JP2006117888A - Composite, prepreg using the same, metal foil-clad laminate plate, circuit board and method for producing the circuit board - Google Patents

Composite, prepreg using the same, metal foil-clad laminate plate, circuit board and method for producing the circuit board Download PDF

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希 高野
Masami Kamiya
雅己 神谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite sufficiently excellent in adhesive reliability, sufficiently suppressed in generation of resin powder and fiber liable to fall off, to provide a prepreg using the composite, and to provide a metal foil-clad laminate plate using the composite. <P>SOLUTION: The composite settling the above problems is a composite 100 which is obtained by impregnating a fiber sheet 101 with a curable resin composition 102 and gives a cured product of the curable resin composition and having 100-2,000 MPa storage elastic modulus at 20°C. The curable resin composition has ≥30,000 weight-average molecular weight, contains an acrylic polymer containing 2-20 mass% glycidyl acrylate as a polymerizable component and has 2-36 epoxy number. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、複合体、これを用いたプリプレグ、金属箔張積層板及び回路基板並びに回路基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a composite, a prepreg using the composite, a metal foil-clad laminate, a circuit board, and a method for manufacturing the circuit board.

近年、電子機器の高性能化、小型化に伴い、回路基板には高多層化、高密度化が求められている。回路基板の高密度化を図るために、基板の層間の接続方式として、IC間や部品間を最短距離で結合できるインナービアホール(IVH)接続が広く用いられている。IVH接続では、必要な各層間のみの接続が可能であり、基板最上層にも貫通孔がなく実装性も優れている。   2. Description of the Related Art In recent years, with the increase in performance and miniaturization of electronic devices, circuit boards are required to have higher multilayers and higher densities. In order to increase the density of circuit boards, inner via hole (IVH) connections that can connect ICs and components at the shortest distance are widely used as connection methods between board layers. In the IVH connection, it is possible to connect only necessary layers, and there is no through hole in the uppermost layer of the substrate, and the mountability is excellent.

このIVH接続を用いた回路基板として、例えば、シート状の有機質の不織布に熱硬化性樹脂を含浸させてなるシート基板材に、レーザー加工により貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性ペーストを充填し、シート基板材を加熱加圧することで、IVH構造を形成せしめた回路基板が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平6−268345号公報
As a circuit board using this IVH connection, for example, a sheet substrate material obtained by impregnating a sheet-like organic nonwoven fabric with a thermosetting resin is used to form a through hole by laser processing, and a conductive paste is formed in the through hole. There has been proposed a circuit board in which an IVH structure is formed by filling and heating and pressing a sheet substrate material (see, for example, Patent Document 1).
JP-A-6-268345

しかしながら、上記IVH構造を有する回路基板は、その製造の際に基板上に打痕が発生したり、配線の断線が発生したりすることがあり、十分な信頼性を有していないものがあった。特に、高密度化を図るために各層の層厚を薄くする場合に、上記の不良が多発する傾向にあった。   However, the circuit board having the above-mentioned IVH structure may cause dents on the board during the manufacture or may cause the disconnection of the wiring, so that there is a circuit board that does not have sufficient reliability. It was. In particular, when the thickness of each layer is reduced in order to increase the density, the above-described defects tend to occur frequently.

そこで、本発明者らは、上記不良の原因について詳細に検討した結果、上記のように絶縁基板として繊維シートに樹脂を含浸したシート基板材を用いた場合、絶縁基板から脱落する樹脂粉又は繊維が上記不良の大きな原因であることを見出した。また、脱落する樹脂粉又は繊維は、特にビアホールを有する絶縁基板を形成する際に多く発生することが分かった。   Therefore, as a result of examining the cause of the defect in detail, the present inventors, as described above, when the sheet substrate material in which the fiber sheet is impregnated with the resin is used as the insulating substrate, the resin powder or fibers that fall off from the insulating substrate Has been found to be a major cause of the above defects. Further, it has been found that a large amount of resin powder or fiber that falls off is generated particularly when an insulating substrate having a via hole is formed.

ここで、絶縁基板の材料として樹脂粉又繊維の脱落を抑制することのみ考慮したものを選択しても、回路基板に用いる絶縁基板が必要な接着信頼性を十分に有していなければ、結果として十分な信頼性を有する回路基板が得られない。   Here, even if the material for the insulating substrate is selected only considering the suppression of the dropping of resin powder or fiber, if the insulating substrate used for the circuit board does not have sufficient adhesive reliability, the result As a result, a circuit board having sufficient reliability cannot be obtained.

本発明は、上記の課題を解決するものであり、接着信頼性に十分優れ、且つ、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分抑制されている複合体を提供することを目的とする。また、本発明は、かかる複合体を用いたプリプレグ、金属箔張積層板、回路基板及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a composite that is sufficiently excellent in adhesion reliability and sufficiently suppressed from generating resin powder or fibers that may drop off. . Another object of the present invention is to provide a prepreg, a metal foil-clad laminate, a circuit board, and a manufacturing method thereof using such a composite.

上記目的を達成するために、本発明の複合体は、繊維シートに硬化性樹脂組成物を含浸させてなる複合体であって、硬化性樹脂組成物の硬化物の20℃における貯蔵弾性率が、100〜2000MPaであることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the composite of the present invention is a composite comprising a fiber sheet impregnated with a curable resin composition, and the cured product of the curable resin composition has a storage elastic modulus at 20 ° C. 100 to 2000 MPa.

本発明の複合体は、硬化物の貯蔵弾性率が上記の範囲となる硬化性樹脂組成物が繊維シートに含浸されていることにより、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分に抑制され、且つ、十分に優れた接着信頼性を有するものとなっている。したがって、本発明の複合体を絶縁基板の材料として用いることにより、信頼性に優れる回路基板を製造することができる。   In the composite of the present invention, the fiber sheet is impregnated with a curable resin composition in which the storage modulus of the cured product falls within the above range, thereby sufficiently suppressing the occurrence of resin powder or fibers that may fall off. In addition, the adhesive reliability is sufficiently excellent. Therefore, a circuit board having excellent reliability can be manufactured by using the composite of the present invention as a material for an insulating substrate.

硬化性樹脂組成物の硬化物の20℃における貯蔵弾性率が、100MPa未満であると、取扱い性及び寸法安定性が低下して、十分な接着信頼性を得ることができず、一方、2000MPaを越えると、硬化した樹脂が脆くなるために脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制することができない。   When the storage elastic modulus at 20 ° C. of the cured product of the curable resin composition is less than 100 MPa, handleability and dimensional stability are deteriorated, and sufficient adhesion reliability cannot be obtained. If it exceeds, the cured resin becomes brittle, and thus generation of resin powder or fibers that may fall off cannot be sufficiently suppressed.

また、本発明の複合体において、上記繊維シートの体積Vbに対する上記硬化性樹脂組成物の体積Vaの比Va/Vbが、0.3〜0.9であることが好ましい。   In the composite of the present invention, the ratio Va / Vb of the volume Va of the curable resin composition to the volume Vb of the fiber sheet is preferably 0.3 to 0.9.

上記のVa/Vbが、0.3未満であると、金属箔と一体化する場合に樹脂成分が不足し、高速で一体化させると気泡やかすれが生じたり、一体化した金属箔表面に繊維シートの凹凸が反映されて表面平滑性が低下したりする傾向にある。これにより、十分な接着信頼性を得ることが困難となる傾向にある。一方、Va/Vbが、0.9を超えると、高温放置等の耐熱性試験において基材に歪みが発生するなどの寸法安定性が低下する傾向にある。   When the Va / Vb is less than 0.3, the resin component is insufficient when integrated with the metal foil, and when integrated at a high speed, bubbles or blurring occurs, or fibers are formed on the surface of the integrated metal foil. The unevenness of the sheet is reflected and the surface smoothness tends to decrease. Thereby, it tends to be difficult to obtain sufficient adhesion reliability. On the other hand, when Va / Vb exceeds 0.9, there is a tendency that the dimensional stability such as distortion occurs in the base material in a heat resistance test such as leaving at high temperature.

更に、本発明の複合体において、上記硬化性樹脂組成物が粘弾性樹脂を含有することが好ましい。このような複合体は、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生がより確実に抑制され、且つ、十分優れた接着信頼性を有するものとなっている。   Furthermore, in the composite of the present invention, the curable resin composition preferably contains a viscoelastic resin. Such a composite is more reliably suppressed from generating resin powder or fibers that may fall off, and has sufficiently excellent adhesion reliability.

また、本発明の複合体において、上記硬化性樹脂組成物は、重量平均分子量が30000以上であるアクリル重合体を含有し、このアクリル重合体はグリシジルアクリレートを重合成分として2〜20質量%含み、エポキシ価が2〜36であることが好ましい。なお、エポキシ価は、HLC測定法により求めた値を採用する。   Further, in the composite of the present invention, the curable resin composition contains an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 30000 or more, and the acrylic polymer contains 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component, The epoxy value is preferably 2 to 36. In addition, the value calculated | required by the HLC measuring method is employ | adopted for an epoxy value.

アクリル重合体の重量平均分子量が30000未満であると、柔軟性が低下して脆くなる傾向にある。また、アクリル重合体に重合成分として含まれるグリシジルアクリレートが、2質量%未満であると、硬化物のガラス転移温度Tgが低下して耐熱性が不十分となる傾向にあり、一方、10質量%を超えると、硬化物の貯蔵弾性率が上昇して樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制できなくなる傾向にある。さらに、アクリル重合体のエポキシ価が、2未満であると、硬化物のガラス転移温度Tgが低下して耐熱性が不十分となる傾向にあり、一方、18を超えると、硬化物の貯蔵弾性率が上昇して樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制できなくなる傾向にある。   When the weight average molecular weight of the acrylic polymer is less than 30000, the flexibility tends to be lowered and become brittle. Further, if the glycidyl acrylate contained as a polymerization component in the acrylic polymer is less than 2% by mass, the glass transition temperature Tg of the cured product tends to be lowered and the heat resistance tends to be insufficient, whereas 10% by mass. If it exceeds 1, the storage elastic modulus of the cured product tends to increase and the generation of resin powder or fibers cannot be sufficiently suppressed. Furthermore, when the epoxy value of the acrylic polymer is less than 2, the glass transition temperature Tg of the cured product tends to decrease and the heat resistance tends to be insufficient. The rate tends to increase and the generation of resin powder or fibers cannot be sufficiently suppressed.

更に、本発明の複合体において、上記繊維シートは、10〜200μmの厚みを有するガラス布であることが好ましい。かかる複合体によれば、十分な機械的強度を有するとともに寸法安定性が向上し、回路基板の高密度化を図ることがより容易となる絶縁基板を得ることができる。   Furthermore, in the composite of the present invention, the fiber sheet is preferably a glass cloth having a thickness of 10 to 200 μm. According to such a composite, it is possible to obtain an insulating substrate that has sufficient mechanical strength, improves dimensional stability, and makes it easier to increase the density of the circuit board.

また、本発明の複合体において、複合体の総厚さが100μm以下であることが好ましい。複合体の総厚さが、100μm以下であることにより、回路基板を構成する絶縁基板として用いる場合に、高密度化を図ることがより容易となる。   In the composite of the present invention, the total thickness of the composite is preferably 100 μm or less. When the total thickness of the composite is 100 μm or less, it is easier to increase the density when used as an insulating substrate constituting the circuit board.

更に、本発明の複合体において、複合体が貫通孔を有することが好ましい。かかる複合体によれば、予め所定位置に貫通孔が設けられていることで貫通孔を形成する工程を省略でき、このような複合体を用いることで信頼性に優れるIVH構造の回路基板を歩留まりよく製造することができる。   Furthermore, in the composite of the present invention, the composite preferably has a through hole. According to such a composite, the step of forming the through-hole can be omitted by providing the through-hole in a predetermined position in advance, and the yield of the circuit board having an IVH structure that is excellent in reliability by using such a composite. Can be manufactured well.

また、本発明のプリプレグは、上記本発明の複合体において、硬化性樹脂組成物が半硬化されてなることを特徴とする。   The prepreg of the present invention is characterized in that, in the composite of the present invention, the curable resin composition is semi-cured.

本発明のプリプレグは、上述の硬化性樹脂組成物を用いることにより、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分に抑制され、且つ、十分に優れた接着信頼性を有するものとなっている。したがって、本発明のプリプレグを用いてIVH構造を有する回路基板を製造する場合、信頼性に優れる回路基板を得ることができる。   By using the curable resin composition described above, the prepreg of the present invention is sufficiently suppressed in the generation of resin powder or fibers that may fall off and has sufficiently excellent adhesion reliability. Yes. Therefore, when manufacturing the circuit board which has IVH structure using the prepreg of this invention, the circuit board excellent in reliability can be obtained.

更に、本発明のプリプレグにおいて、貫通孔を有することが好ましい。かかるプリプレグによれば、予め所定位置に貫通孔が設けられていることで貫通孔を形成する工程を省略でき、このようなプリプレグを用いることで信頼性に優れるIVH構造の回路基板をより容易に製造することができる。   Furthermore, the prepreg of the present invention preferably has a through hole. According to such a prepreg, the step of forming the through-hole can be omitted by providing the through-hole in a predetermined position in advance, and by using such a prepreg, a highly reliable circuit board having an IVH structure can be more easily obtained. Can be manufactured.

また、本発明の第1の金属箔張積層板は、貫通孔を有する本発明の複合体において、貫通孔に導電体を充填し、複合体の少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られることを特徴とする。   Further, the first metal foil-clad laminate of the present invention is a composite of the present invention having a through hole, in which the through hole is filled with a conductor and a metal foil is disposed on at least one surface of the composite, It is obtained by heating and pressing.

かかる金属箔張積層板は、上記本発明の複合体を用いることにより、金属箔張積層板からの樹脂粉又は繊維の脱落が十分に抑制されているとともに、十分に優れた接着信頼性を有している。したがって、本発明の金属箔張積層板を用いてIVH構造を有する回路基板を製造する場合、信頼性に優れる回路基板を歩留まりよく得ることができる。   By using the composite of the present invention, such a metal foil-clad laminate is sufficiently suppressed from falling off the resin powder or fibers from the metal foil-clad laminate and has sufficiently excellent adhesion reliability. is doing. Therefore, when a circuit board having an IVH structure is manufactured using the metal foil-clad laminate of the present invention, a circuit board having excellent reliability can be obtained with a high yield.

また、本発明の第2の金属箔張積層板は、貫通孔を有する本発明のプリプレグにおいて、貫通孔に導電体を充填し、プリプレグの少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られることを特徴とする。   Further, the second metal foil-clad laminate of the present invention is a prepreg of the present invention having a through-hole, in which a through-hole is filled with a conductor and a metal foil is disposed on at least one surface of the prepreg. It is obtained by pressing.

かかる金属箔張積層板は、上記本発明のプリプレグを用いることにより、金属箔張積層板からの樹脂粉又は繊維の脱落が十分に抑制されているとともに、十分に優れた接着信頼性を有している。したがって、本発明の金属箔張積層板を用いてIVH構造を有する回路基板を製造する場合、信頼性に優れる回路基板を歩留まりよく得ることができる。   Such a metal foil-clad laminate has a sufficiently excellent adhesion reliability while sufficiently preventing the resin powder or fibers from falling off the metal foil-clad laminate by using the prepreg of the present invention. ing. Therefore, when a circuit board having an IVH structure is manufactured using the metal foil-clad laminate of the present invention, a circuit board having excellent reliability can be obtained with a high yield.

また、本発明の第1の回路基板は、上記本発明の複合体からなる絶縁基板に、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、上記第1の貫通孔内には、導電性粒子を含有する第1の樹脂組成物からなる導電部が上記第1の貫通孔全体を埋めるように形成され、上記導電部により上記絶縁基板の厚さ方向の電気的接続がなされている回路基板であって、上記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第2の貫通孔が更に形成されており、上記第2の貫通孔内には、該第2の貫通孔の両端の開口部を除く部分に充填された、導電性粒子を含有する第2の樹脂組成物と、上記開口部に配置された絶縁性樹脂層とからなる放熱部が形成されていることを特徴とする。   In the first circuit board of the present invention, a first through hole penetrating in the thickness direction is formed in the insulating substrate made of the composite of the present invention, and in the first through hole, A conductive portion made of the first resin composition containing conductive particles is formed so as to fill the entire first through hole, and the conductive portion is electrically connected in the thickness direction of the insulating substrate. In the circuit board, the insulating substrate is further formed with a second through hole penetrating in the thickness direction, and the second through hole is provided at both ends of the second through hole. A heat radiating portion is formed which is formed of a second resin composition containing conductive particles and filled in a portion excluding the opening, and an insulating resin layer disposed in the opening. .

また、本発明の第2の回路基板は、上記本発明の複合体からなる絶縁基板に、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、上記第1の貫通孔内には、導電性粒子を含有する第1の樹脂組成物からなる導電部が上記第1の貫通孔全体を埋めるように形成され、上記導電部により上記絶縁基板の厚さ方向の電気的接続がなされている回路基板であって、上記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第2の貫通孔が更に形成されており、上記第2の貫通孔内には、絶縁性粒子を含有する絶縁性の第3の樹脂組成物からなる放熱部が上記第2の貫通孔全体を埋めるように形成されていることを特徴とする。   In the second circuit board of the present invention, a first through hole penetrating in the thickness direction is formed in the insulating substrate made of the composite of the present invention, and in the first through hole, A conductive portion made of the first resin composition containing conductive particles is formed so as to fill the entire first through hole, and the conductive portion is electrically connected in the thickness direction of the insulating substrate. The circuit board, wherein the insulating substrate is further formed with a second through hole penetrating in the thickness direction, and the second through hole has an insulating property containing insulating particles. The heat radiation part made of the third resin composition is formed so as to fill the entire second through hole.

更に、本発明の第3の回路基板は、上記本発明の複合体からなる絶縁基板に、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、上記第1の貫通孔内には、導電性粒子を含有する第1の樹脂組成物からなる導電部が上記第1の貫通孔全体を埋めるように形成され、上記導電部により上記絶縁基板の厚さ方向の電気的接続がなされている回路基板であって、上記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第2の貫通孔が更に形成されており、上記第2の貫通孔内には、該第2の貫通孔の両端の開口部を除く部分に充填された、導電性粒子を含有する第2の樹脂組成物と、上記開口部に配置された絶縁性樹脂層とからなる第1の放熱部が形成されており、且つ、上記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第3の貫通孔が更に形成されており、上記第3の貫通孔内には、絶縁性粒子を含有する第3の樹脂組成物からなる第2の放熱部が上記第3の貫通孔全体を埋めるように形成されていることを特徴とする。   Furthermore, in the third circuit board of the present invention, a first through hole penetrating in the thickness direction is formed in the insulating substrate made of the composite of the present invention, and in the first through hole, A conductive portion made of the first resin composition containing conductive particles is formed so as to fill the entire first through hole, and the conductive portion is electrically connected in the thickness direction of the insulating substrate. In the circuit board, the insulating substrate is further formed with a second through hole penetrating in the thickness direction, and the second through hole is provided at both ends of the second through hole. A first heat dissipating portion is formed which is formed of a second resin composition containing conductive particles filled in a portion excluding the opening, and an insulating resin layer disposed in the opening; and The insulating substrate is further formed with a third through-hole penetrating in the thickness direction, The third through hole, wherein the second heat radiation member formed of the third resin composition containing the insulating particles is formed to fill the entire said third through hole.

先に説明したような従来のIVH構造を有する回路基板では、放熱性が十分ではなく、かかる点が半導体チップの実装基板として使用する場合の問題点になっている。また、基板最上層の電極のランドが、基板最上層における配線(例えば、半導体チップとの電気的接続をおこなうための配線)を形成する領域を制限しており、配線を高密度に形成することができないという問題点があった。   In the circuit board having the conventional IVH structure as described above, heat dissipation is not sufficient, and this is a problem when used as a semiconductor chip mounting board. In addition, the land of the electrode on the uppermost layer of the substrate limits the region for forming the wiring (for example, wiring for electrical connection with the semiconductor chip) in the uppermost layer of the substrate, and the wiring is formed with high density. There was a problem that could not.

これに対し、上記本発明の第1〜第3の回路基板では、絶縁基板が上述の接着信頼性に優れ且つ樹脂粉や繊維の脱落が十分に抑制されている本発明の複合体で構成されているとともに、絶縁基板に上述した導電部と放熱部とが形成されている。かかる構成を有する回路基板においては、導電部による放熱だけでなく、放熱部によって十分な放熱がなされるとともに、放熱部周辺には電極のランドが形成されないため、その放熱部周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる回路基板によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。なお、上記本発明の第1〜第3の回路基板は、上述した導電部及び放熱部以外に、更に別の導電部及び放熱部を有していてもよい。   On the other hand, in the first to third circuit boards of the present invention, the insulating substrate is composed of the composite of the present invention in which the above-described adhesive reliability is excellent and resin powder and fibers are sufficiently prevented from falling off. In addition, the conductive portion and the heat dissipation portion described above are formed on the insulating substrate. In a circuit board having such a configuration, not only heat dissipation by the conductive portion, but also sufficient heat dissipation by the heat dissipation portion, and electrode lands are not formed around the heat dissipation portion. Can be arranged. Therefore, according to such a circuit board, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained. In addition, the 1st-3rd circuit board of the said invention may have another another electroconductive part and a thermal radiation part other than the electroconductive part and thermal radiation part which were mentioned above.

ここで、上記第1〜第3の回路基板において、上記絶縁性樹脂層及び上記樹脂組成物の構成樹脂が硬化樹脂であることが好ましい。これにより、優れた耐熱性が得られるとともに、ハンダ及びハンダリフロー処理における耐久性が向上する。また、上記絶縁性樹脂層及び上記樹脂組成物の構成樹脂は、エポキシ樹脂であることが好ましい。これにより、導電部及び放熱部と絶縁基板との接着信頼性が向上する。   Here, in the first to third circuit boards, the insulating resin layer and the constituent resin of the resin composition are preferably cured resins. Thereby, while being excellent in heat resistance, durability in solder and solder reflow processing is improved. The constituent resin of the insulating resin layer and the resin composition is preferably an epoxy resin. Thereby, the adhesion reliability of the conductive part and the heat radiating part and the insulating substrate is improved.

また、上記第1〜第3の回路基板において、上記絶縁基板の上下面の少なくとも一方にその一部が上記導電部に接合する金属箔パターンが形成されていることが好ましい。これにより、金属箔パターンを電気回路とする回路基板を構成することができる。   In the first to third circuit boards, it is preferable that a metal foil pattern, a part of which is bonded to the conductive portion, is formed on at least one of the upper and lower surfaces of the insulating substrate. Thereby, the circuit board which uses a metal foil pattern as an electric circuit can be comprised.

更に、上記第1〜第3の回路基板において、上記導電性粒子が、金、銀、銅、アルミニウム、パラジウム、ニッケル及びこれらの合金の粒子から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。これにより、十分な電気伝導性を有する導電部を形成することができる。   Furthermore, in the first to third circuit boards, the conductive particles are preferably at least one selected from gold, silver, copper, aluminum, palladium, nickel, and alloys thereof. Thereby, the electroconductive part which has sufficient electrical conductivity can be formed.

また、上記第1〜第3の回路基板において、上記絶縁性粒子がアルミナ粒子、シリカ粒子及びマグネシア粒子から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。これにより、十分な電気絶縁性を有する放熱部を形成することができる。   In the first to third circuit boards, the insulating particles are preferably at least one selected from alumina particles, silica particles, and magnesia particles. Thereby, the thermal radiation part which has sufficient electrical insulation can be formed.

本発明の回路基板の第1の製造方法は、上記本発明の複合体からなる基体の両表面にカバーフィルムを貼り合わせる工程と、上記基体及び上記カバーフィルムに、上記基体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔及び第2の貫通孔を形成する工程と、上記第1の貫通孔及び第2の貫通孔に、導電性粒子と樹脂成分とを少なくとも含む導電性ペーストを充填する工程と、上記基体から上記カバーフィルムを除去する工程と、上記基体の両面に金属箔を配置した状態で加圧加熱処理を施し、上記基体中の硬化性樹脂組成物及び上記導電性ペースト中の上記樹脂成分を硬化させる工程と、上記金属箔に、少なくとも上記第2の貫通孔の開口を塞いでいる部分が除去されるようにエッチングを施し、上記金属箔を所定の回路パターンにパターニングするとともに、上記第2の貫通孔内の開口部に存在する上記導電性粒子を溶解除去し、上記開口部に上記樹脂成分からなる絶縁性の絶縁性樹脂層を形成する工程と、を有することを特徴とする。   A first manufacturing method of a circuit board according to the present invention includes a step of bonding cover films to both surfaces of a substrate made of the composite of the present invention, and penetrating the substrate and the cover film in the thickness direction of the substrate. Forming a first through hole and a second through hole, and filling the first through hole and the second through hole with a conductive paste containing at least conductive particles and a resin component; Removing the cover film from the substrate, and applying pressure and heat treatment in a state in which metal foils are disposed on both surfaces of the substrate, and the curable resin composition in the substrate and the resin in the conductive paste. A step of curing the components, and etching the metal foil so that at least a portion blocking the opening of the second through hole is removed, and patterning the metal foil into a predetermined circuit pattern A step of dissolving and removing the conductive particles present in the opening in the second through-hole, and forming an insulating insulating resin layer made of the resin component in the opening. It is characterized by.

また、本発明の回路基板の第2の製造方法は、上記本発明の複合体からなる基体の両表面にカバーフィルムを貼り合わせる工程と、上記基体及び上記カバーフィルムに、上記基体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔及び第2の貫通孔を形成する工程と、上記第1の貫通孔に、導電性粒子と樹脂成分とを少なくとも含む導電性ペーストを充填する工程と、上記第2の貫通孔に、絶縁性粒子と上記樹脂成分とを少なくとも含む絶縁性ペーストを充填する工程と、上記基体から上記カバーフィルムを除去する工程と、上記基体の両面に金属箔を配置した状態で加圧加熱処理を施し、上記基体中の硬化性樹脂組成物、並びに上記導電性ペースト中及び上記絶縁性ペースト中の上記樹脂成分を硬化させる工程と、上記金属箔に、少なくとも上記第2の貫通孔の開口を塞いでいる部分が除去されるようにエッチングを施し、上記金属箔を所定の回路パターンにパターニングする工程と、を有することを特徴とする。   The second manufacturing method of the circuit board of the present invention includes a step of bonding cover films to both surfaces of the substrate made of the composite of the present invention, and a thickness direction of the substrate on the substrate and the cover film. Forming a first through hole and a second through hole penetrating into the first through hole, filling the first through hole with a conductive paste containing at least conductive particles and a resin component, and the second Filling the through-holes with an insulating paste containing at least insulating particles and the resin component, removing the cover film from the substrate, and applying metal foil on both sides of the substrate. Performing a pressure heat treatment to cure the curable resin composition in the substrate and the resin component in the conductive paste and the insulating paste; and at least the second penetration in the metal foil. Etched as part closes the opening of the hole is removed, characterized in that it and a step of patterning the metal foil into a predetermined circuit pattern.

更に、本発明の回路基板の第3の製造方法は、上記本発明の複合体からなる基体の両表面にカバーフィルムを貼り合わせる工程と、上記基体及び上記カバーフィルムに、上記基体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔、第2の貫通孔及び第3の貫通孔を形成する工程と、上記第1の貫通孔及び第2の貫通孔に、導電性粒子と樹脂成分とを少なくとも含む導電性ペーストを充填する工程と、上記第3の貫通孔に、絶縁性粒子と上記樹脂成分とを少なくとも含む絶縁性ペーストを充填する工程と、上記基体から上記カバーフィルムを除去する工程と、上記基体の両面に金属箔を配置した状態で加圧加熱処理を施し、上記基体中の硬化性樹脂組成物、並びに上記導電性ペースト中及び上記絶縁性ペースト中の上記樹脂成分を硬化させる工程と、上記金属箔に、少なくとも上記第2の貫通孔の開口及び上記第3の貫通孔の開口を塞いでいる部分が除去されるようにエッチングを施し、上記金属箔を所定の回路パターンにパターニングするとともに、上記第2の貫通孔内の開口部に存在する上記導電性粒子を溶解除去し、上記開口部に上記樹脂成分からなる絶縁性の絶縁性樹脂層を形成する工程と、を有することを特徴とする。   Furthermore, the third manufacturing method of the circuit board of the present invention includes a step of bonding cover films to both surfaces of the substrate made of the composite of the present invention, and a thickness direction of the substrate on the substrate and the cover film. Forming a first through hole, a second through hole, and a third through hole penetrating through the first through hole, and the first through hole and the second through hole include at least conductive particles and a resin component. Filling the conductive paste; filling the third through-hole with an insulating paste containing at least insulating particles and the resin component; removing the cover film from the substrate; and Applying pressure and heat treatment in a state where metal foils are disposed on both surfaces of the substrate, and curing the curable resin composition in the substrate, and the resin component in the conductive paste and the insulating paste; Above money Etching is performed on the foil so as to remove at least the opening of the second through-hole and the opening of the third through-hole, and the metal foil is patterned into a predetermined circuit pattern. And a step of dissolving and removing the conductive particles present in the opening in the second through hole and forming an insulating insulating resin layer made of the resin component in the opening. .

上記本発明の第1〜第3の回路基板の製造方法では、絶縁基板として上述の接着信頼性に優れ且つ樹脂粉や繊維の脱落が十分に抑制されている本発明の複合体で構成されたものを用いているとともに、絶縁基板に導電部と放熱部とを形成している。かかる製造方法により得られる回路基板は、導電部による放熱だけでなく、放熱部によって十分な放熱がなされるとともに、放熱部周辺には電極のランドが形成されないため、その放熱部周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる製造方法によれば、十分な放熱性を有し、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を有する回路基板を製造することができる。なお、上記本発明の第1〜第3の回路基板の製造方法では、上述した導電部及び放熱部以外に、更に別の導電部及び放熱部を形成してもよい。   In the first to third circuit board manufacturing methods of the present invention, the insulating substrate is composed of the composite of the present invention which is excellent in the above-described adhesion reliability and sufficiently suppresses resin powder and fibers from falling off. A conductive part and a heat radiating part are formed on the insulating substrate. The circuit board obtained by such a manufacturing method is not only radiated by the conductive portion, but also sufficiently radiated by the radiating portion, and no electrode land is formed around the radiating portion. Wiring can be arranged. Therefore, according to this manufacturing method, it is possible to manufacture a circuit board having sufficient heat dissipation, high-density wiring formation, and excellent reliability. In the first to third circuit board manufacturing methods of the present invention, other conductive portions and heat dissipation portions may be formed in addition to the above-described conductive portions and heat dissipation portions.

本発明によれば、接着信頼性に十分優れ、且つ、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分抑制されている複合体を提供することができる。また、本発明によれば、かかる複合体を用いたプリプレグ、金属箔付きシートを提供することができる。更に、本発明によれば、十分な放熱性を有し、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を有する回路基板、及びその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composite_body | complex which is excellent in adhesion reliability and generation | occurrence | production of the resin powder or fiber which may drop | omit is fully suppressed can be provided. Moreover, according to this invention, the prepreg using this composite_body | complex and a sheet | seat with metal foil can be provided. Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide a circuit board having sufficient heat dissipation and high-density wiring formation, and having excellent reliability, and a manufacturing method thereof.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

先ず、本発明の複合体の実施形態について説明する。図1は、本発明の複合体の一実施形態を示す模式断面図である。図1の複合体100は、繊維シート101に硬化性樹脂組成物102を含浸してなるものである。また、複合体100は、貫通孔103を備えている。   First, an embodiment of the composite of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the composite of the present invention. A composite 100 in FIG. 1 is formed by impregnating a curable resin composition 102 into a fiber sheet 101. The composite 100 includes a through hole 103.

繊維シート101としては、例えば、紙、ガラス繊維織布及びガラス繊維不織布等のガラス布、アラミド不織布等の耐熱性合成繊維が挙げられる。これらのうち、ガラス繊維織布及びガラス繊維不織布が好ましく、ガラス繊維織布が特に好ましい。ガラスの材質としては、Eガラス、Sガラス、Dガラス等が挙げられる。また、繊維シートとして織布を用いる場合の繊維の織り方については、例えば、平織、朱子織、綾織等が挙げられる。   Examples of the fiber sheet 101 include heat resistant synthetic fibers such as paper, glass cloth such as glass fiber woven fabric and glass fiber nonwoven fabric, and aramid nonwoven fabric. Among these, a glass fiber woven fabric and a glass fiber nonwoven fabric are preferable, and a glass fiber woven fabric is particularly preferable. Examples of the glass material include E glass, S glass, and D glass. Moreover, about the weaving method of the fiber when using a woven fabric as a fiber sheet, a plain weave, satin weave, twill weave, etc. are mentioned, for example.

繊維シートの厚みについては、繊維シートが十分な強度を有するのであれば薄い方が好ましい。具体的には、例えば、10〜200μmであることが好ましく、20〜80μmであることがより好ましい。また、繊維シートは、線膨張率がより小さいものが好ましい。   About the thickness of a fiber sheet, if the fiber sheet has sufficient intensity | strength, the thinner one is preferable. Specifically, for example, the thickness is preferably 10 to 200 μm, and more preferably 20 to 80 μm. The fiber sheet is preferably one having a smaller linear expansion coefficient.

硬化性樹脂組成物102としては、その硬化物の20℃における貯蔵弾性率が100〜2000MPaとなるものであればよく、例えば、硬化性樹脂とこの硬化性樹脂を硬化させる硬化剤とを含有するものが挙げられる。硬化性樹脂の樹脂成分としては、粘弾性樹脂を用いることが好ましく、例えば、エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、SBR、NBR、CTBN、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、シリコーン変性ポリアミドイミド等が挙げられる。また、硬化剤としては、ジシアンジアミド、フェノール樹脂、イミダゾール、アミン化合物、酸無水物等が挙げられる。   The curable resin composition 102 only needs to have a storage elastic modulus at 20 ° C. of 100 to 2000 MPa of the cured product, and includes, for example, a curable resin and a curing agent that cures the curable resin. Things. As the resin component of the curable resin, it is preferable to use a viscoelastic resin, and examples thereof include epoxy resins, rubber-modified epoxy resins, SBR, NBR, CTBN, acrylic resins, polyamides, polyamideimides, and silicone-modified polyamideimides. . Examples of the curing agent include dicyandiamide, phenol resin, imidazole, amine compound, acid anhydride and the like.

また、硬化性樹脂組成物102は、繊維シートに含浸させる目的で、所定の溶媒を含有したワニスとして使用することができる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;メチルセロソルブ、ジエチレングリコール等のグリコールエーテル系溶媒;メチルセロソルブアセテート等のエステル系溶媒;エチレングリコールジメチルエーテル等のジアルキルグリコール系溶媒;N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;メタノール、ブタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等のエーテルアルコール系溶媒等を用いることができ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。   The curable resin composition 102 can be used as a varnish containing a predetermined solvent for the purpose of impregnating the fiber sheet. Solvents include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene, and trimethylbenzene; ether solvents such as tetrahydrofuran; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; glycol ethers such as methyl cellosolve and diethylene glycol. Solvents; ester solvents such as methyl cellosolve acetate; dialkyl glycol solvents such as ethylene glycol dimethyl ether; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N′-dimethylformamide, N, N′-dimethylacetamide; methanol, butanol , Alcohol solvents such as isopropanol; ether alcohol solvents such as 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol can be used, and one or more of these can be used. It is possible.

本実施形態においては、硬化性樹脂組成物として、硬化性のアクリル重合体と、このアクリル重合体を硬化させる硬化剤とを組み合わせたものを用いることが好ましい。この場合、アクリル重合体100質量部に対して、硬化剤を60〜350質量部の割合で用いることが好ましい。硬化剤が、アクリル樹脂100質量部に対して60質量部未満であると、硬化物の貯蔵弾性率が300MPaを下回る傾向にあり、取扱い性が低下するとともに、硬化物のTgが低下して高温放置時の劣化による寸法収縮、半田耐熱性の低下等の問題が生じやすくなる傾向にある。一方、硬化剤の割合が350質量部を越えると、硬化物の貯蔵弾性率が2000MPaを上回る傾向にあり、この場合、硬化物が脆くなるので樹脂粉又は繊維が脱落しやすくなる傾向にある。   In the present embodiment, it is preferable to use a combination of a curable acrylic polymer and a curing agent that cures the acrylic polymer as the curable resin composition. In this case, it is preferable to use the curing agent in a proportion of 60 to 350 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer. When the curing agent is less than 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic resin, the storage elastic modulus of the cured product tends to be less than 300 MPa, the handleability is lowered, and the Tg of the cured product is lowered, resulting in a high temperature. There is a tendency that problems such as dimensional shrinkage due to deterioration during standing and a decrease in solder heat resistance are likely to occur. On the other hand, when the ratio of the curing agent exceeds 350 parts by mass, the storage elastic modulus of the cured product tends to exceed 2000 MPa. In this case, the cured product becomes brittle, and thus the resin powder or fibers tend to fall off.

また、上記アクリル重合体は、重量平均分子量(Mw)が、30000以上であることが好ましく、更にこのアクリル重合体は、重合体中に重合成分として2〜20質量%のグリシジルアクリレートを有し、エポキシ価が2〜36であることが好ましい。   The acrylic polymer preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 30000 or more. Further, the acrylic polymer has 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component in the polymer. The epoxy value is preferably 2 to 36.

複合体100の製造方法としては、例えば、硬化性樹脂組成物を繊維シートに含浸させて乾燥した後、所定の位置に貫通孔を形成する方法が挙げられる。硬化性樹脂組成物を繊維シートに含浸させる方法としては、例えば、ウェット方式やドライ方式等の樹脂組成物溶液に繊維シートを浸漬させる方法や、繊維シートに硬化性樹脂組成物を塗工する方法等が挙げられる。   Examples of the method for producing the composite 100 include a method in which a fiber sheet is impregnated with a curable resin composition and dried, and then a through hole is formed at a predetermined position. Examples of the method of impregnating the fiber sheet with the curable resin composition include, for example, a method of immersing the fiber sheet in a resin composition solution such as a wet method and a dry method, and a method of applying the curable resin composition to the fiber sheet. Etc.

繊維シートに含浸させる硬化性樹脂組成物の量は、繊維シートの体積Vbに対する硬化性樹脂組成物の体積Vaの比Va/Vbが、0.3〜0.9となるように調節することが好ましい。ここで、体積比は、複合体に含まれる繊維シート及び硬化性樹脂組成物の重量とそれぞれの比重から求めることができる。   The amount of the curable resin composition impregnated into the fiber sheet may be adjusted so that the ratio Va / Vb of the volume Va of the curable resin composition to the volume Vb of the fiber sheet is 0.3 to 0.9. preferable. Here, the volume ratio can be obtained from the weight of the fiber sheet and the curable resin composition contained in the composite and the specific gravity of each.

次に、本発明のプリプレグの好適な実施形態について説明する。   Next, a preferred embodiment of the prepreg of the present invention will be described.

図2は、本発明のプリプレグの一実施形態を示す模式断面図である。図2に示すプリプレグ200は、繊維シート201と、この繊維シート201に含浸した硬化性樹脂組成物を半硬化させた半硬化樹脂組成物層202とからなる。また、プリプレグ200は、貫通孔203を備えている。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the prepreg of the present invention. A prepreg 200 shown in FIG. 2 includes a fiber sheet 201 and a semi-cured resin composition layer 202 obtained by semi-curing a curable resin composition impregnated in the fiber sheet 201. Further, the prepreg 200 includes a through hole 203.

プリプレグ200は、上述の複合体100における硬化性樹脂組成物102を半硬化させることにより得ることができる。この場合、繊維シート201は繊維シート101と同様であり、半硬化樹脂組成物層202は硬化性樹脂組成物102を半硬化させてなるものである。また、別の方法として、プリプレグ200は、上記の硬化性樹脂組成物を上記の繊維シートに含浸させて乾燥したものを用意し、次いで、硬化性樹脂組成物を半硬化させて半硬化樹脂組成物層202を形成した後、所定の位置に貫通孔203を形成することにより得ることもできる。   The prepreg 200 can be obtained by semi-curing the curable resin composition 102 in the composite 100 described above. In this case, the fiber sheet 201 is the same as the fiber sheet 101, and the semi-cured resin composition layer 202 is obtained by semi-curing the curable resin composition 102. As another method, the prepreg 200 is prepared by impregnating the above curable resin composition into the above fiber sheet and drying, and then semi-curing the curable resin composition to obtain a semi-cured resin composition. It can also be obtained by forming the through hole 203 at a predetermined position after forming the physical layer 202.

硬化性樹脂組成物を半硬化させる方法としては、加熱、紫外線照射、電子線照射等の方法が挙げられる。加熱により半硬化を行う場合の条件としては、例えば、100〜200℃、1〜30分間の条件が挙げられる。   Examples of the method for semi-curing the curable resin composition include methods such as heating, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation. Examples of the conditions for semi-curing by heating include conditions of 100 to 200 ° C. and 1 to 30 minutes.

本実施形態のプリプレグにおいては、硬化性樹脂組成物の硬化率を10〜70%の範囲とすることが好ましい。硬化性樹脂組成物の硬化率が10%未満であると、金属箔と一体化した場合、一体化した金属箔表面に繊維シートの凹凸が反映されて表面平滑性が低下する傾向にあり、また、絶縁基板の厚みの制御が困難となる傾向にある。一方、硬化性樹脂組成物の硬化率が70%を越えると、金属箔と一体化する場合に樹脂成分が不足し、高速で一体化させると気泡やかすれが生じやすくなり、金属箔との接着力が不十分となる傾向にある。   In the prepreg of this embodiment, it is preferable that the curing rate of the curable resin composition be in the range of 10 to 70%. When the curing rate of the curable resin composition is less than 10%, when integrated with the metal foil, the unevenness of the fiber sheet is reflected on the surface of the integrated metal foil, and the surface smoothness tends to be reduced. The control of the thickness of the insulating substrate tends to be difficult. On the other hand, when the curing rate of the curable resin composition exceeds 70%, the resin component is insufficient when it is integrated with the metal foil, and when it is integrated at a high speed, bubbles and blurring are likely to occur, and adhesion with the metal foil. Power tends to be insufficient.

次に、本発明の金属箔張積層板の実施形態について説明する。   Next, an embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention will be described.

図3は、本発明の金属箔張積層板の一実施形態を示す模式断面図である。図3に示される金属箔張積層板300は、貫通孔303を有する絶縁基板301と、貫通孔303に充填された導電体304と、絶縁基板301上に積層された導電体層302とから構成されている。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention. A metal foil-clad laminate 300 shown in FIG. 3 includes an insulating substrate 301 having a through hole 303, a conductor 304 filled in the through hole 303, and a conductor layer 302 stacked on the insulating substrate 301. Has been.

導電体層302としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔等の金属箔が挙げられる。本実施形態の金属箔張積層板においては、導電体層302が銅箔であることが好ましく、その厚さは1〜70μmであることが好ましい。また、銅箔は、電解銅箔、圧延銅箔等を用いることができる。なお、本実施形態の金属箔張積層板においては、導電体層302は導電性を有する膜であればよく、上記の金属箔以外に、例えば、金属、有機物及びこれらの複合物であってもよい。   Examples of the conductor layer 302 include metal foil such as copper foil, aluminum foil, and nickel foil. In the metal foil-clad laminate of this embodiment, the conductor layer 302 is preferably a copper foil, and the thickness is preferably 1 to 70 μm. Moreover, electrolytic copper foil, rolled copper foil, etc. can be used for copper foil. In the metal foil-clad laminate of this embodiment, the conductor layer 302 may be a film having conductivity, and other than the above metal foil, for example, a metal, an organic substance, and a composite thereof may be used. Good.

導電体304としては、例えば、金、銀、ニッケル、銅、白金、パラジウム若しくは酸化ルテニウム等の金属若しくは金属酸化物又は有機金属化合物等を含む導電ペーストの加熱加圧されたものが挙げられる。   Examples of the conductor 304 include a heat-pressed one of a conductive paste containing a metal such as gold, silver, nickel, copper, platinum, palladium, ruthenium oxide, a metal oxide, an organometallic compound, or the like.

貫通孔303を有する絶縁基板301は、上述した複合体100又はプリプレグ200を用いて形成されている。   The insulating substrate 301 having the through hole 303 is formed using the composite 100 or the prepreg 200 described above.

例えば、プリプレグ200を用いて金属箔張積層板300を得る場合、先ず、プリプレグ200の貫通孔203に導電ペーストを充填する。次に、プリプレグ200の表面上に導電体層としての金属箔を配し、金属箔とプリプレグとを一体化し金属箔張積層板300を製造することができる。また、プリプレグ200の代わりに複合体100を用いても同様に金属箔張積層板300を製造することができる。   For example, when the metal foil-clad laminate 300 is obtained using the prepreg 200, first, the conductive paste is filled into the through holes 203 of the prepreg 200. Next, a metal foil as a conductor layer is arranged on the surface of the prepreg 200, and the metal foil and the prepreg can be integrated to manufacture the metal foil-clad laminate 300. Further, even if the composite 100 is used instead of the prepreg 200, the metal foil-clad laminate 300 can be similarly manufactured.

金属箔と、プリプレグ又は複合体とを一体化する方法としては、例えば、メタライズ、プレス積層方法、熱ロール連続積層法等が挙げられる。本実施形態においては、効率よく導電体層302を形成する観点から、プレス積層法を用いることが好ましい。プレス積層法により、金属箔と、プリプレグ又は複合体とを一体化する際の加熱加圧条件としては、例えば、温度120〜230℃、圧力10〜60kg/cm2、加熱時間30〜120分の範囲の条件が挙げられる。 Examples of the method for integrating the metal foil with the prepreg or the composite include metallization, press lamination method, and hot roll continuous lamination method. In the present embodiment, it is preferable to use a press lamination method from the viewpoint of efficiently forming the conductor layer 302. Examples of the heating and pressing conditions for integrating the metal foil and the prepreg or the composite by the press lamination method include a temperature of 120 to 230 ° C., a pressure of 10 to 60 kg / cm 2 , and a heating time of 30 to 120 minutes. A range condition is mentioned.

また、金属箔と、プリプレグ又は複合体とを連続積層する前に、金属箔の表面にプリプレグ又は複合体に含まれているものと同様の感光性樹脂組成物を塗布し、かかる樹脂組成物からなる層を形成することが好ましい。これにより、プリプレグ又は複合体に含まれる繊維シートの表面の凹凸が導電体層の表面に反映されることを更に低減することができる。   Further, before continuously laminating the metal foil and the prepreg or the composite, the same photosensitive resin composition as that contained in the prepreg or the composite is applied to the surface of the metal foil, and the resin composition It is preferable to form a layer. Thereby, it can further reduce that the unevenness | corrugation of the surface of the fiber sheet contained in a prepreg or a composite_body | complex is reflected in the surface of a conductor layer.

次に、本発明の回路基板の好適な実施形態について説明する。   Next, a preferred embodiment of the circuit board of the present invention will be described.

図4は、本発明の回路基板の第1実施形態を示す模式断面図である。図4に示すように、回路基板400において、絶縁基板401には、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔410及び第2の貫通孔420が形成されている。第1の貫通孔410内には、第1の樹脂組成物からなる導電部411が第1の貫通孔410全体を埋めるように形成されており、絶縁基板401の両表面上には、配線パターン412a及び412bが導電部411に電気的に接触した状態で形成されている。すなわち、導電部411により、絶縁基板401の厚さ方向の電気的接続がなされている。また、第2の貫通孔420内には、この第2の貫通孔420の両端の開口部を除く部分に充填された第2の樹脂組成物421と、上記開口部に配置された絶縁性樹脂層422a及び422bとからなる放熱部423が形成されている。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the first embodiment of the circuit board of the present invention. As shown in FIG. 4, in the circuit board 400, the insulating substrate 401 is formed with a first through hole 410 and a second through hole 420 that penetrate in the thickness direction. A conductive portion 411 made of the first resin composition is formed in the first through hole 410 so as to fill the entire first through hole 410, and a wiring pattern is formed on both surfaces of the insulating substrate 401. 412a and 412b are formed in a state of being in electrical contact with the conductive portion 411. That is, the electrical connection in the thickness direction of the insulating substrate 401 is made by the conductive portion 411. Further, in the second through hole 420, a second resin composition 421 filled in a portion excluding the openings at both ends of the second through hole 420, and an insulating resin disposed in the opening. A heat dissipating part 423 composed of the layers 422a and 422b is formed.

ここで、絶縁基板400は、上述した本発明の複合体100又はプリプレグ200を用いて形成されている。   Here, the insulating substrate 400 is formed using the composite 100 or the prepreg 200 of the present invention described above.

上記導電部411を構成する第1の樹脂組成物は、導電性粒子を含有するものであり、例えば、金、銀、ニッケル、銅、白金、パラジウム若しくは酸化ルテニウム等の金属若しくは金属酸化物又は有機金属化合物等の導電性粒子と、エポキシ樹脂及びその硬化剤等の上述した硬化性樹脂組成物と、からなるものである。また、放熱部423を構成する第2の樹脂組成物421も、上記第1の樹脂組成物と同様の材料からなるものである。   The 1st resin composition which comprises the said electroconductive part 411 contains electroconductive particle, For example, metals, metal oxides, such as gold | metal | money, silver, nickel, copper, platinum, palladium, or ruthenium oxide, or organic It consists of conductive particles such as a metal compound and the above-described curable resin composition such as an epoxy resin and its curing agent. Moreover, the 2nd resin composition 421 which comprises the thermal radiation part 423 also consists of a material similar to the said 1st resin composition.

更に、放熱部423を構成する絶縁性樹脂層422a及び422bは、上述したエポキシ樹脂及びその硬化剤等の絶縁性の硬化性樹脂組成物からなるものである。   Furthermore, the insulating resin layers 422a and 422b constituting the heat radiation portion 423 are made of the above-described insulating curable resin composition such as the epoxy resin and its curing agent.

また、配線パターン412a及び412bは、銅、アルミニウム、ニッケル等の金属で構成されている。   The wiring patterns 412a and 412b are made of a metal such as copper, aluminum, or nickel.

かかる構成を有する回路基板400においては、導電部411による放熱だけでなく、放熱部423によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、放熱部423周辺には電極のランドが形成されないため、その放熱部423周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる回路基板によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 400 having such a configuration, not only heat dissipation by the conductive portion 411 but also internal heat is sufficiently dissipated by the heat dissipation portion 423. In addition, since no electrode lands are formed around the heat dissipating part 423, wiring can be arranged in the substrate region around the heat dissipating part 423. Therefore, according to such a circuit board, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

図5は、本発明の回路基板の第2実施形態を示す模式断面図である。図5に示すように、回路基板500において、絶縁基板501には、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔510及び第2の貫通孔520が形成されている。第1の貫通孔510内には、第1の樹脂組成物からなる導電部511が第1の貫通孔510全体を埋めるように形成されており、絶縁基板501の両表面上には、配線パターン512a及び512bが導電部511に電気的に接触した状態で形成されている。すなわち、導電部511により、絶縁基板501の厚さ方向の電気的接続がなされている。また、第2の貫通孔520内には、絶縁性粒子を含有する絶縁性の第3の樹脂組成物からなる放熱部523が第2の貫通孔520全体を埋めるように形成されている。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a second embodiment of the circuit board of the present invention. As shown in FIG. 5, in the circuit board 500, a first through hole 510 and a second through hole 520 that penetrate in the thickness direction are formed in the insulating substrate 501. A conductive portion 511 made of the first resin composition is formed in the first through hole 510 so as to fill the entire first through hole 510, and a wiring pattern is formed on both surfaces of the insulating substrate 501. 512a and 512b are formed in electrical contact with the conductive portion 511. That is, electrical connection in the thickness direction of the insulating substrate 501 is made by the conductive portion 511. Further, in the second through hole 520, a heat radiating portion 523 made of an insulating third resin composition containing insulating particles is formed so as to fill the entire second through hole 520.

ここで、放熱部523を構成する第3の樹脂組成物は、絶縁性粒子を含有する絶縁性の樹脂組成物であり、例えば、アルミナ粒子、シリカ粒子及びマグネシア粒子等のセラミック粒子を絶縁性粒子とし、これをエポキシ樹脂及びその硬化剤等の上述した硬化性樹脂組成物に分散混合したものが挙げられる。   Here, the third resin composition constituting the heat radiation part 523 is an insulating resin composition containing insulating particles. For example, ceramic particles such as alumina particles, silica particles, and magnesia particles are used as insulating particles. And those obtained by dispersing and mixing them in the above-described curable resin composition such as an epoxy resin and its curing agent.

また、第2実施形態の回路基板において、放熱部523以外の構成は、第1実施形態の回路基板における構成と同様である。   In the circuit board of the second embodiment, the configuration other than the heat dissipation portion 523 is the same as the configuration of the circuit board of the first embodiment.

かかる構成を有する回路基板500においては、導電部511による放熱だけでなく、放熱部523によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、放熱部523周辺には電極のランドが形成されないため、その放熱部523周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる回路基板によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 500 having such a configuration, not only heat dissipation by the conductive portion 511 but also internal heat is sufficiently dissipated by the heat dissipation portion 523. In addition, since no electrode land is formed around the heat dissipating part 523, wiring can be arranged in the substrate region around the heat dissipating part 523. Therefore, according to such a circuit board, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

図6は、本発明の回路基板の第3実施形態を示す模式断面図である。図6に示すように、回路基板600において、絶縁基板601には、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔610、第2の貫通孔620及び第3の貫通孔630が形成されている。第1の貫通孔610内には、第1の樹脂組成物からなる導電部611が第1の貫通孔610全体を埋めるように形成されており、絶縁基板601の両表面上には、配線パターン612a及び612bが導電部611に電気的に接触した状態で形成されている。すなわち、導電部611により、絶縁基板601の厚さ方向の電気的接続がなされている。また、第2の貫通孔620内には、この第2の貫通孔620の両端の開口部を除く部分に充填された第2の樹脂組成物621と、上記開口部に配置された絶縁性樹脂層622a及び622bとからなる第1の放熱部623が形成されている。更に、第3の貫通孔630内には、絶縁性粒子を含有する絶縁性の第3の樹脂組成物からなる第2の放熱部633が第3の貫通孔630全体を埋めるように形成されている。   FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a third embodiment of the circuit board of the present invention. As shown in FIG. 6, in the circuit board 600, a first through hole 610, a second through hole 620, and a third through hole 630 that penetrate in the thickness direction are formed in the insulating substrate 601. . A conductive portion 611 made of the first resin composition is formed in the first through hole 610 so as to fill the entire first through hole 610, and a wiring pattern is formed on both surfaces of the insulating substrate 601. 612a and 612b are formed in electrical contact with the conductive portion 611. That is, electrical connection in the thickness direction of the insulating substrate 601 is made by the conductive portion 611. Further, in the second through hole 620, a second resin composition 621 filled in a portion excluding the openings at both ends of the second through hole 620, and an insulating resin disposed in the opening. A first heat radiating portion 623 composed of the layers 622a and 622b is formed. Further, in the third through hole 630, a second heat radiating portion 633 made of an insulating third resin composition containing insulating particles is formed so as to fill the entire third through hole 630. Yes.

第3実施形態の回路基板において、導電部611は、第1実施形態における導電部411と同様の構成を有しており、第1の放熱部623は、第1実施形態における放熱部423と同様の構成を有しており、第2の放熱部633は、第2実施形態における放熱部523と同様の構成を有している。更に、絶縁基板601、並びに配線パターン612a及び612bは、第1実施形態における絶縁基板401、並びに配線パターン412a及び412bと同様の構成を有している。   In the circuit board of the third embodiment, the conductive portion 611 has the same configuration as the conductive portion 411 in the first embodiment, and the first heat dissipation portion 623 is the same as the heat dissipation portion 423 in the first embodiment. The second heat radiation part 633 has the same structure as the heat radiation part 523 in the second embodiment. Furthermore, the insulating substrate 601 and the wiring patterns 612a and 612b have the same configuration as the insulating substrate 401 and the wiring patterns 412a and 412b in the first embodiment.

かかる構成を有する回路基板600においては、導電部611による放熱だけでなく、第1の放熱部623及び第2の放熱部633によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、第1の放熱部623及び第2の放熱部633の周辺には電極のランドが形成されないため、第1の放熱部623及び第2の放熱部633周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる回路基板によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 600 having such a configuration, not only heat dissipation by the conductive portion 611 but also internal heat is sufficiently dissipated by the first heat dissipation portion 623 and the second heat dissipation portion 633. In addition, since no land of electrodes is formed around the first heat radiation part 623 and the second heat radiation part 633, wiring is arranged in the substrate region around the first heat radiation part 623 and the second heat radiation part 633. Is possible. Therefore, according to such a circuit board, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

以上、本発明の回路基板の好適な実施形態について説明したが、本発明の回路基板は上記の実施形成に限定されるものではない。   The preferred embodiment of the circuit board of the present invention has been described above, but the circuit board of the present invention is not limited to the above-described embodiment formation.

例えば、上記第1〜第3実施形態における回路基板では、導電部が1つ設けられているが、同様の構成の導電部が複数設けられていてもよい。同様に、放熱部についても、第3実施形態で示した第1の放熱部623や第2の放熱部633と同様の構成の放熱部が複数設けられていてもよい。   For example, in the circuit boards in the first to third embodiments, one conductive part is provided, but a plurality of conductive parts having the same configuration may be provided. Similarly, with regard to the heat radiating portion, a plurality of heat radiating portions having the same configuration as the first heat radiating portion 623 and the second heat radiating portion 633 shown in the third embodiment may be provided.

更に、上記第1〜第3実施形態における回路基板は一層のみであるが、この回路基板の上下面に更に回路基板を積層し、多層配線基板としてもよい。この場合、更に積層する回路基板は、本発明の回路基板の構成を有するものであってもよく、本発明の回路基板の構成とは異なる構成を有するものであってもよい。   Furthermore, although the circuit board in the first to third embodiments is only one layer, a circuit board may be further laminated on the upper and lower surfaces of the circuit board to form a multilayer wiring board. In this case, the circuit board to be further laminated may have the configuration of the circuit board of the present invention, or may have a configuration different from the configuration of the circuit board of the present invention.

次に、本発明の回路基板の製造方法の好適な実施形態について説明する。   Next, a preferred embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention will be described.

図7(a)〜(d)は、本発明の回路基板の製造方法の第1実施形態を示す一連の工程図である。まず、図7(a)に示すように、本発明の複合体からなるプリプレグ210を基体とし、その両表面にポリエチレンテレフタレートフィルム等の樹脂フィルム120a及び120bをカバーフィルムとして貼り付け、全体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔410及び第2の貫通孔420を形成する。   FIGS. 7A to 7D are a series of process diagrams showing a first embodiment of a circuit board manufacturing method according to the present invention. First, as shown in FIG. 7 (a), a prepreg 210 made of the composite of the present invention is used as a base, and resin films 120a and 120b such as polyethylene terephthalate films are attached to both surfaces as cover films, and the overall thickness is obtained. A first through hole 410 and a second through hole 420 that penetrate in the direction are formed.

第1の貫通孔410及び第2の貫通孔420の形成には、一般にドリル、レーザビームが使用される。レーザビームで穴あけ加工をすると、微細なピッチで穴あけでき、しかも削り屑が出ないため好ましい。   In general, a drill or a laser beam is used to form the first through hole 410 and the second through hole 420. Drilling with a laser beam is preferable because holes can be made with a fine pitch and no shavings are produced.

そして、このようにして形成した第1及び第2の貫通孔(ビアホール)410,420のそれぞれに、導電性ペースト130を充填する。導電性ペースト130の充填方法は、グラビア印刷、ロールによる押し込み、減圧充填等各種の方法が採用できる。   Then, the conductive paste 130 is filled in each of the first and second through holes (via holes) 410 and 420 thus formed. As a filling method of the conductive paste 130, various methods such as gravure printing, pressing with a roll, and reduced pressure filling can be employed.

ここで使用する導電性ペースト130は、導電性粒子と樹脂成分とを少なくとも含有してなるものである。導電性粒子としては、例えば、金、銀、ニッケル、銅、白金、パラジウム若しくは酸化ルテニウム等の金属若しくは金属酸化物又は有機金属化合物等の導電性粒子が用いられる。また、樹脂成分としては、例えば、エポキシ樹脂及びその硬化剤等の上述した硬化性樹脂組成物が用いられる。   The conductive paste 130 used here contains at least conductive particles and a resin component. As the conductive particles, for example, conductive particles such as a metal such as gold, silver, nickel, copper, platinum, palladium, ruthenium oxide, a metal oxide, or an organometallic compound are used. Moreover, as a resin component, curable resin compositions mentioned above, such as an epoxy resin and its hardening | curing agent, are used, for example.

次に、図7(b)に示すように、プリプレグ210の両表面から樹脂フィルム120a及び120bを除去した後、プリプレグ210を挟むように金属箔140a及び140bを配置する。この状態で、矢印A及びBの方向に加圧しながら加熱することで、全体に加圧加熱処理を施す。   Next, as shown in FIG. 7B, after removing the resin films 120 a and 120 b from both surfaces of the prepreg 210, the metal foils 140 a and 140 b are disposed so as to sandwich the prepreg 210. In this state, the whole is subjected to pressure heat treatment by heating while pressing in the directions of arrows A and B.

図7(c)は、加圧加熱処理を施した後の状態を示しており、プリプレグ210は圧縮されて厚みが薄くなっているとともに、プリプレグ中の硬化性樹脂組成物が硬化して、絶縁基板401が形成されている。また、第1の貫通孔410及び第2の貫通孔420に充填された導電性ペースト130も圧縮されているとともに、導電性ペースト130中の樹脂成分も硬化して、導電部411及び導電部(第2の樹脂組成物)421がそれぞれ形成されている。   FIG.7 (c) has shown the state after performing a pressurization heat processing, and while the prepreg 210 is compressed and thickness is thinned, the curable resin composition in a prepreg hardens | cures, and insulation is shown. A substrate 401 is formed. In addition, the conductive paste 130 filled in the first through-hole 410 and the second through-hole 420 is also compressed, and the resin component in the conductive paste 130 is cured, so that the conductive portion 411 and the conductive portion ( Second resin composition) 421 is formed.

その後、金属箔140a及び140bをエッチングして所望の配線パターンを形成する。このとき、少なくとも第2の貫通孔420の両端の開口を塞いでいる金属箔が除去されるようにエッチングを施し、更にエッチングを継続して行うことにより、第2の貫通孔420内の開口部に存在する導電部421中の導電性粒子を溶解除去する。これにより、図7(d)に示すように、第2の貫通孔420内の開口部に、導電性粒子が除去された後の樹脂成分からなる絶縁性の絶縁性樹脂層422a及び422bを形成する。そして、この絶縁性樹脂層422a及び422bと導電部421とにより放熱部423が形成される。以上により、回路基板400の製造が完了する。   Thereafter, the metal foils 140a and 140b are etched to form a desired wiring pattern. At this time, etching is performed so that the metal foil covering at least the openings at both ends of the second through-hole 420 is removed, and the etching is further continued, so that an opening in the second through-hole 420 is obtained. The conductive particles in the conductive portion 421 existing in the substrate are dissolved and removed. As a result, as shown in FIG. 7D, insulating insulating resin layers 422a and 422b made of the resin component after the conductive particles are removed are formed in the openings in the second through holes 420. To do. The insulating resin layers 422a and 422b and the conductive portion 421 form a heat radiating portion 423. Thus, the manufacture of the circuit board 400 is completed.

ここでのエッチングは、例えば、塩化第二鉄をエッチング液として用いたウェットエッチングにより行うことができる。   The etching here can be performed, for example, by wet etching using ferric chloride as an etchant.

回路基板400においては、導電部411が形成されており、且つ、この導電部に電気的に接触した状態となるように配線パターン412a及び412bが形成されている。これにより、IVH構造による電極層間の電気的接続が行われる。また、絶縁基板401の導電部411が存在していない部分にも配線パターンを形成してもよく、回路基板400においては、このような配線パターン432a及び432bが形成されている。このような配線パターン432a及び432bは、多層配線基板を製造する場合に有効である。   In the circuit board 400, a conductive portion 411 is formed, and wiring patterns 412a and 412b are formed so as to be in electrical contact with the conductive portion. Thereby, the electrical connection between the electrode layers by an IVH structure is performed. In addition, a wiring pattern may be formed on a portion of the insulating substrate 401 where the conductive portion 411 does not exist, and such wiring patterns 432a and 432b are formed on the circuit board 400. Such wiring patterns 432a and 432b are effective when a multilayer wiring board is manufactured.

以上の構成を有する回路基板400は、放熱部423によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、放熱部423周辺には電極のランドが形成されないため、その放熱部423周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる回路基板によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 400 having the above configuration, the internal heat is sufficiently radiated by the heat radiating portion 423. In addition, since no electrode lands are formed around the heat dissipating part 423, wiring can be arranged in the substrate region around the heat dissipating part 423. Therefore, according to such a circuit board, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

次に、本発明の回路基板の製造方法の第2実施形態について説明する。図8(a)〜(d)は、本発明の回路基板の製造方法の第2実施形態を示す一連の工程図である。まず、図8(a)に示すように、本発明の複合体からなるプリプレグ210を基体とし、その両表面に先に説明した樹脂フィルム120a及び120bをカバーフィルムとして貼り付け、全体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔510及び第2の貫通孔520を形成する。   Next, a second embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention will be described. FIGS. 8A to 8D are a series of process diagrams showing a second embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention. First, as shown in FIG. 8 (a), the prepreg 210 made of the composite of the present invention is used as a base, and the resin films 120a and 120b described above are attached to both surfaces as cover films, and the entire thickness direction A first through hole 510 and a second through hole 520 are formed.

次いで、第1の貫通孔510に、先に説明した導電性ペースト130を充填する。一方、第2の貫通孔520に、絶縁性粒子と樹脂成分とを少なくとも含む絶縁性ペースト150を充填する。導電性ペースト130及び絶縁性ペースト150の充填方法は、グラビア印刷、ロールによる押し込み、減圧充填等各種の方法が採用できる。   Next, the conductive paste 130 described above is filled in the first through hole 510. On the other hand, the second through hole 520 is filled with an insulating paste 150 containing at least insulating particles and a resin component. As a filling method of the conductive paste 130 and the insulating paste 150, various methods such as gravure printing, pressing with a roll, and filling under reduced pressure can be adopted.

ここで使用する絶縁性ペースト150は、絶縁性粒子と樹脂成分とを少なくとも含有してなるものである。絶縁性粒子としては、例えば、アルミナ粒子、シリカ粒子及びマグネシア粒子等のセラミック粒子が用いられる。また、樹脂成分としては、例えば、エポキシ樹脂及びその硬化剤等の上述した硬化性樹脂組成物が用いられる。   The insulating paste 150 used here contains at least insulating particles and a resin component. As the insulating particles, for example, ceramic particles such as alumina particles, silica particles, and magnesia particles are used. Moreover, as a resin component, curable resin compositions mentioned above, such as an epoxy resin and its hardening | curing agent, are used, for example.

次に、図8(b)に示すように、プリプレグ210の両表面から樹脂フィルム120a及び120bを除去した後、プリプレグ210を挟むように金属箔140a及び140bを配置する。この状態で、矢印A及びBの方向に加圧しながら加熱することで、全体に加圧加熱処理を施す。   Next, as shown in FIG. 8B, after removing the resin films 120 a and 120 b from both surfaces of the prepreg 210, the metal foils 140 a and 140 b are arranged so as to sandwich the prepreg 210. In this state, the whole is subjected to pressure heat treatment by heating while pressing in the directions of arrows A and B.

図8(c)は、加圧加熱処理を施した後の状態を示しており、プリプレグ210は圧縮されて厚みが薄くなっているとともに、プリプレグ中の硬化性樹脂組成物が硬化して、絶縁基板501が形成されている。また、第1の貫通孔510に充填された導電性ペースト130、及び、第2の貫通孔520に充填された絶縁性ペースト150もそれぞれ圧縮されている。そして、導電性ペースト130中の樹脂成分が硬化して導電部511が形成されており、絶縁性ペースト150中の樹脂成分が硬化して放熱部523が形成されている。   FIG. 8C shows a state after the pressure and heat treatment is performed. The prepreg 210 is compressed and thinned, and the curable resin composition in the prepreg is cured and insulated. A substrate 501 is formed. Further, the conductive paste 130 filled in the first through hole 510 and the insulating paste 150 filled in the second through hole 520 are also compressed. The resin component in the conductive paste 130 is cured to form the conductive portion 511, and the resin component in the insulating paste 150 is cured to form the heat dissipation portion 523.

その後、金属箔140a及び140bをエッチングして所望の配線パターンを形成する。このとき、少なくとも第2の貫通孔520の両端の開口を塞いでいる金属箔が除去されるようにエッチングを施す。これにより、図8(d)に示す構造を有する回路基板500の製造を完了する。   Thereafter, the metal foils 140a and 140b are etched to form a desired wiring pattern. At this time, etching is performed so that at least the metal foil covering the openings at both ends of the second through-hole 520 is removed. Thereby, the manufacture of the circuit board 500 having the structure shown in FIG.

回路基板500においては、導電部511及びこれに電気的に接触した状態で配線パターン512a及び512bが形成されており、これにより、IVH構造による電極層間の電気的接続が行われる。また、絶縁基板501の導電部511が存在していない部分に配線パターン532a及び532bが形成されている。   In the circuit board 500, the conductive portions 511 and the wiring patterns 512a and 512b are formed in a state of being in electrical contact with the conductive portion 511, whereby electrical connection between the electrode layers by the IVH structure is performed. In addition, wiring patterns 532a and 532b are formed in a portion where the conductive portion 511 of the insulating substrate 501 does not exist.

以上の構成を有する回路基板500は、放熱部523によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、放熱部523周辺には電極のランドが形成されないため、その放熱部523周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる回路基板によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 500 having the above configuration, the internal heat is sufficiently dissipated by the heat dissipating part 523. In addition, since no electrode land is formed around the heat dissipating part 523, wiring can be arranged in the substrate region around the heat dissipating part 523. Therefore, according to such a circuit board, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

次に、本発明の回路基板の製造方法の第3実施形態について説明する。図9(a)〜(d)は、本発明の回路基板の製造方法の第3実施形態を示す一連の工程図である。まず、図9(a)に示すように、本発明の複合体からなるプリプレグ210を基体とし、その両表面に先に説明した樹脂フィルム120a及び120bをカバーフィルムとして貼り付け、全体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔610、第2の貫通孔620及び第3の貫通孔630を形成する。   Next, a third embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention will be described. FIGS. 9A to 9D are a series of process diagrams showing a third embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention. First, as shown in FIG. 9 (a), the prepreg 210 made of the composite of the present invention is used as a base, and the resin films 120a and 120b described above are pasted on both surfaces as cover films, and the entire thickness direction A first through hole 610, a second through hole 620, and a third through hole 630 are formed.

次いで、第1の貫通孔610及び第2の貫通孔620のそれぞれに、先に説明した導電性ペースト130を充填する。一方、第3の貫通孔630に、先に説明した絶縁性ペースト150を充填する。導電性ペースト130及び絶縁性ペースト150の充填方法は、グラビア印刷、ロールによる押し込み、減圧充填等各種の方法が採用できる。   Next, each of the first through hole 610 and the second through hole 620 is filled with the conductive paste 130 described above. Meanwhile, the third through hole 630 is filled with the insulating paste 150 described above. As a filling method of the conductive paste 130 and the insulating paste 150, various methods such as gravure printing, pressing with a roll, and filling under reduced pressure can be adopted.

次に、図9(b)に示すように、プリプレグ210の両表面から樹脂フィルム120a及び120bを除去した後、プリプレグ210を挟むように金属箔140a及び140bを配置する。この状態で、矢印A及びBの方向に加圧しながら加熱することで、全体に加圧加熱処理を施す。   Next, as shown in FIG. 9B, after removing the resin films 120 a and 120 b from both surfaces of the prepreg 210, metal foils 140 a and 140 b are arranged so as to sandwich the prepreg 210. In this state, the whole is subjected to pressure heat treatment by heating while pressing in the directions of arrows A and B.

図9(c)は、加圧加熱処理を施した後の状態を示しており、プリプレグ210は圧縮されて厚みが薄くなっているとともに、プリプレグ中の硬化性樹脂組成物が硬化して、絶縁基板601が形成されている。また、第1の貫通孔610及び第2の貫通孔620に充填された導電性ペースト130、並びに、第3の貫通孔630に充填された絶縁性ペースト150もそれぞれ圧縮されている。そして、導電性ペースト130中の樹脂成分が硬化して導電部611及び導電部621が形成されており、絶縁性ペースト150中の樹脂成分が硬化して第2の放熱部633が形成されている。   FIG. 9C shows a state after the pressure and heat treatment is performed. The prepreg 210 is compressed and thinned, and the curable resin composition in the prepreg is cured and insulated. A substrate 601 is formed. In addition, the conductive paste 130 filled in the first through-hole 610 and the second through-hole 620 and the insulating paste 150 filled in the third through-hole 630 are also compressed. Then, the resin component in the conductive paste 130 is cured to form the conductive portion 611 and the conductive portion 621, and the resin component in the insulating paste 150 is cured to form the second heat radiating portion 633. .

その後、金属箔140a及び140bをエッチングして所望の配線パターンを形成する。このとき、少なくとも第2の貫通孔620及び第3の貫通孔630の両端の開口を塞いでいる金属箔が除去されるようにエッチングを施す。ここで、更にエッチングを継続して行うことにより、第2の貫通孔620内の開口部に存在する導電部621中の導電性粒子を溶解除去する。これにより、図9(d)に示すように、第2の貫通孔620内の開口部に、導電性粒子が除去された後の樹脂成分からなる絶縁性の絶縁性樹脂層622a及び622bを形成する。そして、この絶縁性樹脂層622a及び622bと導電部621とにより第1の放熱部623が形成される。以上により、回路基板600の製造を完了する。   Thereafter, the metal foils 140a and 140b are etched to form a desired wiring pattern. At this time, etching is performed so that the metal foil covering the openings at both ends of at least the second through-hole 620 and the third through-hole 630 is removed. Here, by further performing etching, the conductive particles in the conductive portion 621 existing in the opening in the second through hole 620 are dissolved and removed. As a result, as shown in FIG. 9D, insulating insulating resin layers 622a and 622b made of the resin component after the conductive particles are removed are formed in the openings in the second through holes 620. To do. The insulating resin layers 622a and 622b and the conductive portion 621 form a first heat radiating portion 623. Thus, the manufacture of the circuit board 600 is completed.

回路基板500においては、導電部611及びこれに電気的に接触した状態で配線パターン612a及び612bが形成されており、これにより、IVH構造による電極層間の電気的接続が行われる。また、絶縁基板601の導電部611が存在していない部分に配線パターン632a及び632bが形成されている。   In the circuit board 500, the conductive portions 611 and the wiring patterns 612a and 612b are formed in electrical contact with the conductive portion 611, whereby electrical connection between the electrode layers by the IVH structure is performed. In addition, wiring patterns 632a and 632b are formed in a portion of the insulating substrate 601 where the conductive portion 611 is not present.

以上の構成を有する回路基板600は、第1の放熱部623及び第2の放熱部633によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、第1及び第2の放熱部623,633周辺には電極のランドが形成されないため、これらの周辺の基板領域に配線を配することが可能となる。したがって、かかる回路基板によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 600 having the above configuration, the internal heat is sufficiently radiated by the first heat radiating portion 623 and the second heat radiating portion 633. In addition, since no electrode lands are formed around the first and second heat radiating portions 623 and 633, wiring can be arranged in the peripheral substrate region. Therefore, according to such a circuit board, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

次に、本発明の回路基板の製造方法の第4実施形態について説明する。図10(a)〜(b)は、本発明の回路基板の製造方法の第4実施形態を示す一連の工程図である。第4実施形態に係る回路基板の製造方法は、第1実施形態に係る回路基板の製造方法を繰り返し行うことで、多層配線基板を形成する方法である。まず、絶縁基板701に第1の貫通孔710、第2の貫通孔720及び第3の貫通孔730が形成され、第1の貫通孔710内及び第3の貫通孔730内に導電部711及び導電部731がそれぞれ形成され、第2の貫通孔720内に導電部721、絶縁性樹脂層722a及び722bからなる放熱部723が形成された構成を有する回路基板750を準備する。この回路基板750の両表面には、導電部711に電気的に接続した回路パターン712a及び712b、並びに、導電部731に電気的に接続した回路パターン732a及び732bが形成されている。   Next, a fourth embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention will be described. FIGS. 10A to 10B are a series of process diagrams showing a fourth embodiment of a circuit board manufacturing method of the present invention. The circuit board manufacturing method according to the fourth embodiment is a method of forming a multilayer wiring board by repeatedly performing the circuit board manufacturing method according to the first embodiment. First, the first through-hole 710, the second through-hole 720, and the third through-hole 730 are formed in the insulating substrate 701. The conductive portion 711 and the third through-hole 730 are formed in the first through-hole 710 and the third through-hole 730, respectively. A circuit board 750 having a configuration in which conductive portions 731 are respectively formed and a heat radiating portion 723 including a conductive portion 721 and insulating resin layers 722a and 722b is formed in the second through-hole 720 is prepared. On both surfaces of the circuit board 750, circuit patterns 712a and 712b electrically connected to the conductive portion 711 and circuit patterns 732a and 732b electrically connected to the conductive portion 731 are formed.

そして、図10(a)に示すように、回路基板750の両側(上下面)に、本発明の複合材からなるプリプレグ761a及び761bに貫通孔を形成してその貫通孔へ先に説明した導電性ペースト762a,762b,763a及び763bを充填したものを配置し、更にこれらの外側に金属箔770a及び770bを配置した。この状態で、矢印A及びBの方向に加圧しながら加熱することで全体に加圧加熱処理を施し、更に金属箔770a及び770bを所望の配線パターンに加工することにより、図10(b)に示す積層型の回路基板(多層配線基板)700が得られる。   Then, as shown in FIG. 10 (a), through holes are formed in the prepregs 761a and 761b made of the composite material of the present invention on both sides (upper and lower surfaces) of the circuit board 750, and the conductivity described above is formed in the through holes. The paste filled with the conductive paste 762a, 762b, 763a and 763b was disposed, and the metal foils 770a and 770b were further disposed outside these. In this state, the whole is subjected to pressure and heat treatment by heating while pressing in the directions of arrows A and B, and further, the metal foils 770a and 770b are processed into a desired wiring pattern, so that FIG. A laminated circuit board (multilayer wiring board) 700 shown is obtained.

図10(b)における回路基板700においては、プリプレグ761a及び761b中の硬化性樹脂組成物が硬化して、絶縁基板781a及び781bがそれぞれ形成され、導電性ペースト762a,762b,763a及び763b中の樹脂成分が硬化して、導電部782a,782b,783a及び783bがそれぞれ形成されている。また、金属箔770a及び770bは、配線パターン790a及び790bに加工されている。   In the circuit board 700 in FIG. 10B, the curable resin compositions in the prepregs 761a and 761b are cured to form the insulating substrates 781a and 781b, respectively, and the conductive pastes 762a, 762b, 763a, and 763b The resin component is cured to form conductive portions 782a, 782b, 783a and 783b, respectively. Further, the metal foils 770a and 770b are processed into wiring patterns 790a and 790b.

以上の構成を有する回路基板700は、放熱部723によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、放熱部723周辺には電極のランドが形成されないため、これらの周辺の基板領域に配線が配されている。したがって、かかる回路基板700によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 700 having the above configuration, the internal heat is sufficiently radiated by the heat radiating portion 723. In addition, since no electrode lands are formed around the heat dissipating portion 723, wiring is arranged in the peripheral substrate region. Therefore, according to the circuit board 700, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

次に、本発明の回路基板の製造方法の第5実施形態について説明する。図11(a)〜(b)は、本発明の回路基板の製造方法の第5実施形態を示す一連の工程図である。第5実施形態に係る回路基板の製造方法は、多層配線基板を作製するための、第4実施形態とは別の方法である。まず、絶縁基板801に第1の貫通孔810、第2の貫通孔820及び第3の貫通孔830が形成され、第1の貫通孔810内及び第2の貫通孔820内に導電部811及び導電部821がそれぞれ形成され、第3の貫通孔830内に導電部831、絶縁性樹脂層832a及び832bからなる放熱部833が形成された構成を有する回路基板850を準備する。この回路基板850の両表面には、導電部811に電気的に接続した回路パターン812a及び812b、並びに、導電部821に電気的に接続した回路パターン822a及び822bが形成されている。また、絶縁基板841に2つの貫通孔が形成され、これらの貫通孔に導電部842及び843が形成された回路基板840を準備する。この回路基板840の両表面には、導電部842に電気的に接続した回路パターン844a及び844b、並びに、導電部843に電気的に接続した回路パターン845a及び845bが形成されている。   Next, a fifth embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention will be described. FIGS. 11A to 11B are a series of process diagrams showing a fifth embodiment of the circuit board manufacturing method of the present invention. The circuit board manufacturing method according to the fifth embodiment is a method different from the fourth embodiment for manufacturing a multilayer wiring board. First, the first through hole 810, the second through hole 820, and the third through hole 830 are formed in the insulating substrate 801. The conductive portion 811 and the second through hole 820 are formed in the first through hole 810 and the second through hole 820, respectively. A circuit board 850 having a configuration in which the conductive portions 821 are respectively formed and the heat radiating portion 833 including the conductive portions 831 and the insulating resin layers 832a and 832b is formed in the third through hole 830 is prepared. On both surfaces of the circuit board 850, circuit patterns 812a and 812b electrically connected to the conductive portion 811 and circuit patterns 822a and 822b electrically connected to the conductive portion 821 are formed. In addition, a circuit board 840 is prepared in which two through holes are formed in the insulating substrate 841 and conductive portions 842 and 843 are formed in these through holes. On both surfaces of the circuit board 840, circuit patterns 844a and 844b electrically connected to the conductive portion 842 and circuit patterns 845a and 845b electrically connected to the conductive portion 843 are formed.

そして、図11(a)に示すように、これらの回路基板840及び850の間に、本発明の複合材からなるプリプレグ861に貫通孔を形成してその貫通孔へ先に説明した導電性ペースト862及び863を充填したものを配置した。この状態で、矢印A及びBの方向に加圧しながら加熱することで全体に加圧加熱処理を施すことにより、図10(b)に示す積層型の回路基板(多層配線基板)800が得られる。   And as shown to Fig.11 (a), between these circuit boards 840 and 850, the through-hole was formed in the prepreg 861 which consists of a composite material of this invention, and the electrically conductive paste demonstrated previously to the through-hole The one filled with 862 and 863 was placed. In this state, the laminated circuit board (multilayer wiring board) 800 shown in FIG. 10B is obtained by applying pressure and heat treatment to the whole by heating while applying pressure in the directions of arrows A and B. .

以上の構成を有する回路基板800は、放熱部833によって内部の熱が十分に放熱されることとなる。また、放熱部833周辺には電極のランドが形成されないため、これらの周辺の基板領域に配線が配されている。したがって、かかる回路基板800によれば、十分な放熱性が得られ、高密度な配線形成を行えるとともに、優れた信頼性を得ることができる。   In the circuit board 800 having the above configuration, the internal heat is sufficiently dissipated by the heat dissipating part 833. In addition, since no land of electrodes is formed around the heat dissipating portion 833, wiring is arranged in the peripheral substrate region. Therefore, according to the circuit board 800, sufficient heat dissipation can be obtained, high-density wiring can be formed, and excellent reliability can be obtained.

図12(a)〜(b)は、本発明の回路基板の製造方法により製造されたベアチップ実装用両面基板(多層基板)における半田面を示した図であり、絶縁基板901の表面に銅箔パターン902が多数存在している。また、図12(b)は、本発明の回路基板の製造方法により製造されたベアチップ実装用両面基板(多層基板)における半導体チップ(IC)実装面を示した図であり、絶縁基板901の表面に存在する銅箔パターン(銅ランド)902と、ビアIC実装用のICパット904とが配線906によって接続されている部分を示している。また、絶縁基板901上には、放熱部903が形成されており、この放熱部903が形成されている部分には、銅箔パターン(銅ランド)が形成されていないため、この放熱部903の周囲にスペースを広く取ることができる。したがって、この放熱部903の周囲の基板領域では、図12(b)に示すように、配線を高密度に形成できる。なお、ICパット905にも実際には配線が設けられるが、説明の都合上省略している。   FIGS. 12A to 12B are views showing a solder surface in a double-sided board for mounting a bare chip (multilayer board) manufactured by the method for manufacturing a circuit board of the present invention, and a copper foil is provided on the surface of the insulating substrate 901. Many patterns 902 exist. FIG. 12B is a diagram showing a semiconductor chip (IC) mounting surface in a bare chip mounting double-sided board (multilayer board) manufactured by the circuit board manufacturing method of the present invention. 2 shows a portion where a copper foil pattern (copper land) 902 existing in FIG. 2 and an IC pad 904 for via IC mounting are connected by a wiring 906. Further, a heat radiating portion 903 is formed on the insulating substrate 901, and a copper foil pattern (copper land) is not formed in a portion where the heat radiating portion 903 is formed. A wide space can be taken around. Therefore, in the substrate region around the heat radiating portion 903, as shown in FIG. Although the IC pad 905 is actually provided with wiring, it is omitted for convenience of explanation.

以上、本発明の回路基板の製造方法の好適な実施形態について説明したが、本発明の回路基板の製造方法は上記の実施形成に限定されるものではない。   The preferred embodiment of the method for manufacturing a circuit board according to the present invention has been described above, but the method for manufacturing a circuit board according to the present invention is not limited to the above-described embodiment formation.

例えば、上記第1〜第3実施形態における回路基板では、導電部を1つ形成しているが、同様の構成の導電部を同様の作製手順で複数形成してもよい。同様に、放熱部についても、第3実施形態で示した第1の放熱部623や第2の放熱部633と同様の構成の放熱部を同様の作製手順で複数形成してもよい。   For example, in the circuit boards in the first to third embodiments, one conductive portion is formed, but a plurality of conductive portions having the same configuration may be formed by the same manufacturing procedure. Similarly, a plurality of heat radiating parts having the same configuration as the first heat radiating part 623 and the second heat radiating part 633 shown in the third embodiment may be formed in the same manufacturing procedure.

更に、上記第4〜第5実施形態における回路基板(多層配線基板)では、放熱部として第3実施形態で示した第1の放熱部623の構成を有するものを形成しているが、これに代えて第2の放熱部633の構成を有するものを形成してもよい。更に、これらの第1の放熱部623又は第2の放熱部633の構成を有する放熱部は複数形成してもよい。   Furthermore, in the circuit boards (multilayer wiring boards) in the fourth to fifth embodiments, the heat radiation part having the configuration of the first heat radiation part 623 shown in the third embodiment is formed. Instead, one having the configuration of the second heat radiation portion 633 may be formed. Further, a plurality of heat radiating portions having the configuration of the first heat radiating portion 623 or the second heat radiating portion 633 may be formed.

また更に、第3実施形態で示した第2の放熱部633の構成を有する放熱部は、その絶縁化の程度が極めて高いため、この放熱部上に直接配線パターンを形成することが可能となっている。したがって、第2〜第3実施形態において、放熱部上に配線パターンを形成してもよい。すなわち、図12(b)においても、放熱部903が上記第2の放熱部633の構成を有するものである場合には、この放熱部903上に配線パターンを形成してもよい。これにより、より高密度な配線を形成することができる。   Furthermore, since the heat radiation part having the configuration of the second heat radiation part 633 shown in the third embodiment has a very high degree of insulation, it is possible to directly form a wiring pattern on the heat radiation part. ing. Therefore, in the second to third embodiments, a wiring pattern may be formed on the heat dissipation part. That is, also in FIG. 12B, when the heat radiating portion 903 has the configuration of the second heat radiating portion 633, a wiring pattern may be formed on the heat radiating portion 903. As a result, higher density wiring can be formed.

図1は、本発明の複合体の一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the composite of the present invention. 図2は、本発明のプリプレグの一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the prepreg of the present invention. 図3は、本発明の金属箔張積層板の一実施形態を示す模式断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention. 本発明の回路基板の第1実施形態を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a first embodiment of a circuit board of the present invention. 本発明の回路基板の第2実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows 2nd Embodiment of the circuit board of this invention. 本発明の回路基板の第3実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows 3rd Embodiment of the circuit board of this invention. (a)〜(d)は、本発明の回路基板の製造方法の第1実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(d) is a series of process drawings which show 1st Embodiment of the manufacturing method of the circuit board of this invention. (a)〜(d)は、本発明の回路基板の製造方法の第2実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(d) is a series of process drawings which show 2nd Embodiment of the manufacturing method of the circuit board of this invention. (a)〜(d)は、本発明の回路基板の製造方法の第3実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(d) is a series of process figures which show 3rd Embodiment of the manufacturing method of the circuit board of this invention. (a)〜(b)は、本発明の回路基板の製造方法の第4実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(b) is a series of process drawings which show 4th Embodiment of the manufacturing method of the circuit board of this invention. (a)〜(b)は、本発明の回路基板の製造方法の第5実施形態を示す一連の工程図である。(A)-(b) is a series of process drawings which shows 5th Embodiment of the manufacturing method of the circuit board of this invention. (a)〜(b)は、本発明の回路基板の製造方法により製造されたベアチップ実装用両面基板(多層基板)における半田面及び半導体チップ実装面を示す図である。(A)-(b) is a figure which shows the solder surface and semiconductor chip mounting surface in the double-sided board for multilayer mounting (multilayer board | substrate) manufactured by the manufacturing method of the circuit board of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

100…複合体、101…繊維シート、102…硬化性樹脂組成物、103,203,303…貫通孔、200…プリプレグ、201…繊維シート、202…半硬化樹脂組成物層、300…金属箔張積層板、301…絶縁基板、302…導電体層、304…導電部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Composite, 101 ... Fiber sheet, 102 ... Curable resin composition, 103, 203, 303 ... Through-hole, 200 ... Pre-preg, 201 ... Fiber sheet, 202 ... Semi-cured resin composition layer, 300 ... Metal foil tension Laminated plate, 301 ... insulating substrate, 302 ... conductor layer, 304 ... conductive portion.

Claims (17)

繊維シートに硬化性樹脂組成物を含浸させてなる複合体であって、
前記硬化性樹脂組成物の硬化物の20℃における貯蔵弾性率が、100〜2000MPaである複合体。
A composite comprising a fiber sheet impregnated with a curable resin composition,
The composite whose storage elastic modulus in 20 degreeC of the hardened | cured material of the said curable resin composition is 100-2000 Mpa.
前記繊維シートの体積Vbに対する前記硬化性樹脂組成物の体積Vaの比Va/Vbが、0.3〜0.9である、請求項1に記載の複合体。   The composite according to claim 1, wherein a ratio Va / Vb of a volume Va of the curable resin composition to a volume Vb of the fiber sheet is 0.3 to 0.9. 前記硬化性樹脂組成物が粘弾性樹脂を含有する、請求項1又は2に記載の複合体。   The composite_body | complex of Claim 1 or 2 in which the said curable resin composition contains a viscoelastic resin. 前記硬化性樹脂組成物は、重量平均分子量が30000以上であるアクリル重合体を含有し、該アクリル重合体はグリシジルアクリレートを重合成分として2〜20質量%含み且つエポキシ価が2〜36である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の複合体。   The curable resin composition contains an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 30000 or more, and the acrylic polymer contains 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component and has an epoxy value of 2 to 36. The complex according to any one of claims 1 to 3. 前記繊維シートが、10〜200μmの厚みを有するガラス布である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の複合体。   The composite according to any one of claims 1 to 4, wherein the fiber sheet is a glass cloth having a thickness of 10 to 200 µm. 複合体の総厚さが100μm以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の複合体。   The composite according to any one of claims 1 to 5, wherein the total thickness of the composite is 100 µm or less. 貫通孔を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体。   The complex according to any one of claims 1 to 6, which has a through-hole. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体において、前記硬化性樹脂組成物が半硬化されてなる、プリプレグ。   The composite according to any one of claims 1 to 6, wherein the curable resin composition is semi-cured. 貫通孔を有する、請求項8記載のプリプレグ。   The prepreg of Claim 8 which has a through-hole. 請求項7に記載の複合体において、前記貫通孔に導電体を充填し、前記複合体の少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られる、金属箔張積層板。   8. The composite according to claim 7, wherein the metal foil-clad laminate is obtained by heating and pressurizing the through-hole filled with a conductor and a metal foil disposed on at least one surface of the composite. 請求項9に記載のプリプレグにおいて、前記貫通孔に導電体を充填し、前記プリプレグの少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られる、金属箔張積層板。   The prepreg according to claim 9, wherein the metal foil-clad laminate is obtained by heating and pressing a through-hole filled with a conductor and a metal foil disposed on at least one surface of the prepreg. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体からなる絶縁基板に、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、前記第1の貫通孔内には、導電性粒子を含有する第1の樹脂組成物からなる導電部が前記第1の貫通孔全体を埋めるように形成され、前記導電部により前記絶縁基板の厚さ方向の電気的接続がなされている回路基板であって、
前記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第2の貫通孔が更に形成されており、前記第2の貫通孔内には、該第2の貫通孔の両端の開口部を除く部分に充填された、導電性粒子を含有する第2の樹脂組成物と、前記開口部に配置された絶縁性樹脂層とからなる放熱部が形成されている、回路基板。
A first through hole penetrating in the thickness direction is formed in the insulating substrate made of the composite according to any one of claims 1 to 6, and conductive particles are formed in the first through hole. A circuit board in which a conductive portion made of a first resin composition containing the conductive resin is formed so as to fill the entire first through hole, and electrical connection in the thickness direction of the insulating substrate is made by the conductive portion. There,
The insulating substrate is further formed with a second through-hole penetrating in the thickness direction, and the second through-hole is formed in a portion excluding openings at both ends of the second through-hole. A circuit board on which a heat radiating portion is formed which is composed of a filled second resin composition containing conductive particles and an insulating resin layer disposed in the opening.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体からなる絶縁基板に、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、前記第1の貫通孔内には、導電性粒子を含有する第1の樹脂組成物からなる導電部が前記第1の貫通孔全体を埋めるように形成され、前記導電部により前記絶縁基板の厚さ方向の電気的接続がなされている回路基板であって、
前記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第2の貫通孔が更に形成されており、前記第2の貫通孔内には、絶縁性粒子を含有する絶縁性の第3の樹脂組成物からなる放熱部が前記第2の貫通孔全体を埋めるように形成されている、回路基板。
A first through hole penetrating in the thickness direction is formed in the insulating substrate made of the composite according to any one of claims 1 to 6, and conductive particles are formed in the first through hole. A circuit board in which a conductive portion made of a first resin composition containing the conductive resin is formed so as to fill the entire first through hole, and electrical connection in the thickness direction of the insulating substrate is made by the conductive portion. There,
The insulating substrate is further formed with a second through-hole penetrating in the thickness direction, and an insulating third resin composition containing insulating particles in the second through-hole. A circuit board, wherein the heat dissipation portion is formed so as to fill the entire second through hole.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体からなる絶縁基板に、その厚さ方向に貫通する第1の貫通孔が形成され、前記第1の貫通孔内には、導電性粒子を含有する第1の樹脂組成物からなる導電部が前記第1の貫通孔全体を埋めるように形成され、前記導電部により前記絶縁基板の厚さ方向の電気的接続がなされている回路基板であって、
前記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第2の貫通孔が更に形成されており、前記第2の貫通孔内には、該第2の貫通孔の両端の開口部を除く部分に充填された、導電性粒子を含有する第2の樹脂組成物と、前記開口部に配置された絶縁性樹脂層とからなる第1の放熱部が形成されており、且つ、
前記絶縁基板には、その厚さ方向に貫通する第3の貫通孔が更に形成されており、前記第3の貫通孔内には、絶縁性粒子を含有する第3の樹脂組成物からなる第2の放熱部が前記第3の貫通孔全体を埋めるように形成されている、回路基板。
A first through hole penetrating in the thickness direction is formed in the insulating substrate made of the composite according to any one of claims 1 to 6, and conductive particles are formed in the first through hole. A circuit board in which a conductive portion made of a first resin composition containing the conductive resin is formed so as to fill the entire first through hole, and electrical connection in the thickness direction of the insulating substrate is made by the conductive portion. There,
The insulating substrate is further formed with a second through-hole penetrating in the thickness direction, and the second through-hole is formed in a portion excluding openings at both ends of the second through-hole. A filled first resin composition containing conductive particles and an insulating resin layer disposed in the opening are formed; and
A third through hole penetrating in the thickness direction is further formed in the insulating substrate, and a third resin composition containing an insulating particle is contained in the third through hole. A circuit board, wherein two heat dissipating parts are formed so as to fill the entire third through hole.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体からなる基体の両表面にカバーフィルムを貼り合わせる工程と、
前記基体及び前記カバーフィルムに、前記基体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔及び第2の貫通孔を形成する工程と、
前記第1の貫通孔及び第2の貫通孔に、導電性粒子と樹脂成分とを少なくとも含む導電性ペーストを充填する工程と、
前記基体から前記カバーフィルムを除去する工程と、
前記基体の両面に金属箔を配置した状態で加圧加熱処理を施し、前記基体中の硬化性樹脂組成物及び前記導電性ペースト中の前記樹脂成分を硬化させる工程と、
前記金属箔に、少なくとも前記第2の貫通孔の開口を塞いでいる部分が除去されるようにエッチングを施し、前記金属箔を所定の回路パターンにパターニングするとともに、前記第2の貫通孔内の開口部に存在する前記導電性粒子を溶解除去し、前記開口部に前記樹脂成分からなる絶縁性の絶縁性樹脂層を形成する工程と、
を有する、回路基板の製造方法。
A step of bonding a cover film to both surfaces of a substrate made of the composite according to any one of claims 1 to 6;
Forming a first through hole and a second through hole penetrating in the thickness direction of the base body in the base body and the cover film;
Filling the first through hole and the second through hole with a conductive paste containing at least conductive particles and a resin component;
Removing the cover film from the substrate;
Applying pressure and heat treatment in a state where metal foils are arranged on both surfaces of the base, and curing the curable resin composition in the base and the resin component in the conductive paste;
Etching is performed on the metal foil so that at least a portion blocking the opening of the second through hole is removed, the metal foil is patterned into a predetermined circuit pattern, and the metal foil is formed in the second through hole. Dissolving and removing the conductive particles present in the opening, and forming an insulating insulating resin layer made of the resin component in the opening;
A method for manufacturing a circuit board, comprising:
請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体からなる基体の両表面にカバーフィルムを貼り合わせる工程と、
前記基体及び前記カバーフィルムに、前記基体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔及び第2の貫通孔を形成する工程と、
前記第1の貫通孔に、導電性粒子と樹脂成分とを少なくとも含む導電性ペーストを充填する工程と、
前記第2の貫通孔に、絶縁性粒子と前記樹脂成分とを少なくとも含む絶縁性ペーストを充填する工程と、
前記基体から前記カバーフィルムを除去する工程と、
前記基体の両面に金属箔を配置した状態で加圧加熱処理を施し、前記基体中の硬化性樹脂組成物、並びに前記導電性ペースト中及び前記絶縁性ペースト中の前記樹脂成分を硬化させる工程と、
前記金属箔に、少なくとも前記第2の貫通孔の開口を塞いでいる部分が除去されるようにエッチングを施し、前記金属箔を所定の回路パターンにパターニングする工程と、
を有する、回路基板の製造方法。
A step of bonding a cover film to both surfaces of a substrate made of the composite according to any one of claims 1 to 6;
Forming a first through hole and a second through hole penetrating in the thickness direction of the base body in the base body and the cover film;
Filling the first through hole with a conductive paste containing at least conductive particles and a resin component;
Filling the second through-hole with an insulating paste containing at least insulating particles and the resin component;
Removing the cover film from the substrate;
Applying pressure and heat treatment in a state where metal foils are disposed on both surfaces of the substrate, and curing the curable resin composition in the substrate, and the resin component in the conductive paste and the insulating paste; ,
Etching the metal foil so that at least a portion blocking the opening of the second through hole is removed, and patterning the metal foil into a predetermined circuit pattern;
A method for manufacturing a circuit board, comprising:
請求項1〜6のいずれか1項に記載の複合体からなる基体の両表面にカバーフィルムを貼り合わせる工程と、
前記基体及び前記カバーフィルムに、前記基体の厚さ方向に貫通する第1の貫通孔、第2の貫通孔及び第3の貫通孔を形成する工程と、
前記第1の貫通孔及び第2の貫通孔に、導電性粒子と樹脂成分とを少なくとも含む導電性ペーストを充填する工程と、
前記第3の貫通孔に、絶縁性粒子と前記樹脂成分とを少なくとも含む絶縁性ペーストを充填する工程と、
前記基体から前記カバーフィルムを除去する工程と、
前記基体の両面に金属箔を配置した状態で加圧加熱処理を施し、前記基体中の硬化性樹脂組成物、並びに前記導電性ペースト中及び前記絶縁性ペースト中の前記樹脂成分を硬化させる工程と、
前記金属箔に、少なくとも前記第2の貫通孔の開口及び前記第3の貫通孔の開口を塞いでいる部分が除去されるようにエッチングを施し、前記金属箔を所定の回路パターンにパターニングするとともに、前記第2の貫通孔内の開口部に存在する前記導電性粒子を溶解除去し、前記開口部に前記樹脂成分からなる絶縁性の絶縁性樹脂層を形成する工程と、
を有する、回路基板の製造方法。
A step of bonding a cover film to both surfaces of a substrate made of the composite according to any one of claims 1 to 6;
Forming a first through hole, a second through hole, and a third through hole penetrating in the thickness direction of the base body in the base body and the cover film;
Filling the first through hole and the second through hole with a conductive paste containing at least conductive particles and a resin component;
Filling the third through-hole with an insulating paste containing at least insulating particles and the resin component;
Removing the cover film from the substrate;
Applying pressure and heat treatment in a state where metal foils are disposed on both surfaces of the substrate, and curing the curable resin composition in the substrate, and the resin component in the conductive paste and the insulating paste; ,
Etching is performed on the metal foil so as to remove at least a portion covering the opening of the second through hole and the opening of the third through hole, and the metal foil is patterned into a predetermined circuit pattern. Dissolving and removing the conductive particles present in the opening in the second through hole, and forming an insulating insulating resin layer made of the resin component in the opening;
A method for manufacturing a circuit board, comprising:
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006152261A (en) * 2004-10-25 2006-06-15 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate, and multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2006152260A (en) * 2004-10-26 2006-06-15 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate and multilayer printed wiring board obtained using the same, and manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP2006299189A (en) * 2005-04-25 2006-11-02 Hitachi Chem Co Ltd Prepreg sheet, metal foil-clad laminate, circuit board, and method for manufacturing circuit board
JP2006307067A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal-clad laminated board, printed-wiring board and its manufacturing method
JP2006306977A (en) * 2005-04-27 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated board, printed-wiring board, multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof
JP2006348225A (en) * 2005-06-17 2006-12-28 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate
FR2943073A1 (en) * 2009-03-16 2010-09-17 Astrium Sas USE OF CURABLE RESINS CONTAINING A GLYCIDYL (METH) ACRYLATE PREPOLYMER FOR THE MANUFACTURE OF COMPOSITE MATERIALS FOR SPATIAL USE

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006152261A (en) * 2004-10-25 2006-06-15 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate, and multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2006152260A (en) * 2004-10-26 2006-06-15 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate and multilayer printed wiring board obtained using the same, and manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP2006299189A (en) * 2005-04-25 2006-11-02 Hitachi Chem Co Ltd Prepreg sheet, metal foil-clad laminate, circuit board, and method for manufacturing circuit board
JP2006306977A (en) * 2005-04-27 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal foil-clad laminated board, printed-wiring board, multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof
JP2006307067A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metal-clad laminated board, printed-wiring board and its manufacturing method
JP2006348225A (en) * 2005-06-17 2006-12-28 Hitachi Chem Co Ltd Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate
FR2943073A1 (en) * 2009-03-16 2010-09-17 Astrium Sas USE OF CURABLE RESINS CONTAINING A GLYCIDYL (METH) ACRYLATE PREPOLYMER FOR THE MANUFACTURE OF COMPOSITE MATERIALS FOR SPATIAL USE
WO2010106017A1 (en) * 2009-03-16 2010-09-23 Astrium Sas Use of curable resins containing a glycidyl (meth)acrylate prepolymer for the production of composite materials for use in space
US20120071587A1 (en) * 2009-03-16 2012-03-22 Astrium Sas Use of curable resins containing a prepolymer based on glycidyl (meth)acrylate for making materials for use in space

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