幅方向Kにわたって、所定ピッチ間隔を置きつつ多数配列されている。
そこで処理液Bは、液槽11からポンプ12や配管13を介し、各スプレーノズル5に圧送されて、基板材Aに噴射される。そして、基板材Aの外表面を、幅方向Kの左方向又は右方向に向けて流れつつ表面処理した後、基板材Aの左右両サイドから流下されて、再び液槽11に回収され、事後も循環使用される。
表面処理装置6は、このようになっている。
The
Therefore, the processing liquid B is pumped from the
The
《搬送装置7について》
以下、表面処理装置6の搬送装置7について、図1,図2,図3,図4,図5等を参照して、説明する。
まず、この基板材Aの搬送装置7は、回路基板Hの製造工程中、基板材Aの表面処理装置6のチャンバー8内において使用され、多数の搬送ローラー9,10を備えている。搬送ローラー9,10は、上下で対をなして用いられ、上下相互間で接触回転すると共に、表裏両面に回路面Cを備えた基板材Aを、挟んで保持しつつ接触回転により搬送する。
すなわち搬送装置7は、上側の搬送ローラー9群と下側の搬送ローラー10群とを備えており、上下の搬送ローラー9,10は、略短柱状・車輪状・ホイール状の樹脂製よりなり、それぞれ、左右の幅方向Kに水平に配設された上下の軸14,15に、複数個ずつ取付けられている。上下の軸14,15は、それぞれ、前後の搬送方向Jに向け多数列設されており、もって上下の搬送ローラー9,10は、それぞれ、左右の幅方向Kに複数個ずつ、前後の搬送方向Jに若干の前後間隔を置きつつ多数列設されている。
<< Conveying
Hereinafter, the
First, the
That is, the
又、この搬送装置7において、上下の搬送ローラー9,10は、それぞれ、基板材Aの回路面Cには無接触で、回路面C以外を上下から挟んで接触回転する。
上下対をなす搬送ローラー9,10は、少なくとも、基板材Aの表裏の回路面C以外の左右側縁の両端ラインEを、上下から挟んで接触回転し、更に必要に応じ、基板材Aの回路面C以外の中央ラインEをも、上下から挟んで接触回転する。
すなわち、搬送される基板材Aは(図2の(1)図,(2)図,図6の(2)図を参照)、表裏両面共に、幅方向Kの左右側縁部分が、回路Dが形成される回路面Cではない、搬送方向Jに沿った両端ラインE(いわゆる額縁部,みみ部)となっている。又、基板材Aの幅方向Kの中央部分も、表裏共に、回路Dが形成される回路面Cではない、搬送方向Jに沿った中央ラインFとなっていることが多い。
そして、上下の搬送ローラー9,10は、このような基板材Aの両端ラインEや中央ラインFのみを、上下から圧接しつつ挟んで接触回転する。図2に示した例の搬送ローラー9,10は、左右の両端ラインEと中央ラインFとを上下から挟み込むべく、上下の軸14,15に、それぞれ3個ずつ取付けられている。
なお、図示例によらず、左右の両端ラインEのみを挟み中央ラインFを挟まないように、軸14,15に2個ずつ取付けられることもある。
Further, in the
The
That is, the substrate material A to be conveyed (see FIGS. 2 (1), 2 (2), 6 (2)), the left and right side edge portions in the width direction K on both the front and back surfaces are the circuit D. This is not a circuit surface C on which is formed, but is a both-ends line E (so-called frame portion, ridge portion) along the conveyance direction J. In many cases, the center portion of the substrate material A in the width direction K is not the circuit surface C on which the circuit D is formed, but is a center line F along the transport direction J.
The upper and
It should be noted that two shafts may be attached to the
そして、少なくとも下側の搬送ローラー10は、図2の(2)図,図3,図5等に示したように、軸15,駆動ギア16等を介し、モータ等の駆動機構に接続されており、回転駆動される。つまり下側の搬送ローラー10は、軸15に固定された固定,駆動ローラーよりなる。
これに対し、上側の搬送ローラー9は、このような下側の搬送ローラー10に準じ、軸14に固定された固定,駆動ローラーとしてもよいが、駆動機構に接続されない固定ローラーとしてもよい。
更に、上側の搬送ローラー9は、いわゆるフリーローラーとしてもよい。すなわち、上側の搬送ローラー9の軸穴径を、軸14の径より若干大きく設定し、もって上側の搬送ローラー9をフリー回転可能としておくと、基板材Aの挟み込み追従性が向上する、という利点もある。
搬送装置7は、このようになっている。
At least the lower conveying
On the other hand, the upper conveying
Furthermore, the
The
《搬送ローラー9,10の段差配設について》
次に、搬送ローラー9,10の段差配設について、説明する。この搬送装置7では、図1,図4等に示したように、搬送ローラー9,10が段差配設されており、もって基板材Aが湾曲状をなして搬送される。
すなわち、上下の搬送ローラー9,10が、それぞれ、前後の搬送方向J又は左右の幅方向Kについて、上下に段差配設されており、もって基板材Aが、前後の搬送方向J又は左右の幅方向Kに、略弧形にカーブした湾曲状をなして搬送される。
そこで基板材Aは、肉厚が極薄であり腰が弱く柔軟ではあるが、このような湾曲状をなす搬送姿勢により、スプレーノズル5から噴射された処理液Bの圧と重さとに耐え得る強度が、付与されている。
搬送ローラー9,10は、このように段差配設されている。
<< About the step arrangement of the
Next, the step arrangement of the
That is, the upper and
Therefore, the substrate material A is extremely thin and has a low waist and is flexible. However, the substrate material A can withstand the pressure and weight of the processing liquid B sprayed from the
The
《図1,図2,図3,図4に示した例について》
このような、搬送ローラー9,10の段差配設について、更に詳述する。まず、図1,図2,図3に示した例について述べる。
この図示例の搬送装置7において、上下の搬送ローラー9,10は、それぞれ、前後の搬送方向Jについて繰り返し上下に段差配設されており、基板材Aを挟み込む高さレベルが、水平から一定周期で徐々に高くそして徐々に低く設定されている。もって、このような搬送ローラー9,10の上下の段差配設により、搬送される基板材Aは、波状に繰り返し湾曲状をなして搬送される。
すなわち、この搬送装置7の下側の搬送ローラー10は、大,中,小の3種の異径ローラーを採用してなると共に、同じ高さレベルの軸15に、それぞれ取付けられている(図1,図2の(2)図を参照)。そして、同じ軸15には同径の搬送ローラー10が取付けられると共に、搬送方向Jに沿って径が小,小,中,大,中,小,小,中,大,・・・の順に、繰り返し交互に配設されている。
これに対し、上側の搬送ローラー9は、すべて同径ローラーが用いられると共に、上述した下側の搬送ローラー10上に圧接すべく、その軸14の高さレベルが、順次高低変化して設定されている(図1,図2の(1)図を参照)。
<< Examples shown in FIGS. 1, 2, 3, and 4 >>
Such step arrangement of the
In the conveying
That is, the lower conveying
On the other hand, all of the
このように、図示例の搬送装置7では、上下の搬送ローラー9,10が、それぞれ前後の搬送方向Jに沿って、上下に段差配設されている。同径の上側の搬送ローラー9は、その軸14の高さを変えることにより、又、異径の下側の搬送ローラー10は、その径を変えることにより、それぞれ、搬送方向J相互間に段差が形成されている。
そこで、このような上下の搬送ローラー9,10にて、基板材Aを挟み込む高さレベルが、搬送方向Jに沿い一定周期で水平から高くそして低く設定されている。
もって基板材Aは、水平から一定周期の波状の湾曲状をなして、搬送方向Jに搬送され、水平面で平板状に搬送される場合(図6の(1)図,(3)図を参照)に比し、湾曲形状により、強度が補強され向上してなる。
As described above, in the illustrated
Therefore, the height level at which the substrate material A is sandwiched between the upper and
Accordingly, the substrate material A has a wave-like curved shape with a constant period from the horizontal, is transported in the transport direction J, and is transported in a flat plate shape in a horizontal plane (see FIGS. 6A and 6B). ), The strength is reinforced and improved by the curved shape.
なお、このような搬送ローラー9,10の搬送方向Jへの上下の段差配設は、図1,図2,図3の図示例以外にも、各種可能である。
例えば、上下の搬送ローラー9,10共に、異径ローラーを用いることによっても、軸14,15の高さレベルを揃えつつ、実現可能である。又、図4に示した例のように、上下の搬送ローラー9,10共に、同径ローラーを用いつつ、軸14,15の高さレベルを変えることによっても、実現可能である。
更に、異径ローラーを用いる場合において、径を大,中,小の3種以外にそれらの中間径のものも用い、もって4種以上の異径ローラーを用いることも考えられる。又は、径が大,小の2種の異径ローラーを用いることも可能である。
なお、基板材Aについて形成される波の周期・ピッチ間隔は、基板材Aの搬送追従性を考慮すると、なるべく大きく設定した方がよい。
図1,図2,図3,図4に示した例は、このようになっている。
Note that there are various types of arrangement of the upper and lower steps in the conveying direction J of the conveying
For example, both the upper and
Furthermore, in the case of using different diameter rollers, in addition to three kinds of diameters of large, medium and small, those having intermediate diameters thereof may be used, and therefore, four or more kinds of different diameter rollers may be used. Alternatively, it is possible to use two types of different diameter rollers having large and small diameters.
Note that the period and pitch interval of the waves formed on the substrate material A should be set as large as possible in consideration of the conveyance follow-up property of the substrate material A.
The examples shown in FIGS. 1, 2, 3 and 4 are as described above.
《図5に示した例について》
次に、図5に示した例について述べる。この図示例の搬送装置7において、搬送ローラー9,10は、左右の幅方向Kについて上下に段差配設されており、基板材Aの中央ラインFを挟み込む高さレベルが、基板材Aの両端ラインEを挟み込む高さレベルより、高く設定されている。もって、このような搬送ローラー9,10の上下段差配設により、搬送される基板材Aは、中央が高く左右両端が低い湾曲状をなして搬送される。
すなわち、この基板材Aは、表裏両面共に、回路面Cではない両端ラインEと、同様に回路面Cでない中央ラインFとを備えており、上下の搬送ローラー9,10は、基板材Aの両端ラインEと中央ラインFとを上下から挟み込むべく、軸14,15に3個ずつ取付けられている。
そして、基板材Aの両端ラインEを挟み込む搬送ローラー9,10が、同じ高さレベルに設定されるのに対し、中央ラインFを挟み込む搬送ローラー9,10は、これらより高い高さレベルに設定されている。図示例の中央ラインFを挟み込む搬送ローラー9,10は、上側の搬送ローラー9が小径で下側の搬送ローラー10が大径よりなり、異径のローラーが用いられている。
そして、このような搬送ローラー9,10が、搬送方向Jに向けて、それぞれ多数列設されている。
<< Example shown in FIG. 5 >>
Next, the example shown in FIG. 5 will be described. In the conveying
That is, this board | substrate material A is equipped with the both ends line E which is not the circuit surface C, and the center line F which is not the circuit surface C similarly on both front and back, and the upper and
And the
A number of
このように、図4の図示例の搬送装置7では、上下の搬送ローラー9,10が、左右の幅方向Kに上下に段差配設されている。左右の搬送ローラー9,10と中央の搬送ローラー9,10とは、その高さ位置を変えることにより、段差が形成されている。そこで、このような上下の搬送ローラー9,10にて、基板材Aを挟み込む高さレベルが、幅方向Kにおいて、左右が低く中央が高く設定されている。
もって基板材Aは、幅方向Kにおいて中央が徐々に高く左右が徐々に低くなった弧形の湾曲状をなして搬送され、水平面で平板状に搬送される場合(図6の(1)図,(3)図を参照)に比し、湾曲形状により、強度が補強され向上している。
なお、このような搬送ローラー9,10の幅方向Kへの上下の段差配設は、図5の図示例以外にも各種可能である。例えば、上下の搬送ローラー9,10共に、同径ローラーを用いつつ、左右と中央の高さレベルを変えることによっても、実現可能である。又、中央の搬送ローラー9,10について、アールを付加した周面形状としたり、複数個用いたりすることも考えられる。
図5に示した例は、このようになっている。
As described above, in the
Accordingly, the substrate material A is conveyed in an arc-shaped curved shape in which the center is gradually increased in the width direction K and the left and right are gradually decreased, and the substrate material A is conveyed in a flat plate shape on a horizontal plane ((1) in FIG. 6). , (3) see the figure), the strength is reinforced and improved by the curved shape.
Note that various arrangements of the upper and lower steps in the width direction K of the
The example shown in FIG. 5 is like this.
《作用等》
本発明の基板材Aの搬送装置7は、以上説明したように構成されている。そこで、以下のようになる。
(1)この搬送装置7は、プリント配線基板その他の回路基板Hの製造工程中、各種の薬液処理工程や洗浄工程等の表面処理工程において、使用される。例えば、その表面粗化装置,現像装置,エッチング装置,剥離装置,洗浄装置等の表面処理装置6において、使用される(図1,図2,図3,図4,図5等を参照)。
そして、この搬送装置7は、表面処理装置6のチャンバー8内に、スプレーノズル5と共に配設されている。各スプレーノズル5は、搬送される両面基板用の基板材Aに対し、上下から表面粗化液,現像液,エッチング液,剥離液,又は洗浄液等の処理液Bを噴射する。
《Action etc.》
The board | substrate material
(1) The
And this conveying
(2)そして搬送装置7は、多数の搬送ローラー9,10を備えており、搬送ローラー9,10は、上下で対をなして用いられ、基板材Aを挟んで接触回転することにより、搬送方向Jに搬送する(図1,図4を参照)。
(2) The
(3)表面処理装置6のチャンバー8内では、このような搬送装置7の搬送ローラー9,10で搬送される基板材Aが、表面処理される。
すなわち、薬液処理工程や洗浄処理工程の表面処理装置6、つまり表面粗化装置,現像装置,エッチング装置,剥離装置,洗浄装置では、基板材Aの表裏両面の回路面Cに、スプレーノズル5から処理液Bが噴射され、もって基板材Aの回路面Cが、薬液処理や洗浄処理される(図1,図3,図4,図5等を参照)。
(3) In the
That is, in the
(4)ところで、a.プリント配線基板材,その他の回路D用の基板材Aは、極薄化の進展が著しく、極薄で腰が弱く軟らかくフレキシブル性に富んでいる。
しかもb.このように極薄で軟らかい基板材Aに対して、処理液Bが噴射圧を伴って噴射されると共に、上側から噴射された処理液Bは、基板材A上を重量を伴って流れる。
更にc.上下の搬送ローラー9,10は、基板材Aの表裏の回路面C以外の両端ラインEや中央ラインFに対してのみ、接触しているに過ぎない。すなわち搬送ローラー9,10は、基板材Aの極く僅かなエリアのみを、ライン的に接触,保持,支えているに過ぎない。
(4) By the way, a. The printed wiring board material and other circuit board material A for the circuit D are remarkably progressed in ultrathinning, and are extremely thin, weak and soft and rich in flexibility.
And b. In this way, the processing liquid B is sprayed with an injection pressure to the extremely thin and soft substrate material A, and the processing liquid B sprayed from the upper side flows with a weight on the substrate material A.
C. The upper and
(5)そこで、この表面処理装置6の搬送装置7では、これらa,b,cに鑑み、搬送ローラー9,10が段差配設され、→もって基板材Aが、湾曲状をなし、→処理液Bの圧や重さに耐える強度が、基板材Aに付与されている。
すなわち搬送ローラー9,10は、例えば、前後の搬送方向Jについて、上下に段差配設されており(図1,図4等を参照)、→もって基板材Aが、搬送方向Jに一定周期の波状の湾曲状をなして搬送され、→この湾曲形状の付与により、基板材Aは、水平面での平板状搬送の場合に比し、耐荷重性が補強されており、強度が大きく向上している。
又例えば、搬送ローラー9,10は、左右の幅方向Kについて、左右のものが低く中央のものが高く上下に段差配設されており(図5を参照)、→もって基板材Aが、幅方向Kにおいて中央が高い略円弧状の湾曲状をなして搬送され、→この湾曲形状の付与により、基板材Aは、水平面での平板状搬送の場合に比し、耐荷重性が補強されており、強度が大きく向上している。
(5) Therefore, in the
That is, for example, the
Further, for example, the
(6)さて、本発明の搬送装置7では、このように搬送ローラー9,10の段差配設により、基板材Aが湾曲状をなし、処理液Bの噴射圧や重量等の荷重に、十分耐え得る強度が付与されている。
そこで、前述したa,b,cの条件下にも拘わらず、基板材Aは、所期のとおり安定搬送される。すなわち、極薄で軟らかい基板材Aではあるが、しかも回路面C以外を搬送ローラー9,10にて保持されるに過ぎない基板材Aではあるが、処理液Bの噴射圧や重さの影響を受けることもなく、もって搬送ローラー9,10に巻付いたり撓んだりすることがなく、搬送ローラー10間から落下することもなく、安定搬送される。
この搬送装置7を採用した表面処理装置6によると、両面基板用の基板材A(外表面の回路形成用の銅箔やレジストも含む)は、搬送ローラー9,10への付着,巻付き,巻込み,吸い付きや、撓み,めくれ,しわ,湾曲,折曲,折り目,腰折れや、スリップ,引掛かり,落下や、擦り傷,損傷等、各種の搬送トラブルG(図6の(3)図を参照)が、未然に防止されて安定搬送される。
(6) Now, in the
Therefore, the substrate material A is stably conveyed as expected despite the above-described conditions a, b, and c. That is, although the substrate material A is an extremely thin and soft substrate, and the substrate material A is only held by the
According to the
(7)具体的には、例えば肉厚0.5mm以下程度に極薄化された、両面基板用の基板材Aも、スムーズに安定搬送される。
例えば、図1,図2,図3に示した例において、スプレーノズル5として広角フルコーンノズルを用い、噴射圧約31kgで処理液Bが噴射された場合、肉厚0.24mmの基板材Aが、確実に安定搬送できた。勿論、肉厚0.5mmの基板材Aも、確実に安定搬送できた。
(7) Specifically, the substrate material A for a double-sided substrate that has been extremely thinned to a thickness of, for example, about 0.5 mm or less is also smoothly and stably conveyed.
For example, in the example shown in FIGS. 1, 2, and 3, when a wide-angle full cone nozzle is used as the
(8)そしてこれらは、搬送装置7の搬送ローラー9,10を段差配設することにより、実現される。つまり、搬送ローラー9,10の左右の幅方向Kの配設個数を、(3個),4個,5個,6個と増加させることによらずとも、実現される。
そこで、配設個数を増加させた場合のように、増加した搬送ローラー9,10との接触を避けるため、その分だけ、基板材Aの表裏の回路面Cの面付け面積が、大幅に減少してしまうことはない。
基板材Aから得られる各回路面Cが、エリア面積的に小さく設定されてしまったり、トータル面積的にも接触面積の増加分だけ減少してしまうようなことはない。
(8) These are realized by arranging the
Therefore, as in the case where the number of arrangements is increased, in order to avoid contact with the increased conveying
Each circuit surface C obtained from the substrate material A is not set to be small in terms of area, nor is the total area reduced by the increase in contact area.
1 表面処理装置(従来例)
2 搬送装置(従来例)
3 搬送ローラー(従来例)
4 軸(従来例)
5 スプレーノズル
6 表面処理装置(本発明)
7 搬送装置(本発明)
8 チャンバー
9 搬送ローラー(本発明)
10 搬送ローラー(本発明)
11 液槽
12 ポンプ
13 配管
14 軸(本発明)
15 軸(本発明)
16 駆動ギヤ
A 基板材
B 処理液
C 回路面
D 回路
E 両端ライン
F 中央ライン
G 搬送トラブル
H 回路基板
J 搬送方向
K 幅方向
1 Surface treatment equipment (conventional example)
2 Transport device (conventional example)
3 Transport roller (conventional example)
4-axis (conventional example)
5
7 Conveying device (present invention)
10 Conveying roller (present invention)
11
15 shafts (present invention)
16 Drive gear A Substrate material B Processing liquid C Circuit surface D Circuit E Lines at both ends F Center line G Transport trouble H Circuit board J Transport direction K Width direction
Claims (6)
搬送ローラーが段差配設され、もって該基板材が湾曲状をなして搬送されること、を特徴とする、基板材の搬送装置。 A transport device for a surface treatment apparatus that is used in a circuit board manufacturing process and that performs surface treatment while transporting a substrate material,
A transport device for a substrate material, characterized in that a transport roller is provided in steps, and the substrate material is transported in a curved shape.
該表面処理は、上下に配設されたスプレーノズルから、現像液,エッチング液,剥離液,洗浄液,又はその他の処理液を噴射することにより行われ、
上下の該搬送ローラーが、それぞれ、前後又は左右について段差配設されており、もって該基板材が、前後又は左右に略弧形にカーブした湾曲状をなして搬送されること、を特徴とする、請求項1に記載した基板材の搬送装置。 The substrate material has circuit surfaces formed on both front and back surfaces, and the transport rollers are attached to a shaft, and are arranged in multiple rows in front and rear, left and right, and without contact with the circuit surface of the substrate material. , Contact rotation while holding the circuit surface other than the top and bottom,
The surface treatment is performed by spraying a developing solution, an etching solution, a stripping solution, a cleaning solution, or other processing solution from spray nozzles disposed above and below,
The upper and lower transport rollers are respectively provided with steps in the front-rear or left-right direction, so that the substrate material is transported in a curved shape curved in a substantially arc shape in the front-rear or left-right direction. The substrate material transfer apparatus according to claim 1.
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