JP2006202787A - 熱回路基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1の熱伝導体箔上に、その表面まで貫通する第1の溝を有する第1の硬化ポリイミド層を形成する工程と;第2の熱伝導体箔上に、その表面まで貫通する第2の溝を有する、第2の硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層の積層体を形成する工程と;第1および第2の熱伝導体箔を、第1の硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層が対向する状態で、第1および第2の溝の位置を合わせて貼り合わせて、貼り合わせ体を形成する工程と;貼り合わせ体を加熱して、第1および第2の硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層を一体化して硬化ポリイミド層を形成し、熱回路基板を得る工程とを含むことを特徴とする熱回路基板の製造方法。
【選択図】 図1
Description
本実施例は、図1に示した本発明の第1の実施形態の熱回路基板の製造を例示する。
本実施例は、図2に示した本発明の第2の実施形態の熱回路基板の製造を例示する。
2枚の厚さ18μmの銅箔(250×250mm)上に、幅100μmの溝を与えるレジストマスクを形成し、化学エッチングを行って、深さ25μmの溝を形成した。それら2つの銅箔を、溝形成面を対向させて一体的に固着させて、熱回路基板を得た。
20(a,b) (第1、第2)溝未形成硬化ポリイミド層
25(a,b) (第1、第2)硬化ポリイミド層
30 プレキュアポリイミド層
35 プレキュアポリイミド層
40、45 硬化ポリイミド層
Claims (7)
- 第1および第2の熱伝導体箔と、前記第1および第2の熱伝導体箔に挟持される硬化ポリイミド層とを有し、前記硬化ポリイミド層中に前記第1および第2の熱伝導体箔の少なくとも一方に直接接触する流路が設けられていることを特徴とする熱回路基板。
- 前記流路は、前記第1および第2の熱伝導体箔に直接接触していることを特徴とする請求項1に記載の熱回路基板。
- 前記硬化ポリイミド層と前記第2の熱伝導体箔との間に、硬化ポリイミド薄層をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の熱回路基板。
- 第1の熱伝導体箔上に、前記第1の熱伝導体箔表面まで貫通する第1の溝を有する第1の硬化ポリイミド層を形成する工程と、
第2の熱伝導体箔上に、前記第1の溝の位置に対応し、前記第2の熱伝導体箔表面まで貫通する第2の溝を有する、第2の硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層の積層体を形成する工程と、
前記第1および第2の熱伝導体箔を、第1の硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層が対向する状態で、第1および第2の溝の位置を合わせて貼り合わせて、貼り合わせ体を形成する工程と、
前記貼り合わせ体を、前記プレキュアポリイミド層のプレキュア温度よりも高い温度まで加熱して、前記第1および第2の硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層を一体化して硬化ポリイミド層を形成し、熱回路基板を得る工程と
を含むことを特徴とする熱回路基板の製造方法。 - 前記第1および第2の硬化ポリイミド層および前記プレキュアポリイミド層は、同一種のポリイミド材料から形成されることを特徴とする請求項4に記載の熱回路基板の製造方法。
- 第1の熱伝導体箔上に、前記第1の熱伝導体箔表面まで貫通する溝を有する硬化ポリイミド層を形成する工程と、
第2の熱伝導体箔上に、プレキュアポリイミド層を形成する工程と、
前記第1および第2の熱伝導体箔を、第1の硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層が対向する状態で貼り合わせて、貼り合わせ体を形成する工程と、
前記貼り合わせ体を、前記プレキュアポリイミド層のプレキュア温度よりも高い温度まで加熱して、前記硬化ポリイミド層およびプレキュアポリイミド層を一体化して硬化ポリイミド層を形成し、熱回路基板を得る工程と
を含むことを特徴とする熱回路基板の製造方法。 - 前記硬化ポリイミド層および前記プレキュアポリイミド層は、同一種のポリイミド材料から形成されることを特徴とする請求項7に記載の熱回路基板の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101103858B1 (ko) * | 2008-12-24 | 2012-01-11 | 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 | 냉각 메커니즘을 포함하는 본딩된 반도체 기판 |
CN111372336A (zh) * | 2020-03-25 | 2020-07-03 | 广州智慧医疗科技有限公司 | 一种红外电热膜及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08213523A (ja) * | 1995-02-03 | 1996-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 冷却モジュールおよびその製造方法 |
JP2004190985A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Sony Corp | 熱輸送装置および熱輸送装置の製造方法 |
-
2005
- 2005-01-17 JP JP2005009695A patent/JP2006202787A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08213523A (ja) * | 1995-02-03 | 1996-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 冷却モジュールおよびその製造方法 |
JP2004190985A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Sony Corp | 熱輸送装置および熱輸送装置の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101103858B1 (ko) * | 2008-12-24 | 2012-01-11 | 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 | 냉각 메커니즘을 포함하는 본딩된 반도체 기판 |
CN111372336A (zh) * | 2020-03-25 | 2020-07-03 | 广州智慧医疗科技有限公司 | 一种红外电热膜及其制备方法 |
CN111372336B (zh) * | 2020-03-25 | 2021-10-26 | 广州智慧医疗科技有限公司 | 一种红外电热膜及其制备方法 |
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