JP2006176677A - Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate - Google Patents

Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2006176677A
JP2006176677A JP2004371980A JP2004371980A JP2006176677A JP 2006176677 A JP2006176677 A JP 2006176677A JP 2004371980 A JP2004371980 A JP 2004371980A JP 2004371980 A JP2004371980 A JP 2004371980A JP 2006176677 A JP2006176677 A JP 2006176677A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printed wiring
wiring board
thermosetting resin
composite
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004371980A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mare Takano
希 高野
Masami Kamiya
雅己 神谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2004371980A priority Critical patent/JP2006176677A/en
Publication of JP2006176677A publication Critical patent/JP2006176677A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite which sufficiently excels in adhesion reliability and sufficiently inhibits formation of a resin powder or fibers having a fear of falling off. <P>SOLUTION: The composite is obtained by impregnating a fibrous sheet with a curable resin composition and has a storage modulus at 25°C of a cured product of the curable resin composition of 100-2,000 MPa. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、複合体、これを用いたプリプレグ、金属箔張積層板、プリント配線基板及びプリント配線基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a composite, a prepreg using the composite, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, and a method for manufacturing the printed wiring board.

近年、電子機器の小型軽量化および電子回路のディジタル化、高速化が一段と求められている。そして、これらに搭載するためのプリント配線基板もより高密度なものが要求されており、新規な電子機器の開発にはこれらのプリント配線基板そのものの開発も重要な要素となっている。   In recent years, there has been a demand for further reduction in size and weight of electronic devices and digitization and speeding up of electronic circuits. Further, a printed wiring board to be mounted on them is required to have a higher density, and the development of these printed wiring boards themselves is an important factor in the development of new electronic devices.

高密度実装基板として一般的なものにガラスエポキシ基板が知られている。これは、ガラス織布に耐熱性のエポキシ樹脂を含浸させたものを絶縁基板材料として用いたものである。ガラスエポキシ多層基板は、例えば、ガラス織布にエポキシ樹脂を含浸させたもの(以下、「プリプレグ」という)に銅箔を熱プレスにより接着させ、フォトリソ技術によりパターン形成したものを基本とし、これに別のプリプレグと銅箔でさらに熱プレスすることで形成される。この積層体にドリルを用いてスルーホールを形成し、その内壁にメッキ法によって銅電極を形成することでそれぞれの層間の電気的接続を行う。そして表面の銅パターン形成をエッチング法で行うのが一般的である。   A glass epoxy substrate is known as a general high-density mounting substrate. This is a glass woven fabric impregnated with a heat-resistant epoxy resin as an insulating substrate material. The glass epoxy multilayer substrate is basically formed by, for example, bonding a copper foil to a glass woven fabric impregnated with an epoxy resin (hereinafter referred to as “prepreg”) by hot pressing, and patterning by photolithography technology. It is formed by further hot pressing with another prepreg and copper foil. Through holes are formed in the laminate using a drill, and a copper electrode is formed on the inner wall by a plating method to make electrical connection between the respective layers. In general, a copper pattern on the surface is formed by an etching method.

しかしながら、このようにして形成されるガラスエポキシ多層基板は、高密度化の要求に対して十分であるとはいえない。通常のガラスエポキシ多層基板は、貫通スルーホールが形成されているため、高密度な配線を行う場合、貫通穴が配線スペースを狭めてしまい、この貫通穴を迂回して配線パターンを形成する必要が生じる。よって、結果的に配線長が長くなる。また、配線スペースが少ないため、CADによる自動配線が困難となる。さらに、小径のスルーホールを形成する場合にドリル加工が困難となり、ドリル加工に要するコスト比率が高くなっている。また、貫通スルーホールに必要な銅メッキ工程は、地球環境の上からも問題となっている。さらに、両面基板においても同様の課題を有しており、特に部品実装において、貫通孔部分が存在すると、その部分に部品が実装できないため高密度な基板が得られない。   However, it cannot be said that the glass epoxy multilayer substrate formed in this way is sufficient for the demand for higher density. Since a normal glass epoxy multilayer substrate has through-holes, when performing high-density wiring, the through-holes narrow the wiring space, and it is necessary to form a wiring pattern around the through-holes. Arise. As a result, the wiring length is increased. In addition, since wiring space is small, automatic wiring by CAD becomes difficult. Furthermore, drilling is difficult when forming a small-diameter through hole, and the cost ratio required for drilling is high. Moreover, the copper plating process required for the through hole is a problem from the viewpoint of the global environment. Further, the double-sided board has the same problem. Particularly, when a through-hole part is present in component mounting, a high-density board cannot be obtained because the part cannot be mounted on that part.

このような課題に対し、完全なインナービアホール(IVH)構成を有するプリント配線基板が提案されている。IVH構造では、必要な各層間のみの接続が可能であり、基板最上層にも貫通孔がなく実装性も優れている。   For such a problem, a printed wiring board having a complete inner via hole (IVH) configuration has been proposed. In the IVH structure, it is possible to connect only necessary layers, and there is no through hole in the uppermost layer of the substrate, and the mountability is excellent.

このIVH構造を有する回路基板として、例えば、シート状の有機質の不織布に熱硬化性樹脂を含浸させてなるシート基板材に、レーザー加工により貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性ペーストを充填し、シート基板材を加熱加圧することで、IVH構造を形成せしめた回路基板が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   As a circuit board having this IVH structure, for example, a through hole is formed by laser processing on a sheet substrate material obtained by impregnating a sheet-like organic nonwoven fabric with a thermosetting resin, and this through hole is filled with a conductive paste. And the circuit board which formed the IVH structure by heating-pressing a sheet | seat board | substrate material is proposed (for example, refer patent document 1).

また、IVH構造を有する多層基板としてSLC基板(登録商標)が挙げられる。SLC基板(登録商標)は、通常の銅パターン層を有する両面基板上に絶縁材料としての樹脂を表面コーティングし、フォトリソ法によってビアホールを形成し、次に銅メッキを全面に付加して、下部導体とビアホール部および表面層とする。そして同じくフォトリソ法によってパターン形成し、この工程を繰り返すことにより、多層化するものでる。この方法によれば非常に安価で、高精度な配線が形成できるため注目されている。   An example of the multilayer substrate having an IVH structure is an SLC substrate (registered trademark). The SLC substrate (registered trademark) is formed by coating a resin as an insulating material on a double-sided substrate having a normal copper pattern layer, forming a via hole by a photolithographic method, and then adding copper plating to the entire surface to form a lower conductor. And via hole and surface layer. Similarly, a pattern is formed by the photolithography method, and this process is repeated to form a multilayer. This method is attracting attention because it is very inexpensive and can form highly accurate wiring.

更に、IVH構造を有する多層基板として熱可塑性樹脂を用いた多層基板が挙げられる。熱可塑性樹脂を用いた多層基板は、熱可塑性のシート状基材にビアホールを形成した後、シート表面にAg系の樹脂導電ペーストでパターン印刷を行い、別途作製したシートを重ね合わせて熱プレスすることで多層化する基板である。
特開平6−268345号公報
Furthermore, the multilayer board | substrate using a thermoplastic resin is mentioned as a multilayer board | substrate which has IVH structure. For multilayer substrates using thermoplastic resin, via holes are formed in a thermoplastic sheet-like base material, pattern printing is performed on the sheet surface with an Ag-based resin conductive paste, and separately manufactured sheets are stacked and hot pressed. This is a multi-layered substrate.
JP-A-6-268345

しかしながら、上述したようなIVH構造を有するプリント配線基板は、その製造の際に基板上に打痕が発生したり、配線の断線が発生したりすることがあり、十分な信頼性を有していないものがあった。特に、高密度化を図るために各層の層厚を薄くする場合に、上記の不良が多発する傾向にあった。   However, the printed wiring board having the IVH structure as described above has a sufficient reliability because a dent may be generated on the board during the manufacture or the wiring may be disconnected. There was no one. In particular, when the thickness of each layer is reduced in order to increase the density, the above-described defects tend to occur frequently.

そこで、本発明者らは、上記不良の原因について詳細に検討した結果、上記のように絶縁基板として繊維シートに樹脂を含浸したシート基板材を用いた場合、絶縁基板から脱落する樹脂粉又は繊維が上記不良の大きな原因であることを見出した。また、脱落する樹脂粉又は繊維は、特にビアホールを有する絶縁基板を形成する際に多く発生することが分かった。   Therefore, as a result of examining the cause of the defect in detail, the present inventors, as described above, when the sheet substrate material in which the fiber sheet is impregnated with the resin is used as the insulating substrate, the resin powder or fibers that fall off from the insulating substrate Has been found to be a major cause of the above defects. Further, it has been found that a large amount of resin powder or fiber that falls off is generated particularly when an insulating substrate having a via hole is formed.

ここで、絶縁基板の材料として樹脂粉又繊維の脱落を抑制することのみ考慮したものを選択しても、プリント配線基板に用いる絶縁基板が必要な接着信頼性を十分に有していなければ、結果として十分な信頼性を有するプリント配線基板が得られない。   Here, even if the material for the insulating substrate is selected only considering the suppression of the dropping of resin powder or fiber, if the insulating substrate used for the printed circuit board does not have sufficient adhesive reliability, As a result, a printed wiring board having sufficient reliability cannot be obtained.

本発明は、上記の課題を解決するものであり、接着信頼性に十分優れ、且つ、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分抑制されている複合体を提供することを目的とする。また、本発明は、かかる複合体を用いたプリプレグ、金属箔張積層板、プリント配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a composite that is sufficiently excellent in adhesion reliability and sufficiently suppressed from generating resin powder or fibers that may drop off. . Another object of the present invention is to provide a prepreg, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, and a manufacturing method thereof using such a composite.

上記目的を達成するために、本発明の複合体は、繊維シートに硬化性樹脂組成物を含浸させてなる複合体であって、硬化性樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率が、100〜2000MPaであることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the composite of the present invention is a composite comprising a fiber sheet impregnated with a curable resin composition, and the cured product of the curable resin composition has a storage elastic modulus at 25 ° C. 100 to 2000 MPa.

本発明の複合体は、硬化物の貯蔵弾性率が上記の範囲となる硬化性樹脂組成物が繊維シートに含浸されていることにより、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分に抑制され、且つ、十分に優れた接着信頼性を有するものとなっている。したがって、本発明の複合体を絶縁基板の材料として用いることにより、信頼性に優れるプリント配線基板を製造することができる。   In the composite of the present invention, the fiber sheet is impregnated with a curable resin composition in which the storage modulus of the cured product falls within the above range, thereby sufficiently suppressing the occurrence of resin powder or fibers that may fall off. In addition, the adhesive reliability is sufficiently excellent. Therefore, by using the composite of the present invention as a material for an insulating substrate, a printed wiring board having excellent reliability can be manufactured.

硬化性樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率が、100MPa未満であると、取扱い性及び寸法安定性が低下して、十分な接着信頼性を得ることができず、一方、2000MPaを越えると、硬化した樹脂が脆くなるために脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制することができない。   When the storage elastic modulus at 25 ° C. of the cured product of the curable resin composition is less than 100 MPa, handleability and dimensional stability are lowered, and sufficient adhesion reliability cannot be obtained. If it exceeds, the cured resin becomes brittle, and thus generation of resin powder or fibers that may fall off cannot be sufficiently suppressed.

また、本発明の複合体において、上記硬化性樹脂組成物が粘弾性樹脂を含有することが好ましい。このような複合体は、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生がより確実に抑制され、且つ、十分優れた接着信頼性を有するものとなっている。   In the composite of the present invention, the curable resin composition preferably contains a viscoelastic resin. Such a composite is more reliably suppressed from generating resin powder or fibers that may fall off, and has sufficiently excellent adhesion reliability.

また、本発明の複合体において、上記硬化性樹脂組成物は、重量平均分子量が30000以上であるアクリル重合体を含有し、このアクリル重合体はグリシジルアクリレートを重合成分として2〜20質量%含み、エポキシ価が2〜36であることが好ましい。なお、エポキシ価は、HLC測定法により求めた値を採用する。   Further, in the composite of the present invention, the curable resin composition contains an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 30000 or more, and the acrylic polymer contains 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component, The epoxy value is preferably 2 to 36. In addition, the value calculated | required by the HLC measuring method is employ | adopted for an epoxy value.

アクリル重合体の重量平均分子量が30000未満であると、柔軟性が低下する傾向にある。また、アクリル重合体に重合成分として含まれるグリシジルアクリレートが、2質量%未満であると、硬化物のガラス転移温度Tgが低下して耐熱性が不十分となる傾向にあり、一方、20質量%を超えると、硬化物の貯蔵弾性率が上昇して樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制できなくなる傾向にある。さらに、アクリル重合体のエポキシ価が、2未満であると、硬化物のガラス転移温度Tgが低下して耐熱性が不十分となる傾向にあり、一方、36を超えると、硬化物の貯蔵弾性率が上昇して樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制できなくなる傾向にある。   When the weight average molecular weight of the acrylic polymer is less than 30000, the flexibility tends to decrease. Further, if the glycidyl acrylate contained as a polymerization component in the acrylic polymer is less than 2% by mass, the glass transition temperature Tg of the cured product tends to be lowered and the heat resistance tends to be insufficient, whereas 20% by mass. If it exceeds 1, the storage elastic modulus of the cured product tends to increase and the generation of resin powder or fibers cannot be sufficiently suppressed. Further, when the epoxy value of the acrylic polymer is less than 2, the glass transition temperature Tg of the cured product tends to be lowered and the heat resistance tends to be insufficient, whereas when it exceeds 36, the storage elasticity of the cured product is decreased. The rate tends to increase and the generation of resin powder or fibers cannot be sufficiently suppressed.

更に、本発明の複合体において、上記繊維シートは、10〜200μmの厚みを有するガラス布であることが好ましい。かかる複合体によれば、十分な機械的強度を有するとともに、プリント配線基板の高密度化を図ることがより容易となる絶縁基板を得ることができる。   Furthermore, in the composite of the present invention, the fiber sheet is preferably a glass cloth having a thickness of 10 to 200 μm. According to such a composite, it is possible to obtain an insulating substrate that has sufficient mechanical strength and can easily increase the density of the printed wiring board.

また、本発明の複合体において、複合体の総厚さが100μm以下であることが好ましい。複合体の総厚さが、100μm以下であることにより、プリント配線基板を構成する絶縁基板として用いる場合に、高密度化を図ることがより容易となる。   In the composite of the present invention, the total thickness of the composite is preferably 100 μm or less. When the total thickness of the composite is 100 μm or less, it is easier to increase the density when used as an insulating substrate constituting the printed wiring board.

更に、本発明の複合体において、複合体が貫通孔を有することが好ましい。かかる複合体によれば、予め所定位置に貫通孔が設けられていることで貫通孔を形成する工程を省略でき、このような複合体を用いることで信頼性に優れるIVH構造のプリント配線基板を歩留まりよく製造することができる。   Furthermore, in the composite of the present invention, the composite preferably has a through hole. According to such a composite, the step of forming the through-hole can be omitted by providing the through-hole in advance at a predetermined position. By using such a composite, a printed wiring board having an IVH structure excellent in reliability can be obtained. It can be manufactured with good yield.

また、本発明のプリプレグは、上記本発明の複合体において、硬化性樹脂組成物が半硬化されてなることを特徴とする。   The prepreg of the present invention is characterized in that, in the composite of the present invention, the curable resin composition is semi-cured.

本発明のプリプレグは、上述の硬化性樹脂組成物を用いることにより、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分に抑制され、且つ、十分に優れた接着信頼性を有するものとなっている。したがって、本発明のプリプレグを用いてIVH構造を有するプリント配線基板を製造する場合、信頼性に優れるプリント配線基板を得ることができる。   By using the curable resin composition described above, the prepreg of the present invention is sufficiently suppressed in the generation of resin powder or fibers that may fall off and has sufficiently excellent adhesion reliability. Yes. Therefore, when manufacturing the printed wiring board which has IVH structure using the prepreg of this invention, the printed wiring board excellent in reliability can be obtained.

更に、本発明のプリプレグにおいて、貫通孔を有することが好ましい。かかるプリプレグによれば、予め所定位置に貫通孔が設けられていることで貫通孔を形成する工程を省略でき、このようなプリプレグを用いることで信頼性に優れるIVH構造のプリント配線基板をより容易に製造することができる。   Furthermore, the prepreg of the present invention preferably has a through hole. According to such a prepreg, the step of forming the through-hole can be omitted by providing the through-hole in a predetermined position in advance, and by using such a prepreg, a printed wiring board having an excellent IVH structure can be more easily obtained. Can be manufactured.

また、本発明の第1の金属箔張積層板は、貫通孔を有する本発明の複合体において、貫通孔に導電体を充填し、複合体の少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られることを特徴とする。   Further, the first metal foil-clad laminate of the present invention is a composite of the present invention having a through hole, in which the through hole is filled with a conductor and a metal foil is disposed on at least one surface of the composite, It is obtained by heating and pressing.

かかる金属箔張積層板は、上記本発明の複合体を用いることにより、金属箔張積層板からの樹脂粉又は繊維の脱落が十分に抑制されているとともに、十分に優れた接着信頼性を有している。したがって、本発明の金属箔張積層板を用いてIVH構造を有するプリント配線基板を製造する場合、信頼性に優れるプリント配線基板を歩留まりよく得ることができる。   By using the composite of the present invention, such a metal foil-clad laminate is sufficiently suppressed from falling off the resin powder or fibers from the metal foil-clad laminate and has sufficiently excellent adhesion reliability. is doing. Therefore, when manufacturing the printed wiring board which has IVH structure using the metal foil tension laminated board of this invention, the printed wiring board excellent in reliability can be obtained with a sufficient yield.

また、本発明の第2の金属箔張積層板は、貫通孔を有する本発明のプリプレグにおいて、貫通孔に導電体を充填し、プリプレグの少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られることを特徴とする。   Further, the second metal foil-clad laminate of the present invention is a prepreg of the present invention having a through-hole, in which a through-hole is filled with a conductor and a metal foil is disposed on at least one surface of the prepreg. It is obtained by pressing.

かかる金属箔張積層板は、上記本発明のプリプレグを用いることにより、金属箔張積層板からの樹脂粉又は繊維の脱落が十分に抑制されているとともに、十分に優れた接着信頼性を有している。したがって、本発明の金属箔張積層板を用いてIVH構造を有するプリント配線基板を製造する場合、信頼性に優れるプリント配線基板を歩留まりよく得ることができる。   Such a metal foil-clad laminate has a sufficiently excellent adhesion reliability while sufficiently preventing the resin powder or fibers from falling off the metal foil-clad laminate by using the prepreg of the present invention. ing. Therefore, when manufacturing the printed wiring board which has IVH structure using the metal foil tension laminated board of this invention, the printed wiring board excellent in reliability can be obtained with a sufficient yield.

また、本発明のプリント配線基板は、上記本発明の複合体からなる第1の基材と、該第1の基材の両表面上に形成された第1の熱硬化型樹脂層と、該第1の熱硬化型樹脂層の表層にパターニングされた回路電極と、を備え、上記第1の基材と上記第1の熱硬化型樹脂層とを貫通する第1の貫通孔が形成されており、上記第1の貫通孔に上記両表面の回路電極同士を電気的に接続するための導電性物質が充填されてなる両面プリント配線基板を少なくとも二枚用い、二枚の上記両面プリント配線基板の間に、上記複合体からなる第2の基材と、該第2の基材の両表面上に形成された第2の熱硬化型樹脂層と、を備え、上記第2の基材と上記第2の熱硬化型樹脂層とを貫通する第2の貫通孔が形成されており、上記第2の貫通孔に導電性物質が充填されてなる中間板が挟持されているとともに、上記両面プリント配線基板の少なくとも片面に、上記複合体からなる第3の基材と、該第3の基材の両表面上に形成された第3の熱硬化型樹脂層と、一方の上記第3の熱硬化型樹脂層の表層にパターニングされた回路電極と、を備え、上記第3の基材と上記第3の熱硬化型樹脂層とを貫通する第3の貫通孔が形成されており、上記第3の貫通孔に導電性物質が充填されてなる片面プリント配線基板が、該片面プリント配線基板の上記回路電極が外側になるように積層されていることを特徴とする。   In addition, the printed wiring board of the present invention includes a first base material composed of the composite of the present invention, a first thermosetting resin layer formed on both surfaces of the first base material, A circuit electrode patterned on a surface layer of the first thermosetting resin layer, and a first through hole penetrating the first base material and the first thermosetting resin layer is formed. And using at least two double-sided printed wiring boards in which the first through hole is filled with a conductive material for electrically connecting the circuit electrodes on both surfaces to each other, and the two double-sided printed wiring boards Between the second base material made of the composite and the second thermosetting resin layer formed on both surfaces of the second base material, and the second base material, A second through hole penetrating the second thermosetting resin layer is formed, and the second through hole is filled with a conductive material. And a third substrate formed on at least one surface of the double-sided printed wiring board and the third substrate made of the composite, and a third substrate formed on both surfaces of the third substrate. And a circuit electrode patterned on the surface of one of the third thermosetting resin layers, the third base material and the third thermosetting resin layer. A single-sided printed wiring board in which a third through-hole penetrating is formed and the third through-hole is filled with a conductive substance is laminated so that the circuit electrode of the single-sided printed wiring board is on the outside. It is characterized by being.

先に説明したような従来のプリント配線基板の構成では、次のような課題を有していた。第1に、従来のガラスエポキシ多層基板の構成においては、多層板積層後の貫通孔の加工が容易でないことが挙げられる。これは、これからの高密度配線に対応するために、より微細な穴加工が必要とされる点と、内層の配線に正確に穴加工することが難しい点にある。微細な穴加工としては、ドリル径が今後は益々小さいものが要求され、それによるドリル加工コストが無視できなくなる。また、微細なドリルでは正確な穴加工が厚み方向でさらに困難が予想される。また、内層配線と外層配線の位置合わせ精度が益々高精度化に向かう反面、基板材料の寸法ズレや伸びのバラツキのため正確な位置に穴加工することが難しくなりつつある。このことは、今後のより多層化が進む現在、なお内層どうしの位置あわせが困難となってくる。以上のような課題を有しているために、従来の回路形成用基板では単位面積当たりに形成できるスルーホール接続の個数および回路パターン密度に限界があり、今後ますます需要が増大する高密度実装用多層基板を実現することが困難である。   The configuration of the conventional printed wiring board as described above has the following problems. 1stly, in the structure of the conventional glass epoxy multilayer board | substrate, it is mentioned that the process of the through-hole after multilayer board lamination is not easy. This is because finer hole processing is required to cope with future high-density wiring, and it is difficult to accurately drill holes in the inner layer wiring. For fine hole drilling, drill diameters that are increasingly smaller will be required in the future, and the drilling cost due to this will not be negligible. Moreover, with a fine drill, accurate drilling is expected to be more difficult in the thickness direction. In addition, while the positioning accuracy of the inner layer wiring and the outer layer wiring is increasingly increased, it is becoming difficult to drill a hole at an accurate position due to dimensional deviation of the substrate material and variation in elongation. This makes it difficult to align the inner layers as the number of layers increases. Due to the above-mentioned problems, the number of through-hole connections that can be formed per unit area and circuit pattern density are limited in conventional circuit forming substrates, and high-density mounting will continue to increase in demand in the future. It is difficult to realize a multilayer board for industrial use.

一方、高密度化を達成する上で重要な点は、多層基板の場合、各層間で接続できるインナービア接続可能な基板を得ることであり、両面基板の場合では貫通孔がない接続方法が必要とされる。しかし、前述の様なインナービア多層基板においても、従来の方法では多層基板の場合、基板表面の段差、耐熱性、電極接着強度等の課題が多い。また、両面基板の場合、銅箔接着の後穴あけ加工を行うため、基板表面を平坦化するためメッキによる接続が必要となる。   On the other hand, an important point in achieving high density is to obtain a substrate that can be connected to each inner layer in the case of a multilayer substrate, and in the case of a double-sided substrate, a connection method that does not have through holes is required. It is said. However, even the inner via multilayer substrate as described above has many problems such as a step on the substrate surface, heat resistance, and electrode adhesion strength in the case of the multilayer substrate in the conventional method. Further, in the case of a double-sided substrate, since a hole is drilled after copper foil bonding, connection by plating is required to flatten the substrate surface.

すなわち、導電性ペーストによりビア充填を形成し、さらにその後銅箔との接着を行う両面プリント基板とさらに前記プリント基板を組み合わせることで各層間のみを接続するIVH接続を可能ならしめ、高信頼性および高品質のプリント基板を実現することが要求される。   That is, by forming a via filling with a conductive paste and further combining the printed circuit board with a double-sided printed circuit board that is then bonded to a copper foil, an IVH connection that connects only the respective layers is made possible, and high reliability and It is required to realize a high-quality printed circuit board.

上記本発明のプリント配線基板によれば、第1の基材の両表面に、第1の熱硬化型樹脂層が存在し、この第1の熱硬化型樹脂層の表層にパターニングされた回路電極が形成され、かつ第1の基材と第1の熱硬化型樹脂層とを貫通する第1の貫通孔が形成されており、第1の貫通孔に上記両表面の回路電極同士を電気的に接続するための導電性物質が充填されていることにより、導電性ペーストによりビア充填を形成し、さらにその後銅箔との接着を行う両面プリント基板とさらに上記プリント基板を組み合わせることで各層間のみを接続するIVH接続を可能ならしめ、高信頼性および高品質の両面プリント基板を実現できる。また、本発明のプリント配線基板の構成によれば、IVH接続を可能ならしめ、高信頼性および高品質の多層配線プリント基板を実現できる。   According to the printed wiring board of the present invention, the first thermosetting resin layer exists on both surfaces of the first base material, and the circuit electrode is patterned on the surface layer of the first thermosetting resin layer. And a first through hole penetrating the first base material and the first thermosetting resin layer is formed, and the circuit electrodes on both surfaces are electrically connected to the first through hole. By filling the conductive material for connection to the via, filling the vias with conductive paste, and then combining the printed circuit board with the double-sided printed circuit board that is then bonded to the copper foil, only between each layer By making IVH connection possible, it is possible to realize a high-reliability and high-quality double-sided printed circuit board. Further, according to the configuration of the printed wiring board of the present invention, it is possible to achieve IVH connection, and it is possible to realize a multilayer wiring printed board having high reliability and high quality.

ここで、本発明のプリント配線基板において、上記導電性物質は導電性樹脂ペーストであることが好ましく、導電性樹脂ペースト中の導電材料は、銀、銅及びこれらの合金から選択される少なくとも一つの金属からなる粉末を含むことが好ましい。更に、上記第1〜第3の熱硬化型樹脂層の主成分はエポキシ樹脂であることが好ましい。   Here, in the printed wiring board of the present invention, the conductive substance is preferably a conductive resin paste, and the conductive material in the conductive resin paste is at least one selected from silver, copper, and alloys thereof. It is preferable to include a powder made of metal. Furthermore, the main component of the first to third thermosetting resin layers is preferably an epoxy resin.

また、本発明のプリント配線基板の製造方法は、上記本発明の複合体からなる基材の両面に、あらかじめ片面に熱硬化型樹脂を塗布して熱硬化型樹脂塗布層を形成した離型フィルムを、上記熱硬化型樹脂塗布層が上記基材側となるように配置し、上記熱硬化型樹脂の硬化温度以下の温度で圧力を加えて貼り合わせ、上記熱硬化型樹脂層を形成した離型フィルムを貼り合わせた上記基材の所望の位置に貫通孔を形成し、上記貫通孔に導電性樹脂ペーストを上記離型フィルム表面まで充填させ、上記熱硬化型樹脂を上記基材表面に残して両面の上記離型フィルムのみを剥離し、剥離後の上記基材の表面に銅箔を配し、加熱加圧する事により上記熱硬化型樹脂を硬化させ上記銅箔を接着させ、上記基材表面の銅箔をパターンニングする工程を少なくとも有することを特徴とする。   In addition, the method for producing a printed wiring board of the present invention includes a release film in which a thermosetting resin coating layer is formed by applying a thermosetting resin on one side in advance on both surfaces of a base material made of the composite of the present invention. Is placed so that the thermosetting resin coating layer is on the substrate side, and is bonded by applying pressure at a temperature lower than the curing temperature of the thermosetting resin to form the thermosetting resin layer. A through hole is formed at a desired position of the substrate to which the mold film is bonded, and the conductive resin paste is filled up to the release film surface in the through hole, leaving the thermosetting resin on the substrate surface. Then, only the release films on both sides are peeled off, a copper foil is disposed on the surface of the substrate after peeling, and the thermosetting resin is cured by heating and pressing to adhere the copper foil, and the substrate Fewer steps to pattern the surface copper foil Characterized in that it has also.

かかる製造方法によれば、本発明の複合体からなる基材を用い、この基材の両方の面に、あらかじめ片面に一定厚みの熱硬化型樹脂をコーティングした離型フィルムを用意し、この離型フィルムの熱硬化型樹脂塗布層が内側となるように貼り合わせる。この時、上記離型フィルム上に塗布された熱硬化樹脂の硬化温度以下の温度で圧力を加えて貼り合わせる。次に、上記熱硬化型樹脂を塗布した離型フィルムを貼り合わせた基材の所望の位置に貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性樹脂ペーストを用いて上記離型フィルム表面まで充填させる。この時、外側の離型フィルムは貫通孔以外の部分に導電性ペーストが付着しないようにするための保護膜として働く。次に、上記熱硬化型樹脂を基材表面に残したまま両面の離型フィルムのみ剥離する。これにより、両面の電気的接続を得るためのビア導体と上記基材の表面に銅箔との接着を得るための接着層が形成できる。この後、上記剥離済み基材の表面に銅箔を配し、加熱加圧する事により上記熱硬化型樹脂層を硬化させ上記銅箔と接着させることができる。さらに上記基材表面の銅箔をエッチング法でパターンニングすることにより、効率良く合理的に両面プリント配線基板が得られる。   According to this manufacturing method, a release film having a fixed thickness of a thermosetting resin coated on one side in advance is prepared on both sides of the base material comprising the composite of the present invention. The mold film is bonded so that the thermosetting resin coating layer is on the inside. At this time, a pressure is applied at a temperature equal to or lower than the curing temperature of the thermosetting resin applied on the release film, and the films are bonded. Next, a through hole is formed at a desired position of the substrate to which the release film coated with the thermosetting resin is bonded, and the through hole is filled to the release film surface using a conductive resin paste. . At this time, the outer release film functions as a protective film for preventing the conductive paste from adhering to portions other than the through holes. Next, only the release films on both sides are peeled while leaving the thermosetting resin on the substrate surface. Thereby, an adhesive layer for obtaining adhesion between the via conductor for obtaining electrical connection on both sides and the copper foil on the surface of the substrate can be formed. Thereafter, a copper foil is disposed on the surface of the peeled substrate, and the thermosetting resin layer can be cured and bonded to the copper foil by heating and pressing. Furthermore, by patterning the copper foil on the surface of the base material by an etching method, a double-sided printed wiring board can be obtained efficiently and rationally.

本発明はまた、上記本発明のプリント配線基板の製造方法によりプリント配線基板を作製した後、上記プリント配線基板の両面に、上記本発明のプリント配線基板の製造方法において離型フィルムを剥離した後に得られる、未硬化状態の熱硬化型樹脂塗布層を有する未硬化基板を配置して上記プリント配線基板を挟み、上記未硬化基板の表面に銅箔を配して加熱加圧して、上記プリント配線基板と上記未硬化基板とを積層硬化し、表面の上記銅箔をパターニングして回路形成する工程を少なくとも1回以上行うことにより多層配線の形成を行う、プリント配線基板の製造方法を提供する。   In the present invention, after producing a printed wiring board by the method for producing a printed wiring board of the present invention, the release film is peeled off on both surfaces of the printed wiring board in the method for producing a printed wiring board of the present invention. An uncured substrate having a thermosetting resin coating layer in an uncured state is placed, the printed wiring board is sandwiched, a copper foil is disposed on the surface of the uncured board, and heated and pressed, and the printed wiring Provided is a printed wiring board manufacturing method in which a multilayer wiring is formed by performing a process of forming a circuit by laminating and curing a substrate and the uncured substrate and patterning the copper foil on the surface at least once.

かかる製造方法によれば、上記同様の方法により作製されたプリント配線基板の両面に、別途作製した上記の離型フィルムを剥離した未硬化の樹脂層を有する基材で挟み、さらにその表面に銅箔を配して加熱加圧して、上記プリント配線基板と未硬化状態の熱硬化型樹脂塗布層を有する未硬化基板を積層硬化し、表面の銅箔をパターニングにより回路形成する工程を少なくとも1回以上行うことにより、効率良く合理的に多層配線が得られる。   According to this manufacturing method, the printed wiring board produced by the same method as described above is sandwiched between the base material having the uncured resin layer from which the release film prepared separately is peeled, and copper is further provided on the surface. At least once a process of laminating and curing the printed wiring board and the uncured substrate having the uncured thermosetting resin coating layer and forming a circuit by patterning the copper foil on the surface is performed by placing the foil and heating and pressing. By performing the above, a multilayer wiring can be obtained efficiently and rationally.

本発明は更に、上記本発明のプリント配線基板の製造方法により作製したプリント配線基板と、上記本発明のプリント配線基板の製造方法において離型フィルムを剥離した後に得られる、未硬化状態の熱硬化型樹脂塗布層を有する未硬化基板とを、上記プリント配線基板が常に最外層になるように所望の数だけ交互に配し、加熱加圧して上記プリント配線基板と上記未硬化基板を積層硬化することにより多層配線の形成を行う、プリント配線基板の製造方法を提供する。   The present invention further includes a printed wiring board produced by the method for producing a printed wiring board of the present invention, and an uncured thermosetting obtained after the release film is peeled in the method for producing a printed wiring board of the present invention. An uncured substrate having a mold resin coating layer is alternately disposed in a desired number so that the printed wiring board is always the outermost layer, and heated and pressed to laminate and cure the printed wiring board and the uncured substrate. Accordingly, a method of manufacturing a printed wiring board is provided which forms a multilayer wiring.

かかる製造方法のように、同様に上述の方法で離型フィルムを剥離した未硬化状態の熱硬化型樹脂塗布層を有する未硬化基板と、上記両面基板とを上記硬化済みプリント配線基板が常に最外層になるよう所望の数だけ交互に配し、加熱加圧して、上記プリント配線基板と上記未硬化基板を積層硬化しても、効率良く合理的に多層配線を得ることができる。   Similarly to this manufacturing method, the cured printed wiring board is always the first to the uncured substrate having the uncured thermosetting resin coating layer from which the release film has been peeled off by the above-described method and the double-sided substrate. Even if the desired number of layers are alternately arranged so as to form an outer layer, and heated and pressed to laminate and cure the printed wiring board and the uncured board, a multilayer wiring can be obtained efficiently and rationally.

このように熱硬化型樹脂層を有する離型フィルムで挟み込まれた基材を用い、かつ貫通孔に導電性ペーストを離型フィルム表面まで埋め込んだ構造を有する基材を使用することによって、比較的安定に表面の平滑性に優れたIVH構造の両面プリント基板が得られる。また、表面平滑性に優れたIVH構造の両面プリント基板を用いて簡便に高多層な基板にする事が可能となるものである。この方法によれば、ビア導体を充填してから銅箔を接着する事ができるので、メッキによる銅電極層の形成が不必要になり、地球環境上有利である。   By using a base material sandwiched between release films having a thermosetting resin layer in this way, and using a base material having a structure in which a conductive paste is embedded in the through holes up to the release film surface, A double-sided printed board having an IVH structure having excellent surface smoothness can be obtained. In addition, a double-layer printed board having an IVH structure excellent in surface smoothness can be used to easily make a high-layer board. According to this method, since the copper foil can be bonded after filling the via conductor, it is not necessary to form the copper electrode layer by plating, which is advantageous for the global environment.

また、基材に硬化済みのものを用いるので、ビア導体と積層基材との不必要な反応もなく、安定した層間接続抵抗とその信頼性が得られる。また基材表面の熱硬化樹脂層が銅箔と基材の接着に寄与し、強固な密着強度が得られる。   Further, since a hardened base material is used, there is no unnecessary reaction between the via conductor and the laminated base material, and a stable interlayer connection resistance and its reliability can be obtained. Further, the thermosetting resin layer on the surface of the base material contributes to the adhesion between the copper foil and the base material, and a strong adhesion strength is obtained.

これら本発明のプリント配線基板の製造方法において、上記導電性樹脂ペースト中の導電材料は、銀、銅及びこれらの合金から選択される少なくとも一つの金属からなる粉末を含むことが好ましい。また、上記貫通孔は、ドリル加工法又はレーザー加工法により形成することが好ましい。更に、上記熱硬化型樹脂塗布層の主成分はエポキシ樹脂であることが好ましい。   In the method for producing a printed wiring board of the present invention, the conductive material in the conductive resin paste preferably includes a powder made of at least one metal selected from silver, copper, and alloys thereof. The through hole is preferably formed by a drilling method or a laser processing method. Furthermore, the main component of the thermosetting resin coating layer is preferably an epoxy resin.

本発明によれば、接着信頼性に十分優れ、且つ、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分抑制されている複合体を提供することができる。また、本発明によれば、かかる複合体を用いたプリプレグ、金属箔付きシートを提供することができる。また、本発明によれば、導電性ペーストによりビア充填を形成し、さらにその後銅箔との接着を行う両面プリント基板とさらに上記プリント基板を組み合わせることで各層間のみを接続するIVH接続を可能ならしめ、高信頼性および高品質のプリント配線基板を実現できる。更に、本発明によれば、上記本発明のプリント配線基板を効率良く合理的に得ることが可能なプリント配線基板の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composite_body | complex which is excellent in adhesion reliability and generation | occurrence | production of the resin powder or fiber which may drop | omit is fully suppressed can be provided. Moreover, according to this invention, the prepreg using this composite_body | complex and a sheet | seat with metal foil can be provided. Further, according to the present invention, it is possible to form an IVH connection that connects only the respective layers by combining the double-sided printed board that forms the via filling with the conductive paste and then adheres to the copper foil and the printed board. It is possible to realize a high-reliability and high-quality printed wiring board. Furthermore, according to this invention, the manufacturing method of the printed wiring board which can obtain the printed wiring board of the said invention efficiently and rationally can be provided.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

先ず、本発明の複合体の実施形態について説明する。図1は、本発明の複合体の一実施形態を示す模式断面図である。図1の複合体100は、繊維シート101に硬化性樹脂組成物102を含浸してなるものである。また、複合体100は、貫通孔103を備えている。   First, an embodiment of the composite of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the composite of the present invention. A composite 100 in FIG. 1 is formed by impregnating a curable resin composition 102 into a fiber sheet 101. The composite 100 includes a through hole 103.

繊維シート101としては、例えば、紙、ガラス繊維織布及びガラス繊維不織布等のガラス布、アラミド不織布等の耐熱性合成繊維が挙げられる。これらのうち、ガラス繊維織布及びガラス繊維不織布が好ましく、ガラス繊維織布が特に好ましい。ガラスの材質としては、Eガラス、Sガラス、Dガラス等が挙げられる。また、繊維シートとして織布を用いる場合の繊維の織り方については、例えば、平織、朱子織、綾織等が挙げられる。   Examples of the fiber sheet 101 include heat resistant synthetic fibers such as paper, glass cloth such as glass fiber woven fabric and glass fiber nonwoven fabric, and aramid nonwoven fabric. Among these, a glass fiber woven fabric and a glass fiber nonwoven fabric are preferable, and a glass fiber woven fabric is particularly preferable. Examples of the glass material include E glass, S glass, and D glass. Moreover, about the weaving method of the fiber when using a woven fabric as a fiber sheet, a plain weave, satin weave, twill weave, etc. are mentioned, for example.

繊維シートの厚みについては、繊維シートが十分な強度を有するのであれば薄い方が好ましい。具体的には、例えば、10〜200μmであることが好ましく、15〜80μmであることがより好ましい。また、繊維シートは、線膨張率がより小さいものが好ましい。   About the thickness of a fiber sheet, if the fiber sheet has sufficient intensity | strength, the thinner one is preferable. Specifically, for example, the thickness is preferably 10 to 200 μm, and more preferably 15 to 80 μm. The fiber sheet is preferably one having a smaller linear expansion coefficient.

硬化性樹脂組成物102としては、その硬化物の25℃における貯蔵弾性率が100〜2000MPaとなるものであればよく、例えば、硬化性樹脂とこの硬化性樹脂を硬化させる硬化剤とを含有するものが挙げられる。硬化性樹脂の樹脂成分としては、粘弾性樹脂を用いることが好ましく、例えば、エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、SBR、NBR、CTBN、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、シリコーン変性ポリアミドイミド等が挙げられる。また、硬化剤としては、ジシアンジアミド、フェノール樹脂、イミダゾール、アミン化合物、酸無水物等が挙げられる。   The curable resin composition 102 only needs to have a storage elastic modulus at 25 ° C. of 100 to 2000 MPa of the cured product, and includes, for example, a curable resin and a curing agent that cures the curable resin. Things. As the resin component of the curable resin, it is preferable to use a viscoelastic resin, and examples thereof include epoxy resins, rubber-modified epoxy resins, SBR, NBR, CTBN, acrylic resins, polyamides, polyamideimides, and silicone-modified polyamideimides. . Examples of the curing agent include dicyandiamide, phenol resin, imidazole, amine compound, acid anhydride and the like.

また、硬化性樹脂組成物102は、所定の溶媒を含有することができる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;メチルセロソルブ、ジエチレングリコール等のグリコールエーテル系溶媒;メチルセロソルブアセテート等のエステル系溶媒;エチレングリコールジメチルエーテル等のジアルキルグリコール系溶媒;N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;メタノール、ブタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等のエーテルアルコール系溶媒等を用いることができ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。   Moreover, the curable resin composition 102 can contain a predetermined solvent. Solvents include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and trimethylbenzene; ether solvents such as tetrahydrofuran; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; glycol ethers such as methyl cellosolve and diethylene glycol. Solvents; ester solvents such as methyl cellosolve acetate; dialkyl glycol solvents such as ethylene glycol dimethyl ether; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N′-dimethylformamide, N, N′-dimethylacetamide; methanol, butanol , Alcohol solvents such as isopropanol; ether alcohol solvents such as 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol can be used, and one or more of these can be used. It is possible.

本実施形態においては、硬化性樹脂組成物として、硬化性のアクリル重合体と、このアクリル重合体を硬化させる硬化剤とを組み合わせたものを用いることが好ましい。この場合、アクリル重合体100質量部に対して、硬化剤を60〜350質量部の割合で用いることが好ましい。硬化剤が、アクリル樹脂100質量部に対して60質量部未満であると、硬化物の貯蔵弾性率が300MPaを下回る傾向にあり、取扱い性が低下するとともに、硬化物のTgが低下して高温放置時の劣化による寸法収縮、半田耐熱性の低下等の問題が生じやすくなる傾向にある。一方、硬化剤の割合が350質量部を越えると、硬化物の貯蔵弾性率が2000MPaを上回る傾向にあり、この場合、硬化物が脆くなるので樹脂粉又は繊維が脱落しやすくなる傾向にある。   In the present embodiment, it is preferable to use a combination of a curable acrylic polymer and a curing agent that cures the acrylic polymer as the curable resin composition. In this case, it is preferable to use the curing agent in a proportion of 60 to 350 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer. When the curing agent is less than 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin, the storage elastic modulus of the cured product tends to be less than 300 MPa, the handleability is lowered, and the Tg of the cured product is lowered, resulting in a high temperature. There is a tendency that problems such as dimensional shrinkage due to deterioration during standing and a decrease in solder heat resistance are likely to occur. On the other hand, when the ratio of the curing agent exceeds 350 parts by mass, the storage elastic modulus of the cured product tends to exceed 2000 MPa. In this case, the cured product becomes brittle, and thus the resin powder or fibers tend to fall off.

また、上記アクリル重合体は、重量平均分子量(Mw)が、30000以上であることが好ましく、更にこのアクリル重合体は、重合体中に重合成分として2〜20質量%のグリシジルアクリレートを有し、エポキシ価が2〜36であることが好ましい。   The acrylic polymer preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 30000 or more. Further, the acrylic polymer has 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component in the polymer. The epoxy value is preferably 2 to 36.

複合体100の製造方法としては、例えば、硬化性樹脂組成物を繊維シートに含浸させて乾燥した後、所定の位置に貫通孔を形成する方法が挙げられる。硬化性樹脂組成物を繊維シートに含浸させる方法としては、例えば、ウェット方式やドライ方式等の樹脂組成物溶液に繊維シートを浸漬させる方法や、繊維シートに硬化性樹脂組成物を塗工する方法等が挙げられる。   Examples of the method for producing the composite 100 include a method in which a fiber sheet is impregnated with a curable resin composition and dried, and then a through hole is formed at a predetermined position. Examples of the method of impregnating the fiber sheet with the curable resin composition include, for example, a method of immersing the fiber sheet in a resin composition solution such as a wet method and a dry method, and a method of applying the curable resin composition to the fiber sheet. Etc.

次に、本発明のプリプレグの好適な実施形態について説明する。   Next, a preferred embodiment of the prepreg of the present invention will be described.

図2は、本発明のプリプレグの一実施形態を示す模式断面図である。図2に示すプリプレグ200は、繊維シート201と、この繊維シート201に含浸した硬化性樹脂組成物を半硬化させた半硬化樹脂組成物層202とからなる。また、プリプレグ200は、貫通孔203を備えている。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the prepreg of the present invention. A prepreg 200 shown in FIG. 2 includes a fiber sheet 201 and a semi-cured resin composition layer 202 obtained by semi-curing a curable resin composition impregnated in the fiber sheet 201. Further, the prepreg 200 includes a through hole 203.

プリプレグ200は、上述の複合体100における硬化性樹脂組成物102を半硬化させることにより得ることができる。この場合、繊維シート201は繊維シート101と同様であり、半硬化樹脂組成物層202は硬化性樹脂組成物102を半硬化させてなるものである。また、別の方法として、プリプレグ200は、上記の硬化性樹脂組成物を上記の繊維シートに含浸させて乾燥したものを用意し、次いで、硬化性樹脂組成物を半硬化させて半硬化樹脂組成物層202を形成した後、所定の位置に貫通孔203を形成することにより得ることもできる。   The prepreg 200 can be obtained by semi-curing the curable resin composition 102 in the composite 100 described above. In this case, the fiber sheet 201 is the same as the fiber sheet 101, and the semi-cured resin composition layer 202 is obtained by semi-curing the curable resin composition 102. As another method, the prepreg 200 is prepared by impregnating the above curable resin composition into the above fiber sheet and drying, and then semi-curing the curable resin composition to obtain a semi-cured resin composition. It can also be obtained by forming the through hole 203 at a predetermined position after forming the physical layer 202.

硬化性樹脂組成物を半硬化させる方法としては、加熱、紫外線照射、電子線照射等の方法が挙げられる。加熱により半硬化を行う場合の条件としては、例えば、100〜200℃、1〜30分間の条件が挙げられる。   Examples of the method for semi-curing the curable resin composition include methods such as heating, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation. Examples of the conditions for semi-curing by heating include conditions of 100 to 200 ° C. and 1 to 30 minutes.

本実施形態のプリプレグにおいては、硬化性樹脂組成物の硬化率を10〜70%の範囲とすることが好ましい。硬化性樹脂組成物の硬化率が10%未満であると、金属箔と一体化した場合、一体化した金属箔表面に繊維シートの凹凸が反映されて表面平滑性が低下する傾向にあり、また、絶縁基板の厚みの制御が困難となる傾向にある。一方、硬化性樹脂組成物の硬化率が70%を越えると、金属箔と一体化する場合に樹脂成分が不足し、高速で一体化させると気泡やかすれが生じやすくなり、金属箔との接着力が不十分となる傾向にある。   In the prepreg of this embodiment, it is preferable that the curing rate of the curable resin composition be in the range of 10 to 70%. When the curing rate of the curable resin composition is less than 10%, when integrated with the metal foil, the unevenness of the fiber sheet is reflected on the surface of the integrated metal foil, and the surface smoothness tends to be reduced. The control of the thickness of the insulating substrate tends to be difficult. On the other hand, when the curing rate of the curable resin composition exceeds 70%, the resin component is insufficient when it is integrated with the metal foil, and when it is integrated at a high speed, bubbles and blurring are likely to occur, and adhesion with the metal foil. Power tends to be insufficient.

次に、本発明の金属箔張積層板の実施形態について説明する。   Next, an embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention will be described.

図3は、本発明の金属箔張積層板の一実施形態を示す模式断面図である。図3に示される金属箔張積層板300は、貫通孔303を有する絶縁基板301と、貫通孔303に充填された導電体304と、絶縁基板301上に積層された導電体層302とから構成されている。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention. A metal foil-clad laminate 300 shown in FIG. 3 includes an insulating substrate 301 having a through hole 303, a conductor 304 filled in the through hole 303, and a conductor layer 302 stacked on the insulating substrate 301. Has been.

導電体層302としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔等の金属箔が挙げられる。本実施形態の金属箔張積層板においては、導電体層302が銅箔であることが好ましく、その厚さは1〜70μmであることが好ましい。また、銅箔は、電解銅箔、圧延銅箔等を用いることができる。なお、本実施形態の金属箔張積層板においては、導電体層302は導電性を有する膜であればよく、上記の金属箔以外に、例えば、金属、有機物及びこれらの複合物であってもよい。   Examples of the conductor layer 302 include metal foil such as copper foil, aluminum foil, and nickel foil. In the metal foil-clad laminate of this embodiment, the conductor layer 302 is preferably a copper foil, and the thickness is preferably 1 to 70 μm. Moreover, electrolytic copper foil, rolled copper foil, etc. can be used for copper foil. In the metal foil-clad laminate of this embodiment, the conductor layer 302 may be a film having conductivity, and other than the above metal foil, for example, a metal, an organic substance, and a composite thereof may be used. Good.

導電体304としては、例えば、金、銀、ニッケル、銅、白金、パラジウム若しくは酸化ルテニウム等の金属若しくは金属酸化物又は有機金属化合物等を含む導電ペーストの加熱加圧されたものが挙げられる。   Examples of the conductor 304 include a heat-pressed one of a conductive paste containing a metal such as gold, silver, nickel, copper, platinum, palladium, ruthenium oxide, a metal oxide, an organometallic compound, or the like.

貫通孔303を有する絶縁基板301は、上述した複合体100又はプリプレグ200を用いて形成されている。   The insulating substrate 301 having the through hole 303 is formed using the composite 100 or the prepreg 200 described above.

例えば、プリプレグ200を用いて金属箔張積層板300を得る場合、先ず、プリプレグ200の貫通孔203に導電ペーストを充填する。次に、プリプレグ200の表面上に導電体層としての金属箔を配し、金属箔とプリプレグとを一体化し金属箔張積層板300を製造することができる。また、プリプレグ200の代わりに複合体100を用いても同様に金属箔張積層板300を製造することができる。   For example, when the metal foil-clad laminate 300 is obtained using the prepreg 200, first, the conductive paste is filled into the through holes 203 of the prepreg 200. Next, a metal foil as a conductor layer is arranged on the surface of the prepreg 200, and the metal foil and the prepreg can be integrated to manufacture the metal foil-clad laminate 300. Further, even if the composite 100 is used instead of the prepreg 200, the metal foil-clad laminate 300 can be similarly manufactured.

金属箔と、プリプレグ又は複合体とを一体化する方法としては、例えば、メタライズ、プレス積層方法、熱ロール連続積層法等が挙げられる。本実施形態においては、効率よく導電体層302を形成する観点から、プレス積層法を用いることが好ましい。プレス積層法により、金属箔と、プリプレグ又は複合体とを一体化する際の加熱加圧条件としては、例えば、温度120〜230℃、圧力1.0〜6.0MPa、加熱時間30〜120分間の範囲の条件が挙げられる。   Examples of the method for integrating the metal foil with the prepreg or the composite include metallization, press lamination method, and hot roll continuous lamination method. In the present embodiment, it is preferable to use a press lamination method from the viewpoint of efficiently forming the conductor layer 302. Examples of the heating and pressing conditions for integrating the metal foil and the prepreg or the composite by the press lamination method include a temperature of 120 to 230 ° C., a pressure of 1.0 to 6.0 MPa, and a heating time of 30 to 120 minutes. The conditions of the range are mentioned.

また、金属箔と、プリプレグ又は複合体とを連続積層する前に、金属箔の表面にプリプレグ又は複合体に含まれているものと同様の感光性樹脂組成物を塗布し、かかる樹脂組成物からなる層を形成することが好ましい。これにより、プリプレグ又は複合体に含まれる繊維シートの表面の凹凸が導電体層の表面に反映されることを更に低減することができる。   Further, before continuously laminating the metal foil and the prepreg or the composite, the same photosensitive resin composition as that contained in the prepreg or the composite is applied to the surface of the metal foil, and the resin composition It is preferable to form a layer. Thereby, it can further reduce that the unevenness | corrugation of the surface of the fiber sheet contained in a prepreg or a composite_body | complex is reflected in the surface of a conductor layer.

次に、本発明のプリント配線基板及びその製造方法の好適な実施形態について説明する。   Next, preferred embodiments of the printed wiring board and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described.

図4(a)〜(f)は、本発明のプリント配線基板の製造方法の第1実施形態を示す一連の工程図である。まず、図4(a)に示すように、ポリエステルフィルムなどの離型性フィルム1に熱硬化型樹脂を塗布し、乾燥して溶剤分を除去することで、離型性フィルム1上に熱硬化型樹脂塗布層2を形成する。   4A to 4F are a series of process diagrams showing a first embodiment of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention. First, as shown in FIG. 4 (a), a thermosetting resin is applied to a release film 1 such as a polyester film and dried to remove the solvent, thereby thermosetting the release film 1. A mold resin coating layer 2 is formed.

ここで、離型性フィルム1の厚みは、3〜50μmであることが好ましい。   Here, the thickness of the releasable film 1 is preferably 3 to 50 μm.

また、熱硬化型樹脂には、本発明の熱硬化性樹脂のみならず、エポキシ樹脂を主成分とするFR−5相当の耐熱性を有する樹脂が選択できる。また、熱硬化型樹脂の塗布方法は、ドクターブレード法やコーターによる方法などが有効であるが、ドクターブレード法が好ましい。更に、乾燥後の熱硬化型樹脂塗布層2の厚みは、10〜60μmであることが好ましい。   Further, as the thermosetting resin, not only the thermosetting resin of the present invention but also a resin having heat resistance equivalent to FR-5 whose main component is an epoxy resin can be selected. In addition, a doctor blade method or a method using a coater is effective as a thermosetting resin coating method, but a doctor blade method is preferable. Furthermore, the thickness of the thermosetting resin coating layer 2 after drying is preferably 10 to 60 μm.

次に、図4(b)に示すように、基材3の両面に熱硬化型樹脂塗布層2及び離型性フィルム1を配置する。   Next, as shown in FIG. 4B, the thermosetting resin coating layer 2 and the release film 1 are arranged on both surfaces of the base material 3.

ここで、基材3は、上述した本発明の複合体からなるものであり、例えば、複合体を耐熱離型フィルムで挟んで熱硬化させ、耐熱離型フィルムを剥離することで得ることができる。なお、基材3は、上述したプリプレグからなるものであってもよい。また、基材3の厚みは、10〜700μmであることが好ましい。   Here, the base material 3 consists of the composite_body | complex of this invention mentioned above, for example, can be obtained by pinching | interposing a composite body with a heat-resistant release film, thermosetting, and peeling a heat-resistant release film. . In addition, the base material 3 may consist of a prepreg mentioned above. Moreover, it is preferable that the thickness of the base material 3 is 10-700 micrometers.

このようにして作製した基材3の両面に、上記の熱硬化型樹脂塗布層2を形成した離型フィルム1を貼り付ける。貼る付けは、離型フィルム1上に塗布された熱硬化樹脂の硬化温度以下の温度で加圧することで行われる。例えば、熱硬化樹脂の硬化開始温度が約130℃である場合には、105℃程度の温度で2MPa程度の圧力で加圧して行うことができる。これにより熱硬化樹脂塗布層2はやや軟化し、基材3と離型フィルム1の接着に寄与する。このとき、離型フィルム1と基材3との接着強度は、弱すぎるとその後の穴加工で剥離してしまう虞があり、また強すぎると離型フィルムが剥がせなくなるため、適切な接着強度に調節する必要がある。   The release film 1 on which the thermosetting resin coating layer 2 is formed is attached to both surfaces of the base material 3 thus produced. The pasting is performed by applying pressure at a temperature equal to or lower than the curing temperature of the thermosetting resin applied on the release film 1. For example, when the curing start temperature of the thermosetting resin is about 130 ° C., pressurization can be performed at a temperature of about 105 ° C. and a pressure of about 2 MPa. Thereby, the thermosetting resin coating layer 2 is slightly softened and contributes to the adhesion between the substrate 3 and the release film 1. At this time, if the adhesive strength between the release film 1 and the substrate 3 is too weak, there is a risk of peeling in the subsequent hole processing, and if it is too strong, the release film cannot be peeled off. It is necessary to adjust to.

次に、図4(c)に示すように、離型フィルム1接着後の基材3の所定の箇所にレーザー加工法、ドリル加工法等を利用して貫通孔4を形成し、その貫通孔4に導電性ペースト5を充填する。   Next, as shown in FIG.4 (c), the through-hole 4 is formed in the predetermined location of the base material 3 after the release film 1 adhesion | attachment using a laser processing method, a drill processing method, etc., and the through-hole 4 is filled with the conductive paste 5.

導電性ペースト5を充填する方法としては、例えば、貫通孔4を有する基材3を印刷機(図示せず)のテーブル上に設置し、直接導電性ペースト5を離型性フィルム1の上から印刷する方法が挙げられる。このとき、上面の離型性フィルム1は印刷マスクの役割と、基材3の表面の汚染防止の役割を果たすこととなる。   As a method of filling the conductive paste 5, for example, the base material 3 having the through holes 4 is placed on a table of a printing machine (not shown), and the conductive paste 5 is directly applied from the release film 1. The method of printing is mentioned. At this time, the release film 1 on the upper surface plays a role of a printing mask and a prevention of contamination of the surface of the substrate 3.

また、使用する導電性ペーストとしては、銀粉、銅粉及びこれらの合金粉等の金属粉を導電性フィラーとして用い、これをエポキシ樹脂及びその硬化剤等の上述した硬化性樹脂組成物に分散させてなるものが挙げられる。   In addition, as the conductive paste to be used, metal powder such as silver powder, copper powder and alloy powder thereof is used as the conductive filler, and this is dispersed in the above-described curable resin composition such as epoxy resin and its curing agent. The thing which becomes.

次に、図4(d)に示すように、導電性ペースト5を充填した後の基材3から、基材3表面に熱硬化型樹脂層2が残るように離型フィルム1のみを剥離する。   Next, as shown in FIG. 4 (d), only the release film 1 is peeled off from the base material 3 after filling the conductive paste 5 so that the thermosetting resin layer 2 remains on the surface of the base material 3. .

次に、このように作製されたものに片面を粗化処理した片面粗化金属箔(回路電極)6を粗化面を内側にして図4(e)に示すように積層圧着する。   Next, a single-side roughened metal foil (circuit electrode) 6 whose one side has been roughened is laminated and pressure-bonded as shown in FIG.

この金属箔としては、例えば、銅箔等が用いられ、その厚さは1〜35μmであることが好ましい。   As this metal foil, copper foil etc. are used, for example, and it is preferable that the thickness is 1-35 micrometers.

また、圧着は、熱硬化型樹脂塗布層2中の熱硬化型樹脂が硬化する温度で所定の圧力を加えることで行われ(例えば、真空中、170℃で1時間)、これにより熱硬化型樹脂を硬化させて金属箔を接着させる。   The pressure bonding is performed by applying a predetermined pressure at a temperature at which the thermosetting resin in the thermosetting resin coating layer 2 is cured (for example, at 170 ° C. for 1 hour in a vacuum), whereby the thermosetting type is applied. The resin is cured and the metal foil is adhered.

その後、更に図4(f)に示すように、周知の技術であるフォトリソ法(ドライフィルムレジストラミネートDFR、紫外線硬化、DFR現像、エッチング、DFR剥離)によって銅箔のパターニングを行う。この後、必要に応じてソルダーレジスト形成、文字形成、基板加工などを行い両面プリント配線基板が得られる。   Thereafter, as shown in FIG. 4 (f), the copper foil is patterned by a photolithography method (dry film resist laminate DFR, ultraviolet curing, DFR development, etching, DFR peeling) which is a well-known technique. Thereafter, solder resist formation, character formation, substrate processing, and the like are performed as necessary to obtain a double-sided printed wiring board.

このようにして作製された両面プリント配線基板は、IVH構造を有するものであり、高い信頼性および高い品質を得ることができる。   The double-sided printed wiring board manufactured in this way has an IVH structure, and can obtain high reliability and high quality.

次に、本発明のプリント配線基板の製造方法の第2実施形態について説明する。図5(a)〜(b)は、本発明のプリント配線基板の製造方法の第2実施形態を示す一連の工程図である。第2実施形態に係るプリント配線基板の製造方法においては、上記第1実施形態で示した両面プリント配線基板を用い多層プリント配線基板を作製する。   Next, a second embodiment of the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention will be described. FIGS. 5A to 5B are a series of process diagrams showing a second embodiment of the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention. In the method for manufacturing a printed wiring board according to the second embodiment, a multilayer printed wiring board is produced using the double-sided printed wiring board shown in the first embodiment.

まず、内層用の両面板の作製方法は、第1実施形態と同様、ポリエチレンテレフタレートの離型性フィルム1に熱硬化型樹脂を塗布し、溶剤分除去のため乾燥して熱硬化型樹脂塗布層2を形成する。   First, a method for producing a double-sided board for an inner layer is similar to the first embodiment, in which a thermosetting resin is applied to a polyethylene terephthalate releasable film 1 and dried to remove a solvent, and then a thermosetting resin coating layer is formed. 2 is formed.

次に、基材3の両面に上記離型フィルム1及び熱硬化型樹脂塗布層2を第1実施形態と同様に配して接着させる。基材3としては、上述した本発明の複合体又はプリプレグを硬化させたものが用いられる。なお、基材3としては、複数の複合体又はプリプレグを積層して硬化させたものを用いてもよい。   Next, the release film 1 and the thermosetting resin coating layer 2 are arranged on both surfaces of the base material 3 in the same manner as in the first embodiment, and are adhered. As the base material 3, a material obtained by curing the composite or prepreg of the present invention described above is used. In addition, as the base material 3, you may use what laminated | stacked and hardened the some composite_body | complex or prepreg.

このようにして作製した基材3と、上記熱硬化型樹脂を塗布した離型フィルム1を貼り合せる。貼り合わせの条件は、上記と同様離型フィルム1に塗布された熱硬化樹脂の硬化温度以下の温度で加圧して行われる。   Thus, the produced base material 3 and the release film 1 which apply | coated the said thermosetting resin are bonded together. The bonding condition is performed by pressurizing at a temperature equal to or lower than the curing temperature of the thermosetting resin applied to the release film 1 as described above.

次に、離型フィルム1接着後の基材3の所定の箇所にドリル加工法を利用して貫通孔4を形成する。この貫通孔4に導電性ペースト5を充填する。導電性ペースト5を充填する方法としては、貫通孔4を有する基材3を印刷機(図示せず)のテーブル上に設置し、直接導電性ペースト5を離型性フィルム1の上から印刷する。このとき印刷下面は焼結金属を介して真空吸引される様にし、かつペーストが吸引され焼結金属内に取り込まれないよう紙を基材3と焼結金属の間に設置する。また上面の離型性フィルム1は印刷マスクの役割と、基材3の表面の汚染防止の役割を果たしている。   Next, the through-hole 4 is formed in the predetermined location of the base material 3 after the release film 1 is bonded using a drilling method. The through-hole 4 is filled with the conductive paste 5. As a method of filling the conductive paste 5, the base material 3 having the through holes 4 is set on a table of a printing machine (not shown), and the conductive paste 5 is directly printed from the release film 1. . At this time, the printed lower surface is vacuum-sucked through the sintered metal, and paper is placed between the base material 3 and the sintered metal so that the paste is sucked and not taken into the sintered metal. Moreover, the release film 1 on the upper surface plays a role of a printing mask and a prevention of contamination of the surface of the substrate 3.

導電性ペースト5を充填した基材3から、第1実施形態と同様に離型フィルム1のみを剥離する。このように作製されたものに両面を粗化処理した両面粗化金属箔6で挟み込み積層圧着する。これにより、基材3表面の熱硬化型樹脂塗布層2が硬化接着し、金属箔6と基材3の接合が行われる。このようにして作製された金属箔張り積層基材を、配線を形成するためフォトリソ法にて回路パターンを形成する。   Only the release film 1 is peeled off from the base material 3 filled with the conductive paste 5 as in the first embodiment. The product thus produced is sandwiched between the two-sided roughened metal foils 6 whose surfaces have been roughened and laminated and pressure-bonded. Thereby, the thermosetting resin coating layer 2 on the surface of the base material 3 is cured and bonded, and the metal foil 6 and the base material 3 are joined. A circuit pattern is formed by a photolithography method on the metal foil-clad laminated base material thus produced in order to form wiring.

以上のようにして作製した両面プリント配線基板を内層配線用中間材として用い、多層配線基板を作製する。まず、上記の両面プリント配線基板とは別に、上述した方法と同様にして基材3の貫通孔4に導電ペースト5を充填し、離型フィルム1を剥離した図4(d)に示した状態の中間板を用意する。   Using the double-sided printed wiring board produced as described above as an intermediate material for inner layer wiring, a multilayer wiring board is produced. First, apart from the above-mentioned double-sided printed wiring board, the state shown in FIG. 4 (d) in which the through-hole 4 of the base material 3 is filled with the conductive paste 5 in the same manner as described above and the release film 1 is peeled off. Prepare an intermediate plate.

そして、図5(a)に示すように、両面プリント配線基板の両面に中間板を配置し、さらに中間板の外側に片面粗化金属箔(回路電極)7を配置する。これらを矢印A及びBの方向に加熱加圧して積層一体化する。積層時の加熱加圧の条件は、両面プリント配線基板作製時における片面粗化金属箔(回路電極)6を積層する際の条件と同様である。   And as shown to Fig.5 (a), an intermediate board is arrange | positioned on both surfaces of a double-sided printed wiring board, and also the single-side roughening metal foil (circuit electrode) 7 is arrange | positioned on the outer side of an intermediate board. These are heated and pressed in the directions of arrows A and B to be laminated and integrated. The conditions of heating and pressing at the time of lamination are the same as the conditions at the time of laminating the single-side roughened metal foil (circuit electrode) 6 at the time of producing the double-sided printed wiring board.

その後、配線を形成するためフォトリソ法にて回路パターンを形成し、図5(b)に示すように4層プリント配線基板を作製する。   Thereafter, in order to form wiring, a circuit pattern is formed by photolithography, and a four-layer printed wiring board is produced as shown in FIG.

このようにして作製された4層プリント配線基板は、IVH構造を有するものであり、高い信頼性および高い品質を得ることができる。   The four-layer printed wiring board manufactured in this way has an IVH structure, and can obtain high reliability and high quality.

なお、ここでは4層プリント配線基板の作製方法について説明したが、さらに中間板を組み合わせて積層し、パターニングを行うことで6層プリント配線基板や、それ以上の高多層配線基板を得ることができる。このとき、最外層以外の金属箔は、両面粗化銅金属箔を用いることが好ましい。   Although a method for manufacturing a four-layer printed wiring board has been described here, a six-layer printed wiring board or a higher multi-layered wiring board can be obtained by further combining and stacking intermediate plates and performing patterning. . At this time, the metal foil other than the outermost layer is preferably a double-side roughened copper metal foil.

次に、本発明のプリント配線基板の製造方法の第3実施形態について説明する。図6(a)〜(b)は、本発明のプリント配線基板の製造方法の第3実施形態を示す一連の工程図である。第3実施形態に係るプリント配線基板の製造方法においては、上記第2実施形態で示した両面プリント配線基板及び中間板を用いて多層プリント配線基板を作製する。   Next, a third embodiment of the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention will be described. 6A to 6B are a series of process diagrams showing a third embodiment of the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention. In the method for manufacturing a printed wiring board according to the third embodiment, a multilayer printed wiring board is manufactured using the double-sided printed wiring board and the intermediate plate shown in the second embodiment.

すなわち、図6(a)に示すように、2枚の両面プリント配線基板と3枚の中間板を交互に配置し、更に片面粗化金属箔(回路電極)7を最外層になるように配置して積層、パターニングを行う。積層は、熱プレス(例えば、真空中、170℃、4MPaで1時間の条件)により矢印A及びBの方向に加熱加圧することにより、金属箔の接着を行う。金属箔接着後のパターニングは、フォトリソ法で配線パターンの形成を行う。これにより、図6(b)に示す構造を有する6層プリント配線基板を得ることができる。   That is, as shown in FIG. 6A, two double-sided printed wiring boards and three intermediate plates are alternately arranged, and one-side roughened metal foil (circuit electrode) 7 is further arranged as the outermost layer. Then, lamination and patterning are performed. In the lamination, the metal foil is bonded by heating and pressurizing in the directions of arrows A and B by hot pressing (for example, in a vacuum at 170 ° C. and 4 MPa for 1 hour). For patterning after adhesion of the metal foil, a wiring pattern is formed by photolithography. Thereby, a 6-layer printed wiring board having the structure shown in FIG. 6B can be obtained.

このようにして作製された6層プリント配線基板は、IVH構造を有するものであり、高い信頼性および高い品質を得ることができる。   The six-layer printed wiring board manufactured in this way has an IVH structure, and can obtain high reliability and high quality.

本発明のプリント配線基板は、以上説明した本発明のプリント配線基板の製造方法によって製造されるものであり、例えば、図6(b)に示すような構成を有するものである。   The printed wiring board of the present invention is manufactured by the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention described above, and has, for example, a configuration as shown in FIG.

このような構成を有する本発明のプリント配線基板は、IVH構造を有し、高信頼性および高品質を得ることができる。   The printed wiring board of the present invention having such a configuration has an IVH structure and can obtain high reliability and high quality.

図1は、本発明の複合体の一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the composite of the present invention. 図2は、本発明のプリプレグの一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the prepreg of the present invention. 図3は、本発明の金属箔張積層板の一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention. (a)〜(f)は、本発明のプリント配線基板の製造方法の第1実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(f) is a series of process drawings which show 1st Embodiment of the manufacturing method of the printed wiring board of this invention. (a)〜(b)は、本発明のプリント配線基板の製造方法の第2実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(b) is a series of process drawings which show 2nd Embodiment of the manufacturing method of the printed wiring board of this invention. (a)〜(b)は、本発明のプリント配線基板の製造方法の第3実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(b) is a series of process drawings which shows 3rd Embodiment of the manufacturing method of the printed wiring board of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100…複合体、101…繊維シート、102…硬化性樹脂組成物、103,203,303…貫通孔、200…プリプレグ、201…繊維シート、202…半硬化樹脂組成物層、300…金属箔張積層板、301…絶縁基板、302…導電体層、304…導電部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Composite, 101 ... Fiber sheet, 102 ... Curable resin composition, 103, 203, 303 ... Through-hole, 200 ... Pre-preg, 201 ... Fiber sheet, 202 ... Semi-cured resin composition layer, 300 ... Metal foil tension Laminated plate, 301 ... insulating substrate, 302 ... conductor layer, 304 ... conductive portion.

Claims (14)

繊維シートに硬化性樹脂組成物を含浸させてなる複合体であって、
前記硬化性樹脂組成物の硬化物の25℃における貯蔵弾性率が、100〜2000MPaである複合体。
A composite comprising a fiber sheet impregnated with a curable resin composition,
The composite whose storage elastic modulus in 25 degreeC of the hardened | cured material of the said curable resin composition is 100-2000 Mpa.
前記硬化性樹脂組成物が粘弾性樹脂を含有する、請求項1に記載の複合体。   The composite according to claim 1, wherein the curable resin composition contains a viscoelastic resin. 前記硬化性樹脂組成物は、重量平均分子量が30000以上であるアクリル重合体を含有し、該アクリル重合体はグリシジルアクリレートを重合成分として2〜20質量%含み且つエポキシ価が2〜36である、請求項1又は2に記載の複合体。   The curable resin composition contains an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 30000 or more, and the acrylic polymer contains 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component and has an epoxy value of 2 to 36. The complex according to claim 1 or 2. 前記繊維シートが、10〜200μmの厚みを有するガラス布である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の複合体。   The composite according to any one of claims 1 to 3, wherein the fiber sheet is a glass cloth having a thickness of 10 to 200 µm. 複合体の総厚さが100μm以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の複合体。   The composite according to any one of claims 1 to 4, wherein the total thickness of the composite is 100 µm or less. 貫通孔を有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合体。   The composite according to any one of claims 1 to 5, which has a through-hole. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合体において、前記硬化性樹脂組成物が半硬化されてなる、プリプレグ。   The composite according to any one of claims 1 to 5, wherein the curable resin composition is semi-cured. 貫通孔を有する、請求項7記載のプリプレグ。   The prepreg of Claim 7 which has a through-hole. 請求項6に記載の複合体において、前記貫通孔に導電体を充填し、前記複合体の少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られる、金属箔張積層板。   The metal foil-clad laminate obtained by heating and pressurizing the composite according to claim 6, wherein the through-hole is filled with a conductor and a metal foil is disposed on at least one surface of the composite. 請求項8に記載のプリプレグにおいて、前記貫通孔に導電体を充填し、前記プリプレグの少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られる、金属箔張積層板。   The prepreg according to claim 8, wherein the metal foil-clad laminate is obtained by heating and pressing a through-hole filled with a conductor and a metal foil disposed on at least one surface of the prepreg. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合体からなる第1の基材と、該第1の基材の両表面上に形成された第1の熱硬化型樹脂層と、該第1の熱硬化型樹脂層の表層にパターニングされた回路電極と、を備え、前記第1の基材と前記第1の熱硬化型樹脂層とを貫通する第1の貫通孔が形成されており、前記第1の貫通孔に前記両表面の回路電極同士を電気的に接続するための導電性物質が充填されてなる両面プリント配線基板を少なくとも二枚用い、
二枚の前記両面プリント配線基板の間に、前記複合体からなる第2の基材と、該第2の基材の両表面上に形成された第2の熱硬化型樹脂層と、を備え、前記第2の基材と前記第2の熱硬化型樹脂層とを貫通する第2の貫通孔が形成されており、前記第2の貫通孔に導電性物質が充填されてなる中間板が挟持されているとともに、
前記両面プリント配線基板の少なくとも片面に、前記複合体からなる第3の基材と、該第3の基材の両表面上に形成された第3の熱硬化型樹脂層と、一方の前記第3の熱硬化型樹脂層の表層にパターニングされた回路電極と、を備え、前記第3の基材と前記第3の熱硬化型樹脂層とを貫通する第3の貫通孔が形成されており、前記第3の貫通孔に導電性物質が充填されてなる片面プリント配線基板が、該片面プリント配線基板の前記回路電極が外側になるように積層されている、プリント配線基板。
A first base material comprising the composite according to any one of claims 1 to 5, a first thermosetting resin layer formed on both surfaces of the first base material, A circuit electrode patterned on a surface layer of one thermosetting resin layer, and a first through hole penetrating the first base material and the first thermosetting resin layer is formed. , Using at least two double-sided printed wiring boards in which the first through hole is filled with a conductive substance for electrically connecting the circuit electrodes on both surfaces,
Between the two double-sided printed wiring boards, a second base material made of the composite, and a second thermosetting resin layer formed on both surfaces of the second base material A second through-hole penetrating the second base material and the second thermosetting resin layer is formed, and an intermediate plate is formed by filling the second through-hole with a conductive substance. While being pinched,
On at least one surface of the double-sided printed wiring board, a third base material made of the composite, a third thermosetting resin layer formed on both surfaces of the third base material, and the first base material And a circuit electrode patterned on the surface layer of the thermosetting resin layer 3, and a third through hole penetrating the third base material and the third thermosetting resin layer is formed. A printed wiring board in which a single-sided printed wiring board in which the third through-hole is filled with a conductive substance is laminated so that the circuit electrode of the single-sided printed wiring board is on the outside.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合体からなる基材の両面に、あらかじめ片面に熱硬化型樹脂を塗布して熱硬化型樹脂塗布層を形成した離型フィルムを、前記熱硬化型樹脂塗布層が前記基材側となるように配置し、前記熱硬化型樹脂の硬化温度以下の温度で圧力を加えて貼り合わせ、前記熱硬化型樹脂層を形成した離型フィルムを貼り合わせた前記基材の所望の位置に貫通孔を形成し、前記貫通孔に導電性樹脂ペーストを前記離型フィルム表面まで充填させ、前記熱硬化型樹脂を前記基材表面に残して両面の前記離型フィルムのみを剥離し、剥離後の前記基材の表面に銅箔を配し、加熱加圧する事により前記熱硬化型樹脂を硬化させ前記銅箔を接着させ、前記基材表面の銅箔をパターンニングする工程を少なくとも有する、プリント配線基板の製造方法。   A release film in which a thermosetting resin coating layer is formed on one side in advance by applying a thermosetting resin coating on both sides of the base material composed of the composite according to any one of claims 1 to 5, Place the curable resin coating layer on the substrate side, apply pressure at a temperature not higher than the curing temperature of the thermosetting resin, and attach the release film on which the thermosetting resin layer is formed. A through hole is formed at a desired position of the combined base material, and the through hole is filled with a conductive resin paste up to the surface of the release film, and the thermosetting resin is left on the base material surface, and the both sides Only the release film is peeled off, a copper foil is disposed on the surface of the substrate after peeling, and the thermosetting resin is cured by heating and pressing to adhere the copper foil, and the copper foil on the surface of the substrate At least a patterning step Method of manufacturing a substrate. 請求項12に記載の製造方法によりプリント配線基板を作製した後、前記プリント配線基板の両面に、請求項12に記載の製造方法において離型フィルムを剥離した後に得られる、未硬化状態の熱硬化型樹脂塗布層を有する未硬化基板を配置して前記プリント配線基板を挟み、前記未硬化基板の表面に銅箔を配して加熱加圧して、前記プリント配線基板と前記未硬化基板とを積層硬化し、表面の前記銅箔をパターニングして回路形成する工程を少なくとも1回以上行うことにより多層配線の形成を行う、プリント配線基板の製造方法。   After producing a printed wiring board by the manufacturing method of Claim 12, it is the thermosetting of an unhardened state obtained after peeling a release film in the manufacturing method of Claim 12 on both surfaces of the said printed wiring board. An uncured substrate having a mold resin coating layer is arranged, the printed wiring board is sandwiched, a copper foil is disposed on the surface of the uncured substrate, and heated and pressed to laminate the printed wiring board and the uncured substrate. A method for producing a printed wiring board, wherein a multilayer wiring is formed by performing a step of curing and patterning the copper foil on the surface to form a circuit at least once. 請求項12に記載の製造方法により作製したプリント配線基板と、請求項12に記載の製造方法において離型フィルムを剥離した後に得られる、未硬化状態の熱硬化型樹脂塗布層を有する未硬化基板とを、前記プリント配線基板が常に最外層になるように所望の数だけ交互に配し、加熱加圧して前記プリント配線基板と前記未硬化基板を積層硬化することにより多層配線の形成を行う、プリント配線基板の製造方法。
A printed wiring board produced by the manufacturing method according to claim 12 and an uncured substrate having an uncured thermosetting resin coating layer obtained after peeling the release film in the manufacturing method according to claim 12. And alternately arranging a desired number so that the printed wiring board is always the outermost layer, and forming the multilayer wiring by stacking and curing the printed wiring board and the uncured board by heating and pressurization, A method for manufacturing a printed wiring board.
JP2004371980A 2004-12-22 2004-12-22 Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate Pending JP2006176677A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004371980A JP2006176677A (en) 2004-12-22 2004-12-22 Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004371980A JP2006176677A (en) 2004-12-22 2004-12-22 Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006176677A true JP2006176677A (en) 2006-07-06

Family

ID=36731074

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004371980A Pending JP2006176677A (en) 2004-12-22 2004-12-22 Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006176677A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006299189A (en) * 2005-04-25 2006-11-02 Hitachi Chem Co Ltd Prepreg sheet, metal foil-clad laminate, circuit board, and method for manufacturing circuit board
JP2006307067A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal-clad laminated board, printed-wiring board and its manufacturing method
JP2006306977A (en) * 2005-04-27 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated board, printed-wiring board, multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof
JP2006348225A (en) * 2005-06-17 2006-12-28 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate
JP2007294644A (en) * 2006-04-25 2007-11-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing prepreg filled with paste, and method of manufacturing circuit board
JP2007317749A (en) * 2006-05-23 2007-12-06 Matsushita Electric Works Ltd Printed wiring board material and method of manufacturing the same
CN101841975A (en) * 2010-05-12 2010-09-22 珠海市荣盈电子科技有限公司 Method for manufacturing high-thermal conductivity circuit board by hot-pressing method and high-thermal conductivity circuit board
JP2012054464A (en) * 2010-09-02 2012-03-15 Hitachi Chem Co Ltd Multilayer printed wiring board, method of manufacturing the same, prepreg, metal foil with resin, resin film, and metal foil-clad laminate

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006299189A (en) * 2005-04-25 2006-11-02 Hitachi Chem Co Ltd Prepreg sheet, metal foil-clad laminate, circuit board, and method for manufacturing circuit board
JP2006306977A (en) * 2005-04-27 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated board, printed-wiring board, multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof
JP2006307067A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal-clad laminated board, printed-wiring board and its manufacturing method
JP2006348225A (en) * 2005-06-17 2006-12-28 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate
JP2007294644A (en) * 2006-04-25 2007-11-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing prepreg filled with paste, and method of manufacturing circuit board
JP2007317749A (en) * 2006-05-23 2007-12-06 Matsushita Electric Works Ltd Printed wiring board material and method of manufacturing the same
CN101841975A (en) * 2010-05-12 2010-09-22 珠海市荣盈电子科技有限公司 Method for manufacturing high-thermal conductivity circuit board by hot-pressing method and high-thermal conductivity circuit board
CN101841975B (en) * 2010-05-12 2012-07-04 珠海市荣盈电子科技有限公司 Method for manufacturing high-thermal conductivity circuit board by hot-pressing method and high-thermal conductivity circuit board
JP2012054464A (en) * 2010-09-02 2012-03-15 Hitachi Chem Co Ltd Multilayer printed wiring board, method of manufacturing the same, prepreg, metal foil with resin, resin film, and metal foil-clad laminate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6664127B2 (en) Method of manufacturing multi-layer printed wiring board
JP3197213B2 (en) Printed wiring board and method of manufacturing the same
TWI259038B (en) Circuit board, electric insulating material therefor and method of manufacturing the same
WO2001045478A1 (en) Multilayered printed wiring board and production method therefor
JP2587596B2 (en) Circuit board connecting material and method for manufacturing multilayer circuit board using the same
WO2006118059A1 (en) Composite, prepreg, laminated plate clad with metal foil, material for connecting circuit board, and multilayer printed wiring board and method for manufacture thereof
JP2006152261A (en) Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate, and multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof
WO2006118141A1 (en) Multilayer wiring board and method for producing same
JP2006152260A (en) Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate and multilayer printed wiring board obtained using the same, and manufacturing method of multilayer printed wiring board
JPH07263828A (en) Printed interconnection board and its production process
US20130062099A1 (en) Multiple layer z-axis interconnect apparatus and method of use
JP2006176677A (en) Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate
JP4765125B2 (en) Multilayer substrate for forming multilayer printed wiring board and multilayer printed wiring board
TW517504B (en) Circuit board and a method of manufacturing the same
JP2009054930A (en) Multi-layer printed wiring board having built-in parts and method of manufacturing the same
JP2006348225A (en) Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate
JP2006306977A (en) Composite, prepreg, metal foil-clad laminated board, printed-wiring board, multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof
JPH10190159A (en) Printing substrate, circuit board-connecting material using the substrate, and manufacture of multilayered circuit board using the connection material
JP2007109697A (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing same
JP2006117888A (en) Composite, prepreg using the same, metal foil-clad laminate plate, circuit board and method for producing the circuit board
JP2002368364A (en) Printed wiring board and its manufacturing method
JP3738536B2 (en) Method for manufacturing printed wiring board
JPH11251703A (en) Circuit board, both-sided circuit board, multilayered circuit board, and manufacture of circuit board
JP2006182900A (en) Composite material, prepreg, metal-clad laminate, multilayer substrate, and method for producing the same
JP2006299189A (en) Prepreg sheet, metal foil-clad laminate, circuit board, and method for manufacturing circuit board