JP2006173547A - 自然酸化膜除去装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】今後９０ナノ以下のコンタクトホールの穴の自然酸化膜を除去する方法を提供する。
【解決手段】混合液をベーパ状（１００℃以上）にしてチヤンバー内を加圧（７６０トール以上）にします加圧することにおいて混合ベーパがコンタクトホールの穴の中まで強制的注入します注入によって自然酸化膜との化学反応で分解させますその後クリーンホットＮ２ガス（１００℃以上）を加圧してそして減圧します圧力差で分解した成分をコンタクトホールの穴から除去します。
【選択図】図１
【解決手段】混合液をベーパ状（１００℃以上）にしてチヤンバー内を加圧（７６０トール以上）にします加圧することにおいて混合ベーパがコンタクトホールの穴の中まで強制的注入します注入によって自然酸化膜との化学反応で分解させますその後クリーンホットＮ２ガス（１００℃以上）を加圧してそして減圧します圧力差で分解した成分をコンタクトホールの穴から除去します。
【選択図】図１
Description
〔発明の属する技術分野〕コンタクトホールの巾が小さくなると液体がコンタクトホールの中まで入りにくくなるそれで自然酸化膜が除去できなくなる
〔従来の技術〕ＨＦ水（濃度０．１％〜０．５％）を使用している
〔発明が解決しようとする課題〕
デザインルールが今後より微細化になります例えば０．０６ミクロンになった時、従来の技術で自然酸化膜が除去できるか、おそらく除去できないと思います
完全に除去できるかどうかです
デザインルールが今後より微細化になります例えば０．０６ミクロンになった時、従来の技術で自然酸化膜が除去できるか、おそらく除去できないと思います
完全に除去できるかどうかです
〔課題を解決する手段〕
フツ化水素酸とフツ化アンモニウムと超純水と界面活性剤の混合液をペーパ状（１００℃以上）にしてチヤンバー内を加圧します
加圧することによって混合液のベーパが強制的にコンタクトホールの穴の中まで注入されます、化学反応で自然酸化膜を除去しますもちろん面内の自然酸化膜も除去します
フツ化水素酸とフツ化アンモニウムと超純水と界面活性剤の混合液をペーパ状（１００℃以上）にしてチヤンバー内を加圧します
加圧することによって混合液のベーパが強制的にコンタクトホールの穴の中まで注入されます、化学反応で自然酸化膜を除去しますもちろん面内の自然酸化膜も除去します
〔作用〕
ＨＦとＮＨ４Ｆの水溶液の混合液であるバッファードフツ酸（略称ＢＨＦ）プラス界面活性剤液と自然酸化膜であるＳｉＯ２の反応式
ＳｉＯ２＋２ＮＨ４ ＋＋２ＨＦ２ −＋２ＨＦ→（ＮＨ４）２ＳｉＦ６＋２Ｈ２Ｏ
クリーンホットＮ２ガス１００℃以上の加圧減圧の作用で強制的に（ＮＨ４）２ＳｉＦ６とＨ２Ｏを除去します
ＨＦとＮＨ４Ｆの水溶液の混合液であるバッファードフツ酸（略称ＢＨＦ）プラス界面活性剤液と自然酸化膜であるＳｉＯ２の反応式
ＳｉＯ２＋２ＮＨ４ ＋＋２ＨＦ２ −＋２ＨＦ→（ＮＨ４）２ＳｉＦ６＋２Ｈ２Ｏ
クリーンホットＮ２ガス１００℃以上の加圧減圧の作用で強制的に（ＮＨ４）２ＳｉＦ６とＨ２Ｏを除去します
〔実施例〕３００ミリウエーハ１枚。パタン巾０．１ミクロンアスペクト比４実験機のチヤンバーにウエーハを１枚収納チヤンバー内を１トールに減圧その後ＢＨＦプラス界面活性剤液のベーパ（１１５℃）をチヤンバー内のウエーハ面内にふきつけチヤンバー内の圧力を１２００トールにしました１２００トール後ベーパを排出するため７０トールにしました今度はチヤンバー内にクリーンホットＮ２ガス（２５０℃）を注入、圧力は１２００トールその後チヤンバー内の圧力を７０トールに減圧減圧の時、少しクリーンホットＮ２ガス（２５０℃）をブローします真空ポンプの力が大きいので７０トールに到達しますその後常温のクリーンＮ２ガスを注入してチヤンバー内の圧力を７６０トール位いにしてチヤンバーのフタがオープンしてテフロンのピンセットでウエーハを１枚取り出しました
自然酸化膜の厚みは２５ナノメートル（２５ｎｍ）で実験したウエーハを取り出した時の厚みは３Å位いでした
たぶん測定器にウエーハが移動した時空気にふれて３Å発生したと思われます今回の装置と超純水等による洗浄及び乾燥ロードロック方式つまりクリーンＮ２ガス雰囲気内で処理すれば１Å以下になると思います
自然酸化膜の厚みは２５ナノメートル（２５ｎｍ）で実験したウエーハを取り出した時の厚みは３Å位いでした
たぶん測定器にウエーハが移動した時空気にふれて３Å発生したと思われます今回の装置と超純水等による洗浄及び乾燥ロードロック方式つまりクリーンＮ２ガス雰囲気内で処理すれば１Å以下になると思います
〔発明の効果〕今後、半導体において微細化が進みます
自然酸化膜（ＳｉＯ２膜）の発生を極力小さくする必要がありますウエーハの歩留り向上の為、ぜひ必要な技術です
理想としてゼロÅ（０Å）に近づける事です
自然酸化膜（ＳｉＯ２膜）の発生を極力小さくする必要がありますウエーハの歩留り向上の為、ぜひ必要な技術です
理想としてゼロÅ（０Å）に近づける事です
１ ３００ｍｍウエーハ
２ チヤンバー
３ バルブ
４ ケミカルドライ真空ポンプ
５ バルブ
６ 小型ケミカルコンプレッサー
７ 混合液
８ ヒータ
９ バルブ
１０ 石英製ヒーター
１１ クリーンＮ２ガス
２ チヤンバー
３ バルブ
４ ケミカルドライ真空ポンプ
５ バルブ
６ 小型ケミカルコンプレッサー
７ 混合液
８ ヒータ
９ バルブ
１０ 石英製ヒーター
１１ クリーンＮ２ガス
Claims (2)
- チヤンバー内にウエーハを収納します。
チヤンバー内を減圧します（理想１トール位い）フツ化水素酸とフツ化アンモニウムと超純水と界面活性剤液の混合液をベーパ状（１００℃以上）にしますそのベーパをウエーハ面内にふきつけしますチヤンバー内の圧力を８００トール以上にしてコンタクトホールの穴の中に強制的に注入しますそれで穴の中の自然酸化膜と化学反応させます注入終了後チヤンバー内を７６トール以下にしますその後クリーンホツトＮ２ガスを注入しますガス温度は１００℃以上ですチヤンバー内の圧力を加圧します（８００トール以上）加圧終了後減圧します（理想減圧７６トール位い）化学反応した成分を差圧でコンタクトホールから除去します
もちろんウエーハ面内の成分も除去します減圧終了後チヤンバー内に常温のクリーンＮ２ガスを注入して７６０トール位いにしてチヤンバーからウエーハを取り出しします - 請求項１の混合液から界面活性剤液を省略した混合液でする方法です方法は請求項１と同じです
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004382892A JP2006173547A (ja) | 2004-12-15 | 2004-12-15 | 自然酸化膜除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004382892A JP2006173547A (ja) | 2004-12-15 | 2004-12-15 | 自然酸化膜除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006173547A true JP2006173547A (ja) | 2006-06-29 |
Family
ID=36673929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004382892A Pending JP2006173547A (ja) | 2004-12-15 | 2004-12-15 | 自然酸化膜除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2006173547A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104613732A (zh) * | 2013-11-05 | 2015-05-13 | 有研新材料股份有限公司 | 一种外延前抛光片清洗后的快速干燥方法 |
-
2004
- 2004-12-15 JP JP2004382892A patent/JP2006173547A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN104613732A (zh) * | 2013-11-05 | 2015-05-13 | 有研新材料股份有限公司 | 一种外延前抛光片清洗后的快速干燥方法 |
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