JP2006216709A - Multilayered wiring board with built-in multilayered electronic component, and multilayered electronic component - Google Patents

Multilayered wiring board with built-in multilayered electronic component, and multilayered electronic component Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayered wiring board with a built-in multilayered electronic component having a high performance and a high reliability, and also to provide the multilayered electronic component. <P>SOLUTION: The multilayered wiring board 10 incorporates the multilayered electronic component 13. The multilayered electronic component 13 comprises an element assembly consisting of a laminate 13B made by stacking a plurality of dielectric layers 13A, internal electrodes 13C existing between the dielectric layers 13A, and an external terminal electrode 13D formed on the connection surface of the element assembly so as to be connected to the inner electrodes 13C. The inner electrodes 13C are so formed as to substantially have no margin with the non-connection surface. The multilayered wiring board 10 comprises an element assembly consisting of a laminate 11 made by stacking a plurality of dielectric layers 11A, and predetermined wiring patterns 12 existing between the dielectric layers 11A. The non-connection surface of the multilayered electronic component 13 faces the dielectric layers 11A of the multilayered wiring board 10. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、積層型電子部品を内蔵した多層配線基板及び積層型電子部品に関するものである。   The present invention relates to a multilayer wiring board incorporating a multilayer electronic component and a multilayer electronic component.

従来のこの種の多層配線基板としては、例えば特許文献1及び特許文献2に記載の技術が知られている。特許文献1に記載の技術は、多層セラミック基板内に凹部または貫通孔からなる空間が設けられ、これらの空間内に積層コンデンサや積層インダクタ等の積層型電子部品を内蔵させて基板の平坦性を高めたものである。   As a conventional multilayer wiring board of this type, for example, techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 2 are known. In the technique described in Patent Document 1, spaces formed by recesses or through holes are provided in a multilayer ceramic substrate, and multilayer electronic components such as multilayer capacitors and multilayer inductors are incorporated in these spaces to improve the flatness of the substrate. It is an enhanced one.

また、特許文献2に記載の技術は、特許文献1に記載の技術と同様に、積層型電子部品を内蔵した多層セラミック基板に関するものである。この技術では、未焼結複合積層体内に予め焼成して得られた焼結体プレートを内蔵させ、難焼結性材料を含む拘束層を未焼結複合積層体の上下両側に配置し、拘束層の働きで基板の平面方向の収縮を抑制する、無収縮工法を用いて電子部品を内蔵させた多層セラミック基板を作製する。   Further, the technique described in Patent Document 2 relates to a multilayer ceramic substrate having a built-in multilayer electronic component, similar to the technique described in Patent Document 1. In this technology, a sintered body plate obtained by pre-baking is incorporated in an unsintered composite laminate, and constraining layers containing a hardly sinterable material are arranged on both upper and lower sides of the unsintered composite laminate. A multilayer ceramic substrate with electronic components built in is produced using a non-shrinking method that suppresses the shrinkage of the substrate in the planar direction by the action of the layers.

従来の積層型電子部品を内蔵した多層配線基板は、既存の積層型電子部品が内蔵されたものである。既存の積層型電子部品としては、例えば特許文献3の積層型積層セラミックコンデンサや特許文献4に記載の積層セラミック電子部品が知られている。これらの積層型電子部品は、いずれもセラミックコンデンサに関するものである。これらのセラミックコンデンサはいずれも内部電極の周囲にサイドマージン等のマージン部を有し、このマージン部によってセラミックコンデンサの信頼性を確保している。   A conventional multilayer wiring board having a built-in multilayer electronic component incorporates an existing multilayer electronic component. As an existing multilayer electronic component, for example, the multilayer multilayer ceramic capacitor disclosed in Patent Document 3 and the multilayer ceramic electronic component described in Patent Document 4 are known. These multilayer electronic components all relate to ceramic capacitors. Each of these ceramic capacitors has a margin portion such as a side margin around the internal electrode, and the reliability of the ceramic capacitor is ensured by this margin portion.

即ち、積層セラミックコンデンサは、図11の(a)、(b)に示すように、複数のセラミック層1Aからなる積層体1と、積層体1内部に上下複数層に渡って介在する内部電極2と、積層体1の両端面に設けられ且つ両端面に露出する内部電極2に接続された外部電極3と、を備えている。そして、同図の(b)に示すように、内部電極2のあるセラミック層1Aにはその幅方向両側に所定幅G1のサイドマージン部1Bが設けられ、これらのサイドマージン部1Bにおいて上下のセラミック層1A、1Aが密着して一体化し、層間剥離を防止すると共に内部電極2の側面からの露出を防止している。内部電極2が部品の側面から露出していると耐湿性が悪く、信頼性が低下するため、上述のようにサイドマージン1Bを設ける必要がある。また、同図の(a)に示すように、積層体1の厚み方向においても信頼性を確保するために最上層の内部電極2と最下層の内部電極2それぞれの外側にも所定寸法G2のマージン部が設けられている。   That is, as shown in FIGS. 11A and 11B, the multilayer ceramic capacitor includes a multilayer body 1 composed of a plurality of ceramic layers 1A, and an internal electrode 2 interposed in the multilayer body 1 in a plurality of upper and lower layers. And external electrodes 3 provided on both end faces of the laminate 1 and connected to the internal electrodes 2 exposed at both end faces. As shown in FIG. 2B, the ceramic layer 1A having the internal electrode 2 is provided with side margin portions 1B having a predetermined width G1 on both sides in the width direction, and upper and lower ceramics are provided in these side margin portions 1B. Layers 1 </ b> A and 1 </ b> A are brought into close contact with each other to prevent delamination and prevent exposure from the side surface of internal electrode 2. If the internal electrode 2 is exposed from the side surface of the component, the moisture resistance is poor and the reliability is lowered. Therefore, it is necessary to provide the side margin 1B as described above. Further, as shown in FIG. 5A, in order to ensure reliability also in the thickness direction of the laminated body 1, a predetermined dimension G2 is also provided outside the uppermost internal electrode 2 and the lowermost internal electrode 2 respectively. A margin portion is provided.

特開昭61−288498号公報JP-A-61-288498 特開2002−084067号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-084067 特開平09−069464号公報JP 09-066944 A 特開2001−035738号公報JP 2001-035738 A

しかしながら、図11に示す従来の積層セラミックコンデンサ等の積層型電子部品は、信頼性を確保する必要からサイドマージン部G1及び上下のマージン部G2が設けられているため、積層型電子部品が小型化すると、サイドマージン部を確保する必要から内部電極2の印刷精度やカット精度への要求が高くなり、他方、この要求に応えるためにサイドマージン部を大きくすると内部電極の幅が狭くなって大容量化を妨げることになる。また、上下のマージン部は、信頼性を確保するように内部電極の実質的なコンデンサ部分とは別に余分に設けられているため、低背化の妨げになり、多層配線基板に内蔵させると、基板表面に凹凸が生じ、表面実装性が大きく低下する。今後、更に積層型電子部品が高性能化するほど、このような積層型電子部品を多層配線基板に内蔵させることが難しくなる。   However, since the multilayer electronic component such as the conventional multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 11 is provided with the side margin portion G1 and the upper and lower margin portions G2 in order to ensure reliability, the multilayer electronic component is downsized. Then, since it is necessary to secure the side margin portion, the requirements for the printing accuracy and cutting accuracy of the internal electrode 2 are increased. On the other hand, if the side margin portion is increased to meet this requirement, the width of the internal electrode becomes narrower and the capacity increases. Will be hindered. In addition, since the upper and lower margin portions are provided separately from the substantial capacitor portion of the internal electrode so as to ensure reliability, it hinders a reduction in height, and when built in a multilayer wiring board, Unevenness is generated on the surface of the substrate, and the surface mountability is greatly reduced. In the future, as the performance of multilayer electronic components further increases, it becomes more difficult to incorporate such multilayer electronic components in a multilayer wiring board.

本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、高性能でしかも高い信頼性を有する積層型電子部品を内蔵した多層配線基板及び積層型電子部品を提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a multilayer wiring board and a multilayer electronic component incorporating a multilayer electronic component having high performance and high reliability.

本発明の請求項1に記載の多層配線基板は、積層型電子部品を内蔵した多層配線基板であって、上記積層型電子部品は、複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、上記誘電体層の間に介在する内部電極と、上記内部電極に接続するように上記素体の少なくとも一つの側面に設けられた外部端子電極と、を有し、上記内部電極は、上記素体の他の側面との間に実質的にマージンが無いように形成されており、また、上記多層配線基板は、複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、上記積層体の内部に設けられた所定の配線パターンと、を有し、上記積層型電子部品の上記外部端子電極は、上記多層配線基板の上記配線パターンに接続されており、且つ、上記積層型電子部品の上記素体の他方の側面は、上記多層配線基板の誘電体層と対向していることを特徴とするものである。   The multilayer wiring board according to claim 1 of the present invention is a multilayer wiring board having a built-in multilayer electronic component, and the multilayer electronic component is an element body composed of a multilayer body in which a plurality of dielectric layers are stacked. And an internal electrode interposed between the dielectric layers, and an external terminal electrode provided on at least one side surface of the element body so as to be connected to the internal electrode, The multilayer wiring board is formed so as to have substantially no margin between the other side surfaces of the element body, and the multilayer wiring board includes an element body composed of a laminated body in which a plurality of dielectric layers are laminated, and the laminated body. A predetermined wiring pattern provided inside the body, wherein the external terminal electrode of the multilayer electronic component is connected to the wiring pattern of the multilayer wiring board, and the multilayer electronic component The other side surface of the element body of the multilayer wiring board And it is characterized in that it is collector layer and the counter.

また、本発明の請求項2に記載の多層配線基板は、請求項1に記載の発明において、上記積層型電子部品は、複数層に渡って形成されたコンデンサパターンを上記内部電極として備えたコンデンサ内蔵部品であることを特徴とするものである。   A multilayer wiring board according to a second aspect of the present invention is the capacitor according to the first aspect, wherein the multilayer electronic component includes a capacitor pattern formed over a plurality of layers as the internal electrode. It is a built-in component.

また、本発明の請求項3に記載の多層配線基板は、請求項2に記載の発明において、上記積層型電子部品は、上記内部電極としてコイルパターンを備えたインダクタ内蔵電子部品であることを特徴とするものである。   According to a third aspect of the present invention, in the multilayer wiring board according to the second aspect, the multilayer electronic component is an electronic component with a built-in inductor having a coil pattern as the internal electrode. It is what.

また、本発明の請求項4に記載の多層配線基板は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明において、上記多層配線基板の上記配線パターンはビアホール導体を含み、上記積層型電子部品の上記外部端子電極は上記ビアホール導体に接続されており、接続状態にて、上記ビアホール導体には段部が形成されていることを特徴とするものである。   The multilayer wiring board according to claim 4 of the present invention is the multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the wiring pattern of the multilayer wiring board includes a via-hole conductor, The external terminal electrode of the type electronic component is connected to the via-hole conductor, and a step portion is formed in the via-hole conductor in the connected state.

また、本発明の請求項5に記載の多層配線基板は、請求項4に記載の発明において、上記多層配線基板は、上記配線パターンとして、上記誘電体層の積層方向に延びる第1接続導体と、上記第1接続導体とは反対側に延びる第2接続導体とを含み、上記積層型電子部品の上記外部端子電極は、上記第1接続導体及び上記第2接続導体にそれぞれ接続されていること特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のものである。   A multilayer wiring board according to claim 5 of the present invention is the multilayer wiring board according to claim 4, wherein the multilayer wiring board includes a first connection conductor extending in the stacking direction of the dielectric layers as the wiring pattern. A second connection conductor extending to the opposite side of the first connection conductor, and the external terminal electrode of the multilayer electronic component is connected to the first connection conductor and the second connection conductor, respectively. It is a thing of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.

また、本発明の請求項6に記載の多層配線基板は、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の発明において、上記積層型電子部品の上記他の側面と上記多層配線基板の上記誘電体層との間には空隙が介在していること特徴とするものである。   A multilayer wiring board according to a sixth aspect of the present invention is the invention according to any one of the first to fifth aspects, wherein the other side surface of the multilayer electronic component and the multilayer wiring board are An air gap is interposed between the dielectric layer and the dielectric layer.

また、本発明の請求項7に記載の多層配線基板は、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の発明において、上記積層型電子部品の上記他の側面と上記多層配線基板の上記誘電体層との間にはセラミック粉末が介在していること特徴とするものである。   A multilayer wiring board according to claim 7 of the present invention is the invention according to any one of claims 1 to 5, wherein the other side surface of the multilayer electronic component and the multilayer wiring board are Ceramic powder is interposed between the dielectric layers.

また、本発明の請求項8に記載の多層配線基板は、請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の発明において、上記積層型電子部品は、複数の誘電体セラミック層を積層してなる積層体を素体とする積層型セラミック電子部品であること特徴とするものである。   The multilayer wiring board according to claim 8 of the present invention is the multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 7, wherein the multilayer electronic component includes a plurality of dielectric ceramic layers. It is a multilayer ceramic electronic component having a laminated body as a base body.

また、本発明の請求項9に記載の多層配線基板は、請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の発明において、上記多層配線基板は、複数の誘電体セラミック層を積層してなる積層体を素体とするセラミック多層基板であること特徴とするものである。   The multilayer wiring board according to claim 9 of the present invention is the multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 8, wherein the multilayer wiring board is formed by laminating a plurality of dielectric ceramic layers. It is a ceramic multilayer substrate which uses the laminated body as a base body.

また、本発明の請求項10に記載の多層配線基板は、請求項9に記載の発明において、上記誘電体セラミック層は、低温焼結セラミック層であること特徴とするものである。   According to a tenth aspect of the present invention, in the multilayer wiring substrate according to the ninth aspect, the dielectric ceramic layer is a low-temperature sintered ceramic layer.

また、本発明の請求項11に記載の積層型電子部品は、複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、上記誘電体層の間に介在する内部電極と、上記内部電極と接続するように上記素体の少なくとも一つの側面に設けられた外部端子電極と、を有し、上記素体の他の側面と上記内部電極との間には実質的にマージンが無いこと特徴とするものである。   A multilayer electronic component according to an eleventh aspect of the present invention includes an element body made of a laminate in which a plurality of dielectric layers are laminated, an internal electrode interposed between the dielectric layers, and the internal electrode. An external terminal electrode provided on at least one side surface of the element body so as to be connected to the element body, and there is substantially no margin between the other side surface of the element body and the internal electrode. It is what.

本発明の請求項1〜請求項11に記載の発明によれば、高性能でしかも高い信頼性を有する積層型電子部品を内蔵した多層配線基板及び積層型電子部品を提供することができる。   According to the first to eleventh aspects of the present invention, it is possible to provide a multilayer wiring board and a multilayer electronic component incorporating a multilayer electronic component having high performance and high reliability.

以下、図1〜図10に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。尚、図1の(a)〜(c)はそれぞれ本発明の多層配線基板の一実施形態を示す図で、(a)はその全体を示す断面図、(b)は(a)の要部を拡大して示す断面図、(c)は(b)の平面図、図2の(a)、(b)はそれぞれ図1に示す積層型電子部品を取り出して示す図で、(a)はその斜視図、(b)はその要部を示す平面図、図3の(a)は図1に示す他の種類の積層型電子部品の要部を示す平面図、同図の(b)は同図の(a)に示す積層型電子部品の従来品の要部を示す平面図、図4は図2に示す積層型電子部品を製造する工程を示す斜視図、図5の(a)〜(c)はそれぞれ図1に示す多層配線基板の製造工程の要部を示す工程図で、(a)は誘電体グリーンシートを示す断面図、(b)は(a)に示す誘電体グリーンシートに積層型電子部品を載置する状態を示す断面図、(c)は(b)に示す誘電体グリーンシートと他の誘電体グリーンシートを積層する状態を示す断面図、図6の(a)〜(c)はそれぞれ図5に示す製造工程に続く工程図で、(a)は焼成前の圧着体を示す断面図、(b)は焼成後の多層配線基板を示す断面図、(c)は(b)に示す多層配線基板に積層型電子部品を搭載した状態を示す断面図、図7の(a)〜(c)はそれぞれ本発明の多層配線基板の他の実施形態を示す図で、(a)はその全体を示す断面図、(b)は(a)の要部を拡大して示す断面図、(c)は(b)を更に拡大して示す要部断面図、図8の(a)、(b)はそれぞれ図7に示す多層配線基板の製造工程の要部を示す工程図で、(a)は積層型電子部品を内蔵させる直前の状態を示す断面図、(b)は積層型電子部品を内蔵した状態を示す断面図、図9は本発明の多層配線基板の更に他の実施形態の要部を示す断面図、図10は本発明の多層配線基板の更に他の実施形態の要部を示す断面図である。   Hereinafter, the present invention will be described based on the embodiment shown in FIGS. 1A to 1C are views showing an embodiment of a multilayer wiring board according to the present invention, respectively, FIG. 1A is a sectional view showing the whole, and FIG. 1B is a main part of FIG. (C) is a plan view of (b), (a) and (b) of FIG. 2 are views showing the multilayer electronic component shown in FIG. FIG. 3B is a plan view showing the main part thereof, FIG. 3A is a plan view showing the main part of another type of multilayer electronic component shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 4 is a plan view showing a main part of a conventional multilayer electronic component shown in FIG. 4A, FIG. 4 is a perspective view showing a process of manufacturing the multilayer electronic component shown in FIG. 2, and FIG. (C) is process drawing which shows the principal part of the manufacturing process of the multilayer wiring board shown in FIG. 1, respectively, (a) is sectional drawing which shows a dielectric material green sheet, (b) is the dielectric material green sheet shown in (a). FIG. 6C is a cross-sectional view showing a state in which the multilayer electronic component is placed, FIG. 6C is a cross-sectional view showing a state in which the dielectric green sheet shown in FIG. (C) is a process drawing following the manufacturing process shown in FIG. 5, (a) is a cross-sectional view showing the pressure-bonded body before firing, (b) is a cross-sectional view showing the multilayer wiring board after firing, and (c) is a cross-sectional view. Sectional drawing which shows the state which mounted the multilayer electronic component in the multilayer wiring board shown to (b), (a)-(c) of FIG. 7 is a figure which shows other embodiment of the multilayer wiring board of this invention, (A) is a cross-sectional view showing the whole, (b) is a cross-sectional view showing an enlarged main part of (a), (c) is a main part cross-sectional view showing further enlarged (b), FIG. (A), (b) is process drawing which shows the principal part of the manufacturing process of the multilayer wiring board shown in FIG. 7, respectively, (a) incorporates a multilayer electronic component. FIG. 9B is a sectional view showing a state in which a multilayer electronic component is built in, FIG. 9 is a sectional view showing a main part of still another embodiment of the multilayer wiring board of the present invention, and FIG. These are sectional drawings which show the principal part of further another embodiment of the multilayer wiring board of the present invention.

第1の実施形態
本実施形態の多層配線基板10は、例えば図1の(a)に示すように、複数の誘電体層11Aが積層された積層体11からなる素体と、積層体11内の上下の誘電体層11Aの界面や誘電体層11Aを貫通するビアホールに形成された配線パターン12と、上下の誘電体層11Aの界面に設けられ且つ配線パターン12と電気的に接続された積層型電子部品13と、を備えて構成されている。また、積層体11の両主面(上下両面)にはそれぞれ表面電極14、14が形成されている。
First Embodiment A multilayer wiring board 10 according to the present embodiment includes, for example, as shown in FIG. 1A, an element body composed of a laminate 11 in which a plurality of dielectric layers 11A are laminated, A wiring pattern 12 formed in an interface between the upper and lower dielectric layers 11A and a via hole penetrating the dielectric layer 11A, and a laminate provided at the interface between the upper and lower dielectric layers 11A and electrically connected to the wiring pattern 12 And a mold electronic component 13. Further, surface electrodes 14 and 14 are formed on both main surfaces (upper and lower surfaces) of the laminate 11, respectively.

積層体11の上面には表面電極14を介して複数の表面実装部品20が実装されている。表面実装部品20としては、シリコン半導体素子、ガリウム砒素半導体素子等の能動素子やコンデンサ、インダクタ、抵抗等の受動素子等が半田や導電性樹脂を介して、あるいはAu、Al、Cu等のボンディングワイヤーを介して積層体11上面の表面電極14に電気的に接続されている。積層型電子部品13と表面実装部品20とは、必要に応じて表面電極14及び配線パターン12を介して互いに電気的に接続されている。この多層配線基板10は下面の表面電極14を介してマザーボード等の実装基板に実装することができる。   A plurality of surface mount components 20 are mounted on the upper surface of the multilayer body 11 via the surface electrodes 14. As the surface mount component 20, active elements such as silicon semiconductor elements and gallium arsenide semiconductor elements, passive elements such as capacitors, inductors, resistors, etc. are bonded via solder or conductive resin, or bonding wires such as Au, Al, Cu, etc. Is electrically connected to the surface electrode 14 on the upper surface of the laminate 11. The multilayer electronic component 13 and the surface mount component 20 are electrically connected to each other via the surface electrode 14 and the wiring pattern 12 as necessary. The multilayer wiring board 10 can be mounted on a mounting board such as a mother board via the lower surface electrode 14.

而して、積層体11を構成する誘電体層11Aの材料は、特に制限されないが、例えばセラミック材料または熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等の硬化性樹脂材料によって形成することができる。配線パターン12を高密度化するには、誘電体層11Aの材料としてはセラミック材料を好ましく用いることができる。   Thus, the material of the dielectric layer 11A constituting the multilayer body 11 is not particularly limited, but can be formed of, for example, a ceramic material or a curable resin material such as a thermosetting resin or a photocurable resin. In order to increase the density of the wiring pattern 12, a ceramic material can be preferably used as the material of the dielectric layer 11A.

また、セラミック材料としては、例えば低温焼結セラミック(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramic)材料を使用することができる。低温焼結セラミック材料とは、1050℃以下の温度で焼結可能であって、比抵抗の小さな銀や銅等と同時焼成が可能なセラミック材料である。低温焼結セラミック材料としては、具体的には、アルミナやジルコニア、マグネシア、フォルステライト等のセラミック粉末にホウ珪酸系ガラスを混合してなるガラス複合系LTCC材料、ZnO−MgO−Al−SiO系の結晶化ガラスを用いた結晶化ガラス系LTCC材料、BaO−Al−SiO系セラミック粉末やAl−CaO−SiO−MgO−B系セラミック粉末等を用いた非ガラス系LTCC材料等が挙げられる。誘電体層11Aの材料として低温焼結セラミック材料を用いることによって、配線パターン12及び表面電極14共にAgまたはCu等の低抵抗で低融点をもつ金属を用いることができ、積層体11と配線パターン12とを1050℃以下の低温で同時焼成することができる。 As the ceramic material, for example, a low temperature co-fired ceramic (LTCC) material can be used. The low-temperature sintered ceramic material is a ceramic material that can be sintered at a temperature of 1050 ° C. or less and can be simultaneously fired with silver, copper, or the like having a small specific resistance. Specifically, as the low-temperature sintered ceramic material, a glass composite LTCC material obtained by mixing borosilicate glass with ceramic powder such as alumina, zirconia, magnesia, and forsterite, ZnO—MgO—Al 2 O 3 — Crystallized glass-based LTCC material using crystallized glass of SiO 2 , BaO—Al 2 O 3 —SiO 2 ceramic powder, Al 2 O 3 —CaO—SiO 2 —MgO—B 2 O 3 ceramic powder, etc. Non-glass type LTCC materials using By using a low-temperature sintered ceramic material as the material of the dielectric layer 11A, a metal having a low resistance and a low melting point, such as Ag or Cu, can be used for both the wiring pattern 12 and the surface electrode 14. 12 can be co-fired at a low temperature of 1050 ° C. or lower.

また、セラミック材料として、高温焼結セラミック(HTCC:High Temperature Co-fired Ceramic)材料を使用することもできる。高温焼結セラミック材料としては、例えば、アルミナ、窒化アルミニウム、ムライト、その他の材料にガラスなどの焼結助剤を加え、1100℃以上で焼結されたものが用いられる。このとき、配線パターン12としては、モリブデン、白金、パラジウム、タングステン、ニッケル及びこれらを含む合金から選択される金属を使用する。   In addition, a high temperature co-fired ceramic (HTCC) material can be used as the ceramic material. Examples of the high-temperature sintered ceramic material include alumina, aluminum nitride, mullite, and other materials added with a sintering aid such as glass and sintered at 1100 ° C. or higher. At this time, as the wiring pattern 12, a metal selected from molybdenum, platinum, palladium, tungsten, nickel, and an alloy containing these is used.

本実施形態では誘電体層11Aが低温焼結セラミック材料によって形成されている場合について説明する。そこで、以下では誘電体層11Aは、誘電体セラミック層11Aとして説明する。本実施形態における積層体11は、図1の(a)に示すように、その内部に形成された配線パターン12と、その上下両面に形成された表面電極14とを有している。配線パターン12は、上下の誘電体セラミック層11Aの界面に沿って所定のパターンで形成された面内導体12Aと、上下の面内導体12Aを接続するように所定のパターンで配置して形成されたビアホール導体12Bとから形成されている。   In the present embodiment, a case where the dielectric layer 11A is formed of a low-temperature sintered ceramic material will be described. Therefore, hereinafter, the dielectric layer 11A will be described as the dielectric ceramic layer 11A. The laminated body 11 in this embodiment has the wiring pattern 12 formed in the inside, and the surface electrode 14 formed in the upper and lower surfaces as shown to (a) of FIG. The wiring pattern 12 is formed by arranging in a predetermined pattern so as to connect the in-plane conductor 12A formed in a predetermined pattern along the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and the upper and lower in-plane conductors 12A. And via-hole conductor 12B.

本実施形態の積層型電子部品13は、図2の(a)、(b)に示すように、複数の誘電体層13Aが積層された積層体13Bからなる素体と、誘電体層13Aの間に介在する内部電極13Cと、内部電極13Cと接続するように積層体13Bの両側面(両端面)にそれぞれ設けられた外部端子電極13Dと、を有している。以下では、外部端子電極13Dが設けられた積層体13Bの側面を接続面とし、また、外部端子電極13Dが設けられていない他の側面を全て非接続面として説明する。尚、この外部端子電極13Dは、積層体13Bの接続面から上下両面に折り返して形成されているが、折り返し幅は小さい方が好ましい。また、接続面に露出した内部電極13Cの一部を外部端子電極としても良い。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the multilayer electronic component 13 of the present embodiment includes an element body composed of a multilayer body 13B in which a plurality of dielectric layers 13A are laminated, and a dielectric layer 13A. It has internal electrodes 13C interposed therebetween, and external terminal electrodes 13D provided on both side surfaces (both end surfaces) of the laminated body 13B so as to be connected to the internal electrodes 13C. Hereinafter, the side surface of the multilayer body 13B provided with the external terminal electrode 13D will be described as a connection surface, and all other side surfaces not provided with the external terminal electrode 13D will be described as non-connection surfaces. The external terminal electrode 13D is formed to be folded back and forth from the connection surface of the multilayer body 13B, but it is preferable that the folded width is small. Further, a part of the internal electrode 13C exposed on the connection surface may be used as the external terminal electrode.

積層型電子部品13としては、特に制限されないが、例えばチタン酸バリウムやフェライト等の1200℃以上で焼成されたセラミック焼結体を素体としたもの、例えばコンデンサ、インダクタ、フィルタ、バラン、カップラ、共振器等の積層型電子部品が挙げられる。これらの積層型電子部品13は、目的に応じて単数あるいは複数適宜選択して組み合わせて用いることができる。積層型電子部品13の誘電体層13Aは、セラミック材料によって形成されているため、以下では誘電体層13Aを誘電体セラミック層13Aとして説明する。   The multilayer electronic component 13 is not particularly limited, but for example, a ceramic sintered body fired at 1200 ° C. or higher such as barium titanate or ferrite, for example, a capacitor, an inductor, a filter, a balun, a coupler, Examples thereof include multilayer electronic components such as resonators. These multilayer electronic components 13 can be used by appropriately selecting one or a plurality according to the purpose and combining them. Since the dielectric layer 13A of the multilayer electronic component 13 is formed of a ceramic material, the dielectric layer 13A will be described as a dielectric ceramic layer 13A below.

本実施形態における積層型電子部品13の特徴は内部電極13Cの周囲にマージン部が無いことである。即ち、内部電極13Cは、誘電体セラミック層13Aの積層体11Bの一方の接続面側から他方の接続面側の近傍まで延設されている。内部電極13Cの幅は、誘電体層13Bの幅と実質的に同一寸法に形成され、内部電極13Cの両側縁と誘電体セラミック層13Aの両側縁との間には実質的にサイドマージン部が無い。このようにサイドマージン部を無くすことによって内部電極13Cの面積を従来よりも大幅に拡張することができるため、積層型電子部品13の高性能化、特に高容量化を促進し、併せて小型化、低背化を促進することができる。積層型電子部品13の小型化、特に低背化により、多層配線基板10内に積層型電子部品13を内蔵させても基板表面に凹凸が生じ難くなり、表面実装部品20の表面実装性を高めることができる。また、サイドマージン部を無くすことで、内部電極13Cの印刷ズレや個々の部品へのカットズレ、積みズレの影響を一切排除することができるため、加工性が向上し、延いては歩留まりを向上させることができる。   The feature of the multilayer electronic component 13 in this embodiment is that there is no margin around the internal electrode 13C. That is, the internal electrode 13C extends from one connection surface side of the multilayer body 11B of the dielectric ceramic layer 13A to the vicinity of the other connection surface side. The width of the internal electrode 13C is formed to be substantially the same as the width of the dielectric layer 13B, and there is substantially a side margin between the side edges of the internal electrode 13C and the side edges of the dielectric ceramic layer 13A. No. Since the area of the internal electrode 13C can be greatly expanded as compared with the conventional case by eliminating the side margin portion in this way, the performance of the multilayer electronic component 13 is promoted, in particular, the increase in capacity, and the size is reduced. , Can promote low profile. Due to the downsizing of the multilayer electronic component 13, particularly the low profile, even if the multilayer electronic component 13 is built in the multilayer wiring substrate 10, unevenness is hardly generated on the substrate surface, and the surface mountability of the surface mount component 20 is improved. be able to. In addition, by eliminating the side margin portion, it is possible to eliminate the influence of printing misalignment of the internal electrode 13C, cut misalignment to individual parts, and misalignment, thereby improving workability and eventually improving the yield. be able to.

また、図2の(a)には積層体13B内の最上層の内部電極13C上には誘電体セラミック層13Aが存在しているが、この誘電体セラミック層13Aは従来のようにマージン部を大きく取る必要はなく、マージン部を極力小さく(薄く)することができ、必要に応じて最上層の誘電体セラミック層13Aは無くして内部電極13Cを露出させても良い。最下層の内部電極13Cの下側にある誘電体層13Cについて同様に形成することができる。上下のマージン部を小さく、あるいは無くすことによって、サイドマージン部の無いことと相俟って積層型電子部品13の更なる低背化を実現することができる。   In FIG. 2A, the dielectric ceramic layer 13A is present on the uppermost internal electrode 13C in the multilayer body 13B. The dielectric ceramic layer 13A has a margin portion as in the prior art. It is not necessary to make it large, the margin can be made as small (thin) as possible, and if necessary, the uppermost dielectric ceramic layer 13A may be omitted to expose the internal electrode 13C. The dielectric layer 13 </ b> C below the lowermost internal electrode 13 </ b> C can be similarly formed. By making the upper and lower margin portions small or eliminated, it is possible to realize a further reduction in the height of the multilayer electronic component 13 in combination with the absence of the side margin portions.

サイドマージン部及び上下のマージン部が無く、内部電極13Cが積層体13Bの全ての非接続面において露出していても、積層型電子部品13は多層配線基板10に内蔵されて、その非接続面が全て多層配線基板10の誘電体セラミック層11Aと対向し、密着しているため、誘電体セラミック層11Aが積層型電子部品13のマージン部を肩代わりして、誘電体セラミック層13Aと内部電極13Cとの層間剥離を防止することができ、更に積層型電子部品13の湿中での信頼性を確保することができる。   Even if the side margin portion and the upper and lower margin portions are not present and the internal electrode 13C is exposed on all the non-connection surfaces of the multilayer body 13B, the multilayer electronic component 13 is incorporated in the multilayer wiring board 10 and the non-connection surface thereof. Are opposed to and in close contact with the dielectric ceramic layer 11A of the multilayer wiring board 10, so that the dielectric ceramic layer 11A shoulders the margin of the multilayer electronic component 13 and the dielectric ceramic layer 13A and the internal electrode 13C. And the reliability of the multilayer electronic component 13 in the humidity can be ensured.

このように内部電極13Cの周囲のマージン部を無くすことによって、内部電極13Cの面積を拡大することができると共に内部電極13Cの積層数を増やすことができるため、積層型電子部品13が積層コンデンサの場合には、従来の積層コンデンサと同一の大きさであっても容量を格段に大きくすることができ、また、従来の積層コンデンサと同一容量であれば格段に小型化、低背化することができる。また、図3の(a)に示すように積層型電子部品13が積層インダクタの場合には、同図の(b)に示す従来の積層インダクタと同一の大きさであっても誘電体セラミック層13A’上の内部電極13C’の巻数を増やことができると共に内部電極13C’の積層数を増やすことができ、インダクタンス値を格段に高めることができる。また、従来の積層インダクタと同一インダクタンス値であれば、積層インダクタを格段に小型化、低背化することができる。従って、本実施形態の積層型電子部品13は、従来と比較して格段に小型化、低背化することができ、延いては多層配線基板10の平坦性を格段に高めることができる。   By eliminating the margin around the internal electrode 13C in this way, the area of the internal electrode 13C can be increased and the number of stacked internal electrodes 13C can be increased. Therefore, the multilayer electronic component 13 is formed of a multilayer capacitor. In some cases, the capacitance can be greatly increased even if it is the same size as the conventional multilayer capacitor, and if the capacitance is the same as that of the conventional multilayer capacitor, it can be significantly reduced in size and height. it can. Further, when the multilayer electronic component 13 is a multilayer inductor as shown in FIG. 3A, the dielectric ceramic layer has the same size as the conventional multilayer inductor shown in FIG. The number of turns of the internal electrode 13C ′ on 13A ′ can be increased, the number of stacked internal electrodes 13C ′ can be increased, and the inductance value can be significantly increased. Further, if the inductance value is the same as that of the conventional multilayer inductor, the multilayer inductor can be remarkably reduced in size and height. Therefore, the multilayer electronic component 13 of the present embodiment can be remarkably reduced in size and height as compared with the conventional one, and the flatness of the multilayer wiring board 10 can be significantly improved.

積層体11は、図1の(a)に示すように、その内部に形成された配線パターン12と、その上下両面に形成された表面電極14、14とを有している。配線パターン12は、上下の誘電体セラミック層11Aの界面に沿って所定のパターンで形成された面内導体12Aと、上下の面内導体12Aを接続するように所定のパターンで誘電体セラミック層11Aをその積層方向に貫通させて、例えば円柱状に形成されたビアホール導体12Bとから構成されている。   As shown in FIG. 1A, the multilayer body 11 has a wiring pattern 12 formed therein, and surface electrodes 14 and 14 formed on both upper and lower surfaces thereof. The wiring pattern 12 has a predetermined pattern so as to connect the in-plane conductors 12A formed in a predetermined pattern along the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and the upper and lower in-plane conductors 12A. For example, a via hole conductor 12B formed in a columnar shape.

積層型電子部品13は、図1の(a)に示すように、上下の誘電体セラミック層11A、11Aの界面に配置され、その外部端子電極13Dがビアホール導体12Bの上下の端面のうち、少なくともいずれか一方の端面に直接的に接続されている。積層型電子部品13はビアホール導体12Bに対して複数の接続パターンで接続されている。即ち、本実施形態では、積層型電子部品13は、同図の(a)において○で囲んだ部分に示すように、X、Y、Zの3つの接続パターンでビアホール導体12Bに接続されている。   As shown in FIG. 1A, the multilayer electronic component 13 is disposed at the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and 11A, and the external terminal electrode 13D is at least of the upper and lower end faces of the via-hole conductor 12B. It is directly connected to one of the end faces. The multilayer electronic component 13 is connected to the via-hole conductor 12B with a plurality of connection patterns. That is, in the present embodiment, the multilayer electronic component 13 is connected to the via-hole conductor 12B with three connection patterns of X, Y, and Z as shown by the circled portion in FIG. .

まず、Xの接続パターンについて、図1の(b)、(c)をも参照しながら説明する。積層型電子部品13の左右一対の外部端子電極13Dは、図1の(a)〜(c)に示すように、積層型電子部品13の下面に接触する誘電体セラミック層11Aに形成された左右一対のビアホール導体12B、12Bに接続されている。これら一対のビアホール導体12B、12Bの上端面にはそれぞれ接続状態で段部12C、12Cが互いに対向して形成され、これらの段部12C、12Cに対して外部端子電極13D、13Dが密着して接続されている。段部12Cは、ビアホール導体12Bの上端面の半分を切り欠いたように形成されて、断面形状がL字状を呈している。従って、積層型電子部品13の外部端子電極13D、13Dは、それぞれの端部の略下半分が互いに対向する段部12C、12Cの垂直壁面と底面との二面を介してそれぞれのビアホール導体12B、12Bに接続されている。即ち、矩形状の積層型電子部品13は、その端面及び底面の少なくとも二面でビアホール導体12Bに接続されている。本実施形態の積層型電子部品13は、積層セラミックコンデンサとして形成されている。   First, the X connection pattern will be described with reference to FIGS. 1B and 1C. A pair of left and right external terminal electrodes 13D of the multilayer electronic component 13 are formed on the left and right dielectric ceramic layers 11A that are in contact with the lower surface of the multilayer electronic component 13, as shown in FIGS. The pair of via-hole conductors 12B and 12B are connected. Step portions 12C and 12C are formed on the upper end surfaces of the pair of via-hole conductors 12B and 12B so as to face each other, and the external terminal electrodes 13D and 13D are in close contact with the step portions 12C and 12C. It is connected. The step portion 12C is formed so as to cut out half of the upper end surface of the via-hole conductor 12B, and has a L-shaped cross section. Accordingly, the external terminal electrodes 13D and 13D of the multilayer electronic component 13 are connected to the via hole conductors 12B via the two surfaces of the step wall portions 12C and 12C, which are substantially opposite to each other at the lower end portions of the stepped portions 12C and 12C. , 12B. That is, the rectangular multilayer electronic component 13 is connected to the via-hole conductor 12B on at least two sides of the end surface and the bottom surface. The multilayer electronic component 13 of this embodiment is formed as a multilayer ceramic capacitor.

また、Yの接続パターンでは、積層型電子部品13は、一方(同図では右方)の外部端子電極13Dが下側の誘電体セラミック層11Aに形成されたビアホール導体12Bに段部12Cを形成して接続され、他方(同図では左方)の外部端子電極13Dが上側の誘電体セラミック層11Aに形成されたビアホール導体12B段部12Cを形成して接続されている。右方のビアホール導体12Bは、図1の(b)に示す右方のビアホール導体12Bと同一形態で形成されている。左方のビアホール導体12Bは、その段部12Cがビアホール導体12Bの下端面に形成されている。左右のビアホール導体12B、12Bの段部12C、12Cは、それぞれ積層型電子部品13に対して180°回転した位置関係にある。このような接続パターンの場合、それぞれの外部端子電極13Dに接続されるビアホール導体12Bの距離が離れるため、ビアホール導体12Bの狭ピッチ化、つまりは積層型電子部品13の小型化に対応することができると共に、各ビアホール導体12B、12B間のアイソレーションを十分に確保することができる。   In the Y connection pattern, the multilayer electronic component 13 has a stepped portion 12C formed in a via-hole conductor 12B in which one external terminal electrode 13D (on the right in the figure) is formed in the lower dielectric ceramic layer 11A. The other external terminal electrode 13D (left side in the figure) is connected by forming a via hole conductor 12B step 12C formed in the upper dielectric ceramic layer 11A. The right via-hole conductor 12B is formed in the same form as the right via-hole conductor 12B shown in FIG. The left via hole conductor 12B has a step 12C formed on the lower end surface of the via hole conductor 12B. The step portions 12C and 12C of the left and right via-hole conductors 12B and 12B are in a positional relationship rotated by 180 ° with respect to the multilayer electronic component 13 respectively. In the case of such a connection pattern, the distance between the via hole conductors 12B connected to the respective external terminal electrodes 13D is increased, so that the pitch of the via hole conductors 12B can be reduced, that is, the multilayer electronic component 13 can be reduced in size. In addition, sufficient isolation between the via-hole conductors 12B and 12B can be ensured.

また、Zの接続パターンでは、積層型電子部品13は、一方(同図では右方)の外部端子電極13Dが下側の誘電体セラミック層11Aに形成されたビアホール導体12Bに段部12Cを形成して接続され、他方(同図では左方)の外部端子電極13Dが上下両側の誘電体セラミック層11A、11Aにそれぞれ連続して形成されたビアホール導体12B、12Bの上下の段部12C、12Cに挟持された状態で接続されている。右方のビアホール導体12Bは、Xの接続パターンにおける右方のビアホール導体12Bと同一形態で形成されている。左方のビアホール導体12B、12Bのうち、下側のビアホール導体12Bは、Xの接続パターンにおける左方のビアホール導体12Bと同一の形態で形成され、上側のビアホール導体12Cは、Yの接続パターンの左方のビアホール導体12Cと同一の形態で形成されている。このような接続パターンの場合、外部端子電極13Dとビアホール導体12Bとの接続信頼性を更に向上させることができる。   In the Z connection pattern, the multilayer electronic component 13 has a stepped portion 12C formed in the via-hole conductor 12B in which one external terminal electrode 13D (on the right in the figure) is formed in the lower dielectric ceramic layer 11A. The upper and lower stepped portions 12C and 12C of the via-hole conductors 12B and 12B in which the other external terminal electrode 13D is continuously formed on the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and 11A. It is connected in a state of being sandwiched between. The right via-hole conductor 12B is formed in the same form as the right via-hole conductor 12B in the X connection pattern. Of the left via hole conductors 12B and 12B, the lower via hole conductor 12B is formed in the same form as the left via hole conductor 12B in the X connection pattern, and the upper via hole conductor 12C has the Y connection pattern. It is formed in the same form as the left via-hole conductor 12C. In the case of such a connection pattern, the connection reliability between the external terminal electrode 13D and the via-hole conductor 12B can be further improved.

積層型電子部品13が接続されるビアホール導体12Bは、図1の(a)〜(c)に示す形態に限らず、断面形状が長円形で外部端子電極13Dの幅方向全長に渡って形成されたものや、図1の(c)に示すものよりも断面積が小さく複数に分けて形成されたものであっても良い。   The via-hole conductor 12B to which the multilayer electronic component 13 is connected is not limited to the form shown in FIGS. 1A to 1C, and is formed over the entire length in the width direction of the external terminal electrode 13D with an oval cross-sectional shape. Or may be formed by dividing into a plurality of sections smaller than those shown in FIG.

積層型電子部品13は、図1の(a)に示す場合には、多層配線基板10の同一誘電体セラミック層11A上に並べて複数配置されているが、積層型電子部品13は、必要に応じて多層配線基板10の上下の誘電体セラミック層11A、11Aの界面のいずれの場所にも配置することができる。また、積層型電子部品13は、上下の異なる複数の界面に渡って複数積層して配置しても良い。それぞれの複数の積層型電子部品13は、目的に応じて、ビアホール導体12Bの段部12Cを介して互いに直列及び/または並列に接続して、多層配線基板10の多機能化、高性能化を実現することができる。   In the case shown in FIG. 1A, a plurality of multilayer electronic components 13 are arranged side by side on the same dielectric ceramic layer 11A of the multilayer wiring board 10, but the multilayer electronic components 13 may be arranged as needed. Thus, it can be arranged at any location on the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and 11A of the multilayer wiring board 10. Further, a plurality of stacked electronic components 13 may be disposed so as to be stacked over a plurality of different upper and lower interfaces. Each of the plurality of multilayer electronic components 13 is connected in series and / or in parallel via the stepped portion 12C of the via-hole conductor 12B according to the purpose, so that the multi-layer wiring board 10 can be multifunctional and high performance. Can be realized.

また、表面実装部品20は、図1の(a)に示すように積層型電子部品13と適宜組み合わせて用いられる。積層型電子部品13と表面実装部品20とは必要に応じて表面電極14、配線パターン12を介して互いに接続されている。表面実装部品20が集積回路等の電源ノイズの影響を受けやすい部品である場合には、表面実装部品20の電源端子及び接地端子の直下近傍でコンデンサを積層型電子部品13として接続することにより、集積回路等の表面実装部品20の端子配置の制約を受けることなく、また、別途マザーボードに積層型電子部品(コンデンサ)を実装することなく、電源電圧の安定供給及び出力の発振防止など、高効率でノイズ除去を行うことができる。   The surface mount component 20 is used in combination with the multilayer electronic component 13 as shown in FIG. The multilayer electronic component 13 and the surface mount component 20 are connected to each other via the surface electrode 14 and the wiring pattern 12 as necessary. When the surface-mounted component 20 is a component that is easily affected by power supply noise such as an integrated circuit, by connecting a capacitor as the multilayer electronic component 13 in the vicinity immediately below the power supply terminal and the ground terminal of the surface-mounted component 20, High efficiency such as stable supply of power supply voltage and prevention of output oscillation without being restricted by terminal arrangement of surface mount component 20 such as an integrated circuit and without separately mounting multilayer electronic components (capacitors) on the motherboard Noise removal.

次いで、図4〜図6を参照しながら多層配線基板10の製造方法について説明する。
本実施形態では無収縮工法を用いて多層配線基板10を作製する場合について説明する。無収縮工法とは、積層体11としてセラミック材料を用いた場合に多層配線基板の焼成前後で多層配線基板の平面方向の寸法が実質的に変化しない工法のことを云う。
Next, a method for manufacturing the multilayer wiring board 10 will be described with reference to FIGS.
In the present embodiment, a case where the multilayer wiring board 10 is manufactured using a non-shrinkage method will be described. The non-shrinking method refers to a method in which when a ceramic material is used as the laminate 11, the dimension in the plane direction of the multilayer wiring board does not substantially change before and after firing the multilayer wiring board.

まず、積層型電子部品13として積層セラミックコンデンサの製造方法について説明した後、多層配線基板10の製造方法について説明する。以下では積層型電子部品13を積層セラミックコンデンサ13として説明する。   First, a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor as the multilayer electronic component 13 will be described, and then a method for manufacturing the multilayer wiring board 10 will be described. Hereinafter, the multilayer electronic component 13 will be described as the multilayer ceramic capacitor 13.

(1)積層セラミックコンデンサの作製
A)ドクターブレード法等を用いて図4に示すように積層セラミックコンデンサ13に用いられる誘電体グリーンシート113Aを所定枚数作製した後、スクリーン印刷法等を用いて例えばPdを主成分とする導電性ペーストを誘電体グリーンシート113Aに印刷して内部電極部113Cを形成する。この際、同図に示すように誘電体グリーンシート113Aの一端から他端の近傍までその全幅に渡って導電性ペーストを印刷し、実質的にサイドマージンが無い状態でNi、Cu等で内部電極部113Cを形成する。内部電極部113Cを有する誘電体グリーンシート113Aを所定枚数作製する。
(1) Production of Multilayer Ceramic Capacitor A) After producing a predetermined number of dielectric green sheets 113A used for the multilayer ceramic capacitor 13 as shown in FIG. 4 using a doctor blade method or the like, a screen printing method or the like is used. A conductive paste containing Pd as a main component is printed on the dielectric green sheet 113A to form the internal electrode portion 113C. At this time, as shown in the figure, a conductive paste is printed over the entire width from one end of the dielectric green sheet 113A to the vicinity of the other end, and the internal electrode is made of Ni, Cu or the like with substantially no side margin. A portion 113C is formed. A predetermined number of dielectric green sheets 113A having internal electrode portions 113C are produced.

B)次いで、内部電極部113Cのマージンが互い違いになるように誘電体グリーンシート113Aを順次積層した後、最上層に内部電極部113Cの無い誘電体グリーンシート113Aを積層した後、これらを所定の圧力で圧着して未焼成の積層体を作製する。   B) Next, after sequentially stacking the dielectric green sheets 113A so that the margins of the internal electrode portions 113C are staggered, the dielectric green sheets 113A without the internal electrode portions 113C are stacked on the uppermost layer, and these are then transferred to a predetermined A green laminate is manufactured by pressure bonding.

C)未焼成の積層体を所定の温度で焼成して積層セラミックコンデンサの素体となる積層体13B(図2の(a)参照)を得る。この素体の両端面に外部端子電極13Dとして例えばAgを主成分とする導電性ペーストを塗布し、ポストファイアによって焼き付けて積層セラミックコンデンサ13を得る。   C) A non-fired laminated body is fired at a predetermined temperature to obtain a laminated body 13B (see FIG. 2A) that becomes an element body of the multilayer ceramic capacitor. A conductive paste mainly composed of Ag, for example, is applied to both end faces of the element body as external terminal electrodes 13D and baked by a postfire to obtain a multilayer ceramic capacitor 13.

(2)多層配線基板の作製
例えば低温焼結セラミック材料(Alをフィラーとし、ホウ珪酸ガラスを焼結助材として含むセラミック材料)を含むスラリーを用いて、誘電体グリーンシートを所定枚数作製する。また、図5の(a)、(b)に示すように積層型電子部品13を搭載するための誘電体グリーンシート111Aには所定のパターンでビアホールを形成する。これらのビアホールは、積層型電子部品13の幅寸法よりやや小さく、他の誘電体グリーンシートに形成されるビアホール導体よりも大きな直径を有する円形状の貫通孔として形成することが好ましい。これらのビアホール内に例えばAgまたはCuを主成分とする導電性ペーストを充填してビアホール導体部112Bを形成する。更に、スクリーン印刷法を用いて同種の導電性ペーストを誘電体グリーンシート111A上に所定のパターンで塗布して、表面電極部114(同図の(c)参照)を形成し、表面電極部114とビアホール導体部112Bとを適宜接続した誘電体グリーンシート111Aを作製する。その他の面内導体部112A及び/またはビアホール導体部112Bを有する誘電体グリーンシート111Aもこれと同一要領で作製する。
(2) Preparation of multilayer wiring board For example, a predetermined number of dielectric green sheets are used by using a slurry containing a low-temperature sintered ceramic material (a ceramic material containing Al 2 O 3 as a filler and borosilicate glass as a sintering aid). Make it. Further, as shown in FIGS. 5A and 5B, via holes are formed in a predetermined pattern in the dielectric green sheet 111A for mounting the multilayer electronic component 13 thereon. These via holes are preferably formed as circular through-holes that are slightly smaller than the width dimension of the multilayer electronic component 13 and have a larger diameter than via-hole conductors formed in other dielectric green sheets. These via holes are filled with, for example, a conductive paste mainly composed of Ag or Cu to form the via hole conductor portion 112B. Further, the same type of conductive paste is applied in a predetermined pattern on the dielectric green sheet 111A using a screen printing method to form a surface electrode portion 114 (see FIG. 5C). A dielectric green sheet 111A in which the via hole conductor portion 112B is appropriately connected is prepared. A dielectric green sheet 111A having other in-plane conductors 112A and / or via-hole conductors 112B is also produced in the same manner.

次いで、積層型電子部品13が配置される誘電体グリーンシート111Aの上面には、スプレー等を用いて面内導体部112Aに有機系接着剤を塗布または噴霧して有機系接着剤層(図示せず)を形成した後、図5の(b)に示すように、積層型電子部品13の外部端子電極13D、13Dを誘電体グリーンシート111Aのビアホール導体部112Bに位置合わせし、積層型電子部品13を誘電体グリーンシート111A上に搭載し、積層型電子部品13の外部端子電極13Dを、有機接着剤層を介してビアホール導体部112B上に接合、固定する。尚、有機接着剤としては、合成ゴムや合成樹脂と可塑剤を加えた混合物などを使用することができる。また、有機接着剤層の厚みは、塗布の場合には3μm以下、噴霧の場合には1μm以下が好ましい。   Next, an organic adhesive layer (not shown) is applied to the upper surface of the dielectric green sheet 111A on which the multilayer electronic component 13 is disposed by applying or spraying an organic adhesive onto the in-plane conductor portion 112A using a spray or the like. 5), the external terminal electrodes 13D and 13D of the multilayer electronic component 13 are aligned with the via-hole conductor portion 112B of the dielectric green sheet 111A, as shown in FIG. 13 is mounted on the dielectric green sheet 111A, and the external terminal electrode 13D of the multilayer electronic component 13 is bonded and fixed onto the via-hole conductor portion 112B via the organic adhesive layer. In addition, as an organic adhesive agent, the mixture etc. which added the synthetic rubber, the synthetic resin, and the plasticizer can be used. The thickness of the organic adhesive layer is preferably 3 μm or less in the case of coating and 1 μm or less in the case of spraying.

その後、図5の(c)に示すように面内導体部112A及び/またはビアホール導体部112Bを有する誘電体グリーンシート111Aと積層型電子部品13が搭載された誘電体グリーンシート111Aとを所定の順序で拘束層116上に積層し、最上層の表面電極部114を有する誘電体グリーンシート111Aを積層して、拘束層116上に未焼成の積層体111を形成する。更に、この未焼成の積層体111の上面に拘束層116を積層し、上下の拘束層116を介して未焼成の積層体111を所定の温度及び圧力で圧着して、図6の(a)に示す圧着体110を得る。拘束層116としては、未焼成の積層体111の焼結温度では焼結しない難焼結性セラミック粉末、例えばAlを主成分として含み、有機バインダを副成分として含むペーストから同図に示すようにシート状に形成されたものを用いる。 Thereafter, as shown in FIG. 5C, the dielectric green sheet 111A having the in-plane conductor portion 112A and / or the via-hole conductor portion 112B and the dielectric green sheet 111A on which the multilayer electronic component 13 is mounted are predetermined. The dielectric green sheet 111 </ b> A having the uppermost surface electrode portion 114 is laminated in order on the constraining layer 116, and the unfired laminate 111 is formed on the constraining layer 116. Further, a constraining layer 116 is laminated on the upper surface of the unfired laminated body 111, and the unfired laminated body 111 is pressure-bonded at a predetermined temperature and pressure via the upper and lower constraining layers 116. A crimped body 110 shown in FIG. As the constraining layer 116, a paste that contains a hardly sinterable ceramic powder that does not sinter at the sintering temperature of the unfired laminated body 111, for example, Al 2 O 3 as a main component and an organic binder as a subcomponent, is shown in FIG. As shown, a sheet is used.

積層型電子部品13が誘電体グリーンシート111Aのビアホール導体部112Bの所定位置に正確に配置されている場合には、図1の(b)に示すように積層型電子部品13が圧着操作によって、積層型電子部品13は、誘電体グリーンシート111A内に沈み込む際に、左右の外部電極端子13D、13Dを介して左右のビアホール導体部112B、112B上端面それぞれの内側半分ずつを均等に圧縮変形させて段部112C、112Cを形成しながら左右のビアホール導体部112B、112Bに接続される。従って、左右の外部端子電極13A、13Aは、段部112C、112Cと二面で接続される。   When the multilayer electronic component 13 is accurately arranged at a predetermined position of the via-hole conductor portion 112B of the dielectric green sheet 111A, as shown in FIG. When the multilayer electronic component 13 sinks into the dielectric green sheet 111A, the inner halves of the upper end surfaces of the left and right via-hole conductor portions 112B and 112B are evenly compressed and deformed via the left and right external electrode terminals 13D and 13D. Thus, the stepped portions 112C and 112C are formed and connected to the left and right via-hole conductor portions 112B and 112B. Accordingly, the left and right external terminal electrodes 13A and 13A are connected to the stepped portions 112C and 112C on two surfaces.

上述のように圧着体110を作製し、積層型電子部品13を内蔵させた後、図6の(a)に示す圧着体110を例えば空気雰囲気中、所定の焼成温度で焼成して、図6の(b)に示す多層配線基板10を得る。内蔵された積層型電子部品13の外部端子電極13Dとビアホール導体112Bは、焼結する際にそれぞれの金属粒子が粒成長して一体化して接続される。焼成温度としては、低温焼結セラミック材料が焼結する温度、例えば800〜1050℃の範囲が好ましい。焼成温度が800℃未満では未焼成の積層体111のセラミック成分が十分に焼結しない虞があり、1050℃を超えると配線パターン12の金属粒子が溶融して未焼成の積層体111内へ拡散する虞がある。   After the pressure-bonded body 110 is manufactured as described above and the multilayer electronic component 13 is built in, the pressure-bonded body 110 shown in FIG. 6A is fired at a predetermined firing temperature in, for example, an air atmosphere. A multilayer wiring board 10 shown in FIG. When the external terminal electrode 13D and the via-hole conductor 112B of the built-in multilayer electronic component 13 are sintered, the respective metal particles grow and are integrated and connected. The firing temperature is preferably a temperature at which the low-temperature sintered ceramic material is sintered, for example, in the range of 800 to 1050 ° C. If the firing temperature is less than 800 ° C., the ceramic component of the unfired laminate 111 may not be sufficiently sintered, and if it exceeds 1050 ° C., the metal particles of the wiring pattern 12 melt and diffuse into the unfired laminate 111. There is a risk of doing.

焼成後には、ブラスト処理や超音波洗浄処理によって上下の拘束層116を除去して、多層配線基板10を得ることができる。更に、図6の(c)に示すように、多層配線基板10の表面電極14に所定の表面実装部品20を半田等の手法で実装して最終製品を得ることができる。   After firing, the upper and lower constraining layers 116 can be removed by blasting or ultrasonic cleaning to obtain the multilayer wiring board 10. Further, as shown in FIG. 6C, a final product can be obtained by mounting a predetermined surface mounting component 20 on the surface electrode 14 of the multilayer wiring board 10 by a technique such as soldering.

以上説明したように本実施形態によれば、積層型電子部品13は、内部電極13Cの両側縁にサイドマージン部が無く、また上下のマージン部も小さいか無いため、積層型電子部品13の小型化、低背化を実現することができる。従って、多層配線基板10の複数の誘電体セラミック層11A間に積層型電子部品13を内蔵させても、多層配線基板10の上下両面の凹凸を従来と比較して格段に抑制することができ、殆ど平坦であり、表面実装部品20の表面実装性に優れた多層配線基板10を得ることができる。また、積層型電子部品13の非接続面が多層配線基板10の誘電体セラミック層11Aと対向して密着しているため、誘電体セラミック層11Aが内部電極13Cのマージン部として機能し、誘電体セラミック層13Aと内部電極13Cとの層間剥離を防止することができ、更に積層型電子部品13の湿中での信頼性を確保することができる。   As described above, according to the present embodiment, the multilayer electronic component 13 has no side margin portions on both side edges of the internal electrode 13C, and the upper and lower margin portions are small or small. And low profile can be realized. Therefore, even if the multilayer electronic component 13 is built in between the plurality of dielectric ceramic layers 11A of the multilayer wiring board 10, the unevenness on both the upper and lower surfaces of the multilayer wiring board 10 can be remarkably suppressed as compared with the conventional case. The multilayer wiring board 10 which is almost flat and excellent in surface mountability of the surface mount component 20 can be obtained. Further, since the non-connection surface of the multilayer electronic component 13 is in close contact with the dielectric ceramic layer 11A of the multilayer wiring board 10, the dielectric ceramic layer 11A functions as a margin portion of the internal electrode 13C, and the dielectric The delamination between the ceramic layer 13A and the internal electrode 13C can be prevented, and the reliability of the multilayer electronic component 13 in the humidity can be ensured.

また、本実施形態によれば、積層型電子部品13が複数層に渡って形成されたコンデンサパターンを内部電極13Cとして備えたコンデンサ内蔵部品として構成されている場合には、内部電極13Cの一層当たり面積を拡張することができると共に積層数を増やすことができ、従来のものと比較して格段に大きな容量を得ることができる。また、積層型電子部品13が内部電極13Cとしてコイルパターンを備えたインダクタ内蔵電子部品として構成されている場合には、内部電極13Cの巻数が増えると共に内部電極13Cの積層数が増えるため、従来のものと比較して格段に大きなインダクタンスを得ることができる。   Further, according to the present embodiment, when the multilayer electronic component 13 is configured as a component with a built-in capacitor having a capacitor pattern formed over a plurality of layers as the internal electrode 13C, one layer of the internal electrode 13C is hit. The area can be expanded and the number of stacked layers can be increased, and a much larger capacity can be obtained as compared with the conventional one. In addition, when the multilayer electronic component 13 is configured as an inductor built-in electronic component having a coil pattern as the internal electrode 13C, the number of turns of the internal electrode 13C increases and the number of stacked internal electrodes 13C increases. A much larger inductance can be obtained as compared with the above.

また、本実施形態によれば、多層配線基板10は、ビアホール導体12Bを含み、積層型電子部品13の外部端子電極13Dがビアホール導体12Bを介して配線パターン12に接続されており、接続状態でビアホール導体12Bには段部12Cが形成されているため、ビアホール導体12Bが断線することなく外部端子電極13Dと確実に接続され、積層型電子部品13と配線パターン12との接続信頼性を格段に高めることができる。また、積層型電子部品13は、複数の誘電体セラミック層13Aを積層してなる積層体13Bを素体とする焼結済みの積層型セラミック電子部品であり、多層配線基板10は、複数の誘電体セラミック層11Aを積層してなる積層体11を素体とするセラミック多層基板であり、しかも誘電体セラミック層11Aが積層型電子部品13を焼成する温度よりも低温で焼成する低温焼結セラミック層であるため、積層型電子部品13を多層配線基板10に内蔵させて一緒に焼成しても、誘電体セラミック層11Aと積層型電子部品13との間でそれぞれの材料成分の相互拡散を防止し、積層型電子部品13の初期の電気特性を損なうことなく積層型電子部品13を多層配線基板10に内蔵させることができる。   According to the present embodiment, the multilayer wiring board 10 includes the via-hole conductor 12B, and the external terminal electrode 13D of the multilayer electronic component 13 is connected to the wiring pattern 12 through the via-hole conductor 12B. Since the step portion 12C is formed in the via hole conductor 12B, the via hole conductor 12B is securely connected to the external terminal electrode 13D without disconnection, and the connection reliability between the multilayer electronic component 13 and the wiring pattern 12 is remarkably increased. Can be increased. The multilayer electronic component 13 is a sintered multilayer ceramic electronic component having a multilayer body 13B formed by laminating a plurality of dielectric ceramic layers 13A, and the multilayer wiring board 10 includes a plurality of dielectric ceramic components. A low-temperature sintered ceramic layer which is a ceramic multilayer substrate having a multilayer body 11 formed by laminating body ceramic layers 11A as a base, and the dielectric ceramic layer 11A is fired at a temperature lower than the temperature at which the multilayer electronic component 13 is fired. Therefore, even if the multilayer electronic component 13 is built in the multilayer wiring board 10 and fired together, mutual diffusion of the respective material components between the dielectric ceramic layer 11A and the multilayer electronic component 13 is prevented. The multilayer electronic component 13 can be incorporated in the multilayer wiring board 10 without impairing the initial electrical characteristics of the multilayer electronic component 13.

第2の実施形態
本実施形態の多層配線基板10Aは、その内部の配線パターンと積層型電子部品との接続形態が異なる以外は第1の実施形態と同様に構成されている。本実施形態の多層配線基板も第1の実施形態と同一の要領で作製することができる。そこで、以下では図7の(a)〜(c)を参照しながら第1の実施形態と同一または相当部分には同一符号を附して、本実施形態の構造上の特徴部分についてのみ説明する。
Second Embodiment A multilayer wiring board 10A of the present embodiment is configured in the same manner as in the first embodiment except that the connection pattern between the wiring pattern inside and the multilayer electronic component is different. The multilayer wiring board of this embodiment can also be produced in the same manner as in the first embodiment. Therefore, in the following, with reference to FIGS. 7A to 7C, the same or corresponding parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and only the structural features of this embodiment will be described. .

本実施形態の多層配線基板10Aは、図7の(a)に示すように、複数の誘電体セラミック層11Aが積層された積層体11を素体とし、積層体11内に積層型電子部品13が内蔵されている。本実施形態では、積層型電子部品13は、図7の(a)〜(c)に示すように、上下の誘電体セラミック層11A、11Aの界面に配置され、その外部端子電極13Dは接続導体15を介して上下の誘電体セラミック層11Aの界面に設けられた面内導体12Aに接続されている。   As shown in FIG. 7A, the multilayer wiring board 10 </ b> A of the present embodiment uses a multilayer body 11 in which a plurality of dielectric ceramic layers 11 </ b> A are stacked as a base body, and a multilayer electronic component 13 in the multilayer body 11. Is built-in. In this embodiment, as shown in FIGS. 7A to 7C, the multilayer electronic component 13 is disposed at the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and 11A, and the external terminal electrode 13D is connected to the connection conductor. 15 is connected to the in-plane conductor 12A provided at the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A.

接続導体15は、図7の(b)、(c)に示すように第1、第2接続導体15A、15Bによって形成されている。第1接続導体15Aは、同図に示すように、積層型電子部品13が配置された上下の誘電体セラミック層11A、11Aの界面に設けられた面内導体12Aから下側の誘電体セラミック層11Aと外部端子電極13Dの端面との界面に沿って下方に延び、外部端子電極13Dの下面まで達して、側面の断面形状がL字状に形成されている。第2接続導体15Bは、同図に示すように、積層型電子部品13が配置された上下の誘電体セラミック層11A、11Aの界面に設けられた面内導体12Aから上側の誘電体セラミック層11Aと外部端子電極13Dの端面との界面に沿って上方に延び、外部端子電極13Dの上面まで達して、側面の断面形状が倒L字状に形成されている。第1、第2接続導体15A、15Bの幅は、少なくとも積層型電子部品13の幅に相当する寸法に形成されていることが好ましい。   The connection conductor 15 is formed by the first and second connection conductors 15A and 15B as shown in FIGS. 7B and 7C. As shown in the figure, the first connecting conductor 15A has a lower dielectric ceramic layer from the in-plane conductor 12A provided at the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A, 11A on which the multilayer electronic component 13 is disposed. 11A and the end surface of the external terminal electrode 13D extend downward along the interface, reach the lower surface of the external terminal electrode 13D, and the cross-sectional shape of the side surface is formed in an L shape. As shown in the figure, the second connecting conductor 15B is formed from the in-plane conductor 12A provided at the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A, 11A on which the multilayer electronic component 13 is disposed, and the upper dielectric ceramic layer 11A. And the end surface of the external terminal electrode 13D extends upward, reaches the upper surface of the external terminal electrode 13D, and the cross-sectional shape of the side surface is formed in an inverted L shape. The widths of the first and second connection conductors 15 </ b> A and 15 </ b> B are preferably formed to have dimensions corresponding to at least the width of the multilayer electronic component 13.

従って、第1、第2接続導体15A、15Bは、図7の(c)に示すように外部端子電極13Dの上面端部、端面及び下面端部を連続して被覆し、その外部端子電極13Dを上下両面から掴むように断面が角張ったC字形状(以下、単に「C字形状」と称す。)を呈する接続導体15として一体化して形成され、外部端子電極13Dの三面に対して電気的に接続されている。また、第1、第2接続導体15A、15Bは、それぞれ面内導体12Aの線幅より広く形成されているため、面内導体12Aとの間で面内導体12Aの幅方向の位置ズレがあっても面内導体12Aと確実に接続され、面内導体12Aと外部端子電極13Dとを確実に接続することができる。   Accordingly, the first and second connection conductors 15A and 15B continuously cover the upper surface end, the end surface, and the lower surface end of the external terminal electrode 13D as shown in FIG. 7C, and the external terminal electrode 13D. Is integrally formed as a connection conductor 15 having a C-shape (hereinafter simply referred to as “C-shape”) having an angular cross section so that the cross section is grasped from both upper and lower surfaces, and is electrically connected to the three surfaces of the external terminal electrode 13D. It is connected to the. Further, since the first and second connection conductors 15A and 15B are formed wider than the line width of the in-plane conductor 12A, there is a positional deviation in the width direction of the in-plane conductor 12A from the in-plane conductor 12A. Even in this case, the in-plane conductor 12A is securely connected, and the in-plane conductor 12A and the external terminal electrode 13D can be reliably connected.

本実施形態の多層配線基板10Aを作製する場合には第1に実施形態と同様に無収縮工法で作製することができる。即ち、本実施形態では図8の(a)、(b)に示すように誘電体グリーンシート111Aに積層型電子部品13を搭載する前に、誘電体グリーンシート111A、111’Aに第1、第2接続導体15A、15Bとなる部分を作製すること以外は、第1に実施形態と同一要領で多層配線基板10Aを作製する。つまり、積層型電子部品13を配置する誘電体グリーンシート111Aには、図8の(a)に示すように面内導体部112Aを形成する際に第1接続導体部115Aも同時にスクリーン印刷法で一体に形成する一方、この上に積層されるグリーンシート111’Aの下面には第1接続導体部115Aと対を成す第2接続導体部115Bをスクリーン印刷法で形成する。第2接続導体部115Bには面内導体部112Aを含めても良い。また、積層型電子部品13を内蔵しない誘電体グリーンシート111Aには面内導体部112A及びビア導体部112Bを形成する。   In the case of producing the multilayer wiring board 10A of the present embodiment, it can be first produced by a non-shrinkage method as in the embodiment. That is, in this embodiment, as shown in FIGS. 8A and 8B, before the multilayer electronic component 13 is mounted on the dielectric green sheet 111A, the first and second dielectric green sheets 111A and 111′A are First, the multilayer wiring board 10A is manufactured in the same manner as the embodiment except that the portions to be the second connection conductors 15A and 15B are manufactured. In other words, on the dielectric green sheet 111A on which the multilayer electronic component 13 is arranged, the first connecting conductor portion 115A is simultaneously formed by the screen printing method when the in-plane conductor portion 112A is formed as shown in FIG. On the other hand, the second connection conductor 115B that forms a pair with the first connection conductor 115A is formed by screen printing on the lower surface of the green sheet 111′A laminated thereon. The second connecting conductor portion 115B may include an in-plane conductor portion 112A. Further, an in-plane conductor portion 112A and a via conductor portion 112B are formed on the dielectric green sheet 111A that does not incorporate the multilayer electronic component 13.

次いで、積層型電子部品13を図8の(a)に示すように有機接着剤層を介して第1接続導体部115A上に接合、固定した後、この誘電体グリーンシート111Aに対して、図8の(a)に示すように面内導体112A及び第2接続導体115Bが一体的に形成された誘電体グリーンシート111’Aを位置合わせし、所定の圧力で仮圧着して、同図の(b)に示すように上下の誘電体グリーンシート111A、111’A間の界面に積層型電子部品13を内蔵させる。後は第1の実施形態と同様に多層配線基板10Aを作製する。   Next, as shown in FIG. 8A, the multilayer electronic component 13 is bonded and fixed onto the first connecting conductor portion 115A via the organic adhesive layer, and then the dielectric green sheet 111A is attached to the dielectric green sheet 111A. As shown in FIG. 8 (a), the dielectric green sheet 111′A in which the in-plane conductor 112A and the second connection conductor 115B are integrally formed is aligned, and temporarily crimped with a predetermined pressure. As shown in FIG. 4B, the multilayer electronic component 13 is built in the interface between the upper and lower dielectric green sheets 111A and 111′A. Thereafter, the multilayer wiring board 10A is manufactured in the same manner as in the first embodiment.

本実施形態によれば、多層配線基板10Aは、配線パターン12として、上下の誘電体セラミック層11A、11Aの上方に延びる第1接続導体15Aと、第1接続導体15Aとは反対側(下方)に延びる第2接続導体15Bを含み、積層型電子部品13の外部端子電極13Dが第1接続導体15A及び第2接続導体15Bによって略C字形状に形成された接続導体15に接続されているため、多層配線基板10Aの作製時に誘電体グリーンシートを積層する時の位置ズレや焼成時の収縮による面内導体12Aと外部端子電極13D間の断線を確実に防止することができ、積層型電子部品13と多層配線基板11の配線パターン12との接続構造の信頼性を高めることができる。また、本実施形態においても第1の実施形態と同様の積層型電子部品13を内蔵しているため、本実施形態に固有の作用効果を奏する他、第1の実施形態と同様の作用効果を期することができる。   According to the present embodiment, the multilayer wiring board 10A includes, as the wiring pattern 12, the first connection conductor 15A extending above the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and 11A and the opposite side (downward) from the first connection conductor 15A. And the external terminal electrode 13D of the multilayer electronic component 13 is connected to the connection conductor 15 formed in a substantially C shape by the first connection conductor 15A and the second connection conductor 15B. In addition, it is possible to reliably prevent disconnection between the in-plane conductor 12A and the external terminal electrode 13D due to positional deviation when the dielectric green sheets are laminated during the production of the multilayer wiring board 10A and shrinkage during firing, and the multilayer electronic component The reliability of the connection structure between the wiring pattern 13 of the multilayer wiring board 11 and the wiring pattern 13 can be increased. Also, in this embodiment, the same multilayer electronic component 13 as in the first embodiment is incorporated, so that the same effects as in the first embodiment are obtained in addition to the effects that are unique to this embodiment. Can be expected.

第3の実施形態
本実施形態の多層配線基板は、その誘電体セラミック層と積層型電子部品との密着を防止する構造を有すること以外は第2の実施形態と同様に構成されているため、図9、図10を参照しながら第2の実施形態と同一または相当部分には同一符号を附して、本実施形態の構造上の特徴部分についてのみ説明する。
Third Embodiment Since the multilayer wiring board of the present embodiment is configured in the same manner as the second embodiment except that it has a structure that prevents adhesion between the dielectric ceramic layer and the multilayer electronic component, With reference to FIGS. 9 and 10, the same or corresponding parts as those of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and only the structural features of this embodiment will be described.

本実施形態では積層型電子部品13は、図9に示すように、上下の誘電体セラミック層11A、11Aの界面に配置され、その外部端子電極13Dが上下のセラミック層11A、11Aの界面に形成された面内導体12Aに接続されている。面内導体12Aと外部端子電極13Dとは、第2の実施形態と同様に接続導体15の第1、第2接続導体15A、15Bを介して接続されている。積層型電子部品13の外部端子電極13D以外の部分、即ちセラミック素体部分と誘電体セラミック層11Aとの間には空隙Vが形成され、セラミック素体部分が誘電体セラミック層11Aから離間している。この空隙Vは、焼成時に積層型電子部品13の熱膨張係数と誘電体セラミック層11Aの熱膨張係数との差に起因する積層型電子部品13のクラック等の損傷を防止すると共に、空隙Vを介してセラミック素体部分と誘電体セラミック層11A間の材料成分の相互拡散を防止する機能を有している。   In this embodiment, as shown in FIG. 9, the multilayer electronic component 13 is disposed at the interface between the upper and lower dielectric ceramic layers 11A and 11A, and its external terminal electrode 13D is formed at the interface between the upper and lower ceramic layers 11A and 11A. Connected to the in-plane conductor 12A. The in-plane conductor 12A and the external terminal electrode 13D are connected through the first and second connection conductors 15A and 15B of the connection conductor 15 as in the second embodiment. A space V is formed between the multilayer electronic component 13 other than the external terminal electrode 13D, that is, between the ceramic body portion and the dielectric ceramic layer 11A, and the ceramic body portion is separated from the dielectric ceramic layer 11A. Yes. This void V prevents damage such as cracks in the multilayer electronic component 13 due to the difference between the thermal expansion coefficient of the multilayer electronic component 13 and the thermal expansion coefficient of the dielectric ceramic layer 11A during firing. And has a function of preventing mutual diffusion of material components between the ceramic body portion and the dielectric ceramic layer 11A.

空隙Vを設けるためには、積層型電子部品13を誘電体セラミック層11A、11A間に内蔵させる時に、積層型電子部品13の外部端子電極部13D以外のセラミック素体部部分の全周面に熱分解性の樹脂からなる樹脂ペーストを密着防止材として塗布して、例えば厚み1〜30μmのペースト層を形成する。次いで、この積層型電子部品13を第2の実施形態と同様に上下の誘電体グリーンシート間に配置し、無収縮工法で焼成して多層配線基板を作製すると、熱分解性樹脂が熱分解し、あるいは燃焼にて消滅し、図9に示すように積層型電子部品13のセラミック素体部分の周囲に空隙Vが形成される。燃焼性の樹脂としては、例えばブチラール系樹脂を用いることができ、分解性の樹脂としては、例えばアクリル系樹脂を用いることができる。尚、密着防止材は、セラミック素体の全周面に形成されていることが好ましいが、その少なくとも一部に形成されていれば良い。特に、大きな圧力が加わる上下の面に形成されていることが好ましい。樹脂ペースト中には、空隙Vの形成を妨げない程度に低温焼結セラミック材料が含まれていても良い。この場合、低温焼結セラミック材料を含んだ樹脂ペーストを設けた部分は、誘電体セラミック層11Aに比べてポーラスな状態になる。   In order to provide the gap V, when the multilayer electronic component 13 is built in between the dielectric ceramic layers 11A and 11A, the entire surface of the ceramic body portion other than the external terminal electrode portion 13D of the multilayer electronic component 13 is provided. A resin paste made of a thermally decomposable resin is applied as an adhesion preventing material to form a paste layer having a thickness of 1 to 30 μm, for example. Next, when the multilayer electronic component 13 is disposed between the upper and lower dielectric green sheets as in the second embodiment and fired by a non-shrinking method to produce a multilayer wiring board, the thermally decomposable resin is thermally decomposed. Alternatively, it disappears due to combustion, and a void V is formed around the ceramic body portion of the multilayer electronic component 13 as shown in FIG. As the combustible resin, for example, a butyral resin can be used, and as the decomposable resin, for example, an acrylic resin can be used. In addition, although it is preferable that the adhesion preventing material is formed on the entire peripheral surface of the ceramic body, it may be formed on at least a part thereof. In particular, it is preferably formed on the upper and lower surfaces to which a large pressure is applied. The resin paste may contain a low-temperature sintered ceramic material to such an extent that the formation of the voids V is not hindered. In this case, the portion provided with the resin paste containing the low-temperature sintered ceramic material is in a more porous state than the dielectric ceramic layer 11A.

本実施形態によれば、積層型電子部品13のセラミック素体部分と誘電体グリーンシートの間に空隙Vができ、積層型電子部品13のセラミック素体部分と誘電体セラミック層11Aとの間に材料成分の相互拡散がなく、積層型電子部品13の特性が低下することがなく、また、焼成後の降温時には積層型電子部品13が面内導体12Aを介して収縮するため、積層型電子部品13に無理な引っ張り力が作用せず、積層型電子部品13にクラックを生じたり、積層型電子部品13が損傷することもない。   According to the present embodiment, a gap V is formed between the ceramic body portion of the multilayer electronic component 13 and the dielectric green sheet, and between the ceramic body portion of the multilayer electronic component 13 and the dielectric ceramic layer 11A. There is no mutual diffusion of the material components, the characteristics of the multilayer electronic component 13 are not deteriorated, and the multilayer electronic component 13 contracts via the in-plane conductor 12A when the temperature is lowered after firing. No excessive pulling force acts on the laminated electronic component 13, and the laminated electronic component 13 is not cracked and the laminated electronic component 13 is not damaged.

密着防止材としては、熱分解性の樹脂に代えて、難焼結性粉末を主成分とし、有機バインダを副成分とする粉末ペーストを用いて、図9に示す場合と同様に積層型電子部品13のセラミック素体部分に塗布すると、焼成後には図10に示すように積層型電子部品13のセラミック素体部分の周囲にセラミック粉末層Cを残存する。セラミック粉末層Cとしては、誘電体セラミック層11Aの焼成温度では焼結しないセラミック材料が好ましい。このようなセラミック粉末材料としては、前述した難焼結性セラミック粉末等が好ましく用いられる。この場合にも、積層型電子部品13は、焼成後の降温時に膨張状態から収縮する際に誘電体セラミック層11Aに拘束されることがなくセラミック粉体層Cに沿って収縮することができ、延いては積層型電子部品13にクラックが発生したり、積層型電子部品13が破損することもない。   As the adhesion preventive material, a multilayer electronic component similar to the case shown in FIG. 9 is used by using a powder paste containing a hardly sinterable powder as a main component and an organic binder as a subcomponent instead of a thermally decomposable resin. When applied to the ceramic body portion 13, the ceramic powder layer C remains around the ceramic body portion of the multilayer electronic component 13 as shown in FIG. 10 after firing. The ceramic powder layer C is preferably a ceramic material that does not sinter at the firing temperature of the dielectric ceramic layer 11A. As such a ceramic powder material, the aforementioned non-sinterable ceramic powder or the like is preferably used. Also in this case, the multilayer electronic component 13 can contract along the ceramic powder layer C without being constrained by the dielectric ceramic layer 11A when contracting from the expanded state when the temperature is lowered after firing, As a result, the multilayer electronic component 13 is not cracked and the multilayer electronic component 13 is not damaged.

以下、具体的な実施例について説明する。   Specific examples will be described below.

実施例1
本実施例では図2に示す積層型電子部品として積層セラミックコンデンサを作製し、この積層セラミックコンデンサを内蔵させた多層配線基板を作製し、この多層配線基板の基板表面の凹凸を測定すると共に、内蔵された積層セラミックコンデンサの絶縁抵抗を測定して特性が低下しているか否かを調べた。
Example 1
In this embodiment, a multilayer ceramic capacitor is manufactured as the multilayer electronic component shown in FIG. 2, a multilayer wiring board in which the multilayer ceramic capacitor is embedded is manufactured, the unevenness on the surface of the multilayer wiring board is measured, and the built-in ceramic capacitor is embedded. The insulation resistance of the laminated ceramic capacitor was measured to determine whether the characteristics were degraded.

ドクターブレード法等を用いて積層セラミックコンデンサに用いられる誘電体グリーンシートを所定枚数作製した後、スクリーン印刷法等を用いて例えばPdを主成分とする導電性ペーストを誘電体グリーンシートに印刷してサイドマージン部の無い内部電極部を誘電体グリーンシート上に形成した。   After preparing a predetermined number of dielectric green sheets used for multilayer ceramic capacitors using a doctor blade method, etc., a conductive paste containing, for example, Pd as a main component is printed on the dielectric green sheets using a screen printing method or the like. An internal electrode portion having no side margin was formed on the dielectric green sheet.

次いで、内部電極部の接続面側のマージンが互い違いになるように誘電体グリーンシートを順次積層した後、最上層に内部電極部の無い誘電体グリーンシートを積層した後、これらを所定の圧力で圧着して未焼成の積層体を作製する。   Next, the dielectric green sheets are sequentially laminated so that the margins on the connection surface side of the internal electrode portions are staggered, and then the dielectric green sheets without the internal electrode portions are laminated on the uppermost layer, and then these are bonded at a predetermined pressure. A green laminate is produced by pressure bonding.

未焼成の積層体を所定の寸法にカットした後、所定の温度で焼成して積層セラミックコンデンサの素体となる積層体を得た。この素体の両端面に外部端子電極として例えばAgを主成分とする導電性ペーストを塗布し、焼き付けて積層セラミックコンデンサを得た。   The unsintered laminate was cut to a predetermined size and then fired at a predetermined temperature to obtain a laminate that was an element body of the multilayer ceramic capacitor. For example, a conductive paste mainly composed of Ag as an external terminal electrode was applied to both end faces of this element body and baked to obtain a multilayer ceramic capacitor.

従来の積層セラミックコンデンサのサイズが0.6mm×0.3mm×0.3mmで容量が100pFの場合には、内部電極のサイズは0.55mm×0.2mmであるが、本実施例の場合には内部電極のサイズを0.55mm×0.3mmにして、積層セラミックコンデンサの長さと幅を同一サイズにした。このように本実施例では内部電極の幅を従来のものより0.1mm大きくすることができ、面積が増えた分、内部電極の積層数を減らすことができ、本実施例では積層数を2/3に減らすことができた。また、上下のマージン部は0.05mmずつあったものを0.01mmに減らした。積層数の減少により、内部電極間の厚みが0.13mmになり、上下のマージン部の厚みが0.02mmとなり、全体の厚みが0.15mmになって、従来の1/2になった。   When the size of a conventional multilayer ceramic capacitor is 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm and the capacitance is 100 pF, the size of the internal electrode is 0.55 mm × 0.2 mm. The internal electrode size was 0.55 mm × 0.3 mm, and the length and width of the multilayer ceramic capacitor were the same. Thus, in this embodiment, the width of the internal electrode can be made 0.1 mm larger than that of the conventional one, and the number of stacked internal electrodes can be reduced by the increase in area. In this embodiment, the number of stacked layers is 2 / 3. Also, the upper and lower margins were reduced by 0.05 mm to 0.01 mm. Due to the decrease in the number of layers, the thickness between the internal electrodes became 0.13 mm, the thickness of the upper and lower margins became 0.02 mm, and the total thickness became 0.15 mm, which was ½ of the conventional thickness.

次いで、積層セラミックコンデンサを内蔵する多層配線基板を作製した。誘電体セラミック層の材料として低温焼結セラミック材料(Alをフィラーとし、ホウ珪酸ガラスを焼結助剤とする)を用いて複数の誘電体グリーンシートを作製した。所定の誘電体グリーンシートにビアホールを形成し、このビアホール内にAgを主成分とする導電性ペーストを用いてビアホール導体部及び面内導体部を形成した。そして、誘電体グリーンシート上にスプレーにより有機系接着剤を塗布した後、マウンターを用いて積層セラミックコンデンサを面内導体に合わせて搭載し、積層セラミックコンデンサを誘電体グリーンシート上に固定した。誘電体グリーンシートは、焼成後の誘電体セラミック層の厚みが50μmで210mm□の大きさになるようにした。 Next, a multilayer wiring board with a built-in multilayer ceramic capacitor was produced. A plurality of dielectric green sheets were produced using a low-temperature sintered ceramic material (Al 2 O 3 as a filler and borosilicate glass as a sintering aid) as a material for the dielectric ceramic layer. Via holes were formed in a predetermined dielectric green sheet, and via hole conductor portions and in-plane conductor portions were formed in the via holes using a conductive paste mainly composed of Ag. And after apply | coating the organic type adhesive agent by the spray on the dielectric material green sheet, the multilayer ceramic capacitor was mounted according to the in-plane conductor using the mounter, and the multilayer ceramic capacitor was fixed on the dielectric material green sheet. In the dielectric green sheet, the thickness of the fired dielectric ceramic layer was set to 210 mm □ with a thickness of 50 μm.

本実施例ではこの誘電体グリーンシートを10枚積層して積層体を形成した。この際、積層セラミックコンデンサは、全て基板表面から250μm下の層に位置すると共に、その外部端子電極が面内導体及びビアホール導体を介して基板表面の端子電極に接続されるように積層体内に配置し、端子電極を介して積層セラミックコンデンサの特性を測定できるようにした。次いで、未焼成の積層体の上下両面にAlからなるシートを拘束層として積層し、これを所定の圧力で仮圧着した。この時の圧力は10MPa以上が好ましい。この圧力が10MPa未満では上下の誘電体グリーンシート間の圧着が不十分で層間剥離を生じることがある。 In this example, ten dielectric green sheets were laminated to form a laminate. At this time, all the multilayer ceramic capacitors are located in a layer 250 μm below the substrate surface, and the external terminal electrodes are arranged in the multilayer body so as to be connected to the terminal electrodes on the substrate surface via in-plane conductors and via-hole conductors In addition, the characteristics of the multilayer ceramic capacitor can be measured through the terminal electrode. Next, sheets made of Al 2 O 3 were laminated as constraining layers on the upper and lower surfaces of the unfired laminate, and this was temporarily pressure-bonded at a predetermined pressure. The pressure at this time is preferably 10 MPa or more. When this pressure is less than 10 MPa, the pressure bonding between the upper and lower dielectric green sheets is insufficient, and delamination may occur.

更に、仮圧着後の積層体を所定の圧力で本圧着して圧着体を作製した。この圧力は208MPa以上、250MPa以下が好ましい。20MPa未満では圧着が不十分で、焼成時に層剥離を生じる虞があり、また、250MPaを超えると積層セラミックコンデンサの破損や配線パターンの断線を生じることがある。次いで、この圧着体を空気雰囲気中、870℃ので焼成した後、未焼成の拘束層を除去して厚さが0.5mmの多層配線基板を得た。   Furthermore, the laminated body after provisional pressure bonding was subjected to main pressure bonding at a predetermined pressure to produce a pressure bonded body. This pressure is preferably 208 MPa or more and 250 MPa or less. If the pressure is less than 20 MPa, the pressure bonding is insufficient, and there is a risk of delamination during firing. If the pressure exceeds 250 MPa, the multilayer ceramic capacitor may be damaged or the wiring pattern may be disconnected. Next, this pressure-bonded body was fired at 870 ° C. in an air atmosphere, and then the unfired constraining layer was removed to obtain a multilayer wiring board having a thickness of 0.5 mm.

次いで、多層配線基板の表面の凹凸を測定すると共に、信頼性試験(75℃、相対湿度95%、25Vの直流電圧を印加)を行った。また、比較例1として0.6mm×0.3mmサイズの積層セラミックコンデンサを本実施例と同一条件で内蔵させた多層配線基板を作製した。そして、比較例1の多層配線基板について、その基板表面の凹凸を測定すると共に、本実施例と同一の条件で信頼性試験を行った。また、比較例2として本実施例で作製した積層セラミックコンデンサをそのまま用いて、本実施例と同一の条件で信頼性試験を行った。そして、これらの測定結果を表1、表2に示した。尚、基板表面の凹凸は、積層セラミックコンデンサを埋め込んだ真上で測定した。   Next, the unevenness on the surface of the multilayer wiring board was measured, and a reliability test (75 ° C., 95% relative humidity, 25 V DC voltage applied) was performed. Further, as Comparative Example 1, a multilayer wiring board in which a multilayer ceramic capacitor having a size of 0.6 mm × 0.3 mm was incorporated under the same conditions as in this example was produced. And about the multilayer wiring board of the comparative example 1, while measuring the unevenness | corrugation of the board | substrate surface, the reliability test was done on the same conditions as a present Example. Moreover, the reliability test was done on the same conditions as a present Example, using the multilayer ceramic capacitor produced by the present Example as it is as the comparative example 2. These measurement results are shown in Tables 1 and 2. In addition, the unevenness | corrugation of the board | substrate surface was measured just above embedding a multilayer ceramic capacitor.

Figure 2006216709
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Figure 2006216709
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表1に示す結果によれば、積層セラミックコンデンサの厚みが比較例1の場合の1/2の厚さになっているため、比較例1の場合よりも格段に凹凸が小さく、平坦化していることが判った。また、表2に示す結果によれば、本実施例の積層セラミックコンデンサは、単独では絶縁抵抗が時間の経過に連れて漸減しているが、本実施例では多層配線基板に内蔵されていることによって絶縁抵抗が長時間に渡って安定しており、信頼性の高いことが判った。また、本実施例の多層配線基板の製造工程では、内部電極にサイドマージン部が無いため、内部電極の印刷ズレ、カットズレ及び積みズレの影響を排除でき、加工性に優れていることが判った。   According to the results shown in Table 1, since the thickness of the multilayer ceramic capacitor is ½ that of Comparative Example 1, the unevenness is much smaller than that of Comparative Example 1 and is flattened. I found out. Further, according to the results shown in Table 2, the monolithic ceramic capacitor of this example has an insulation resistance that gradually decreases with time, but in this example, it is incorporated in the multilayer wiring board. As a result, it was found that the insulation resistance was stable for a long time and the reliability was high. In addition, in the manufacturing process of the multilayer wiring board of this example, since the internal electrode has no side margin portion, it was found that the influence of printing misalignment, cut misalignment and stack misalignment of the internal electrode can be eliminated, and the workability is excellent. .

実施例2
本実施例では積層セラミックコンデンサの上下のマージン部を無くした、つまり最上層の内部電極と最下層の内部電極が露出した積層セラミックコンデンサを作製し、実施例1と同一要領で、この積層セラミックコンデンサを内蔵した多層配線基板を作製した。その結果、実施例1に比べ、更に0.02mm低背化することができた。
Example 2
In this embodiment, the upper and lower margins of the multilayer ceramic capacitor are eliminated, that is, a multilayer ceramic capacitor in which the uppermost internal electrode and the lowermost internal electrode are exposed is manufactured. A multilayer wiring board with built-in was fabricated. As a result, compared with Example 1, it was possible to further reduce the height by 0.02 mm.

尚、本発明は、上記各実施形態に何等制限されるものではなく、本発明の趣旨に反しない限り、本発明に含まれる。   In addition, this invention is not restrict | limited at all to each said embodiment, Unless it is contrary to the meaning of this invention, it is contained in this invention.

本発明は、電子機器などに使用される積層型電子部品を内蔵した多層配線基板に利用することができる。   The present invention can be used for a multilayer wiring board having a built-in multilayer electronic component used in an electronic device or the like.

(a)〜(c)はそれぞれ本発明の多層配線基板の一実施形態を示す図で、(a)はその全体を示す断面図、(b)は(a)の要部を拡大して示す断面図、(c)は(b)の平面図である。(A)-(c) is a figure which shows one Embodiment of the multilayer wiring board of this invention, respectively, (a) is sectional drawing which shows the whole, (b) expands and shows the principal part of (a). Sectional drawing, (c) is a plan view of (b). (a)、(b)はそれぞれ図1に示す積層型電子部品を取り出して示す図で、(a)はその斜視図、(b)はその要部を示す平面図である。(A), (b) is the figure which takes out and shows the multilayer electronic component shown in FIG. 1, respectively, (a) is the perspective view, (b) is a top view which shows the principal part. (a)は図1に示す他の種類の積層型電子部品の要部を示す平面図、(b)は(a)に示す積層型電子部品の従来品の要部を示す平面図である。(A) is a top view which shows the principal part of another type of multilayer electronic component shown in FIG. 1, (b) is a top view which shows the principal part of the conventional product of the multilayer electronic component shown in (a). 図2に示す積層型電子部品を製造する工程を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a process for manufacturing the multilayer electronic component shown in FIG. 2. (a)〜(c)はそれぞれ図1に示す多層配線基板の製造工程の要部を示す工程図で、(a)は誘電体グリーンシートを示す断面図、(b)は(a)に示す誘電体グリーンシートに積層型電子部品を載置する状態を示す断面図、(c)は(b)に示す誘電体グリーンシートと他の誘電体グリーンシートを積層する状態を示す断面図である。(A)-(c) is process drawing which shows the principal part of the manufacturing process of the multilayer wiring board shown in FIG. 1, respectively, (a) is sectional drawing which shows a dielectric material green sheet, (b) is shown to (a). Sectional drawing which shows the state which mounts multilayer electronic components on a dielectric green sheet, (c) is sectional drawing which shows the state which laminates | stacks the dielectric green sheet shown in (b), and another dielectric green sheet. (a)〜(c)はそれぞれ図5に示す製造工程に続く工程図で、(a)は焼成前の圧着体を示す断面図、(b)は焼成後の多層配線基板を示す断面図、(c)は(b)に示す多層配線基板に積層型電子部品を搭載した状態を示す断面図である。(A)-(c) is process drawing following the manufacturing process shown in FIG. 5, respectively, (a) is sectional drawing which shows the crimping | compression-bonding body before baking, (b) is sectional drawing which shows the multilayer wiring board after baking, (C) is sectional drawing which shows the state which mounted the multilayer electronic component on the multilayer wiring board shown to (b). (a)〜(c)はそれぞれ本発明の多層配線基板の他の実施形態を示す図で、(a)はその全体を示す断面図、(b)は(a)の要部を拡大して示す断面図、(c)は(b)を更に拡大して示す要部断面図である。(A)-(c) is a figure which shows other embodiment of the multilayer wiring board of this invention, respectively, (a) is sectional drawing which shows the whole, (b) expands the principal part of (a). Sectional drawing which shows, (c) is principal part sectional drawing which expands and shows (b) further. (a)、(b)はそれぞれ図7に示す多層配線基板の製造工程の要部を示す工程図で、(a)は積層型電子部品を内蔵させる直前の状態を示す断面図、(b)は積層型電子部品を内蔵した状態を示す断面図である。(A), (b) is process drawing which shows the principal part of the manufacturing process of the multilayer wiring board shown in FIG. 7, respectively, (a) is sectional drawing which shows the state just before incorporating a multilayer type electronic component, (b) FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a multilayer electronic component is incorporated. 本発明の多層配線基板の更に他の実施形態の要部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the principal part of other embodiment of the multilayer wiring board of this invention. 本発明の多層配線基板の更に他の実施形態の要部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the principal part of other embodiment of the multilayer wiring board of this invention. (a)、(b)はそれぞれ従来の積層型電子部品の一例である積層セラミックコンデンサを示す図で、(a)はその断面図、(b)は(a)に示すセラミック層と内部電極の関係を示す平面図である。(A), (b) is a figure which shows the multilayer ceramic capacitor which is an example of the conventional multilayer electronic component, respectively, (a) is the sectional drawing, (b) is the ceramic layer and internal electrode which are shown in (a). It is a top view which shows a relationship.

符号の説明Explanation of symbols

10、10A、10B 多層配線基板
11 積層体(素体)
11A 誘電体セラミック層(誘電体層)
12 配線パターン
12A 面内導体
12B ビアホール導体
13 積層型電子部品
13A 誘電体セラミック層(誘電体層)
13B 積層体(素体)
13C 内部電極
13D 外部電極
15A 第1接続導体
15B 第2接続導体
V 空隙
C セラミック粉末
10, 10A, 10B Multilayer wiring board 11 Laminated body (element body)
11A Dielectric ceramic layer (dielectric layer)
12 Wiring Pattern 12A In-plane Conductor 12B Via-hole Conductor 13 Multilayer Electronic Component 13A Dielectric Ceramic Layer (Dielectric Layer)
13B Laminated body (element body)
13C Internal electrode 13D External electrode 15A First connecting conductor 15B Second connecting conductor V Void C Ceramic powder

Claims (11)

積層型電子部品を内蔵した多層配線基板であって、
上記積層型電子部品は、
複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、
上記誘電体層の間に介在する内部電極と、上記内部電極に接続するように上記素体の少なくとも一つの側面に設けられた外部端子電極と、
を有し、
上記内部電極は、上記素体の他の側面との間に実質的にマージンが無いように形成されており、
また、上記多層配線基板は、
複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、
上記積層体の内部に設けられた所定の配線パターンと、
を有し、
上記積層型電子部品の上記外部端子電極は、上記多層配線基板の上記配線パターンに接続されており、且つ、上記積層型電子部品の上記素体の他方の側面は、上記多層配線基板の誘電体層と対向している
ことを特徴とする多層配線基板。
A multilayer wiring board with built-in multilayer electronic components,
The multilayer electronic component is
An element body composed of a laminate in which a plurality of dielectric layers are laminated;
An internal electrode interposed between the dielectric layers, an external terminal electrode provided on at least one side surface of the element body so as to be connected to the internal electrode,
Have
The internal electrode is formed so that there is substantially no margin between the other side surfaces of the element body,
The multilayer wiring board is
An element body composed of a laminate in which a plurality of dielectric layers are laminated;
A predetermined wiring pattern provided inside the laminate,
Have
The external terminal electrode of the multilayer electronic component is connected to the wiring pattern of the multilayer wiring board, and the other side surface of the element body of the multilayer electronic component is a dielectric of the multilayer wiring substrate. A multilayer wiring board characterized by facing a layer.
上記積層型電子部品は、複数層に渡って形成されたコンデンサパターンを上記内部電極として備えたコンデンサ内蔵部品であることを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板。   2. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the multilayer electronic component is a component with a built-in capacitor having a capacitor pattern formed over a plurality of layers as the internal electrode. 上記積層型電子部品は、上記内部電極としてコイルパターンを備えたインダクタ内蔵電子部品であることを特徴とする請求項1に記載の積多層配線基板。   2. The multi-layer wiring board according to claim 1, wherein the multilayer electronic component is an electronic component with a built-in inductor having a coil pattern as the internal electrode. 上記多層配線基板の上記配線パターンはビアホール導体を含み、上記積層型電子部品の上記外部端子電極は上記ビアホール導体に接続されており、接続状態にて、上記ビアホール導体には段部が形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の多層配線基板。   The wiring pattern of the multilayer wiring board includes a via-hole conductor, the external terminal electrode of the multilayer electronic component is connected to the via-hole conductor, and a step portion is formed in the via-hole conductor in a connected state. The multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the multilayer wiring board is provided. 上記多層配線基板は、上記配線パターンとして、上記誘電体層の積層方向に延びる第1接続導体と、上記第1接続導体とは反対側に延びる第2接続導体とを含み、
上記積層型電子部品の上記外部端子電極は、上記第1接続導体及び上記第2接続導体にそれぞれ接続されていること特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の多層配線基板。
The multilayer wiring board includes, as the wiring pattern, a first connection conductor extending in the stacking direction of the dielectric layers, and a second connection conductor extending on the opposite side of the first connection conductor,
4. The multilayer wiring according to claim 1, wherein the external terminal electrode of the multilayer electronic component is connected to the first connection conductor and the second connection conductor, respectively. 5. substrate.
上記積層型電子部品の上記他の側面と上記多層配線基板の上記誘電体層との間には空隙が介在していること特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の多層配線基板。   6. The gap according to claim 1, wherein a gap is interposed between the other side surface of the multilayer electronic component and the dielectric layer of the multilayer wiring board. Multilayer wiring board. 上記積層型電子部品の上記他の側面と上記多層配線基板の上記誘電体層との間にはセラミック粉末が介在していること特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の多層配線基板。   6. The ceramic powder is interposed between the other side surface of the multilayer electronic component and the dielectric layer of the multilayer wiring board. 6. Multilayer wiring board. 上記積層型電子部品は、複数の誘電体セラミック層を積層してなる積層体を素体とする積層型セラミック電子部品であること特徴とする請求項1〜請求項7のいずれか1項に記載の多層配線基板。   The multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 7, wherein the multilayer electronic component is a multilayer ceramic electronic component including a multilayer body formed by laminating a plurality of dielectric ceramic layers. Multilayer wiring board. 上記多層配線基板は、複数の誘電体セラミック層を積層してなる積層体を素体とするセラミック多層基板であること特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載の多層配線基板。   The multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 8, wherein the multilayer wiring board is a ceramic multilayer board having a multilayer body formed by laminating a plurality of dielectric ceramic layers. substrate. 上記誘電体セラミック層は、低温焼結セラミック層であること特徴とする請求項9に記載の多層配線基板。   10. The multilayer wiring board according to claim 9, wherein the dielectric ceramic layer is a low temperature sintered ceramic layer. 複数の誘電体層が積層された積層体からなる素体と、
上記誘電体層の間に介在する内部電極と、
上記内部電極と接続するように上記素体の少なくとも一つの側面に設けられた外部端子電極と、
を有し、
上記素体の他の側面と上記内部電極との間には実質的にマージンが無い
こと特徴とする積層型電子部品。
An element body composed of a laminate in which a plurality of dielectric layers are laminated;
An internal electrode interposed between the dielectric layers;
An external terminal electrode provided on at least one side surface of the element body so as to be connected to the internal electrode;
Have
A multilayer electronic component characterized in that there is substantially no margin between the other side surface of the element body and the internal electrode.
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