JP2006181637A - フラックス及びこれを用いたはんだ付方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プリント配線板Pを溶融はんだに浸漬する前に塗布されるフラックスFに、ヒ素除去成分が含まれている。そのため、フラックスFを塗布した時に、プリント配線板Pに付着していたヒ素がヒ化クロムに変わる。又は、フラックスFが溶融はんだ中に入った後に、塗布時にヒ化クロムにならなかったヒ素や、溶融はんだ中に蓄積されていたヒ素が、ヒ化クロムに変わる。このヒ素クロムは、当然のことながら、はんだ槽のステンレス鋼と反応してヒ化クロムを生成することはあり得ない。すなわち、ヒ素は実質的に除去されたと言えるので、はんだ槽の侵食が防止される。また、フラックスFは、その使用にあたりはんだ槽に何ら手を加える必要がないので、既存のはんだ槽にも適用可能である。
【選択図】 図1
Description
はんだ(1)
はんだ(2)
Pb 0.016 Pb 0.027
Sb 0.009 Sb 0.008
Cu 0.50 Cu 0.50
Bi 0.01 Bi 0.003
Zn 0.0001 Zn 0.0001
Fe 0.003 Fe 0.002
Al 0.0001 Al 0.0001
As 0.073 As 0.006
Ag 3.10 Ag 3.00
Cd 0.0001 Cd 0.0001
Sn Bal. Sn Bal.
SUS304 SUS316
C 0.04 C 0.04
Si 0.50 Si 0.50
Mn 1.00 Mn 1.00
Ni 9.5 Ni 12.0
Cr 19.0 Cr 17.0
Mo − Mo 2.50
P 0.02 P −
S 0.015 S −
Fe Bal. Fe Bal.
As 48.06
Fe 42.73
Ni 0.10
Cr 0.07
Mo 0.00
Sn 9.04
As 45.54
Fe 16.64
Ni 0.11
Cr 28.60
Mo 1.60
Sn 7.61
As 35.33
Fe 11.52
Cr 31.27
Sn及びその他 21.88
20 はんだ付装置(浸漬式)
21 はんだ槽(浸漬式)
30 はんだ付装置(噴流式)
31 はんだ槽(噴流式)
F フラックス
S 溶融はんだ(鉛フリーはんだ)
P プリント配線板
Claims (13)
- はんだ槽内の溶融はんだにプリント配線板を接触させてはんだ付をする前に、前記プリント配線板に塗布されるフラックスにおいて、
前記プリント配線板に付着したヒ素又は前記プリント配線板から前記溶融はんだ中に供給されたヒ素を、ステンレス鋼に含まれるクロムと反応しにくいヒ素化合物に変えるヒ素除去成分を含む、
ことを特徴とするフラックス。 - はんだ槽内の溶融はんだにプリント配線板を接触させてはんだ付をする前に、前記プリント配線板に塗布されるフラックスにおいて、
前記プリント配線板に付着したヒ素又は前記プリント配線板から前記溶融はんだ中に供給されたヒ素を、ステンレス鋼に含まれる鉄と反応しにくいヒ素化合物に変えるヒ素除去成分を含む、
ことを特徴とするフラックス。 - 前記ヒ素除去成分は前記ヒ素を酸化してヒ素酸化物を生成するものである、
請求項1又は2記載のフラックス。 - 前記ヒ素除去成分は前記ヒ素と反応してヒ化クロムを生成するものである、
請求項1記載のフラックス。 - 前記ヒ素除去成分はクロム、クロム合金又はクロム化合物である、
請求項4記載のフラックス。 - 前記ヒ素除去成分はクロム、クロム合金及びクロム化合物の少なくとも一つを含むものである、
請求項4記載のフラックス。 - 前記ヒ素除去成分は前記ヒ素と反応してヒ化鉄を生成するものである、
請求項2記載のフラックス。 - 前記ヒ素除去成分は鉄、合金鋼又は鉄化合物である、
請求項7記載のフラックス。 - 前記ヒ素除去成分は鉄、合金鋼及び鉄化合物の少なくとも一つを含むものである、
請求項7記載のフラックス。 - 前記ヒ素除去成分は前記ヒ素と反応してヒ化ガリウムを生成するものである、
請求項1又は2記載の侵食軽減ツール。 - 前記ヒ素除去成分は前記ヒ素と反応してヒ化モリブデンを生成するものである、
請求項1又は2記載の侵食軽減ツール。 - 前記溶融はんだは鉛フリーはんだである、
請求項1乃至11のいずれかに記載のフラックス。
- 請求項1乃至12のいずれかに記載のフラックスをプリント配線板に塗布する第一工程と、
前記フラックスが塗布された前記プリント配線板をはんだ槽内の溶融はんだに接触させる第二工程と、
を含むことを特徴とするはんだ付方法。
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