JP2006189857A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006189857A JP2006189857A JP2005376295A JP2005376295A JP2006189857A JP 2006189857 A JP2006189857 A JP 2006189857A JP 2005376295 A JP2005376295 A JP 2005376295A JP 2005376295 A JP2005376295 A JP 2005376295A JP 2006189857 A JP2006189857 A JP 2006189857A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- liquid crystal
- cell gap
- crystal display
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 176
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 70
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 58
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 8
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N aluminum neodymium Chemical compound [Al].[Nd] UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 aluminum neodymium Chemical compound 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920001690 polydopamine Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E02—HYDRAULIC ENGINEERING; FOUNDATIONS; SOIL SHIFTING
- E02B—HYDRAULIC ENGINEERING
- E02B3/00—Engineering works in connection with control or use of streams, rivers, coasts, or other marine sites; Sealings or joints for engineering works in general
- E02B3/04—Structures or apparatus for, or methods of, protecting banks, coasts, or harbours
- E02B3/06—Moles; Piers; Quays; Quay walls; Groynes; Breakwaters ; Wave dissipating walls; Quay equipment
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133388—Constructional arrangements; Manufacturing methods with constructional differences between the display region and the peripheral region
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Ocean & Marine Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【課題】表示特性を向上させることができる液晶表示装置を開示する。
【解決手段】画像が表示される表示領域DAを取り囲む非表示領域PA1、PA2に部分的に配置された有機絶縁膜パターン140、150を具備する。パターン140、150の間の有機絶縁膜が存在しない空間は、第1基板100と第2基板200が結合される時に閉じ込められた空気が排出される通路になる。したがって、第1基板100と第2基板200が結合される時に閉じ込められた空気を迅速に排出することができ均一なセルギャップを維持することができて、表示特性を向上させることができる。
【選択図】図2
【解決手段】画像が表示される表示領域DAを取り囲む非表示領域PA1、PA2に部分的に配置された有機絶縁膜パターン140、150を具備する。パターン140、150の間の有機絶縁膜が存在しない空間は、第1基板100と第2基板200が結合される時に閉じ込められた空気が排出される通路になる。したがって、第1基板100と第2基板200が結合される時に閉じ込められた空気を迅速に排出することができ均一なセルギャップを維持することができて、表示特性を向上させることができる。
【選択図】図2
Description
本発明は液晶表示装置に関し、より詳細には表示特性を向上させることができる液晶表示装置に関する。
一般に、液晶表示装置は平板表示装置の一種であって、液晶の光学的特性を利用して画像を表示する。液晶表示装置は、光を利用して入力された画像信号に対応する画像を表示する液晶表示パネル及び液晶表示パネルに光を提供するバックライトアセンブリを含む。
液晶表示パネルは薄膜トランジスタ(以下、TFT)がマトリックス形態に形成されたTFT基板、TFT基板と対向して配置されて結合されたカラーフィルター基板、TFT基板とカラーフィルター基板との間に形成され電界によって光透過度を調節する液晶層、及び第1基板と第2基板間のセルギャップを維持するスペーサを具備する。
一般に、液晶表示パネルは、製品量産の効率化のために、大型ガラス母基板を利用してTFT基板及びカラーフィルター基板を形成する。特に、携帯電話、PDA等のような中小型製品の場合、一つのガラス母基板に数多くの第1基板又は第2基板が形成される。
液晶表示パネルを形成するために、TFT基板が形成されたガラス母基板とカラーフィルター基板が形成されたガラス母基板が結合される。結合された2つのガラス母基板は、TFT基板及びカラーフィルター基板が形成されたLCD単位セル別に切断して液晶表示パネルを完成する。ガラス母基板に形成されたLCD単位セルは所定の距離だけ離隔され形成される。
2つのガラス母基板、すなわち、TFT基板とカラーフィルター基板が結合される時、TFT基板とカラーフィルター基板との間に空気が閉じ込められて空気層ができてしまう。この空気層内の空気が外部に逃がされずに、LCD単位セル内に残ると、シールラインが狭くなる虞があるため、均一なセルギャップを維持することができない。その結果、液晶表示パネルのセルギャップが不均一になって表示品質が低下する。又、シールラインが狭くなると、シールラインが狭くなる部分のニュートンリングに屈曲が生じて、表示品質が低下する。
本発明の目的は、均一なセルギャップを維持して表示特性を向上させることができる液晶表示装置を提供することにある。
前記した本発明の目的を実現するための一特徴による液晶表示装置は、第1基板、第2基板、液晶層、及び第1セルギャップ維持部材で構成される。
第1基板は、画像を表示する第1領域及び第1領域を取り囲む第2領域に区分され、第2領域に部分的に配置された有機絶縁膜パターンを具備する。第2基板は、第1基板と互いに対向するように配置されて結合されている。液晶層は、第1領域で第1基板と第2基板との間に封入されていて、外部から提供される光の透過率を調節する。第1セルギャップ維持部材は、第2領域で有機絶縁膜パターン上に位置して、第1及び第2基板を所定の距離だけ離隔する。
また、本発明は、画像を表示する第1領域及び前記第1領域を取り囲む第2領域に区分される第1基板と、前記第1基板と互いに対向するように結合された第2基板と、前記第1領域で前記第1基板と前記第2基板との間に封入された液晶層と、前記第2領域で前記第1基板と前記第2基板との間に部分的に配置され、前記第1及び第2基板を所定の距離だけ離隔する第1セルギャップ維持部材と、前記第1領域で前記第1基板と前記第2基板との間に介在され、前記第1及び第2基板を所定の距離だけ離隔する第2セルギャップ維持部材と、を含み、互いに隣接する2つの前記第1セルギャップ維持部材は第1間隔だけ離隔され、互いに隣接した2つの前記第2セルギャップ維持部材は、前記第1間隔と異なる第2間隔だけ離隔されることを特徴とする液晶表示装置である。
このような液晶表示装置によると、第2領域に位置する有機絶縁膜パターンは部分的に配置されていることで、第2領域において有機絶縁膜の存在しない空間が形成されている。これにより液晶表示装置は第1基板と第2基板が結合する時に閉じ込められた空気が排出される空間をより多く確保することができる。したがって、この液晶表示装置は第1領域内に空気層が形成されることを防止することができ、これによって、均一なセルギャップを維持することができる。
以下、添付図面を参照して、本発明をより詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示す平面図である。
図1を参照すると、本発明による液晶表示装置は、第1基板100、前記第1基板100と互いに対向するように配置されて結合している第2基板200、及び前記第1基板100と前記第2基板200との間に介在される液晶層300を含む。
より詳細には、前記第1及び第2基板100及び200は画像が表示される多数の表示領域DA、及び各表示領域DAを取り囲む非表示領域PA1、PA2に区分される。前記非表示領域PA1、PA2は、前記多数の表示領域を取り囲む第1非表示領域PA1及び互いに隣接した2つの表示領域間に位置する第2非表示領域PA2で構成される。前記第1非表示領域PA1は、前記第1及び第2基板100、200のエッジ領域を言う。
前記第1及び第2基板100、200は、前記各表示領域DA別に切断され液晶表示パネルを形成する。
図2は、図1のI−I’に沿って切断した断面図である。
図2を参照すると、前記液晶表示装置は、前記第1基板100、前記第2基板200、前記液晶層300、前記第1基板100と前記第2基板200との間のセルギャップを均一に維持するための第1乃至第3スペーサ410、420、430、及び前記第1基板100と前記第2基板200を結合するシーラント500(結合部材)を含む。
より詳細には、前記第1基板100は、第1透明基板110、前記第1透明基板110上に具備されスイッチング素子として動作する薄膜トランジスタ(以下、TFT)120、及び前記TFT120の上部に具備される有機絶縁膜パターン130、140、150を具備する。
具体的に前記第1透明基板110は、前記第1基板100の下部に具備されたバックライトアセンブリ(図示せず)から提供される光が前記第2基板200に提供されるようにガラス、石英、及びサファイア等の透明な材質からなる。
前記第1透明基板110の上面に具備される前記TFT120は、前記表示領域DAに位置する。前記TFT120はマトリックス形態に形成され、信号電圧を前記液晶層300に印加して、遮断する。
図示していないが、前記表示領域は画像を表示する基本単位である画素で構成される。前記TFT120は各画素別に位置し、前記信号電圧は前記各画素別に印加される。
前記TFT120が形成された前記第1透明基板110の上部には、前記有機絶縁膜パターン130、140、150が具備される。前記有機絶縁膜パターン130、140、150は、前記表示領域DA及び前記第1及び第2非表示領域PA1及びPA2に具備される。
前記表示領域DAに位置する有機絶縁膜パターン130は、前記TFT120の上部に位置して前記TFT120を保護する。
前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2に位置する有機絶縁膜パターン140、150は部分的に除去されており、一つの前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2において、少なくとも1本ずつ形成されている(図においては第1及び第2非表示領域PA1、PA2それぞれにおいて、2本ずつ形成されている。)。
前記第1非表示領域PA1に位置する有機絶縁膜パターン140は、前記第1スペーサ410と対応して位置し、前記第2非表示領域PA2に位置する有機絶縁膜パターン150は、前記第2スペーサ420と対応して位置する。
このように、前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2に位置する有機絶縁膜パターン140、150は、前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2を完全にふさぐことなく、部分的に除去されて所定の間隔をあけて形成されているのでので、前記第1及び第2基板100、200が互いに結合される時、前記第1基板100と第2基板200との間に閉じ込められた空気を外部に迅速に排出することができる。即ち、前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2で前記有機絶縁膜パターン140、150が部分的に廃止され、有機絶縁膜の存在しない部分は、閉じ込められた空気が排出される通路の役割を果たす。
前記液晶表示装置は、前記有機絶縁膜パターン140、150下形成されて有機絶縁膜の存在しない分だけ前記空気が排出される空間を更に確保することができるので、前記空気を迅速に排出することができる。これによって、前記液晶表示装置は、前記空気が前記表示領域DAに閉じ込められて前記シーラント500を圧迫してその幅が狭くなり、前記シーラント500の高さが高くなるようなことを防止することができる。これによって、前記液晶表示装置は均一なセルギャップを維持することができるので、表示特性を向上させることができる。
前記第1基板100の上部には、前記第2基板200が具備される。前記第2基板200は、第2透明基板210、光を利用して所定の色を発現するカラーフィルター層220、及び共通電圧を前記液晶層300に印加する共通電極230を含む。
具体的に、前記第2透明基板210は、前記第1透明基板110と同じ材質からなる。
前記第2透明基板210の上部には、前記カラーフィルター層220及び前記共通電極230が順次に具備される。前記カラーフィルター層220は、前記表示領域DAに位置し、薄膜工程によって形成される。前記カラーフィルター層220は、前記液晶層300を通過した光を利用して、所定の色を発現する色画素221、及び前記色画素221を取り囲み、前記色画素221から漏洩する光を遮断するブラックマトリックス222を具備する。
前記色画素221はRGB色画素221a、221b、221cで構成され、前記各画素にはRGB色画素221a、221b、221cのうち、いずれか一つの色画素が位置する。前記RGB色画素221a、221b、221cは、赤色、緑色、及び青色の顔料又は染料を有するフォトレジストで形成される。
前記RGB色画素221a、221b、221cを形成するために、前記ブラックマトリックス222が形成された前記第2透明基板210上に前記フォトレジストが塗布される。前記塗布されたフォトレジストを露光及び現像工程を利用してパターニングすると、前記RGB色画素221a、221b、221cが形成される。この際、前記RGB色画素221a、221b、221cは、約1.0μm〜2.0μm程度の高さに形成され、色を配列する規則によって一定のパターンに配置される。
前記ブラックマトリックス222は、前記RGB色画素221a、221b、221cから漏洩する光を遮断して対比比(C/R)を向上させる。前記ブラックマトリックス222は、クロム/クロム酸化物(CrOx)からなるか、カーボン顔料又はRGB混合顔料が分散されたフォトレジストからなる。前記TFT121は、前記ブラックマトリックス222と対応する領域に形成され、外部で前記TFT121を認識しないようにする。
前記カラーフィルター層220の上面に具備される前記共通電極230は、前記表示領域DAに具備される。前記共通電極230は、透明な導電性金属、例えば、インジウムティンオキサイド(以下、ITO)、インジウムジンクオキサイド(以下、IZO)等からなり、前記液晶層300に前記共通電圧を印加する。
一方、前記第1基板100と前記第2基板200との間には、前記液晶層300が介在される。前記液晶層300は前記表示領域DAに位置し、前記第1基板100と前記共通電極230との間に形成される電界によって前記光の透過度を調節する。
前記第1基板100と前記第2基板200との間には、前記第1乃至第3スペーサ410、420、430が具備される。前記第1乃至第3スペーサ410、420、430は、前記第1基板100と前記第2基板200を所定の距離だけ離隔する。前記第1乃至第3スペーサ410、420、430は弾性を有する有機物質からなり、好ましくは、前記第1乃至第3スペーサ410、420、430は、フォトリソグラフィ工程を通じて形成されるカラムスペーサで形成される。なお、前記第1及び第2スペーサ410及び420は第1セルギャップ維持部材、第3スペーサ430は第2セルギャップ維持部材として機能するものである。
前記第1乃至第3スペーサ410、420、430は、前記第1基板100及び前記第2基板200のうち、いずれか一つの基板に形成される。前記第1基板100に前記第1乃至第3スペーサ410、420、430を形成する場合、前記第1乃至第3スペーサ410、420、430を形成する工程過程で前記TFT120や配線に圧力が印加されてラインが断絶される虞があるので、前記第2基板200に形成することが好ましい。
具体的に、前記第1スペーサ410は前記第1非表示領域PA1に位置し、前記有機絶縁膜パターン140上に位置する。前記第2スペーサ420は前記第2非表示領域PA2に位置し、前記有機絶縁膜パターン150上に位置する。
前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2は、前記液晶層300が具備されない。このため、前記第1基板100と前記第2基板200がこの部分で互いに密着したり、前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2のセルギャップが前記表示領域DAのセルギャップより少なくなるおそれがある。これによって、前記第1基板100と前記第2基板200が互いに結合される時に閉じ込められる空気を排出するのが困難になる。前記第1及び第2スペーサ410、420は、前記有機絶縁膜パターン140及び150上に位置させていることで、前記有機絶縁膜パターン140及び150と共に、いっそう前記空気が外部に排出されるように、前記第1基板100と前記第2基板200を所定距離だけ離隔することができる。
前記表示領域DAに位置する前記第3スペーサ430は、前記表示領域DAのセルギャップを均一に維持する。
基板のエッジと隣接して位置する前記第1スペーサ410の幅W1は、互いに隣接した2つの表示領域DA(第1領域)の間に位置する前記第2スペーサ410の幅W2より大きい。
前記第2スペーサ420の幅W2は、前記第3スペーサ430の幅W3(第2セルギャップ維持部材の幅)より大きい。好ましくは、前記第1及び第2スペーサ410、420の幅W1、W2は、前記第3スペーサ430の幅W3より約10倍乃至約20倍大きい。
一般に、前記第3スペーサ430の幅W3は約10μmである。したがって、前記第1及び第2スペーサ410、420の幅W1、W2は、約100μm乃至約200μmに形成されることが好ましい。特に、前記第1スペーサ410は、前記第2スペーサ420より大きい幅を有するので、前記第1スペーサ410の幅W1は約200μmに形成され、前記第2スペーサ420の幅W2は約100μmに形成されることが好ましい。
一方、前記シーラント500は、前記第1基板100と前記第2基板200との間に位置し、前記表示領域DAを取り囲む。前記シーラント500は、前記第1基板100と前記第2基板200を結合して、前記液晶層300を封止する。
前記第1基板100と前記第2基板200を結合するために、まず、前記シーラント500を前記第1基板100及び前記第2基板200のうち、いずれか一つの基板に塗布する。前記シーラント500が形成された前記第1基板100と前記第2基板200を結合し、液晶を真空注入して、前記液晶層300を形成する。前記シーラント500は、前記第1及び第2基板100、200の両面(またはいずれか一方)から照射させた紫外線によって硬貨させて、前記第1及び第2基板100、200を結合する。
図3は、図2に図示された第1基板を示す断面図である。
図3を参照すると、前記第1基板100に具備される前記TFT120は、前記第1透明基板110上に具備されるゲート電極121、前記ゲート電極121の上部に位置するゲート絶縁膜122、前記ゲート絶縁膜122上に具備されるアクティブ層123、前記アクティブ層123上に具備されるオームコンタクト層124、及び前記オームコンタクト層124上に具備されるソース及びドレイン電極125、126を含む。
より詳細には、前記ゲート電極121は、ゲート信号を伝送するゲートライン(図示せず)から分岐され前記ゲート信号の印加を受ける。前記ゲート電極121は、アルミニウム(Al)又はアルミニウムネオジウム(AlNd)のようなアルミニウム合金、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)等のような導電性金属材質からなる。この実施形態において、前記ゲート電極121は単一膜で形成されるが、二重膜又は三重膜で形成することもできる。
前記ゲート電極121が形成された前記第1透明基板110の上部には、前記ゲート絶縁膜122が具備される。前記ゲート絶縁膜122は、金属物質と接着力が良く、界面に空気層の形成を抑制する酸化シリコン(SiO2)や窒化シリコン(SiNx)のような絶縁物質からなる。
前記ゲート絶縁膜122の上面に具備される前記アクティブ層123は、前記ゲート電極121が形成された領域に位置する。前記アクティブ層123は非晶質シリコンからなる。
前記アクティブ層123の上面に具備される前記オームコンタクト層124は、n+非晶質シリコンからなり、中央部が除去され形成されたチャンネル領域CAを有する。前記アクティブ層123は、前記チャンネル領域CAを通じて部分的に露出される。
前記オームコンタクト層124の上面には、前記ソース及びドレイン電極125、126が具備される。前記ソース及びドレイン電極125、126は、アルミニウム又はアルミニウムネオジウムのようなアルミニウム合金、クロム、モリブデン等のような導電性金属材質からなる。
この実施形態において、前記ソース及びドレイン電極125、126は単一膜で形成されるが、二重膜又は三重膜で形成されることもできる。
前記ソース電極125は、データ信号を伝送するデータライン(図示せず)から分岐され前記データ信号の印加を受ける。前記ソース電極125は、第1端部が前記オームコンタクト層124の上面に位置し、前記第1端部と対向する第2端部は前記ゲート絶縁膜122上に位置する。
前記ドレイン電極126は、前記チャンネル領域CAを中心として前記ソース電極125と互いに向かい合う。前記ドレイン電極126は、第1端部が前記オームコンタクト層124の上面に位置し、前記第1端部と対向する第2端部が前記ゲート絶縁膜122の上面に位置する。
前記TFT120が形成された前記第1透明基板110の上部には、保護膜160が具備される。前記保護膜160は、前記TFT120及び前記第1透明基板110上に形成される配線を保護する。前記保護膜160は、酸化シリコン(SiO2)や窒化シリコン(SiNx)のような無機絶縁物質からなり、約2000Åの厚さを有することが好ましい。
前記保護膜160の上部には、前記有機絶縁膜パターン130、150が具備される。前記第2非表示領域PA2に位置する有機絶縁膜パターン150は、前記保護膜160上に部分的に位置する。
前記表示領域DAに位置する有機絶縁膜パターン130及び前記保護膜160は、前記ドレイン電極126を部分的に露出するように一部分が除去され、コンタクトホールCHを形成する。
前記有機絶縁膜パターン130の上面には、前記液晶層300(図2参照)に前記信号電圧を印加する画素電極170が具備される。前記画素電極170は、前記コンタクトホールCHを通じて前記ドレイン電極126と電気的に連結される。前記画素電極170は、ITO又はIZOのような導電性酸化膜からなる。
図示していないが、前記液晶表示装置が反射−透過型液晶表示装置である場合には、前記画素電極170の上面に外部から入射される光を反射する反射電極を更に具備することができる。
図4は、図2に図示された液晶表示装置を示す部分平面図であり、図5は、図4に図示されたA部分を拡大して示す平面図である。
図4は、第1乃至第3スペーサ410、420、430の位置関係をより明確に図示するために、前記第1基板100を省略して図示した。
図4及び図5を参照すると、前記第2基板200の前記第1非表示領域PA2には前記第1スペーサ410が位置する。互いに隣接した2つの第1スペーサ410は第1間隔d1だけ離隔されている。前記第1スペーサ410と前記第2基板200のエッジとの間の最短距離d4は従来の約10mmより狭い約5mmである。
第1表示領域DA1と前記第1表示領域DA1と隣接した第2表示領域DA2との間に位置する前記第2非表示領域PA2には、前記第2スペーサ420が位置する。互いに隣接した2つの第2スペーサは、前記第1間隔d1より狭い第2間隔d2だけ離隔される。例えば、前記第2間隔d2が約1000μmである場合、前記第1間隔d1は約2500μmである。
前記第2基板200の前記第1及び第2表示領域DA1、DA2には、前記第3スペーサ430が位置する。
図5を参照すると、前記第3スペーサ430は、前記ブラックマトリックス222の上部に位置する。互いに隣接した2つの第3スペーサは、前記第2間隔d2より狭い第3間隔d3だけ離隔される。前記第3間隔d3は、前記液晶表示装置のサイズ及び画素の大きさによって増加されるか減少される。
前記第1及び第2間隔d1、d2は、前記第3間隔d3より約4倍乃至約6倍大きい。このように、前記第1及び第2間隔d1、d2が前記第3間隔d3より大きく形成される。したがって、前記第1基板100及び第2基板200からそれぞれの第1及び第2スペーサ410、420に加わる圧力は、それぞれの第3スペーサ430に加わる圧力より大きい。このような点を補完するために、図2に示されたように、前記第1及び第2スペーサ410、420は、前記第3スペーサ430より大きく形成されている。
前述したように、前記第1乃至第3スペーサ410、420、430は、互いに異なる間隔だけ離隔される。前記第1及び第2スペーサの離隔距離は、前記第3スペーサの離隔距離より大きい。したがって、前記第1基板100(図2参照)と前記第2基板200が結合する時に閉じ込められた前記空気を排出することができる空間をより多く確保することができる。これによって、前記液晶表示装置は、前記空気を迅速に排出することができるので、前記空気によってシールラインが狭くなることを防止し、均一なセルギャップを維持することができる。
前記第1表示領域DA1を取り囲む前記シーラント500は、前記液晶層300を形成する液晶が注入されるように一部分が開口され形成された液晶注入口IAを有する(図4参照)。前記液晶注入口IAには、前記第2スペーサ420が具備される。前記液晶注入口IAに位置する前記第2スペーサ420は、前記液晶注入口IAを通じて前記空気が迅速に排出されるように、前記第1基板100と前記第2基板200を所定距離だけ離隔する。
図6は、図2に図示された第2基板を示す部分斜視図である。
図6を参照すると、前記第2基板200の前記表示領域DAには前記カラーフィルター層220が具備される。前記カラーフィルター層220の上部には、前記第3スペーサ430が具備される。前記第3スペーサ430は、前記カラーフィルター層220と接する下部面から前記第1基板100(図2参照)と接する上部面に行くほど幅が減少する。したがって、前記第3スペーサ430の側面は平行四辺形状を有する。
この実施形態において、前記第1乃至第3スペーサ410、420、430は四角柱形状を有するが、円柱形状等の多様な形状に形成されることができる。
前記シーラント500は前記カラーフィルター層220の外郭を取り囲む。
前記第1非表示領域PA1の前記第2透明基板210の上面には、前記第1スペーサ410が具備される。前記第2非表示領域PA2の前記第2透明基板210の上面には前記第2スペーサ420が具備される。前記第1及び第2スペーサ410、420は前記シーラント500と所定の距離だけ離隔され位置する。
前記第1及び第2スペーサ410、420は、前記第3スペーサ430と同じ形状に形成される。前記第1乃至第3スペーサ410、420、430は、互いに異なる幅に形成され、その高さは同じに形成される。
図7は、図2に図示された第1基板を示す部分斜視図である。
図7を参照すると、前記第1透明基板110の前記表示領域DAには前記有機絶縁膜パターン130が全領域に形成される。
図示していないが、前記表示領域DAに位置する有機絶縁膜パターン130は、前記第3スペーサ430(図6参照)と対応するように位置する。
前記第1及び第2表示領域PA1、PA2に位置する前記有機絶縁膜パターン140、150は、前記シーラント500(図6参照)が形成されるシールライン領域SLで除去される。前記第1及び第2非表示領域PA1、PA2に位置する前記有機絶縁膜パターン140、150は、前記第1透明基板110と接する下部面から上部面に行くほど幅が減少する。
図示していないが、前記第1非表示領域PA1に位置する有機絶縁膜パターン140は、前記第1スペーサ410(図6参照)と対応するように位置し、前記第2非表示領域PA2に位置する有機絶縁膜パターン150は、前記第2スペーサ420(図6参照)と対応されるように位置する。
以上説明した本実施形態によると、液晶表示装置は、第1及び第2非表示領域で部分的に除去されている有機絶縁膜パターンを具備する。第1及び第2非表示領域に位置する第1及び第2スペーサは前記有機絶縁膜パターンの上面に位置する。前記液晶表示装置は、第1基板と第2基板を結合する時に、有機絶縁膜パターンが存在しない部分の空間を通して閉じ込められた空気を迅速に排出することができる。
これによって、液晶表示装置は表示領域内に空気層が形成されることを防止して、空気層のためにシールラインが狭くなることを防止することができる。これによって、液晶表示装置は均一なセルギャップを維持することができ、表示特性を向上させることができる。
又、第1及び第2非表示領域に位置する第1及び第2スペーサの幅は表示領域に位置する第3スペーサの幅より大きく、第1及び第2スペーサの間隔は第3スペーサの間隔より広い。即ち、第1及び第2スペーサは、単位面積当たり具備される個数が第3スペーサより少ない代わりに、第3スペーサより大きく形成される。これによって、液晶表示装置は表示領域内に位置する空気層を迅速に排出することができるので、均一なセルギャップを維持することができ、表示特性を向上させることができる。
以上、本発明を実施形態によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正又は変更できる。
100…第1基板、
130、140、150…有機絶縁膜パターン、
200…第2基板、
300…液晶層、
410、420、430…スペーサ、
500…シーラント。
130、140、150…有機絶縁膜パターン、
200…第2基板、
300…液晶層、
410、420、430…スペーサ、
500…シーラント。
Claims (22)
- 画像を表示する第1領域及び前記第1領域を取り囲む第2領域に区分され、前記第2領域に部分的に配置された有機絶縁膜パターンを具備する第1基板と、
前記第1基板と互いに対向するように結合された第2基板と、
前記第1領域で前記第1基板と前記第2基板との間に封入された液晶層と、
前記第2領域で前記有機絶縁膜パターン上に位置して、前記第1基板及び前記第2基板を所定距離だけ離隔する第1セルギャップ維持部材と、を含むことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記有機絶縁膜パターンは、互いに所定距離だけ離隔されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
- 前記第1領域に位置し、前記第1基板及び前記第2基板を所定距離だけ離隔する第2セルギャップ維持部材を更に含むことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
- 前記第1セルギャップ維持部材の幅は、前記第2セルギャップ維持部材の幅より約10倍乃至約20倍大きいことを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置。
- 前記第1セルギャップ維持部材の幅は、約100μm乃至約200μmであることを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。
- 前記第1基板のエッジと隣接して位置する前記第1セルギャップ維持部材は第1幅を有し、互いに隣接した2つの第1領域の間に位置する前記第1セルギャップ維持部材は第2幅を有し、
前記第1幅は、前記第2幅より大きいことを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。 - 前記第1幅は、約200μmであることを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置。
- 前記第2幅は、約100μmであることを特徴とする請求項6記載の液晶表示装置。
- 互いに隣接する2つの前記第1セルギャップ維持部材は第1間隔だけ離隔され、互いに隣接する2つの前記第2セルギャップ維持部材は第2間隔だけ離隔され、
前記第1間隔と前記第2間隔は異なる大きさであることを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置。 - 前記第1間隔は、前記第2間隔より約4倍乃至約6倍大きいことを特徴とする請求項9記載の液晶表示装置。
- 前記第1基板のエッジと隣接した領域で互いに隣接した2つの前記第1セルギャップ維持部材は第3間隔だけ離隔され、互いに隣接した2つの前記第1領域間で互いに隣接した2つの前記第1セルギャップ維持部材は第4間隔だけ離隔され、
前記第3間隔は前記第4間隔より大きいことを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置。 - 前記第1基板のエッジから前記第1セルギャップ維持部材までの最短距離は約5mmであることを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置。
- 前記第2領域で前記第1基板と前記第2基板との間に位置して、前記第1基板と第2基板を結合して前記液晶層を封止する結合部材を更に含むことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
- 前記結合部材は、前記液晶層を形成する液晶を注入するための液晶注入口を有することを特徴とする請求項13記載の液晶表示装置。
- 前記第1セルギャップ維持部材の一部は、前記液晶注入口に位置することを特徴とする請求項14記載の液晶表示装置。
- 前記液晶注入口に位置する前記第1セルギャップ維持部材の幅は、互いに隣接して位置する2つの第1領域の間に位置する前記第1セルギャップ維持部材の幅と同じであることを特徴とする請求項15記載の液晶表示装置。
- 前記液晶注入口で互いに隣接して位置する2つの前記第1セルギャップ維持部材間の間隔は、2つの第1領域間で互いに隣接して位置する2つの前記第1セルギャップ維持部材間の間隔と同じであることを特徴とする請求項16記載の液晶表示装置。
- 画像を表示する第1領域及び前記第1領域を取り囲む第2領域に区分される第1基板と、
前記第1基板と互いに対向するように結合された第2基板と、
前記第1領域で前記第1基板と前記第2基板との間に封入された液晶層と、
前記第2領域で前記第1基板と前記第2基板との間に部分的に配置され、前記第1及び第2基板を所定の距離だけ離隔する第1セルギャップ維持部材と、
前記第1領域で前記第1基板と前記第2基板との間に介在され、前記第1及び第2基板を所定の距離だけ離隔する第2セルギャップ維持部材と、を含み、
互いに隣接する2つの前記第1セルギャップ維持部材は第1間隔だけ離隔され、互いに隣接した2つの前記第2セルギャップ維持部材は、前記第1間隔と異なる第2間隔だけ離隔されることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1間隔は、前記第2間隔より約4倍乃至約6倍大きいことを特徴とする請求項18記載の液晶表示装置。
- 前記第1基板のエッジと隣接した領域で互いに隣接する2つの前記第1セルギャップ維持部材は第3間隔だけ離隔され、互いに隣接した2つの第1領域間で互いに隣接した2つの前記第1セルギャップ維持部材は第4間隔だけ離隔され、
前記第3間隔は、前記第4間隔より大きいことを特徴とする請求項19記載の液晶表示装置。 - 前記第1セルギャップ維持部材の幅は、前記第2セルギャップ維持部材の幅より約10倍乃至約20倍大きいことを特徴とする請求項18記載の液晶表示装置。
- 前記第1基板のエッジと隣接して位置する前記第1セルギャップ維持部材は第1幅を有し、互いに隣接した2つの第1領域間に位置する前記第1セルギャップ維持部材は第2幅を有し、
前記第1幅は前記第2幅より大きいことを特徴とする請求項21記載の液晶表示装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050001692A KR20060081210A (ko) | 2005-01-07 | 2005-01-07 | 액정표시장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006189857A true JP2006189857A (ja) | 2006-07-20 |
Family
ID=36652882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005376295A Pending JP2006189857A (ja) | 2005-01-07 | 2005-12-27 | 液晶表示装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7791705B2 (ja) |
JP (1) | JP2006189857A (ja) |
KR (1) | KR20060081210A (ja) |
CN (1) | CN100573242C (ja) |
TW (1) | TWI385450B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009093132A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置用セル及びその製造方法、並びに液晶表示装置の製造方法 |
US8319933B2 (en) | 2010-06-11 | 2012-11-27 | Au Optronics Corp. | Liquid crystal display panel |
JP2013044897A (ja) * | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示装置 |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070002674A (ko) * | 2005-06-30 | 2007-01-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
TWI276884B (en) * | 2005-11-15 | 2007-03-21 | Au Optronics Corp | Liquid crystal display panel |
US7768623B2 (en) * | 2006-07-31 | 2010-08-03 | Casio Computer Co., Ltd. | Liquid crystal display apparatus forming assembly, liquid crystal cell, and liquid crystal display apparatus, and manufacturing method thereof |
KR100859649B1 (ko) * | 2007-04-19 | 2008-09-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 다기능 키 패드용 표시 장치 및 이를 갖는 전자기기 |
KR100839741B1 (ko) * | 2007-04-19 | 2008-06-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 다기능 키 패드용 표시 장치 및 이를 갖는 전자기기 |
US7781784B2 (en) * | 2007-05-07 | 2010-08-24 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Display apparatus with color pixels |
EP2420913B1 (en) | 2007-12-03 | 2017-09-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. | Mobile phone |
JP5188825B2 (ja) * | 2008-02-14 | 2013-04-24 | 株式会社ジャパンディスプレイイースト | 表示装置 |
US20110205473A1 (en) * | 2009-01-09 | 2011-08-25 | Tomoshige Oda | Liquid crystal display panel |
CN102012576A (zh) * | 2009-09-07 | 2011-04-13 | 北京京东方光电科技有限公司 | 液晶面板母板及其制作方法 |
JP2013122471A (ja) * | 2010-03-31 | 2013-06-20 | Sharp Corp | 液晶表示素子、およびその製造方法、ならびに当該液晶表示素子を備えた液晶表示装置 |
KR101178914B1 (ko) * | 2010-10-29 | 2012-09-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널 일체형 평판표시장치 |
JP5583568B2 (ja) * | 2010-12-14 | 2014-09-03 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
KR101868357B1 (ko) | 2012-01-02 | 2018-06-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 렌즈 패널 및 이의 제조 방법 |
US8872339B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-10-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductors structure with elements having different widths and methods of making the same |
JP6011133B2 (ja) | 2012-08-08 | 2016-10-19 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置 |
CN103472629B (zh) * | 2013-09-12 | 2015-12-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板、显示面板 |
CN103698942B (zh) * | 2013-12-31 | 2017-05-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板、液晶模组及显示装置 |
CN103792735B (zh) * | 2014-01-22 | 2016-08-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 隔垫物、应用其的液晶面板及显示装置 |
CN103838027B (zh) * | 2014-03-31 | 2016-04-13 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种带有jas层的液晶显示面板 |
CN104238170B (zh) * | 2014-07-31 | 2017-06-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板 |
KR20160085398A (ko) * | 2015-01-07 | 2016-07-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
CN204462601U (zh) * | 2015-03-30 | 2015-07-08 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种液晶显示面板及显示装置 |
CN107438899B (zh) * | 2015-03-31 | 2021-04-30 | 科锐Led公司 | 具有包封的发光二极管和方法 |
CN105097670B (zh) * | 2015-07-31 | 2018-03-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种母板及其制作方法 |
KR102523923B1 (ko) * | 2016-02-29 | 2023-04-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 패널용 모기판, 그의 절단 방법, 및 그 방법에 의해 제조된 표시 패널 |
US10453827B1 (en) | 2018-05-30 | 2019-10-22 | Cree, Inc. | LED apparatuses and methods |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003186022A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2003186020A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-07-03 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0973093A (ja) * | 1995-09-06 | 1997-03-18 | Toshiba Electron Eng Corp | 液晶表示装置、及びその製造方法 |
JPH10123534A (ja) * | 1996-10-23 | 1998-05-15 | Toshiba Corp | 液晶表示素子 |
JP2001084100A (ja) * | 1999-08-27 | 2001-03-30 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | タッチセンサ式液晶表示装置および液晶表示装置 |
JP4077182B2 (ja) * | 2001-10-11 | 2008-04-16 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
JP2004062038A (ja) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Nec Lcd Technologies Ltd | 液晶表示装置 |
US7253868B2 (en) * | 2002-08-21 | 2007-08-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display device comprising a plurality of spacers having compression ratios gradually increasing as advancing from a center to left and right edges of display region |
KR100936953B1 (ko) * | 2002-12-31 | 2010-01-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 컬러필터 기판과 그 제조방법 |
US6917409B2 (en) * | 2003-02-18 | 2005-07-12 | Intel Corporation | Integrated spacer technology for LCOS light modulators |
JP2004301934A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-28 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
US7286204B2 (en) * | 2003-03-28 | 2007-10-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spacers for display devices |
JP4299584B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2009-07-22 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 液晶表示装置 |
-
2005
- 2005-01-07 KR KR1020050001692A patent/KR20060081210A/ko active Search and Examination
- 2005-12-27 JP JP2005376295A patent/JP2006189857A/ja active Pending
- 2005-12-29 US US11/322,015 patent/US7791705B2/en active Active
-
2006
- 2006-01-06 TW TW095100685A patent/TWI385450B/zh active
- 2006-01-09 CN CNB200610003630XA patent/CN100573242C/zh active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003186020A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-07-03 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2003186022A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-03 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009093132A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-30 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置用セル及びその製造方法、並びに液晶表示装置の製造方法 |
US8319933B2 (en) | 2010-06-11 | 2012-11-27 | Au Optronics Corp. | Liquid crystal display panel |
JP2013044897A (ja) * | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060152668A1 (en) | 2006-07-13 |
KR20060081210A (ko) | 2006-07-12 |
CN1800929A (zh) | 2006-07-12 |
CN100573242C (zh) | 2009-12-23 |
TW200639541A (en) | 2006-11-16 |
US7791705B2 (en) | 2010-09-07 |
TWI385450B (zh) | 2013-02-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2006189857A (ja) | 液晶表示装置 | |
US7061569B2 (en) | Upper substrate, liquid crystal display apparatus having the same and method of fabricating the same | |
US7428034B2 (en) | Liquid crystal display device | |
WO2017140000A1 (zh) | Va型coa液晶显示面板 | |
US7872724B2 (en) | Color filter substrate and liquid crystal display panel comprising the same | |
US7580092B2 (en) | Liquid crystal display device and method for fabricating the same | |
KR101308589B1 (ko) | 표시패널 및 이의 제조 방법 | |
US20090059135A1 (en) | Transreflective liquid crystal display and method of manufacturing the same | |
JP2005242099A (ja) | 液晶表示装置 | |
KR101256184B1 (ko) | 액정표시장치 | |
US6104462A (en) | LCD and fabrication method thereof having a pedestal and overlying organic film at a periphery of the display | |
JP2007240542A (ja) | 液晶表示素子 | |
KR101024642B1 (ko) | 액정표시패널 및 그 제조방법 | |
KR20050070326A (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
KR20060083703A (ko) | 실런트 도포장치 및 이를 사용하여 제조된 액정 표시 패널 | |
KR20060040104A (ko) | 액정표시장치 | |
KR20060061936A (ko) | 액정표시장치 | |
JP2004077861A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2009223021A (ja) | 表示素子 | |
JP2006106602A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
KR20050008292A (ko) | 액정표시장치 | |
KR20050004547A (ko) | 액정표시패널 | |
JP4128825B2 (ja) | 平面表示装置 | |
KR20060081213A (ko) | 액정표시장치 | |
KR20060080393A (ko) | 액정표시패널 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110802 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110803 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111227 |