JP2006198641A - イオンビーム加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】接着剤1中にナノ粒子2を分散させて加工面3に塗布し、ナノ粒子2が加工面3に固定された状態で加工面3にガスクラスターイオンビーム4を照射し、ナノ粒子2によるマスク部分を除く加工面3を加工する。
【選択図】図1
Description
a.レジスト液(製品名:OFR-5LB)
成分:乳酸エチル:80〜50%、酢酸ノルマルブチル:10〜5%
b.希釈液(製品名:LBシンナー)
成分:乳酸エチル:90%、酢酸ノルマルブチル:10%
c.希釈率:10倍
d.乾燥速度
スピンコータ(1000rpm以上)に滴下後、すぐ(数秒)
a.エポキシ系接着剤(商品名:アロンアルファ(東亜合成株式会社、登録商標))
b.希釈液
トリクロロエチレン:99.5%
c.希釈率:10倍
d.乾燥速度
スピンコータ(1000rpm以上)に滴下後、すぐ(数秒)
a.ワックス(アピエゾンワックスW)
b.希釈液
トリクロロエチレン:99.5%
c.希釈率:10倍以上
d.乾燥速度
スピンコータ(1000rpm以上)に滴下後、すぐ(数秒)
2 ナノ粒子
3 加工面
4 ガスクラスターイオンビーム
5 凸部
Claims (5)
- 接着剤中にナノ粒子を分散させて加工面に塗布し、前記ナノ粒子が前記加工面に固定された状態で前記加工面にガスクラスターイオンビームを照射し、前記ナノ粒子によるマスク部分を除く前記加工面を加工することを特徴とするイオンビーム加工方法。
- 前記加工面に多数形成する凸部の要求密度を満足するように前記接着剤への前記ナノ粒子の混入量を調整することを特徴とする請求項1記載のイオンビーム加工方法。
- 前記加工面に多数形成する凸部の要求均一度を満足するように前記接着剤中の前記ナノ粒子の分散度を調整することを特徴とする請求項1又は2記載のイオンビーム加工方法。
- 前記接着剤の塗布後において、前記ナノ粒子が前記加工面上で凝集する前に前記接着剤が固まるように前記接着剤の濃度を調整することを特徴とする請求項1から3のいずれか1つに記載のイオンビーム加工方法。
- 前記ガスクラスターイオンビームを加速する加速電圧の値を段階的に又は連続的に減少させながら加工を行うことを特徴とする請求項1から4のいずれか1つに記載のイオンビーム加工方法。
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2005
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