JP2006173212A - パターン形成装置およびパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 導電性粒子を含む溶液やインクなどの種々の付与材を吐出可能なヘッドを用いて、それらの付与材を立体物の表面に付与する際に、それらの付与材を立体物の表面上の所望位置に正確に付与することができる付与材の付与装置および付与方法を提供すること。
【解決手段】 導電性粒子を含む溶液を液滴6として吐出可能なヘッド1を用いて、立体の基板5の表面に導電パターンを形成する場合に、ヘッド1からの液滴6の吐出方向に応じて、ヘッド1から吐出される液滴6が受ける重力によって生じる液滴6の着弾位置のずれ量xを算出し、そのずれ量xに応じて、ヘッド1の移動経路を補正する。
【選択図】 図6
【解決手段】 導電性粒子を含む溶液を液滴6として吐出可能なヘッド1を用いて、立体の基板5の表面に導電パターンを形成する場合に、ヘッド1からの液滴6の吐出方向に応じて、ヘッド1から吐出される液滴6が受ける重力によって生じる液滴6の着弾位置のずれ量xを算出し、そのずれ量xに応じて、ヘッド1の移動経路を補正する。
【選択図】 図6
Description
本発明は、導電性粒子を含む溶液やインクなどの付与材を吐出可能なヘッドを用いて、それらの付与材を立体物の表面に付与することによって、導電性のパターンや画像などの形成が可能なパターン形成装置およびパターン形成方法に関するものである。
従来より、紙や布などの被記録媒体の平面上にインク滴を吐出することにより、単色のモノクロ画像および多色のカラー画像など様々な記録を行うインクジェット記録装置が開発されている。また、高精細な画像の記録を可能とするために、インクを吐出するノズルの配設密度を高密度化する試みや、高速記録を行うためのマルチノズル化などの改良が盛んに行われている。さらに近年では、紙や布などの平面形状に限定されない立体形状の被記録媒体への記録が可能な記録装置も開発されている。
例えば、特許文献1に記載されている立体回路の形成方法においては、立体形状の基板に対して、導電材や絶縁材から成る噴射材をインクジェットヘッドから噴射することにより、その基板上に配線パターンあるいはレジストパターンを形成する。その際、立体形状のさまざまな箇所に対して噴射材を吐出するために、その噴射材の吐出ノズルを6軸多関節ロボットに搭載して、それを任意の角度に振らせたり、帯電させたインク粒子を偏向電極によって偏向させたり、噴射されたインク粒子を空気ノズルから吹き付けるエアーによって偏向させている。
しかしながら、上記のような従来技術において、噴射材としての液滴の飛翔方向を鉛直下向き以外の方向とした場合には、重力の影響により、噴射材の着弾位置が所望位置よりも下側にずれてしまうことがある。
このような不具合を図7から図9に基づいて説明する。
図7は、ノズル100を水平に向けて、噴射材としての液滴を水平方向に吐出させた際の模式図である。101は、所望の着弾位置102へ向けてノズル100から吐出された液滴である。しかし実際には、重力の影響を受けるため、液滴101は、所望の着弾位置102ではなく下側に距離104ずれた位置103に着弾してしまう。そのため、例えば図8(a)のようなパターン、つまり基材105の水平面106から垂直面107に変化する境界線(以下、「エッジ」とも称す)109を跨ぐようなパターン108を形成する場合には、同図(b)に示すようなパターンの途切れ部110が発生するおそれがある。
また、例えば図9(a)に示すようなパターン、つまり傾斜角度の異なる形成面111および112に対してエッジ109を跨ぐパターン108を形成する際、その形成手順が次のような場合には、形成パターンのずれが生じるおそれがある。そのパターン108の形成手順においては、まず、形成面111上に形成すべきパターン部分108aを形成し、その後、ノズルからの液滴の吐出を一旦停止させて、そのノズルと基材との相対位置を調整する。それから、ノズルからの液滴の吐出を再開して、形成面112に形成すべきパターン部分108bを形成する。このような形成手順においては、図9(b)のように、エッジ109を境にしてパターン部分108aおよび108bが図中の横方向にずれてしまうことがある。このような「ずれ」は、ノズルからの液滴を一旦止めて位置調整をした際の位置調整精度などに起因する。このような「ずれ」が生じた場合、特に、形成対象が微細配線パターンのときには、その電気的特性が変わってしまうおそれがある。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、導電性粒子を含む溶液やインクなどの種々の付与材を吐出可能なヘッドを用いて、それらの付与材を立体物の表面に付与する際に、それらの付与材を立体物の表面上の所望位置に正確に付与することができるパターン形成装置およびパターン形成方法を提供することにある。
本発明は、付与材を吐出可能なヘッドと立体物とを相対移動させつつ、前記ヘッドから前記立体物の表面に前記付与材を付与することにより、前記立体物にパターンを形成するためのパターン形成装置において、前記立体物の表面に形成すべきパターンに依存する前記付与材の吐出方向に応じて、前記ヘッドから吐出される前記付与材が受ける重力によって生じる前記付与材の付与位置のずれ量を算出する算出手段と、前記算出手段によって算出したずれ量に応じて、前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正する補正手段と、を備えることを特徴とする。
本発明は、付与材を吐出可能なヘッドと立体物とを相対移動させつつ、前記ヘッドから前記立体物の表面に前記付与材を付与することにより、前記立体物にパターンを形成するためのパターン形成方法において、前記ヘッドによる前記付与材の吐出方向に応じて、前記ヘッドから吐出される前記付与材が受ける重力によって生じる前記付与材の付与位置のずれ量を算出し、前記算出したずれ量に応じて、前記ヘッドが前記付与材を吐出するときの前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正し、前記補正した相対位置において前記立体物に対して前記ヘッドから付与材を吐出して前記パターンを形成することを特徴とする。
また、本発明は、付与材を吐出可能なヘッドと立体物とを相対移動させつつ、前記ヘッドから前記立体物の表面に前記付与材を付与することにより、前記立体物の表面にパターンを形成するためのパターン形成方法において、前記立体物の形状に関する形状データと前記パターンに関するパターンデータとに基づいて、前記パターン形成のための前記ヘッドの移動経路を設定する設定工程と、前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正することにより、前記設定工程において設定された移動経路を補正する補正工程と、前記補正工程において補正された移動経路に沿って前記ヘッドを移動させて前記ヘッドによるパターン形成を行う形成工程とを有し、前記補正工程では、前記ヘッドからの付与材の吐出方向、前記ヘッドと前記立体物の表面との対向距離、前記付与材の質量、前記ヘッドからの付与材の吐出速度に応じて、前記相対位置を補正することを特徴とする。
また、本発明は、付与材を吐出可能なヘッドと立体物とを相対移動させつつ、前記ヘッドから前記立体物の表面に前記付与材を付与することにより、前記立体物の表面にパターンを形成するためのパターン形成方法において、前記立体物の形状に関する形状データと前記パターンに関するパターンデータとに基づいて、前記パターン形成のための前記ヘッドの移動経路を設定する設定工程と、前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正することにより、前記設定工程において設定された移動経路を補正する補正工程と、前記補正工程において補正された移動経路に沿って前記ヘッドを移動させて前記ヘッドによるパターン形成を行う形成工程とを有し、前記補正工程では、前記ヘッドからの付与材の吐出方向、前記ヘッドと前記立体物の表面との対向距離、前記付与材の質量、前記ヘッドからの付与材の吐出速度に応じて、前記相対位置を補正することを特徴とする。
本発明によれば、ヘッドによる付与材の吐出方向に応じて、そのヘッドから吐出される付与材が受ける重力によって生じる付与材の付与位置のずれ量を算出し、その算出したずれ量に応じて、ヘッドが付与材を吐出するときのヘッドと立体物の相対位置を補正することにより、立体物の表面上の所望位置に付与材を正確に付与することができる。したがって、傾斜角度が異なる立体物の表面に連続するように付与材を付与する場合にも付与材を正確に付与して、付与材の付与位置が連続せずに途切れたり、ずれたりすることを防止することができる。例えば、インクを吐出可能なインクジェット記録ヘッドを用いて、立体の記録媒体上に画像を記録する場合には、高品位の画像を記録することができる。また、付与材として導電性粒子を含む溶液を吐出可能なヘッドを用いて、立体の基板上に導電パターンを形成する場合には、その導電パターンを正確に形成することができる。
また、ヘッドによる付与材の吐出方向と共に、ヘッドと立体物の表面との対向距離、付与材の質量、およびヘッドの特性である付与材の吐出速度に応じて、付与材の付与位置のずれ量を算出することより、付与材の付与位置をより適確に補正することができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本実施形態に適用可能な回路パターン形成装置の概略構成図である。
本例の回路パターン形成装置(以下、「本装置」ともいう)は、パターン形成対象となる基材である立体形状を有する基板5に、回路パターンを形成するものである。本装置は、通信部11を介して、基板5の形状および形成すべき回路パターンに関してのデータ10を受信し、そのデータ10をパターン記憶部12に記憶する。ホスト装置は、形成すべき回路パターンなどのデータ供給源をなすものであり、情報処理装置としてのコンピュータの形態の他、種々の形態のものを含む。
パターンを形成するための液体は導電性粒子を含む溶液であり、ヘッド1のノズル2から液滴6として吐出される。液滴6の吐出に関するノズル2の諸特性は、ノズル2を構成する部材の個体差などにより、若干の差が生じることがある。そこで本例においては、本装置に搭載されるヘッド1のノズル2から実際に液滴6を吐出させて、その吐出される液滴6の質量[kg]と、その吐出時の速度[m/s]を予め測定し、その測定データを吐出特性記憶部13に格納しておく。CPU14は、本装置における全ての構成要素を制御し、ロボット制御部15は、ロボット4に対し所望動作をさせるべく指令を出力する。ヘッド1には、液滴6を吐出するためのノズル2と、基板5上のパターン形成面までの距離を計測するための距離センサ3が設置されている。このヘッド1は、6軸などの多関節ロボット4に搭載される。
ヘッド1としては、電気熱変換体やピエゾ素子などを用いた種々の吐出方式のものを利用することができる。例えば、電気熱変換体を用いた場合には、その発熱によって溶液を発泡させ、その発泡エネルギーを利用してノズル2からインクを吐出させることができる。
センサ信号入力部17は距離センサ3が検出した信号を入力し、また駆動信号発生部18は、ノズル2から液滴6を吐出させるための駆動信号を発生して出力する。経路生成・記憶部16は、所望のパターンが形成できるように、ヘッド1の移動経路すなわちロボット4の動作経路を記憶する。
次に、ロボット4の移動経路を決定する処理を図2のフローチャートに基づいて説明する。
まずステップS1にて、パターン記憶部12から基板5の形状データおよび形成するパターンデータを読み出し、そのデータに基づいて、ヘッド1の基本的な移動経路(基本経路)を設定する。ここで設定する基本経路は、基板5におけるパターンの形成面に対して垂直に液滴6を吐出させるように、ヘッド1を移動させるための経路である。しかし、基板5の形状によっては、パターンの形成面に対して垂直に液滴6を吐出させることが物理的に不可能な場合もある。例えば、図3(a)に示すように、垂直面50と水平面51に挟まれたエッジ52近傍の所望着弾位置53に対して、液滴6を垂直に吐出させようとした場合、ヘッド1が水平面51に当ってしまうため、そのように液滴6を吐出させることは物理的に不可能である。このような場合には、図3(b)のように液滴6を斜め方向から吐出させる必要がある。このような基板5とヘッド1との衝突を回避するために、経路生成・記憶部16には、予め、基板5からヘッド1を離すべき距離が設定されており、その距離を確保するようにヘッド1の移動経路を設定する。これによって、基板5とヘッド1との衝突が生じない基本経路が設定される。
また、図4のような基板5に対して、2箇所のエッジ61および62を跨ぐパターン60を形成する際には、それらのエッジ61および62の近傍におけるヘッド1の移動経路は以下のように設定する。
仮に、図5(a)に示すようにヘッド1の移動経路を設定して、エッジ61の近傍の形成面63と形成面64に対して液滴6を着弾させようとした場合には、液滴6の吐出動作を中断せざるを得なくなってしまう。すなわち、図5(a)の場合には、エッジ61の近傍の形成面63に対して液滴6を着弾させる際に、ヘッド1を位置P1からP2へ移動させながら形成面63に対して液滴6を垂直に吐出させ、その後、形成面64に対して着弾させる際に、ヘッド1を位置P3からP4へ移動させながら形成面64に対して液滴6を水平に吐出させる。このような場合には、ヘッド1を位置P2から位置P3へ瞬時に移動させない限り、液滴6の吐出動作は中断せざるを得なくなってしまう。
そこで図5(b)のように、形成面63に対して垂直に液滴6を吐出する範囲を位置P11から位置P12までとし、その位置P12から位置P16までは弧を描くようにヘッド1を移動させながら、液滴6を吐出させる。その位置P16からは、形成面64に対して垂直に液滴6を吐出させる。このように、ヘッド1の基本経路を設定することにより、液滴6の吐出動作を中断させることなく、連続的なパターン形成が可能となる。
また、図5(c)に示すように、エッジ62の近傍の形成面64,65に対して液滴6を吐出させる場合には、ヘッド1を位置P21,P22,P23,P24,P25の順に移動させるように、ヘッド1の基本経路を設定する。その際、位置P22から位置P24までは移動は、ヘッド1の角度を変えているだけである。このようにヘッド1の角度を変える場合にも、基板5とヘッド1が衝突しないように、それらの間の距離を確保する。
このようにしてヘッド1の基本経路を設定した後は、図2のステップS2にて、ヘッド1をパターンの形成開始位置へ移動させる。次のステップS3においては、そのパターンの形成開始位置における基板5のパターン形成面とノズル2との対向距離を測定する。この対向距離が所定の範囲内になければ、その対向距離を必要に応じて調整する。次のステップS4においては、基本経路に沿ってヘッド1を移動させた場合のロボット4の姿勢に基づいて、パターンを形成する際の液滴6の吐出方向に関する情報を取得する。そしてステップS5にて、液滴6の吐出方向が鉛直下向きか否かを判定する。液滴6の吐出方向が鉛直下向き以外の方向である場合には、基板5のパターン形成面とノズル2との対向距離、液滴6の吐出方向、および吐出特性記憶部13に格納されている特性値に応じて、液滴6の着弾位置を予測し、その予測結果に基づいてヘッド1と基板5との相対位置を補正する(ステップS6)。このステップS6における補正についての詳細は後述する。
そしてステップS7にて、ヘッド1が現在の基本経路上の位置にて形成するパターンがパターンの終端であるか否かを判定する。それがパターンの終端でなければヘッド1を基本経路に沿って所定距離移動させ(ステップS8)、ステップS3に戻って処理を繰り返す。ここで扱う所定距離とは、パターンを形成する際の分解能であり、その値は、基板5の形状や形成パターンデータと共に、パターン記憶部12に格納されている。
そしてステップS9にて、形成すべき全てのパターンに必要なヘッド1の移動経路が決定したか否かを判定し、それらの全てのパターンについての移動経路の決定が終了するまで、ステップS2からの処理を繰り返す。
次に、ステップS6における補正処理を図6に基づいて説明する。
この補正処理は、ヘッド1から吐出された液滴6が重力の影響を受けて、その着弾位置が所望位置31よりも鉛直下方向にずれるずれ量xを算出し、その算出値xに基づいて、ヘッド1の移動経路を補正するための処理である。ずれ量xの算出に必要なパラメータとしては、ステップS4にて取得した吐出方向θと、ステップS3にて測定あるいは調整したノズル2とパターン形成面(基板5のパターン形成面)30との対向距離L、吐出特性記憶部13に格納されている吐出液滴6の質量m[kg]、および液滴6の吐出時の速度V[m/s]を用いる。
この補正処理は、ヘッド1から吐出された液滴6が重力の影響を受けて、その着弾位置が所望位置31よりも鉛直下方向にずれるずれ量xを算出し、その算出値xに基づいて、ヘッド1の移動経路を補正するための処理である。ずれ量xの算出に必要なパラメータとしては、ステップS4にて取得した吐出方向θと、ステップS3にて測定あるいは調整したノズル2とパターン形成面(基板5のパターン形成面)30との対向距離L、吐出特性記憶部13に格納されている吐出液滴6の質量m[kg]、および液滴6の吐出時の速度V[m/s]を用いる。
図6(a)に示すように、ノズル2を水平方向へ向けて、距離Lだけ離れたパターン形成面30に対して液滴6を水平方向へ初速度Vで吐出させた場合、その液滴6の吐出方向の延長線Laとパターン形成面30との交点31から、実際に液滴6が着弾する位置32までのずれ量xは、次式により算出される。
ここで、gは重力加速度、Kは抗力係数である。抗力係数Kは、液滴6の半径をr[m]、空気の粘性係数をη[Pa・s]として次式で表される。
K=6πrη 式2
また、図6(b)に示すように、水平方向に距離Lだけ離れたパターン形成面30に対して、液滴6を鉛直下向に対して傾きθをなす方向へ初速度Vで吐出させた場合、その液滴6の吐出方向の延長線Laとパターン形成面30との交点31から、実際に液滴6が着弾する位置32までのずれ量xは、次式により算出される。
K=6πrη 式2
また、図6(b)に示すように、水平方向に距離Lだけ離れたパターン形成面30に対して、液滴6を鉛直下向に対して傾きθをなす方向へ初速度Vで吐出させた場合、その液滴6の吐出方向の延長線Laとパターン形成面30との交点31から、実際に液滴6が着弾する位置32までのずれ量xは、次式により算出される。
ただし、θ≠0である。
上式1〜3によって求めたずれ量xは、ヘッド1とパターン形成面30との相対位置補正量として用いる。すなわち、ヘッド1の位置が所望の着弾位置31よりも補正量分(x)だけ鉛直上方となるように、ヘッド1の移動経路を補正する。このようにヘッド1の移動経路を補正することにより、その移動経路上のヘッド1から吐出された液滴6は、所望の着弾位置31に着弾することになる。
以上のように、液滴6の吐出方向が鉛直下向き以外の如何なる方向である場合においても、所望の着弾位置に液滴6を着弾させて所望のパターンが形成できるように、ヘッド1の移動経路すなわちロボット4の動作経路を決定して、それを経路生成・記憶部16に格納する。そして、実際に基板5に対してパターンを形成する際には、経路生成・記憶部16に格納されている移動経路にしたがってヘッド1を移動させるようにロボット4を制御しながら、そのヘッド1から液滴6を吐出させる。これにより、基板5に形成すべき全パターンを連続的に形成することができる。
なお、同形状の基板5に対して同じパターンを形成する際には、そのパターンを形成する度に、毎回、図2に示すような移動経路の決定処理を実行する必要はなく、既に経路生成・記憶部16に格納されている移動経路を用いてパターンを形成することができる。ただし、基板5の詳細な形状は、個々により僅かながら差が認められることもあるため、ロット毎など必要に応じて、実際の基板5の形状に合わせてヘッド1の移動経路を修正することが望ましい。
(他の実施形態)
本発明は、付与材として導電性粒子を含む溶液を吐出可能なヘッドを用いて、立体の基板上に導電パターンを形成するための導電パターンの形成装置のみならず、種々の付与材を吐出可能のヘッドを用いた付与材の付与装置に対して、広く適用することができる。例えば本発明は、インクを吐出可能なインクジェットヘッドを用いて、立体の基材に画像を形成するインクジェット記録装置に対しても適用することができる。この場合には、ロボット4と同様の移動手段を用いて、インクジェットヘッドを立体の基材の表面に沿うように移動させることにより、高品位の画像を記録することができる。
本発明は、付与材として導電性粒子を含む溶液を吐出可能なヘッドを用いて、立体の基板上に導電パターンを形成するための導電パターンの形成装置のみならず、種々の付与材を吐出可能のヘッドを用いた付与材の付与装置に対して、広く適用することができる。例えば本発明は、インクを吐出可能なインクジェットヘッドを用いて、立体の基材に画像を形成するインクジェット記録装置に対しても適用することができる。この場合には、ロボット4と同様の移動手段を用いて、インクジェットヘッドを立体の基材の表面に沿うように移動させることにより、高品位の画像を記録することができる。
また、ヘッドと立体物は相対移動する関係にあればよく、上述した実施形態の場合とは逆に、立体物の方を移動させるようにしてもよい。この場合には、立体物の移動経路を算出して、付与材の付与位置を補正することになる。
1 ヘッド
2 ノズル
3 距離センサ
4 ロボット
5 基板
6 液滴
10 データ
11 通信部
12 パターン記憶部
13 吐出特性記憶部
14 CPU
15 ロボット制御部
16 経路生成・記憶部
17 センサ信号入力部
18 駆動信号発生部
x ずれ量
L 距離
2 ノズル
3 距離センサ
4 ロボット
5 基板
6 液滴
10 データ
11 通信部
12 パターン記憶部
13 吐出特性記憶部
14 CPU
15 ロボット制御部
16 経路生成・記憶部
17 センサ信号入力部
18 駆動信号発生部
x ずれ量
L 距離
Claims (13)
- 付与材を吐出可能なヘッドと立体物とを相対移動させつつ、前記ヘッドから前記立体物の表面に前記付与材を付与することにより、前記立体物の表面にパターンを形成するためのパターン形成装置において、
前記立体物の表面に形成すべきパターンに依存する前記付与材の吐出方向に応じて、前記ヘッドから吐出される前記付与材が受ける重力によって生じる前記付与材の付与位置のずれ量を算出する算出手段と、
前記算出手段によって算出したずれ量に応じて、前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正する補正手段と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。 - 前記立体物にパターンを形成する際の前記ヘッドの移動経路を設定する移動経路設定手段を備え、
前記補正手段は、前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正することにより、前記移動経路設定手段によって設定された前記ヘッドの移動経路を補正する
ことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成装置。 - 前記移動経路設定手段は、前記立体物の形状に関する形状データと、前記パターンに関するパターンデータとに基づいて、前記ヘッドの移動経路を設定することを特徴とする請求項2に記載のパターン形成装置。
- 前記移動経路設定手段は、前記形状データと前記パターンデータに基づいて、前記立体物と接触しないように前記ヘッドの移動経路を設定することを特徴とする請求項3に記載のパターン形成装置。
- 前記算出手段は、前記ヘッドと前記立体物の表面との対向距離、前記付与材の質量、または前記ヘッドからの前記付与材の吐出速度の内の少なくともいずれか1つが変化する場合に、前記対向距離、前記付与材の質量、または前記付与材の吐出速度の内の少なくともいずれか1つに応じて、前記付与位置のずれ量を算出することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のパターン形成装置。
- 前記算出手段は、吐出される前記付与材の半径をr[m]、空気の粘性係数をη[Pa・s]として、前記抗力係数Kを下式により設定することを特徴とする請求項5または6に記載のパターン形成装置。
K=6πrη - 前記ヘッドは、前記付与材としてインクの液滴を吐出して、前記立体物の表面に画像を記録可能なインクジェット記録ヘッドであり、
前記パターン形成装置はインクジェット記録装置を構成する
ことを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成装置。 - 前記ヘッドは、導電性粒子を含む溶液を吐出して、前記立体物の表面に導電性パターンを形成可能なヘッドであり、
前記パターン形成装置は、回路パターンの形成装置を構成する
ことを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成装置。 - 前記ヘッドは、前記付与材の吐出方向を変えながら前記立体物の表面に前記パターンを形成していくものであり、
前記算出手段は、異なる吐出方向で付与材が付与される前記パターンの複数の箇所について前記ずれ量を算出し、
前記補正手段は、前記複数の位置それぞれについて算出されたずれ量に基づいて、前記複数の箇所それぞれについて前記相対位置を補正することを特徴とする請求項1に記載のパターン形成装置。 - 付与材を吐出可能なヘッドと立体物とを相対移動させつつ、前記ヘッドから前記立体物の表面に前記付与材を付与することにより、前記立体物の表面にパターンを形成するためのパターン形成方法において、
前記ヘッドによる前記付与材の吐出方向に応じて、前記ヘッドから吐出される前記付与材が受ける重力によって生じる前記付与材の付与位置のずれ量を算出し、
前記算出したずれ量に応じて、前記ヘッドが前記付与材を吐出するときの前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正し、
前記補正した相対位置において前記立体物に対して前記ヘッドから付与材を吐出して前記パターンを形成する
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 付与材を吐出可能なヘッドと立体物とを相対移動させつつ、前記ヘッドから前記立体物の表面に前記付与材を付与することにより、前記立体物の表面にパターンを形成するためのパターン形成方法において、
前記立体物の形状に関する形状データと前記パターンに関するパターンデータとに基づいて、前記パターン形成のための前記ヘッドの移動経路を設定する設定工程と、
前記ヘッドと前記立体物の相対位置を補正することにより、前記設定工程において設定された移動経路を補正する補正工程と、
前記補正工程において補正された移動経路に沿って前記ヘッドを移動させて前記ヘッドによるパターン形成を行う形成工程とを有し、
前記補正工程では、前記ヘッドからの付与材の吐出方向、前記ヘッドと前記立体物の表面との対向距離、前記付与材の質量、前記ヘッドからの付与材の吐出速度に基づいて、前記相対位置を補正することを特徴とするパターン形成方法。
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- 2004-12-13 JP JP2004360519A patent/JP2006173212A/ja active Pending
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