JP2006208634A - Method of manufacturing electrooptic apparatus, electrooptic apparatus, and electronic equipment - Google Patents

Method of manufacturing electrooptic apparatus, electrooptic apparatus, and electronic equipment Download PDF

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賢司 村上
Yurika Hoshi
由利佳 星
Hiromoto Maruyama
博基 丸山
Kazunari Watanabe
和成 渡邉
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately divide two large-sized substrates in manufacturing electrooptic apparatuses. <P>SOLUTION: A method of manufacturing a plurality of electrooptic apparatus includes a process of dividing at least two large sized substrates 101 and 102. When a so-called chip unit electrooptic apparatus is manufactured by sticking the large-sized substrates together and by dividing them, a scribe line 101a along a dividing line is formed on a sticking face of one substrate 101 and the scribe line 101a formed on one substrate 101 is aligned to an alignment mark 102a0 provided on a surface of the other substrate 102 and two substrates are stuck together. After sticking together, a scribe line 102a is formed on a face opposite from the sticking face of the other substrate 102, matching the scribe line 101a formed on one substrate 101, and by pressing the substrates along a dividing line from the face opposite from the sticking face of one substrate 101, two large-sized substrates are divided. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器に関し、貼り合わされた大型基板を分断線に沿って分断して製造される電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic device, and more particularly to a method for manufacturing an electro-optical device, an electro-optical device, and an electronic device that are manufactured by cutting a bonded large substrate along a dividing line. .

従来より、液晶装置等の電気光学装置の量産性を高めるために、大型基板状態の2枚の基板を貼り合わせた後に、個々の電気光学装置の大きさに分断して製造する方法がある。液晶装置の場合、例えば、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下TFTと称す)等の能動素子がマトリクス状に複数配置された素子基板と、対向電極が形成された対向基板の2枚の大型基板とが貼り合わされて、スクライブ・ブレイク法により、いわゆるチップ単位にすなわち個々の液晶装置の大きさに分断する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−147423公報
Conventionally, in order to increase the mass productivity of an electro-optical device such as a liquid crystal device, there is a method in which two substrates in a large substrate state are bonded together and then divided into individual electro-optical device sizes. In the case of a liquid crystal device, for example, an element substrate in which a plurality of active elements such as thin film transistors (hereinafter referred to as TFTs) are arranged in a matrix and two large substrates, which are counter substrates on which counter electrodes are formed, are provided. There has been proposed a method of bonding and dividing into so-called chip units, that is, the sizes of individual liquid crystal devices by a scribe break method (see, for example, Patent Document 1).
JP 2001-147423 A

しかし、上述した提案には、大型基板状態の2枚の基板を精度良く分断する具体的な方法は、開示されておらず、高精度な分断を行うことはできなかった。
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、2枚の大型基板を精度良く分断することによって製造される電気光学装置の製造方法、その方法により製造された電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
However, the above-described proposal does not disclose a specific method for accurately dividing two substrates in a large substrate state, and it has not been possible to perform highly accurate separation.
The present invention has been made in view of such problems, and a method for manufacturing an electro-optical device manufactured by accurately dividing two large substrates, an electro-optical device manufactured by the method, and An object is to provide electronic equipment.

本発明に係る電気光学装置の製造方法は、少なくとも2枚の大型基板を分断する工程を含んで複数の電気光学装置を製造する方法であって、前記2枚の基板のうち第1の基板の、第2の基板に貼り合わされる面上に分断線に沿って複数の第1のクラック又は溝を形成するステップと、前記第2の基板の、前記第1の基板に貼り合わされる面とは反対側の面に、前記複数の第1のクラック又は溝に対応する複数の基準マークを形成するステップと、前記第1及び前記第2の基板のそれぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記複数の基準マークと前記複数の第1のクラック又は溝とがそれぞれ一致するように、前記第1の基板の前記複数の第1のクラック又は溝が形成された面と、前記第2の基板の前記第1の基板に貼り合わされる面とを貼り合せるステップと、前記第1及び前記第2の基板のそれぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記複数の第1のクラック又は溝と一致するように、複数の第2のクラック又は溝を、前記第2の基板の前記複数の基準マークが形成された面上に形成するステップと、前記第1の基板の前記複数の第1のクラック又は溝が形成された面とは反対側の面から、前記複数の第1のクラック又は溝に沿って所定の押圧力を加えるステップとを有する。
このような構成によれば、2枚の大型基板を精度良く分断することができる。
An electro-optical device manufacturing method according to the present invention is a method of manufacturing a plurality of electro-optical devices including a step of dividing at least two large substrates, wherein the first substrate of the two substrates is formed. A step of forming a plurality of first cracks or grooves along a dividing line on a surface to be bonded to the second substrate, and a surface to be bonded to the first substrate of the second substrate. Forming a plurality of reference marks corresponding to the plurality of first cracks or grooves on the opposite surface, and a direction perpendicular to the respective substrate planes of the first and second substrates. The surface of the first substrate on which the plurality of first cracks or grooves are formed, so that the plurality of reference marks and the plurality of first cracks or grooves respectively match, Bonding to the first substrate of the second substrate A step of bonding the surface to be bonded, and when viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes of the first and second substrates, so as to coincide with the plurality of first cracks or grooves, Forming a plurality of second cracks or grooves on a surface of the second substrate on which the plurality of reference marks are formed; and forming the plurality of first cracks or grooves on the first substrate. Applying a predetermined pressing force along the plurality of first cracks or grooves from a surface on the opposite side to the formed surface.
According to such a configuration, two large substrates can be divided with high accuracy.

また、前記複数の基準マークは、それぞれ2本の線からなり、前記第1及び前記第2の基板は、それぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記2本の線の間に前記複数の第1のクラック又は溝が入るようにすることによって、前記基準マークと前記複数の第1のクラック又は溝とをそれぞれ一致させるように貼り合わされることが望ましい。   Further, each of the plurality of reference marks includes two lines, and the first and second substrates have the two lines when viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes. It is desirable that the reference mark and the plurality of first cracks or grooves are bonded together so that the plurality of first cracks or grooves are interposed therebetween.

また、前記複数の基準マークは、それぞれ少なくとも3つの印からなり、前記第1及び前記第2の基板は、それぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記少なくとも3つの中の2つの印の間に前記複数の第1のクラック又は溝が入るようにすることによって、前記基準マークと前記複数の第1のクラック又は溝とをそれぞれ一致させるように貼り合わされることが望ましい。
このような構成によれば、2枚の基板の位置合わせがしやすい。
Further, each of the plurality of reference marks is composed of at least three marks, and the first and second substrates, when viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes, It is preferable that the reference marks and the plurality of first cracks or grooves are bonded to each other by making the plurality of first cracks or grooves between the two marks.
According to such a configuration, it is easy to align the two substrates.

また、前記複数の第2のクラック又は溝は、前記第2の基板の回路素子が形成された面に形成されることが望ましい。
このような構成によれば、回路の断線等を生じさせたくない面にスクライブラインを形成することで、分断時に回路素子を保護することができる。
The plurality of second cracks or grooves are preferably formed on a surface of the second substrate on which circuit elements are formed.
According to such a configuration, the circuit element can be protected at the time of disconnection by forming the scribe line on the surface where it is not desired to cause disconnection of the circuit.

また、前記第2の基板は、各電気光学装置を構成する第3の基板を複数搭載されており、前記複数の第2のクラック又は溝は、前記第2の基板の前記第3の基板が搭載された面上において前記第3の基板間に形成されることが望ましい。
このような構成によれば、クラック又は溝を形成することにより生じるガラス片などのゴミが第3の基板と第2の基板との間に入ることがない。
The second substrate includes a plurality of third substrates constituting each electro-optical device, and the plurality of second cracks or grooves are formed by the third substrate of the second substrate. It is desirable to form between the third substrates on the mounted surface.
According to such a configuration, dust such as a glass piece generated by forming a crack or a groove does not enter between the third substrate and the second substrate.

また、前記第2の基板上の複数の前記第3の基板が配置された領域に相当する開口部を有する受け治具部材に、前記複数の第3の基板が前記開口部に入るように載置して、前記第1の基板の前記複数の第1のクラック又は溝が形成された面とは反対側の面から、前記複数の第1のクラック又は溝に沿って所定の押圧力を加えることが望ましい。
このような構成によれば、2枚の基板をそれぞれのクラック又は溝に沿って精度良く分断することが可能とある。
Further, the receiving device is mounted on a receiving jig member having an opening corresponding to a region where the plurality of third substrates are arranged on the second substrate so that the plurality of third substrates enter the opening. And applying a predetermined pressing force along the plurality of first cracks or grooves from the surface of the first substrate opposite to the surface on which the plurality of first cracks or grooves are formed. It is desirable.
According to such a configuration, the two substrates can be accurately divided along the respective cracks or grooves.

また、本発明に係る電気光学装置は、本発明の電気光学装置を製造する方法を用いて製造された電気光学装置である。
このような構成によれば、精度良く分断された電気光学装置を実現することができる。
The electro-optical device according to the present invention is an electro-optical device manufactured using the method for manufacturing the electro-optical device of the present invention.
With such a configuration, it is possible to realize an electro-optical device that is divided with high accuracy.

また、本発明に係る電子機器は、本発明の電気光学装置を用いた電子機器である。
このような構成によれば、精度良く分断された電気光学装置を用いた電子機器を実現することができる。
An electronic apparatus according to the present invention is an electronic apparatus using the electro-optical device of the present invention.
According to such a configuration, an electronic apparatus using the electro-optical device divided with high accuracy can be realized.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
始めに、図1と図2を用いて電気光学装置としての液晶装置の構造について説明する。
液晶装置は、図1及び図2に示すように、TFT基板などの液晶装置用基板10と対向基板20との間に液晶50を封入して構成される。図1は、液晶装置用基板10をその上に形成された各構成要素と共に対向基板20側から見た平面図であり、図2は、対向基板20を含めて示す図1のH−H´断面図である。対向基板20には、表示領域を区画する遮光膜(額縁)としての第2遮光膜42が設けられている。第2遮光膜42は、例えば、図示しないTFTのチャネル領域、ソース領域、及びドレイン領域に対向基板20側から光が入射されるのを防止するための第1遮光膜23と、同一又は異なる遮光性材料によって形成されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, the structure of a liquid crystal device as an electro-optical device will be described with reference to FIGS.
As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal device is configured by enclosing a liquid crystal 50 between a liquid crystal device substrate 10 such as a TFT substrate and a counter substrate 20. FIG. 1 is a plan view of the liquid crystal device substrate 10 as viewed from the counter substrate 20 side together with the components formed thereon, and FIG. 2 shows the HH ′ of FIG. It is sectional drawing. The counter substrate 20 is provided with a second light-shielding film 42 as a light-shielding film (frame) that partitions the display area. The second light shielding film 42 is, for example, the same or different light shielding as the first light shielding film 23 for preventing light from entering the channel region, the source region, and the drain region of the TFT (not shown) from the counter substrate 20 side. It is made of a sexual material.

第2遮光膜42の外側の領域に液晶50を封入するシール材41が、液晶装置用基板10と対向基板20との間に形成されている。シール材41は、対向基板20の輪郭形状に略一致するように配置され、液晶装置用基板10と対向基板20とを相互に固着する。シール材41は、液晶装置用基板10の1辺の一部において欠落しており、貼り合わされた液晶装置用基板10及び対向基板20の相互の間隙には、液晶50を封入するための液晶封入口78が形成される。液晶封入口78より液晶50が封入された後、液晶封入口78を封止材79で封止するようになっている。   A sealing material 41 that encloses the liquid crystal 50 in a region outside the second light shielding film 42 is formed between the liquid crystal device substrate 10 and the counter substrate 20. The sealing material 41 is disposed so as to substantially match the contour shape of the counter substrate 20, and fixes the liquid crystal device substrate 10 and the counter substrate 20 to each other. The sealing material 41 is missing in a part of one side of the liquid crystal device substrate 10, and a liquid crystal seal for sealing the liquid crystal 50 is placed in the gap between the bonded liquid crystal device substrate 10 and the counter substrate 20. An inlet 78 is formed. After the liquid crystal 50 is sealed from the liquid crystal sealing port 78, the liquid crystal sealing port 78 is sealed with a sealing material 79.

液晶装置用基板10のシール材41の外側の領域には、データ線駆動回路61及び実装端子62が液晶装置用基板10の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する二辺に沿って、走査線駆動回路63が設けられている。液晶装置用基板10の残る一辺には、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路63間を接続するための複数の配線64が設けられている。また、対向基板20のコーナー部の少なくとも1箇所においては、液晶装置用基板10と対向基板20との間を電気的に導通させるための導通材65が設けられている。   A data line driving circuit 61 and a mounting terminal 62 are provided along one side of the liquid crystal device substrate 10 in a region outside the sealing material 41 of the liquid crystal device substrate 10, and along two sides adjacent to the one side. Thus, a scanning line driving circuit 63 is provided. On the remaining one side of the substrate 10 for the liquid crystal device, a plurality of wirings 64 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 63 provided on both sides of the screen display area. Further, a conductive material 65 for electrically connecting the liquid crystal device substrate 10 and the counter substrate 20 is provided in at least one corner of the counter substrate 20.

上述した図1及び図2に示す液晶装置は、貼り合わされた少なくとも2枚の大型基板(いわゆるマザー基板ともいうことがある)を分断する工程を含む製造工程によって製造される。以下にその製造方法における分断方法ついて説明する。   The liquid crystal device illustrated in FIGS. 1 and 2 described above is manufactured by a manufacturing process including a process of dividing at least two large substrates (also referred to as so-called mother substrates) that are bonded together. Below, the dividing method in the manufacturing method is demonstrated.

図3は、防塵ガラスと素子基板とを、それぞれ大型基板の状態で貼り合わせた後に分断する方法を説明するための図である。図4は、製造工程の一部の流れを示す工程図である。   FIG. 3 is a diagram for explaining a method of dividing the dust-proof glass and the element substrate after bonding them together in the state of a large substrate. FIG. 4 is a process diagram showing a part of the manufacturing process.

まず、図3(A)に示すように、スクライブ装置を用いて、一方の大型基板である防塵ガラス(以下、防塵基板という)101の一表面を、後述する分断すべき所定の位置を示す線(以下、分断線という)に沿って、ダイヤモンドカッターによりスクライブして複数のクラックを入れる。より具体的には、複数の分断線に沿ったクラックは、ダイヤモンドカッターの刃を所定の押圧力で切り込みを入れるようして石英基板の防塵基板101上を各分断線に合わせて走らせ、所定の分断線の位置にスクライブライン101aを形成する(ステップS1)ことによって得ることができる。大型基板のサイズは、円形基板であれば、直径が、例えば200mm、300mm等のウエハのサイズである。基板の厚さは、例えば1mmから1.2mmである。すなわち、スクライブライン101aは、防塵基板101の表面に対して、ダイヤモンドカッターの刃先が基板表面に対して所定の切り込み量ができるように、所定の押圧力を掛けながら基板表面を走らせることによって、基板表面にクラックが入ることによって形成される。なお、大型基板である防塵基板101は、いわゆるマトリックス状に分断されるため、上下左右のそれぞれの方向に複数のスクライブライン101aが複数の分断線に沿ってそれぞれ形成される。   First, as shown in FIG. 3A, a line indicating a predetermined position to be divided on one surface of a dust-proof glass (hereinafter referred to as a dust-proof substrate) 101, which is one large substrate, using a scribing device. A plurality of cracks are made by scribing with a diamond cutter along (hereinafter referred to as a parting line). More specifically, cracks along a plurality of cutting lines are caused to run on the dust-proof substrate 101 of the quartz substrate in accordance with each cutting line so as to cut the blade of the diamond cutter with a predetermined pressing force. It can be obtained by forming the scribe line 101a at the position of the dividing line (step S1). The size of the large substrate is the size of a wafer having a diameter of, for example, 200 mm or 300 mm if the substrate is a circular substrate. The thickness of the substrate is, for example, 1 mm to 1.2 mm. That is, the scribe line 101a is caused to run on the surface of the dust-proof substrate 101 while applying a predetermined pressing force so that the cutting edge of the diamond cutter has a predetermined cutting amount with respect to the surface of the substrate. It is formed by cracks on the substrate surface. In addition, since the dustproof substrate 101 which is a large substrate is divided into a so-called matrix shape, a plurality of scribe lines 101a are formed along the plurality of dividing lines in the vertical and horizontal directions, respectively.

図5は、そのスクライブラインを説明するための部分断面図である。図5に示すように、ダイヤモンドカッター201の回転する刃先を基板表面101b上をその表面から内部に向かって距離d1だけ切り込みを入れるようにして走らせると、さらに、基板表面101bの内側にd2だけクラックが入る。切り込み量d1は、例えば10μmである。クラック量d2は、例えば80μmから250μmの範囲で、好ましくは150μmである。このクラック量d2は、スクライブ装置におけるダイヤモンドカッター201の切り込み量d1、刃先への基板表面に対する押圧力、基板表面を走らせる速度等を、それぞれ所定の値に設定することによって制御することができる。   FIG. 5 is a partial cross-sectional view for explaining the scribe line. As shown in FIG. 5, when the cutting edge of the diamond cutter 201 is rotated on the substrate surface 101b from the surface toward the inside by a distance d1, only d2 is further provided inside the substrate surface 101b. Cracks come in. The cutting amount d1 is, for example, 10 μm. The crack amount d2 is, for example, in the range of 80 μm to 250 μm, and preferably 150 μm. The crack amount d2 can be controlled by setting the cutting amount d1 of the diamond cutter 201 in the scribing device, the pressing force against the substrate surface against the blade edge, the speed at which the substrate surface runs, and the like to predetermined values.

また、本出願人が実験した結果においては、クラック量d2を以上説明したような値に設定することによって、スクライブラインを形成するために、基板表面をスクライブするときに、スクライブラインの周囲にガラス片が飛散することなく、分断のためのクラックを形成することができるので、貼り合わせ面にガラス片を巻き込むこと等によって発生していた液晶装置の不良率を略0(ゼロ)%にすることができた。
続いて、防塵基板101を洗浄する(ステップS2)。
Further, in the results of experiments conducted by the present applicant, by setting the crack amount d2 to a value as described above, when scribing the substrate surface in order to form a scribe line, a glass is formed around the scribe line. Since cracks for separation can be formed without scattering the pieces, the defect rate of the liquid crystal device generated by winding a glass piece on the bonding surface is reduced to approximately 0 (zero)%. I was able to.
Subsequently, the dust-proof substrate 101 is cleaned (step S2).

また、図3の(B)に示すように、他方の大型の石英基板である素子基板102には、別途それぞれが液晶装置単位に分断されている複数の対向基板103が、素子基板102に予め貼り合わされて搭載されている。従って、素子基板102にスクライブライン102aを後述するように形成する前に、対向基板103が貼り合わされているので、スクライブライン101aを形成することによって生じるガラス片などのゴミが、素子基板101と対向基板103間に入ることがない。   Further, as shown in FIG. 3B, the element substrate 102 which is the other large quartz substrate has a plurality of counter substrates 103 which are separately divided into liquid crystal device units in advance on the element substrate 102. It is mounted and pasted. Therefore, before the scribe line 102a is formed on the element substrate 102 as described later, since the counter substrate 103 is bonded, dust such as a glass piece generated by forming the scribe line 101a is opposed to the element substrate 101. It does not enter between the substrates 103.

さらに、他方の大型基板である素子基板102と、防塵基板101とを貼り合わせる(ステップS3)。このとき、図3の(C)に示すように、防塵基板101と複数の対向基板103が付いた素子基板102とは、素子基板102の複数の対向基板103が付けられた面と反対側の面と、防塵基板101のスクライブライン101aが形成されている面とを合わせるように、貼り合わされる。   Further, the element substrate 102, which is the other large substrate, and the dust-proof substrate 101 are bonded together (step S3). At this time, as shown in FIG. 3C, the element substrate 102 with the dust-proof substrate 101 and the plurality of counter substrates 103 is opposite to the surface of the element substrate 102 to which the plurality of counter substrates 103 are attached. The surface and the surface on which the scribe line 101a of the dustproof substrate 101 is formed are bonded together.

ここで、素子基板102と防塵基板101とを位置精度良く貼り合わせるために、素子基板102の表面には、スクライブライン101aに対応する、位置合わせ用の指標としての基準マークであるアライメントマーク102a0が付けられている。アライメントマーク102a0は、2枚の基板の位置合わせを容易に行うためのマークである。   Here, in order to bond the element substrate 102 and the dustproof substrate 101 with high positional accuracy, an alignment mark 102a0, which is a reference mark as an alignment index corresponding to the scribe line 101a, is provided on the surface of the element substrate 102. It is attached. The alignment mark 102a0 is a mark for easily aligning the two substrates.

図6は、アライメントマークを説明するための図である。対向基板103の間の素子基板102上には、対向基板103間に2本の線が描かれている。アライメントマーク102a0となる2本の線は、例えばマスクパターンにより形成することができる。素子基板102をその表面に対して直交する方向から見たときに、スクライブライン101aとアライメントマーク102a0とが一致するように、すなわち、ここではアライメントマーク102の2本の線の間に、防塵基板101の表面に形成されたスクライブライン101aが入るように、素子基板102と防塵基板101とを貼り合わせる。図6は、2枚の基板を重ねてその表面に対して直交する方向から見たときの、アライメントマーク102a0とスクライブライン101aのそれぞれの位置を示す。アライメントマーク102a0の2本の線が対向基板103の上下間及び左右間に描かれている。   FIG. 6 is a diagram for explaining alignment marks. Two lines are drawn between the counter substrates 103 on the element substrate 102 between the counter substrates 103. The two lines serving as the alignment mark 102a0 can be formed by a mask pattern, for example. When the element substrate 102 is viewed from a direction orthogonal to the surface thereof, the scribe line 101a and the alignment mark 102a0 are coincident with each other, that is, here, between the two lines of the alignment mark 102, the dustproof substrate The element substrate 102 and the dust-proof substrate 101 are bonded together so that the scribe line 101a formed on the surface of the 101 enters. FIG. 6 shows the positions of the alignment mark 102a0 and the scribe line 101a when two substrates are overlapped and viewed from a direction orthogonal to the surface. Two lines of the alignment mark 102 a 0 are drawn between the upper and lower sides and the left and right sides of the counter substrate 103.

防塵基板101と素子基板102をその表面に対して直交する方向から見たときに、上下左右方向に描かれたアライメントマーク102a0の2本の線の間にスクライブライン101aが入るようにするために、CCD等の固体撮像素子を搭載したカメラにより素子基板102の表面を撮像して画像処理技術を用いて、素子基板102と防塵基板101の2枚の基板の位置合わせを容易に行うことができる。なお、アライメントマークの2本の線の間隔は、例えば100μmである。   In order to allow the scribe line 101a to enter between the two lines of the alignment mark 102a0 drawn in the vertical and horizontal directions when the dustproof substrate 101 and the element substrate 102 are viewed from a direction orthogonal to the surface thereof. The surface of the element substrate 102 can be imaged by a camera equipped with a solid-state imaging element such as a CCD, and the two substrates of the element substrate 102 and the dustproof substrate 101 can be easily aligned using an image processing technique. . The interval between the two lines of the alignment mark is, for example, 100 μm.

正確に位置合わせされた素子基板102と防塵基板101の2枚の基板は、オーブンなどの加熱装置に入れられて、熱硬化性の接着剤により固定されるように熱硬化処理を行う(ステップS4)。   The two substrates, the element substrate 102 and the dust-proof substrate 101, which are accurately aligned, are put into a heating device such as an oven, and are subjected to a thermosetting process so as to be fixed by a thermosetting adhesive (step S4). ).

なお、貼り合わせにおいては、共に大型基板である素子基板102と防塵基板101との貼り合わせ面の外周部の所定の位置、例えば周辺部に熱硬化性の接着剤を貼付しておき、貼り合わせた状態でその接着剤の部分だけに熱を与えることによって、仮の貼り合せを行い、その後加熱装置に入れることによって熱硬化させて、2枚の大型基板の貼り合わせが行われる。   In bonding, a thermosetting adhesive is applied to a predetermined position on the outer peripheral portion of the bonding surface of the element substrate 102 and the dustproof substrate 101, both of which are large substrates, for example, the peripheral portion, and the bonding is performed. In this state, heat is applied only to the part of the adhesive to perform temporary bonding, and then it is cured by being put in a heating device, whereby two large substrates are bonded.

素子基板102と防塵基板101とを貼り合わせる場合、大型の基板である防塵基板102の真ん中に接着剤を一点だけ滴下あるいは塗布し、防塵基板101の接着剤が塗布等された面に素子基板102を押し当てることによって、接着剤を防塵基板102と素子基板101の間で全面に渡って引き伸ばして、素子基板102と防塵基板101との貼り合わせを行うことも考えられる。   When the element substrate 102 and the dust-proof substrate 101 are bonded together, only one point of adhesive is dropped or applied to the middle of the dust-proof substrate 102 which is a large substrate, and the element substrate 102 is applied to the surface of the dust-proof substrate 101 where the adhesive is applied. It is also conceivable that the adhesive is stretched over the entire surface between the dust-proof substrate 102 and the element substrate 101 by pressing and the element substrate 102 and the dust-proof substrate 101 are bonded to each other.

しかし、このような方法では、一点にだけ付けられた接着剤が2枚の大型基板の真ん中から周辺部に向かって引き伸ばされるようにして移動するため、各大型基板上の異物を巻き込みながら長い距離を移動して、接着剤が防塵基板102と素子基板101の間で全面に渡って付くことになる。その結果、液晶装置の表示領域等に異物が介在して、製造された液晶装置が不良品となる虞がある。   However, in such a method, since the adhesive applied to only one point is moved so as to be stretched from the middle of the two large substrates toward the periphery, a long distance is involved while entraining foreign matter on each large substrate. And the adhesive is applied over the entire surface between the dust-proof substrate 102 and the element substrate 101. As a result, foreign matter may be present in the display area of the liquid crystal device and the manufactured liquid crystal device may be defective.

そこで、本実施の形態では、接着剤を滴下あるいは塗布する場所は、それぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、素子基板102と防塵基板101の貼り合わせ面の少なくとも一方の、複数の電気光学装置となるそれぞれの場所とし、かつ、滴下あるいは塗布する接着剤の量は、各液晶装置に必要な量だけにする。次に、図7を用いて接着剤を付ける方法を具体的に説明する。   Therefore, in this embodiment, the place where the adhesive is dropped or applied is at least one of the bonding surfaces of the element substrate 102 and the dustproof substrate 101 when viewed from the direction orthogonal to the respective substrate planes, The locations of the plurality of electro-optical devices are set, and the amount of the adhesive to be dropped or applied is set to an amount necessary for each liquid crystal device. Next, the method for applying the adhesive will be described in detail with reference to FIG.

図7は、加熱装置に入れて熱硬化させて2枚の大型基板を貼り合わせるときに、接着剤を付ける方法を説明するための図である。図7に示すように、対向基板103が搭載された素子基板102と、貼り合わされたときに個々の液晶装置になる場所に接着剤109がそれぞれ塗布された防塵基板101とが貼り合わされる。   FIG. 7 is a view for explaining a method of applying an adhesive when the two large substrates are bonded together by being put into a heating device and thermally cured. As shown in FIG. 7, the element substrate 102 on which the counter substrate 103 is mounted and the dust-proof substrate 101 to which the adhesive 109 is applied are bonded to the places where the individual liquid crystal devices are to be bonded.

具体的には、接着剤109は、防塵基板101のスクライブライン101aが形成された面上に、多点塗布される。接着剤が塗布される場所は、貼り合わされた2枚の大型基板の表面に対して直交する方向からみたときに、スクライブライン101aの間の液晶装置が形成される場所であるが、好ましくは、液晶装置の表示領域となる領域の中心である。   Specifically, the adhesive 109 is applied at multiple points on the surface of the dust-proof substrate 101 where the scribe lines 101a are formed. The place where the adhesive is applied is a place where the liquid crystal device between the scribe lines 101a is formed when viewed from the direction orthogonal to the surfaces of the two large substrates bonded together, This is the center of the area that becomes the display area of the liquid crystal device.

なお、図7においては、素子基板102の不良箇所103Xには、対向基板103が搭載されていないので、対向基板103が搭載されていない場所、すなわち液晶装置とならない場所には、接着剤109は塗布されていない。これは、素子基板102を製造した後に検査を行い、不良のあったところには、対向基板103が搭載されないようにし、接着剤109を塗布するときに、対向基板103の有無をチェックして、対向基板103のある場所だけに接着剤109が塗布されるようにしたからである。これにより、液晶装置とならないところには接着剤109は塗布されないので、接着剤109の無駄を無くすことができる。   In FIG. 7, since the counter substrate 103 is not mounted on the defective portion 103X of the element substrate 102, the adhesive 109 is applied to a place where the counter substrate 103 is not mounted, that is, a place where the liquid crystal device is not formed. Not applied. The inspection is performed after the element substrate 102 is manufactured, and the counter substrate 103 is not mounted where there is a defect. When the adhesive 109 is applied, the presence of the counter substrate 103 is checked, This is because the adhesive 109 is applied only to a place where the counter substrate 103 exists. Thereby, since the adhesive 109 is not applied to a place where the liquid crystal device is not formed, the waste of the adhesive 109 can be eliminated.

このように、2枚の大型基板を貼り合わせるときに、接着剤109を防塵基板101上において多点位置に塗布すると、接着剤109が基板上を長い距離に渡って移動することがないので、基板上の異物例えばスクライブライン形成時の異物などが接着剤に混じり込まず、結果として、製造される液晶装置の異物不良となる率が極めて低下する。   In this way, when bonding the two large substrates together, if the adhesive 109 is applied at multiple points on the dustproof substrate 101, the adhesive 109 will not move over a long distance on the substrate. The foreign matter on the substrate, for example, the foreign matter at the time of forming the scribe line is not mixed in the adhesive, and as a result, the rate of foreign matter failure in the manufactured liquid crystal device is extremely reduced.

さらに、防塵基板101上に接着剤109を多点塗布するため、2枚の大型基板の間の複数箇所の接着剤109の厚みが均一になるという効果も生じる。   Further, since the adhesive 109 is applied at multiple points on the dust-proof substrate 101, there is an effect that the thickness of the adhesive 109 at a plurality of locations between two large substrates is uniform.

なお、以上の例では、2枚の大型基板を貼り合わせるために、接着剤109は、防塵基板101に多点付けられているが、防塵基板101ではなく素子基板102に多点付けるようにしてもよいし、両方に少量ずつ付けてもよい。   In the above example, the adhesive 109 is multi-pointed on the dust-proof substrate 101 in order to bond two large substrates, but it should be multi-pointed on the element substrate 102 instead of the dust-proof substrate 101. Or you can add a small amount to both.

次に、図3の(D)に示すように、防塵基板101にクラックを形成したように、スクライブ装置を用いて、大型基板である素子基板102の一表面をダイヤモンドカッターによりスクライブして、素子基板102の基板表面にクラックを入れる(ステップS5)。   Next, as shown in FIG. 3D, the surface of the element substrate 102, which is a large substrate, is scribed with a diamond cutter using a scribing device so that a crack is formed in the dust-proof substrate 101. Cracks are made on the substrate surface of the substrate 102 (step S5).

このとき、素子基板102上に形成するスクライブライン102aは、素子基板102をその表面に対して直交する方向から見たときに、防塵基板101上に形成されたスクライブライン101aと重なって一致するように形成される。その結果、貼り合わせられた2枚の基板において、貼り合わせ面に形成された防塵基板101上のスクライブラインと、外側面に形成された素子基板102上のスクライブラインとの、2枚の基板平面に直交する方向におけるズレ量を0(ゼロ)にすることにより、後述するようにブレークバーにより分断するときに、各スクライブラインから2枚の基板平面に対して略垂直方向にクラックが生じ、精度良く分断することができる。   At this time, the scribe line 102a formed on the element substrate 102 overlaps and coincides with the scribe line 101a formed on the dustproof substrate 101 when the element substrate 102 is viewed from a direction orthogonal to the surface thereof. Formed. As a result, in the two bonded substrates, two substrate planes, that is, a scribe line on the dust-proof substrate 101 formed on the bonded surface and a scribe line on the element substrate 102 formed on the outer surface. By setting the amount of deviation in the direction perpendicular to 0 to zero (zero), cracks are generated in a direction substantially perpendicular to the two substrate planes from each scribe line when dividing by a break bar as will be described later. Can be divided well.

従って、上述したようなクラックの深さであるクラック量d2を基板表面に形成することによって、貼り合わされた2枚の基板は、各液晶装置の外径寸法を精度良く分断できるので、本液晶装置を利用する電子機器への組み付けを精度良く行うことができる。   Accordingly, by forming the crack amount d2 that is the depth of the crack as described above on the substrate surface, the two substrates bonded together can accurately divide the outer diameter of each liquid crystal device. Can be accurately assembled to an electronic device that uses.

また、素子基板102上のスクライブライン102aも上述したような範囲の深さ(d2)のスクライブラインを、素子基板102の各種回路が形成された面に形成したことによって、分断したときに素子基板102の表面上に形成された、断線などを生じさせたくない回路素子、例えばドライバ回路等を断線させるようなことも生じないように保護することができる。   In addition, when the scribe line 102a on the element substrate 102 is divided by forming a scribe line having a depth (d2) in the above-described range on the surface on which various circuits of the element substrate 102 are formed. Circuit elements formed on the surface of 102 that do not want to cause disconnection or the like, such as driver circuits, can be protected from being disconnected.

そして、次に、複数の対向基板103が設けられた素子基板102の面を、受け治具104の開口部に入れるように、貼り合わせた素子基板102と防塵基板101とを反転させて受け治具104上に載置し、ブレークする(ステップS6)。次に、ステップS6について、より具体的に説明する。   Then, the bonded element substrate 102 and dust-proof substrate 101 are reversed so that the surface of the element substrate 102 on which the plurality of counter substrates 103 are provided is inserted into the opening of the receiving jig 104. Place on the tool 104 and break (step S6). Next, step S6 will be described more specifically.

図8は、貼り合わせた素子基板102と防塵基板101とが載置される受け治具104を説明するための模式的斜視図である。受け治具104は、素子基板102上の複数の対向基板103の配置形状に応じた開口部104aを有する板状部材である。受け治具104aの表面に形成された開口部104aの形状は、複数の対向基板103の配置形状、具体的には素子基板102上の複数の対向基板103の最外縁部のやや外側を一筆書きで囲うようにして作られる形状CLである。   FIG. 8 is a schematic perspective view for explaining the receiving jig 104 on which the bonded element substrate 102 and dust-proof substrate 101 are placed. The receiving jig 104 is a plate-like member having openings 104 a corresponding to the arrangement shape of the plurality of counter substrates 103 on the element substrate 102. The shape of the opening 104a formed on the surface of the receiving jig 104a is a one-stroke drawing of the arrangement shape of the plurality of counter substrates 103, specifically the outermost edge portions of the plurality of counter substrates 103 on the element substrate 102. It is a shape CL made so as to enclose it.

尚、受け治具は、その孔部104aの形状CLは、図9に示すような円形形状である受け治具104Aであってもよい。図9は、変形例に係る受け治具104Aに貼り合わせた素子基板102と防塵基板101とが載置される状態を説明するための模式的斜視図である。   The receiving jig 104A may be a receiving jig 104A having a circular shape as shown in FIG. FIG. 9 is a schematic perspective view for explaining a state in which the element substrate 102 and the dust-proof substrate 101 bonded to the receiving jig 104A according to the modification are placed.

従って、図3の(E)に示すように、平らなステージ105上に受け治具104を載せ、複数の対向基板103が載置された面を受け治具104の開口部104a側にして、開口部104aの内側に複数の対向基板103が入り込むようにして、貼り合わせた素子基板102と防塵基板101とを受け治具104上に載置する。また、受け治具104の板厚Tdは、素子基板102上に載置された各対向基板103の厚さTcと略同一である。その結果、ステージ105上において、複数の対向基板103は支持され、かつ複数の対向基板103の周囲の素子基板102の部分が受け治具104によって支持されるので、大型基板の外周部においても精度良く分断を行うことができる。
なお、受け治具104は、開口部104aを有するものではなく、深さが対向基板103の厚さTcと略同一なくぼみを有するものであってもよい。
Therefore, as shown in FIG. 3E, the receiving jig 104 is placed on the flat stage 105, and the surface on which the plurality of counter substrates 103 are placed is placed on the opening 104a side of the jig 104. The element substrate 102 and the dust-proof substrate 101 that are bonded together are received and placed on the jig 104 so that the plurality of counter substrates 103 enter inside the opening 104a. The plate thickness Td of the receiving jig 104 is substantially the same as the thickness Tc of each counter substrate 103 placed on the element substrate 102. As a result, the plurality of counter substrates 103 are supported on the stage 105, and the portion of the element substrate 102 around the plurality of counter substrates 103 is supported by the receiving jig 104. It can be divided well.
Note that the receiving jig 104 does not have the opening 104 a but may have a recess whose depth is substantially the same as the thickness Tc of the counter substrate 103.

この状態で、防塵基板101のスクライブライン101aが形成されている面とは反対側の面から、ブレーク装置のブレークバー106を、軸をスクライブライン101aに沿って当てて所定の押圧力を加える。その結果、図3の(E)の矢印Fで示すように、ブレークバー106により所定の押圧力を防塵基板101の面に加えることにより、防塵基板101と素子基板102とが、スクライブライン101a、102aに沿って分断される。同様にして、個々の液晶装置を切り出すために必要な全てのスクライブラインに沿って、ブレークバー106を当てて所定の押圧力を加える。このようにして、大型基板の状態で貼り合わされた2枚の基板を分断して、個々の大きさの液晶装置が製造される。   In this state, a predetermined pressing force is applied from the surface of the dust-proof substrate 101 opposite to the surface on which the scribe line 101a is formed by applying the break bar 106 of the break device along the scribe line 101a. As a result, as indicated by an arrow F in FIG. 3E, a predetermined pressing force is applied to the surface of the dust-proof substrate 101 by the break bar 106, so that the dust-proof substrate 101 and the element substrate 102 are connected to the scribe line 101a, It is divided along 102a. Similarly, a predetermined pressing force is applied against the break bar 106 along all the scribe lines necessary for cutting out the individual liquid crystal devices. In this way, the two substrates bonded together in the state of a large substrate are divided to manufacture liquid crystal devices of individual sizes.

なお、スクライブライン101a,102aは、上下方向及び左右方向に複数形成されているので、ブレークバー106を上下方向の一端から順番に当てながら押圧し、その後左右方向の一端から順番に当てながら押圧することによって、大型基板の状態で貼り合わされた2枚の基板を同時に分断することができる。
さらになお、2枚の基板の分断は、人手によって行ってもよい。
Since a plurality of scribe lines 101a and 102a are formed in the vertical direction and the horizontal direction, the break bar 106 is pressed while being sequentially applied from one end in the vertical direction, and then pressed while being sequentially applied from one end in the horizontal direction. Thus, the two substrates bonded together in the state of a large substrate can be divided at the same time.
Furthermore, the separation of the two substrates may be performed manually.

次にスクライブ装置により、基板上にスクライブラインを形成する方法について説明する。図10は、スクライブラインを形成するためのスクライブシステムの構成を示す構成図である。スクライブシステムは、ダイヤモンドカッターを有するスクライブ装置111と、基板を撮像するための撮像手段としてのCCD等を有するカメラ112と、スクライブ装置111とカメラ112とに接続され、それぞれを制御する制御手段としてのコントローラ113とからなる。図11は、コントローラ113における制御の流れの例を示すフローチャートである。   Next, a method for forming a scribe line on a substrate using a scribe device will be described. FIG. 10 is a configuration diagram showing the configuration of a scribe system for forming a scribe line. The scribe system is connected to a scribe device 111 having a diamond cutter, a camera 112 having a CCD or the like as an image pickup means for picking up an image of a substrate, and a scribe device 111 and a camera 112 as control means for controlling each of them. The controller 113. FIG. 11 is a flowchart illustrating an example of a control flow in the controller 113.

防塵基板101の表面にスクライブライン101aを形成するには、カメラ112によって、防塵基板101の表面に予め形成された基準位置マークを撮像し、その位置を基準位置として複数のスクライブライン101aをそれぞれの所定の位置に形成するように、コントローラ113は、スクライブ装置111を制御する。基準位置マークは、例えば基板の角等に、スクライブを行うに当たってスクライブ装置に対する基板の基準位置を示すマークとして予め形成されている印である。   In order to form the scribe lines 101a on the surface of the dust-proof substrate 101, a camera 112 captures a reference position mark formed in advance on the surface of the dust-proof substrate 101, and sets each of the scribe lines 101a as a reference position. The controller 113 controls the scribe device 111 so as to form the predetermined position. The reference position mark is a mark formed in advance as a mark indicating the reference position of the substrate with respect to the scribing apparatus when performing scribing, for example, at the corner of the substrate.

具体的には、コントローラ113は、例えば、基準位置マークをカメラ112の画像データに基づいてチェックする(ステップS11)。まず、変数iを1に設定する(ステップS12)。   Specifically, for example, the controller 113 checks the reference position mark based on the image data of the camera 112 (step S11). First, the variable i is set to 1 (step S12).

そして、コントローラ113は、スクライブ装置111に対して、i番目、最初はiは1であるので、最初は1番目のスクライブラインを形成する位置までダイヤモンドカッターを移動してスクライブを行う(ステップS13)。このときは、2本のスクライブラインを形成する。   The controller 113 scribes the scribing device 111 by moving the diamond cutter to the position where the first scribe line is formed because the i-th and i is 1 at first (step S13). . At this time, two scribe lines are formed.

1番目のスクライブラインを形成し終わると、コントローラ113は、形成したスクライブラインが最後のスクライブラインであるか否かの判断を行う(ステップS14)。形成したスクライブラインが最後のスクライブラインでなければ、ステップS14でNOとなり、ステップS15に進み、変数iを(i+1)にした後、ステップS13の処理に飛ぶ。   When the formation of the first scribe line is completed, the controller 113 determines whether or not the formed scribe line is the last scribe line (step S14). If the formed scribe line is not the last scribe line, NO is determined in the step S14, the process proceeds to a step S15, the variable i is set to (i + 1), and the process jumps to the process of the step S13.

次は、ステップS13において2番目のスクライブラインを形成し、その後ステップS14において最後のスクライブラインが終了したか否かが判断される。最後のスクライブラインの形成処理が終了していなければ、ステップS15の処理に飛び、最後のスクライブラインの形成処理が終了するまで、上述した処理を繰り返す。   Next, in step S13, the second scribe line is formed, and then in step S14, it is determined whether or not the last scribe line is completed. If the last scribe line formation process has not been completed, the process jumps to step S15, and the above-described process is repeated until the last scribe line formation process is completed.

コントローラ113は、最後のスクライブラインの形成処理が終了すると、ステップS14でYESとなり、処理を終了する。
防塵基板101の表面の上下左右のそれぞれの方向において、図11の処理が行われる。
When the last scribe line forming process is completed, the controller 113 determines YES in step S14 and ends the process.
The processing of FIG. 11 is performed in each of the top, bottom, left and right directions of the surface of the dustproof substrate 101.

素子基板102については、ステップS13において、上述したように、貼り合わされた状態で、基板表面に直交する方向からみたときに、既に防塵基板101の表面上に形成されているスクライブライン101aに一致するように制御されながら、スクライブが行われる。   In step S13, the element substrate 102 coincides with the scribe line 101a already formed on the surface of the dust-proof substrate 101 when viewed from the direction orthogonal to the substrate surface in the bonded state as described above. The scribing is performed while being controlled as described above.

なお、以上の例では、防塵基板101と素子基板102に形成されるスクライブラインの深さは、同じではなくてもよく、80μmから250μmの範囲であれば、互いに異なっていてもよい。このような範囲の深さであれば、上述したように、手によって分断することも可能である。
以上のように、貼り合わされた2枚の大型基板を分断することによって、精度良く複数の電気光学装置を製造することができる。
In the above example, the depth of the scribe line formed on the dustproof substrate 101 and the element substrate 102 may not be the same, and may be different from each other as long as they are in the range of 80 μm to 250 μm. If it is the depth of such a range, as above-mentioned, it is also possible to cut by hand.
As described above, a plurality of electro-optical devices can be manufactured with high accuracy by dividing two bonded large substrates.

なお、以上の例は、大型基板として、防塵基板と素子基板とを貼り合わせた場合であるが、本発明は、素子基板と対向基板との貼り合わせ、対向基板と防塵基板との貼り合わせ等の2枚の大型基板の組み合わせにおいても適用できるものである。   In addition, although the above example is a case where a dust-proof board | substrate and an element board | substrate are bonded together as a large sized board | substrate, this invention is bonding of an element board | substrate and an opposing board | substrate, bonding of an opposing board | substrate and a dust-proof board | substrate, etc. The present invention can also be applied to a combination of two large substrates.

さらになお、アライメントマークは、上述したような実線で基板表面に形成されているが、実線の代わりに、点線、一点鎖線等でもよく、さらに、図12に示すようなマークでもよい。図12は、アライメントマークの変形例を示す図である。図12に示すように、基板を基板表面に直交する方向から見たときに、2枚の基板のそれぞれに形成されるスクライブラインが交差する位置を示す4つの印からなるマーク102a1、102a2、102a3、102a4であってもよい。4つの印は、分断線の交点部に設けられ、上下左右方向にそれぞれ複数形成されることによって、上下左右のそれぞれの方向においてスクライブラインが形成される幅を示すことになる。   Furthermore, although the alignment mark is formed on the substrate surface with the solid line as described above, it may be a dotted line, a one-dot chain line or the like instead of the solid line, and may be a mark as shown in FIG. FIG. 12 is a diagram showing a modification of the alignment mark. As shown in FIG. 12, when the substrate is viewed from a direction orthogonal to the substrate surface, marks 102a1, 102a2, and 102a3 are formed of four marks that indicate positions where scribe lines formed on each of the two substrates intersect. , 102a4. The four marks are provided at the intersections of the dividing lines, and are formed in the vertical and horizontal directions to indicate the widths at which the scribe lines are formed in the vertical and horizontal directions.

具体的には、図12の場合、行方向に並んだ2つの印102a1と102a2、あるいは印102a3と102a4が、上下方向におけるアライメントマークであり、2つの印の間にスクライブライン101aが入るように位置合わせが行われる。列方向に並んだ2つの印102a1と102a4、あるいは印102a2と102a3が、左右方向におけるアライメントマークであり、2つの印の間にスクライブライン101aが入るように位置合わせが行われる。   Specifically, in the case of FIG. 12, two marks 102a1 and 102a2 or marks 102a3 and 102a4 arranged in the row direction are alignment marks in the vertical direction, and the scribe line 101a is inserted between the two marks. Alignment is performed. Two marks 102a1 and 102a4 or marks 102a2 and 102a3 arranged in the column direction are alignment marks in the left-right direction, and alignment is performed so that the scribe line 101a is inserted between the two marks.

以上の例では、4つの印が用いられているが、少なくとも3つの印が分断線の交点部にあればよい。行方向には2つの印102a1と102a2、あるいは印102a3と102a4があればよく、列方向には2つの印102a1と102a4、あるいは印102a2と102a3があればよい。   In the above example, four marks are used. However, at least three marks may be provided at the intersection of the dividing lines. There may be two marks 102a1 and 102a2 or marks 102a3 and 102a4 in the row direction, and two marks 102a1 and 102a4 or marks 102a2 and 102a3 in the column direction.

すなわち、アライメントマークをそれぞれ少なくとも3つの印からなるマークとしても、2つの基板を、それぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、少なくとも3つの中の2つの印の間にスクライブライン101aが入るようにして精度よく貼り合わすことができる。   That is, even when the alignment mark is a mark composed of at least three marks, when the two substrates are viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes, the scribe line is located between at least two of the three marks. 101a can be put together with high accuracy.

また、以上の例では、ダイヤモンドカッターによるスクライブラインの形成を利用した場合を説明したが、スクライブラインの代わりに、所定の深さの溝を用いてもよい。例えば、その溝は、分断する線に合わせてダイシング装置により形成することができる。   Moreover, although the case where the formation of the scribe line by a diamond cutter was utilized was demonstrated in the above example, you may use the groove | channel of predetermined depth instead of a scribe line. For example, the groove can be formed by a dicing apparatus in accordance with the line to be cut.

以上のように、上述した実施の形態に係わる電気光学装置の製造方法によれば、大型基板を貼り合わせて分断していわゆるチップ単位の電気光学装置を製造するときに、上述したような分断線に沿ったクラックあるいは溝を一方の基板の貼り合わせ面に形成し、さらに一方の基板上に形成されたクラックまたは溝を他方の基板の表面に設けられた基準マークに合わせて貼り合わせ、貼り合わせ後に一方の基板上に形成されたクラックまたは溝に合わせて他方の基板の貼り合わせ面とは反対側の面にクラックまたは溝を形成し、一方の基板の貼り合わせ面とは反対側の面から分断線に沿って押圧することによって、2枚の大型基板を分断する。以上のようにすれば、貼り合わされた2枚の大型基板を、精度良く分断できるので、製造工程の歩留まり及び生産性の向上を図ることができる。   As described above, according to the method of manufacturing the electro-optical device according to the above-described embodiment, when the so-called chip-unit electro-optical device is manufactured by bonding and dividing a large substrate, the disconnection line as described above. A crack or groove is formed on the bonding surface of one substrate, and a crack or groove formed on one substrate is bonded to the reference mark provided on the surface of the other substrate, and bonded together Later, a crack or groove is formed on the surface opposite to the bonding surface of the other substrate to match the crack or groove formed on one substrate, and from the surface opposite to the bonding surface of one substrate The two large substrates are divided by pressing along the dividing line. By doing so, the two large substrates bonded together can be divided with high accuracy, so that the yield and productivity of the manufacturing process can be improved.

次に、以上詳細に説明した電気光学装置の製造方法を用いて製造された電気光学装置である液晶装置をライトバルブとして用いた電子機器の一例たる投射型カラー表示装置と、液晶装置を表示部として用いた電子機器の一例たる携帯電話の実施形態について、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。図13は、投射型カラー表示装置の説明図である。図14は、携帯電話の構成を示す斜視図である。これらの電子機器は、精度良く分断された電気光学装置を用いた電子機器となる。   Next, a projection type color display device as an example of an electronic apparatus using a liquid crystal device, which is an electro-optical device manufactured using the electro-optical device manufacturing method described in detail above, as a light valve, and the liquid crystal device as a display unit An overall configuration, particularly an optical configuration, of an embodiment of a mobile phone as an example of an electronic device used as an electronic device will be described. FIG. 13 is an explanatory diagram of a projection type color display device. FIG. 14 is a perspective view showing a configuration of a mobile phone. These electronic devices are electronic devices using an electro-optical device that is divided with high accuracy.

図13において、本実施形態における投射型カラー表示装置の一例たる液晶プロジェクタ1100は、駆動回路がTFTアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを3個用意し、それぞれRGB用のライトバルブ100R、100G及び100Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロックミラー1108によって、RGBの三原色に対応する光成分R、G及びBに分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、100G及び100Bにそれぞれ導かれる。この際特に、B光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、100G及び100Bによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー画像として投射される。   In FIG. 13, a liquid crystal projector 1100, which is an example of a projection type color display device according to the present embodiment, prepares three liquid crystal modules including a liquid crystal device having a drive circuit mounted on a TFT array substrate, each of which is a light valve for RGB. It is configured as a projector used as 100R, 100G, and 100B. In the liquid crystal projector 1100, when projection light is emitted from a lamp unit 1102 of a white light source such as a metal halide lamp, light components R, G, and R corresponding to the three primary colors of RGB are obtained by three mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108. The light is divided into B and led to the light valves 100R, 100G and 100B corresponding to the respective colors. In particular, the B light is guided through a relay lens system 1121 including an incident lens 1122, a relay lens 1123, and an exit lens 1124 in order to prevent light loss due to a long optical path. The light components corresponding to the three primary colors modulated by the light valves 100R, 100G, and 100B are synthesized again by the dichroic prism 1112 and then projected as a color image on the screen 1120 via the projection lens 1114.

図14において、本実施形態における携帯電話4200は、複数の操作ボタン4202のほか、受話口4204,送話口4206とともに、液晶装置が配設された表示部4100とから構成されている。   In FIG. 14, a mobile phone 4200 according to the present embodiment includes a plurality of operation buttons 4202, an earpiece 4204, a mouthpiece 4206, and a display unit 4100 provided with a liquid crystal device.

また、本発明の電気光学装置は、アクティブマトリクス型の液晶パネル(例えば、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード))だけでなく、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルにも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出を用いた装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等)、DLP(Digital Light Processing)(別名DMD:Digital Micromirror Device)等の各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。   The electro-optical device of the present invention can be applied not only to an active matrix liquid crystal panel (for example, TFT (thin film transistor) or TFD (thin film diode)) but also to a passive matrix liquid crystal display panel. It is. In addition to liquid crystal display panels, electroluminescence devices, organic electroluminescence devices, plasma display devices, electrophoretic display devices, devices using electron emission (such as Field Emission Display and Surface-Conduction Electron-Emitter Display), DLP ( The present invention can be similarly applied to various electro-optical devices such as Digital Light Processing (aka DMD: Digital Micromirror Device).

本実施の形態に係る液晶装置の対向基板側から見た平面図。The top view seen from the counter substrate side of the liquid crystal device which concerns on this Embodiment. 図1のH−H´断面図である。It is HH 'sectional drawing of FIG. 本実施の形態に係る防塵ガラスと素子基板と分断する方法を説明するための図。The figure for demonstrating the method of parting with the dust-proof glass and element substrate which concern on this Embodiment. 本実施の形態に係る製造工程の一部の流れの例を示す工程図。Process drawing which shows the example of the one part flow of the manufacturing process which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るスクライブラインを説明するための部分断面図。The fragmentary sectional view for demonstrating the scribe line which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係るアライメントマークを説明するための図。The figure for demonstrating the alignment mark which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る接着剤の塗布方法の例を説明するための図。The figure for demonstrating the example of the coating method of the adhesive agent which concerns on this Embodiment. 受け治具を説明するための模式的斜視図。The typical perspective view for demonstrating a receiving jig. 変形例に係る受け治具を説明するための模式的斜視図る。The typical perspective view for demonstrating the receiving jig which concerns on a modification is aimed at. スクライブラインを形成するためのスクライブシステムの構成を示す構成図。The block diagram which shows the structure of the scribe system for forming a scribe line. コントローラにおける制御の流れの例を示すフローチャート。The flowchart which shows the example of the flow of control in a controller. アライメントマークの変形例を示す図。The figure which shows the modification of an alignment mark. 投射型カラー表示装置の説明図。Explanatory drawing of a projection type color display apparatus. 携帯電話の構成を示す斜視図。The perspective view which shows the structure of a mobile telephone.

符号の説明Explanation of symbols

101a、102a スクライブライン、201 ダイヤモンドカッター、102a0、102a1、102a2、102a3、102a4 アライメントマーク、104、104A 受け治具   101a, 102a scribe line, 201 diamond cutter, 102a0, 102a1, 102a2, 102a3, 102a4 alignment mark, 104, 104A

Claims (9)

少なくとも2枚の大型基板を分断する工程を含んで複数の電気光学装置を製造する方法であって、
前記2枚の基板のうち第1の基板の、第2の基板に貼り合わされる面上に分断線に沿って複数の第1のクラック又は溝を形成するステップと、
前記第2の基板の、前記第1の基板に貼り合わされる面とは反対側の面に、前記複数の第1のクラック又は溝に対応する複数の基準マークを形成するステップと、
前記第1及び前記第2の基板のそれぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記複数の基準マークと前記複数の第1のクラック又は溝とがそれぞれ一致するように、前記第1の基板の前記複数の第1のクラック又は溝が形成された面と、前記第2の基板の前記第1の基板に貼り合わされる面とを貼り合せるステップと、
前記第1及び前記第2の基板のそれぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記複数の第1のクラック又は溝と一致するように、複数の第2のクラック又は溝を、前記第2の基板の前記複数の基準マークが形成された面上に形成するステップと、
前記第1の基板の前記複数の第1のクラック又は溝が形成された面とは反対側の面から、前記複数の第1のクラック又は溝に沿って所定の押圧力を加えるステップと、
を有することを特徴とする電気光学装置を製造する方法。
A method of manufacturing a plurality of electro-optical devices including a step of dividing at least two large substrates,
Forming a plurality of first cracks or grooves along a dividing line on a surface of the first substrate of the two substrates to be bonded to the second substrate;
Forming a plurality of reference marks corresponding to the plurality of first cracks or grooves on a surface of the second substrate opposite to a surface to be bonded to the first substrate;
The plurality of reference marks and the plurality of first cracks or grooves match each other when viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes of the first and second substrates. Bonding a surface of the first substrate on which the plurality of first cracks or grooves are formed and a surface of the second substrate to be bonded to the first substrate;
A plurality of second cracks or grooves are formed so as to coincide with the plurality of first cracks or grooves when viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes of the first and second substrates. Forming on the surface of the second substrate on which the plurality of reference marks are formed;
Applying a predetermined pressing force along the plurality of first cracks or grooves from the surface of the first substrate opposite to the surface on which the plurality of first cracks or grooves are formed;
A method for manufacturing an electro-optical device.
前記複数の基準マークは、それぞれ2本の線からなり、
前記第1及び前記第2の基板は、それぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記2本の線の間に前記複数の第1のクラック又は溝が入るようにすることによって、前記基準マークと前記複数の第1のクラック又は溝とをそれぞれ一致させるように貼り合わされることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置を製造する方法。
Each of the plurality of reference marks is composed of two lines,
The first and second substrates have the plurality of first cracks or grooves between the two lines when viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes. The method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1, wherein the reference mark and the plurality of first cracks or grooves are bonded to each other.
前記複数の基準マークは、それぞれ少なくとも3つの印からなり、
前記第1及び前記第2の基板は、それぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記少なくとも3つの中の2つの印の間に前記複数の第1のクラック又は溝が入るようにすることによって、前記基準マークと前記複数の第1のクラック又は溝とをそれぞれ一致させるように貼り合わされることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置を製造する方法。
Each of the plurality of reference marks includes at least three marks,
The first and second substrates have the plurality of first cracks or grooves between two of the at least three marks when viewed from a direction perpendicular to the respective substrate planes. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the reference mark and the plurality of first cracks or grooves are bonded to each other.
前記複数の第2のクラック又は溝は、前記第2の基板の回路素子が形成された面に形成されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の電気光学装置を製造する方法。   4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the plurality of second cracks or grooves are formed on a surface of the second substrate on which circuit elements are formed. 5. How to manufacture. 前記第2の基板は、各電気光学装置を構成する第3の基板を複数搭載されており、
前記複数の第2のクラック又は溝は、前記第2の基板の前記第3の基板が搭載された面上において前記第3の基板間に形成されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の電気光学装置を製造する方法。
The second substrate includes a plurality of third substrates constituting each electro-optical device,
The plurality of second cracks or grooves are formed between the third substrates on a surface of the second substrate on which the third substrate is mounted. 5. A method for manufacturing the electro-optical device according to any one of 4 above.
前記第2の基板上の複数の前記第3の基板が配置された領域に相当する開口部を有する受け治具部材に、前記複数の第3の基板が前記開口部に入るように載置して、前記第1の基板の前記複数の第1のクラック又は溝が形成された面とは反対側の面から、前記複数の第1のクラック又は溝に沿って所定の押圧力を加えることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置を製造する方法。   The plurality of third substrates are placed on a receiving jig member having an opening corresponding to a region where the plurality of third substrates are arranged on the second substrate so that the plurality of third substrates enter the opening. Applying a predetermined pressing force along the plurality of first cracks or grooves from the surface of the first substrate opposite to the surface on which the plurality of first cracks or grooves are formed. The method of manufacturing the electro-optical device according to claim 5. 前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合せるステップは、それぞれの基板平面に対して直交する方向から見たときに、前記第1の基板と前記第2の基板の貼り合わせ面の少なくとも一方の、前記複数の電気光学装置となるそれぞれの場所に接着剤を付けるステップを含むことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の電気光学装置を製造する方法。   The step of bonding the first substrate and the second substrate is performed when the bonding surface of the first substrate and the second substrate is viewed from a direction orthogonal to the respective substrate planes. The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1, further comprising a step of applying an adhesive to each of at least one of the plurality of electro-optical devices. 請求項1から請求項7に記載の電気光学装置を製造する方法を用いて製造された電気光学装置。   An electro-optical device manufactured using the method for manufacturing the electro-optical device according to claim 1. 請求項8に記載の電気光学装置を用いた電子機器。
An electronic apparatus using the electro-optical device according to claim 8.
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