JP2006162900A - 粒子移動型表示素子の製造方法及び粒子移動型表示素子 - Google Patents

Abstract

【課題】 帯電粒子及び媒体が充填された空間を密封する際、光照射によって媒体が変性するのを防ぐことのできる粒子移動型表示素子の製造方法及び気泳動表示素子を提供する。
【解決手段】 密封工程において、対向する隔壁３及び媒体４に光重合性材料８を接触させて帯電粒子及び媒体４が充填された空間を覆った後、光重合性材料８へ光１０を照射し、光重合性材料８を硬化処理することにより封止部を形成し、この封止部により空間を密封する。そして、この密封工程では、光１０を臨界角以上の入射角で光重合性材料８に入射させ、光重合性材料８及び光重合性材料８と接触している媒体４の界面で光を全反射させる。
【選択図】 図３

Description

本発明は、粒子を移動させることにより表示を行う粒子移動型表示素子の製造方法及び粒子移動型表示素子に関する。

近年、バックライトを用いない反射型の表示装置についての研究が盛んに行われており、その中で、特に注目度が高いのが電圧印加によって粒子を移動させることに基づき表示を行うようにした粒子移動型表示装置である。

そして、このような粒子移動型表示装置の一例として、電気泳動表示装置があり、この電気泳動表示装置は、図７に示すように所定間隙を開けた状態に配置された一対の基板１０１，１０２と、これらの基板１０１，１０２の間隙に配置された媒体である絶縁性液体１０４中に分散された帯電粒子１０５と、間隙に近接するように配置された一対の電極１０６，１０７と、を有する複数の画素を備えた電気泳動表示素子を具備している。

なお、この電気泳動表示素子は液晶表示素子に比べて表示コントラストが高い、液晶表示素子に比べて表示コントラストが高い、視野角が広い、表示にメモリー性がある、バックライトや偏光板が不要である等、種々の特徴を有している。

ここで、このような構成の電気泳動表示素子において、表示は、電極１０６及び電極１０７間に電圧を印加し、帯電粒子１０５を両電極間で移動させることにより行う。なお、図７において、符号ａで示す画素は、電極１０７の側に帯電粒子１０５が集積した状態となっており、この状態のとき、入射光は反射層を兼ねた電極１０６により反射され、明表示となる。また、符号ｂで示す画素は、電極１０６側に帯電粒子１０５が移動した状態となっており、この状態のとき入射光は帯電粒子１０５に吸収され、暗表示となる。

したがって、このような電気泳動表示素子を用いて白黒表示を行うには、帯電粒子を黒色とし、この帯電粒子をシャッター駆動させれば良く、またカラー表示を行うには、帯電粒子を着色するか、他の部材を適宜着色しておけばよい。例えば、図７に示す電気泳動表示素子では、帯電粒子１０５として黒色の帯電粒子を用い、基板１０２上にカラーフィルター層を形成することによりカラー表示が可能となる。

ところで、このような従来の電気泳動表示素子において、既述したように帯電粒子１０５は、基板１０１，１０２の間隙中に分散しているため、拡散等により基板面内方向に変位しやすい。そして、このように帯電粒子１０５が変位した場合、表示画像の劣化を誘起することから、帯電粒子１０５の可動領域を制限する必要がある。

そこで、このような帯電粒子１０５の可動領域を制限する方法として、例えば図７に示すように、基板間の間隙に隔壁１０３を配置し、この隔壁１０３により基板間に複数個の微細な空洞を形成すると共にこの空洞内に帯電粒子１０５を封止する方法がある。そして、この封止が完全ならば、帯電粒子１０５の変位領域は、帯電粒子１０５を閉じ込めている空洞内に限定することができる。

ここで、このような従来の帯電粒子１０５の封止方法としては、隔壁形成後、分散系（帯電粒子１０５及び絶縁性液体４）と封止材との混合物をインクジェット方式により各分割画素に充填する方法がある（例えば、特許文献１参照。）。

この場合、封止材が分散系よりも比重が小さく、且つ分散系と混ざらないならば、封止材と分散系は分離し、最終的に封止材が分散系の上側に位置する状態が形成される。そして、このような状態が形成された後、封止材をＵＶ照射や加熱等によって硬化させることにより、分散系が閉じ込められた状態を形成することができる。なお、この後、硬化させた封止材と隔壁形成基板に対する対向基板とを張り合わせることにより、電気泳動表示素子が製造される。

特開２００１−３４３６７２号公報

ところが、このような従来の電気泳動表示素子の製造方法において、封止材の硬化処理を行う際、間隙に充填された絶縁性液体が変性することがあった。例えば、紫外線照射による硬化処理を行うとき、絶縁性液体にも紫外線が照射された場合、この紫外線により絶縁性液体が変性することがあった。そして、このように絶縁性液体が変性すると、帯電粒子が凝集したり、隔壁や基板等に吸着したりすることがあり、この結果、表示品位が低下する。

そこで、本発明は、このような現状に鑑みてなされたものであり、帯電粒子及び絶縁性液体（媒体）が充填された空間を密封する際、光照射によって絶縁性液体（媒体）が変性するのを防ぐことのできる電気泳動表示素子（粒子移動型表示素子）の製造方法及び電気泳動表示素子（粒子移動型表示素子）を提供することを目的とするものである。

本発明は、隔壁により仕切られた密封空間に充填された帯電粒子及び前記帯電粒子を分散させる媒体と、前記密封空間に近接するように配置された複数の電極とによって形成された複数の画素を備えた粒子移動型表示素子の製造方法において、基板に複数の前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、対向する前記隔壁と前記基板との間に形成される空間に前記帯電粒子及び媒体を充填する充填工程と、前記対向する隔壁及び前記媒体に光重合性材料を接触させて前記帯電粒子及び媒体が充填された前記空間を覆った後、前記光重合性材料へ光を照射し、該光重合性材料を硬化処理することにより形成した封止部により前記空間を密封する密封工程と、を備え、前記密封工程では、前記光を臨界角以上の入射角で前記光重合性材料に入射させ、前記光重合性材料及び該光重合性材料と接触している前記媒体の界面で前記光を全反射させることを特徴とするものである。

本発明によれば、光重合性材料へ光を照射し、光重合性材料を硬化処理することにより形成した封止部によって帯電粒子及び媒体が充填された空間を密封する密封工程の際、光を臨界角以上の入射角で光重合性材料に入射させ、光重合性材料及び光重合性材料と接触している媒体の界面で光を全反射させることにより、媒体が光照射によって変性するのを防ぐことができる。

以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。

図１は、本発明の実施の形態に係る粒子移動型表示素子の製造方法により製造された粒子移動型表示素子の一例である電気泳動表示素子の構成を示す図である。

図１に示すように、この電気泳動表示素子は、観測者側の第１基板１と、この第１基板１と所定間隙を設けた状態に配置された第２基板２と、これら第１基板１及び第２基板１，２の間隙に配置された隔壁３と、隔壁３の上端部側に設けられた封止部８Ａと、第１基板１及び第２基板１，２と隔壁３の間隙に配置された媒体である絶縁性液体４及び絶縁性液体内に分散された複数の帯電粒子５と、第２基板２上に配置され、反射層の機能を兼ねた第１電極６と、隔壁３の一部として形成されている第２電極７とによって形成された複数の画素２０（２０ａ，２０ｂ）を備えている。

そして、このような構成の電気泳動表示素子において、表示は、封止部８Ａにより密封された密封空間に近接するように配置された第１電極６及び第２電極７間に電圧を印加し、帯電粒子５を両電極間で移動させることにより行う。なお、図１において、左側の画素２０ａは、第２電極７の側に帯電粒子５が集積した状態となっており、この状態のとき、入射光は反射層を兼ねた第１電極６により反射され、明表示となる。また、右側の画素２０ｂは、第１電極６側に帯電粒子５が移動した状態となっており、この状態のとき入射光は帯電粒子５に吸収され、暗表示となる。

次に、このような構成の電気泳動表示素子の製造方法について説明する。

まず、図２の（ａ）に示すように、封止部８Ａを形成するための封止材である光重合性材料８を第１基板１上に配する（塗布する）。なお、本実施の形態においては、光重合性材料８として、例えば紫外線硬化樹脂を用いる。ここで、この光重合性材料８は、紫外線に対する屈折率が絶縁性液体４より大きく、また第１基板１表面に対して親和性を有することが好ましい。なお、第１基板１表面に所望の親和性がない場合には、親和性を付与する処理、例えば酸素プラズマ等によるアッシング処理（表面処理）を施すようにする。

次に、図２の（ｂ）に示すように第１電極６が形成された第２基板２上に沿うように配置された第２電極７上に隔壁３を形成し、このような隔壁形成工程の後、対向する隔壁３，３と第２基板２との間に形成される空間Ｓに、例えばインクジェット方式により、図２の（ｃ）に示すように絶縁性液体４と、絶縁性液体４に分散された帯電粒子５を充填させる。

さらに、このような充填工程の後、隔壁３の上方に第１基板１を配し、この第１基板１に対し上方から圧力を加えることにより第１基板１を、光重合性材料８が隔壁３及び絶縁性液体４と接触するように配置する。ここで、この場合、光重合性材料８と絶縁性液体４は混ざらないことが望ましい。また、この場合、光重合性材料８は隔壁３に対して親和性が有することが望ましい。なお、この場合、光重合性材料８は隔壁３の少なくとも端部の一部と接触すれば良いが、隔壁端部全体と接着していることが好ましく、さらに図２の（ｄ）に示すように光重合性材料８が隔壁端部全体と隔壁側面にも接着しているほうがより好ましい。

次に、図３に示すように、第１基板１の光重合性材料８が配された面と反対側の面に、光が透過する上面が傾斜したくさび状の光透過性材料９を取り外し可能に接触させる。なお、このとき、第１基板１と光透過性材料９の間に不図示の屈折率マッチング液を充填させても良く、この場合、屈折率マッチング液の屈折率、第１基板１の屈折率及び光透過性材料９の屈折率は、屈折率マッチング液と第１基板１の界面、並びに屈折率マッチング液と光透過性材料９の界面で全反射が生じないような値であればよい。

この後、図３に示すように、光透過性材料９に向けて紫外線１０を照射し、紫外線１０による光重合性材料８の硬化処理を行う。なお、１１は紫外線１０の反射光である。ここで、光透過性材料９に向けて照射する紫外線１０の光重合性材料８に対する入射角について説明する。

今、図４に示すように材料１の屈折率をｎ_１、材料１に接する材料２の屈折率をｎ_２とし、屈折率がｎ_１＞ｎ_２の関係を満たすとき、光が全反射する臨界角（θｒ）は、
θｒ＝ｓｉｎ^−１（ｎ_２／ｎ_１）
となる。

したがって、材料１と材料２の界面の法線からの入射角θ（以下、入射角度は界面平面の法線からの角度とする）が臨界角（θｒ）以上の角度であれば、入射光は界面で全反射する。逆に、入射角θが臨界角（θｒ）以下の角度であれば、入射光の一部が透過光となり、材料２内部に光が進行する。

ここで、図４の材料１を光重合性材料８、材料２を絶縁性液体４とすれば、光重合性材料８を紫外線照射によって硬化させ、封止部８Ａ（図１参照）を形成し、封止部８Ａにより空間Ｓ（図２の（ｂ）参照）を密封する密封工程において、図３に示す光透過性材料９を経て入射する光である紫外線１０の入射角が臨界角（θｒ）以上の角度であれば、入射光である紫外線１０は光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射する。

つまり、光透過性材料９を透過させて紫外線１０を臨界角（θｒ）以上の角度で入射させた場合、紫外線１０が光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射し、反射光１１となるので、紫外線１０が絶縁性液体内に進行することなく、光重合性材料８を硬化させることができる。この結果、絶縁性液体中に照射光で変性する物質が含まれていたとしても、絶縁性液体４が変性することなく、表示品位の低下を防ぐことができる。

一方、紫外線１０の入射角が臨界角（θｒ）以下の角度であれば、紫外線１０の一部が絶縁性液体内に進行する。例えば図５に示すように、光透過性材料９が設けられず、紫外線１０の第１基板１（光重合性材料８）に対する入射角が０度の場合、紫外線１０は光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射することなく、大部分の光は帯電粒子を含んだ絶縁性液体中に透過光１２として進行する。そして、このように絶縁性液体中に透過光１２が進行した場合、絶縁性液体中に紫外線１０で変性する物質が含まれていると、絶縁性液体４が変性し、この結果、帯電粒子が凝集するなどして表示品位が低下する。

したがって、絶縁性液体４が光照射によって変性する物質を含んでいる場合においても、紫外線１０を光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射させることにより、表示品位の低下を防ぐことができる。なお、紫外線１０の光透過性材料９に対する入射角は、光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射する値であれば、特に限定しない。

そして、このような密封工程が終了した後、光透過性材料９を取り除くことで、電気泳動表示素子の製造が完成する。

このように、光重合性材料８へ紫外線１０を照射し、光重合性材料８を硬化処理することにより封止部８Ａを形成し、この封止部８Ａによって帯電粒子５及び絶縁性液体４が充填された空間を密封する密封工程の際、紫外線１０を臨界角以上の入射角で光重合性材料８に入射させ、光重合性材料８と絶縁性液体４との界面で光を全反射させることにより、絶縁性液体４が光照射によって変性するのを防ぐことができる。この結果、良好な表示品位を得ることができる。

なお、本実施の形態における電気泳動表示素子の構成部材の材料等は以下の通りである。

第１基板１や第２基板２には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリカーボネート（ＰＣ）やポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）等のプラスチックフィルムの他、ガラスや石英等を使用することができる。また、電気泳動表示素子を反射型とした場合、観察者側に配置される方の第１基板１や封止部８Ａには光を透過する材料を使用する必要があるが、他方の第２基板２には、ポリイミド（ＰＩ）などの着色されているものを用いてもよい。

絶縁性液体４には、イソパラフィン、シリコーンオイル及びキシレン、トルエン等の非極性溶媒であって透明なものを使用すると良い。帯電粒子５としては、着色されていて絶縁性液体中で正極性または負極性の良好な帯電特性を示す材料を用いると良く、例えば、各種の無機顔料や有機顔料やカーボンブラック、或いは、それらを含有させた樹脂を使用すると良い。また、帯電粒子５の粒径は通常０．０１μｍ〜５０μｍ程度のものを使用できるが、好ましくは、０．１から１０μｍ程度のものを用いると良い。

なお、これら絶縁性液体４や帯電粒子５中には、帯電粒子５の帯電を制御し、安定化させるための荷電制御剤を添加しておくと良い。かかる荷電制御剤としては、モノアゾ染料の金属錯塩やサリチル酸や有機四級アンモニウム塩やニグロシン系化合物などを用いると良い。

また、絶縁性液体中には、帯電粒子同士の凝集を防ぎ、分散状態を維持するための分散剤を添加しておいても良い。かかる分散剤としては、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム等のリン酸多価金属塩、炭酸カルシウム等の炭酸塩、その他無機塩、無機酸化物、あるいは有機高分子材料などを用いることができる。

第２電極７は、パターニング可能な導電性材料にて形成すると良く、例えば、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）等の金属あるいは、カーボンや銀ペースト、あるいは有機導電膜にて形成すると良い。また、第１電極６は鏡面反射層、あるいは散乱性を有した反射層の機能も兼用させても良い。この場合、第１電極６は、銀やＡｌ等の光反射性の高い材料にて形成すると良い。さらに、第１電極６及び第２電極７の表面には絶縁層を形成し、電極同士の絶縁や、電極から帯電粒子への電荷注入を防止すると良い。

隔壁３には、基板と同一の材料を用いても良く、アクリルなどの感光性樹脂を用いても良い。また、隔壁形成にはどのような方法を用いても良く、例えば感光性樹脂層を塗布した後、露光及びウエット現像を行う方法、又は別に作成した障壁を接着する方法、印刷法によって形成する方法等を用いることができる。なお、隔壁３と第２基板２とを一体成型により形成しても良い。

光重合性材料８は、硬化工程における照射光（紫外線）が絶縁性液体４との界面で全反射することが可能で、絶縁性液体４に混ざらないものであれば特に限定しない。なお、入射光を全反射することが可能な光重合性材料８としては、屈折率が絶縁性液体４の屈折率より大きければ良く、例えば絶縁性液体として屈折率１．４のイソパラフィン（エクソン社製、商品名：アイソパー）を用いた場合、屈折率１．５の光重合性材料（大日本インキ化学工業社製、商品名：ＬＵＭＩＣＵＲＥ ＭＩＡ２００）を利用することができる。

また、絶縁性液体４と混ざらない光重合性材料８としては、−Ｏ−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−ＯＨのうち少なくとも一つを構成要素に含んでいる化合物であることが望ましい。また、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−が繰り返し結合しているポリエチレングリコールユニットを含む化合物でも構わない。

特に、光重合法が紫外線重合である場合、光重合性材料８として紫外線重合構造を含むアクリレート化合物あるいはメタクリレート化合物を利用することができる。例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレートを利用することができる。

また、光重合性材料８は重合性モノマーや重合性オリゴマーであっても構わない。これらモノマーやオリゴマーが単官能性であっても、多官能性であっても構わない。更に、モノマーとオリゴマーとの混合物あるいは単官能性化合物と多官能性化合物の混合物であっても構わない。

光透過性材料９は、光が透過するものであれば特に限定しないが、入射光が光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射するように設計されていればよい。なお、好ましくは、屈折率が絶縁性液体４よりも大きいものを用いる。

ところで、例えば第１基板１上に塗布した光重合性材料８の膜厚が十分に薄い場合、第１基板１としては、屈折率が絶縁性液体４より大きいものを用いたほうが望ましい。これは、既述した密封工程（光照射工程）において、第１基板１と光重合性材料８の界面で紫外線が全反射する条件であっても、第１基板１側から光重合性材料８へしみ出した紫外線（エバネッセント波）によって、光重合性材料８を硬化することが可能であるからである。なお、この場合、光重合性材料８の屈折率を絶縁性液体４と同値に置き換えて、入射光が第１基板１と光重合性材料８の界面で全反射するように光照射を行えばよい。

一方、これまでの説明では、まず第１基板１上に光重合性材料８を塗布し、次に光重合性材料料８と絶縁性液体４を接触させたが、第１基板１と絶縁性液体４の間に、光重合性材料８を配置できれば、この方法に限定されるものではない。例えば、絶縁性液体４の液界面に、光重合性材料８を塗布した後、光重合性材料８の硬化処理を行っても良く、また硬化処理後に光重合性材料８に所望の強度がある場合には、第１基板１が無い構成でも構わない。

また、これまでの説明では、第１基板１を支持基板として光重合性材料８を塗布して封止を行っているが、硬化処理に光重合性材料８に所望の強度がある場合には、第１基板１を取り除いても構わない。

さらに、図１では、第２電極７は隔壁３と第２基板２との間に配置されているが、第２電極７は隔壁３の内部、あるいは隔壁３表面を被うように形成しても、隔壁３と第１基板１との間に配置しても良い。また図１に示す隔壁３は、画素を１つずつ仕切るように配置されているが、例えば１つの画素をさらに複数に仕切るように配置されていても良い。また、隔壁３は、複数の画素を仕切るように配置されていても（つまり、隣接する隔壁の間に複数の画素が含まれていても）良い。

また、各画素に含まれる電極数は第１電極と第２電極が一対以上あれば特に限定はされず、第１電極６と第２電極７の配置位置や、形状についても特に限定されるものではない。

さらに、図３に示す光照射方法では、くさび状の光透過性材料９を第１基板１上に配置しているが、これに限られるものではなく、光透過性材料９は、入射光が光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射するように設計されていれば良く、例えば、図６に示すように、入射光（紫外線）１０が光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で全反射するように設計された複数の三角柱状の光透過性材料９を第１基板１上に並設するようにしても良い。

以下、実施例に沿って本発明を更に詳細に説明する。

本実施例では、図１に示す電気泳動表示素子において、一つの画素の大きさを１００μｍ×１００μｍとし、第２基板２には厚さ１．１ｍｍのガラス基板を用い、画素の境界部分に配置される隔壁３は、幅を５μｍ、高さを１８μｍとする。また、反射層を兼ねる第１電極６は各画素の中央部分に配置し、幅９０μｍ、厚さ０．１μｍとする。さらに、第２電極７は画素境界部分（隔壁３と第２基板２との間）に配置し、幅５μｍ、厚さ０．１μｍとする。

さらに、この電気泳動表示素子の各画素には不図示の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成されており、これに不図示の電圧印加回路を接続して表示装置とする。

次に、このような本実施例に係る電気泳動表示素子の製造方法について説明する。

まず、厚さ１．１ｍｍのガラス基板を第２基板２とし、第２基板上にアルミニウムを成膜し、フォトリソグラフィー及びウェットエッチングによりアルミニウムをパターニングして第１電極６を形成する。次に、第１電極６上に酸化チタンを含有するアクリル樹脂層を形成する。なお、本実施例では、第１電極６は光反射層を兼ねている。

次に、第２電極７用にチタンを成膜し、フォトリソグラフィー及びドライエッチングにより各画素の境界部分にチタンをパターニングする。形成した第２電極７上に暗黒色の樹脂膜をフォトリソグラフィーにてパターニングする。次に、暗黒色樹脂膜上に隔壁３を形成する。隔壁３は感光性エポキシ樹脂を塗布した後、露光及びウェット現像を行うことにより形成する。

次に、このように形成された隔壁３間に絶縁性液体４及び帯電粒子５を充填する（充填工程）。ここで、絶縁性液体４にはイソパラフィン（商品名：アイソパー、エクソン社製）を用い、帯電粒子５には粒径１〜２μｍ程度のカーボンブラックを含有したポリスチレン−ポリメチルメタクリレート共重合樹脂を使用する。なお、イソパラフィンには、荷電制御剤としてコハク酸イミド（商品名：ＯＬＯＡ１２００、シェブロン社製）を含有させる。

次に、光重合性材料８として、ポリエチレングリコールメタクリレートを主成分とする、屈折率が１．５の混合物を第１基板１に塗布する。ここで、第１基板１として厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートを用いる。この後、光重合性材料８を第２基板２方向に向け、光重合性材料８と絶縁性液体４とを接触するように配置する。

次に、第１基板１に観察方向から０．３ＭＰａの圧力を印加し、隔壁３と光重合性材料８とを接触させ、この後、第１基板１上にくさび状の光透過性材料９を配置する。なお、この際、予め、光透過性材料９の表面上に屈折率が１．５の屈折率マッチング液を塗布し、屈折率マッチング液を第１基板１と接触するように配置することで、第１基板１と光透過性材料９を屈折率マッチング液で密着させる。なお、光透過性材料９として、屈折率が１．５のアクリルレート化合物材料を使用する。

次に、室温下で強度０．３ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を２分間照射し、光重合性材料８の硬化処理を行うことにより、封止部を形成し、空間を密封する密封する（密封工程）。この際、光透過性材料９に対して真上から紫外線を照射することで、光重合性材料８と絶縁性液体４の界面で紫外線を全反射させる。なお、この後、光透過性材料を取り除くことで、電気泳動表示素子の製造が完成し、この電気泳動表示素子に不図示の電圧印加回路を接続して表示装置とする。

そして、この表示装置の電圧印加回路に電圧を印加し、電気泳動表示素子を駆動すると、電気泳動表示素子は良好に駆動し、移動することのできない帯電粒子は存在せず、良好なコントラストが得られる。また、帯電粒子が隔壁を越えて画素間を移動することがなく、完全に封止することができる。

本発明の実施の形態に係る粒子移動型表示素子の製造方法により製造された粒子移動型表示素子の一例である電気泳動表示素子の構成を示す図。 上記電気泳動表示素子の製造方法を説明する図。 上記電気泳動表示素子の製造方法における封止材の硬化方法の一例を説明する図。 全反射の理論を説明するための概念図。 上記電気泳動表示素子の製造方法において、光が絶縁性液体中に進行する様子を説明する図。 上記電気泳動表示素子の製造方法における封止材の硬化方法の他の例を説明する図。 従来の電気泳動表示素子の構成を示す図。

符号の説明

１ 第１基板
２ 第２基板
３ 隔壁
４ 絶縁性液体
５ 帯電粒子
６ 第１電極
７ 第２電極
８ 光重合性材料
８Ａ 封止部
９ 光透過性材料
１０ 紫外線
１１ 反射光
１２ 透過光
２０ 画素
Ｓ 空間

Claims (8)

1. 隔壁により仕切られた密封空間に充填された帯電粒子及び前記帯電粒子を分散させる媒体と、前記密封空間に近接するように配置された複数の電極とによって形成された複数の画素を備えた粒子移動型表示素子の製造方法において、
   基板に複数の前記隔壁を形成する隔壁形成工程と、
   対向する前記隔壁と前記基板との間に形成される空間に前記帯電粒子及び媒体を充填する充填工程と、
   前記対向する隔壁及び前記媒体に光重合性材料を接触させて前記帯電粒子及び媒体が充填された前記空間を覆った後、前記光重合性材料へ光を照射し、該光重合性材料を硬化処理することにより形成した封止部により前記空間を密封する密封工程と、
   を備え、
   前記密封工程では、前記光を臨界角以上の入射角で前記光重合性材料に入射させ、前記光重合性材料及び該光重合性材料と接触している前記媒体の界面で前記光を全反射させることを特徴とする粒子移動型表示素子の製造方法。
2. 前記光重合性材料の屈折率は、前記媒体の屈折率よりも大きいことを特徴とする請求項１記載の粒子移動型表示素子の製造方法。
3. 前記光重合性材料は基板部材に配され、前記密封工程では、前記基板部材を隔壁側に押し付けることにより、該光重合性材料を前記対向する隔壁及び前記媒体に接触させることを特徴とする請求項１又は２記載の粒子移動型表示素子の製造方法。
4. 前記基板部材の前記光重合性材料が配された面と反対側の面に前記光が透過する光透過性材料を取り外し可能に設け、前記光透過性材料を、前記光を臨界角以上の入射角で前記光重合性材料に入射させるように構成したことを特徴とする請求項３記載の粒子移動型表示素子の製造方法。
5. 前記基板部材の屈折率は、前記媒体の屈折率よりも大きいことを特徴とする請求項３又は４記載の粒子移動型表示素子の製造方法。
6. 前記媒体は絶縁性液体であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の粒子移動型表示素子の製造方法。
7. 請求項１乃至６のいずれか１項に記載の粒子移動型表示素子の製造方法を用いて製造されることを特徴とする粒子移動型表示素子。
8. 前記基板部材を前記複数の隔壁が形成された基板と所定間隔を設けられる対向基板としたことを特徴とする請求項７記載の粒子移動型表示素子。
   

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