JP2006159077A - Film forming apparatus, film forming method, droplet discharge apparatus and pallet - Google Patents
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この発明は、均一な膜厚の膜を形成する膜形成装置、膜形成方法、液滴吐出装置及び均一な膜厚の膜の形成に用いるパレットに関するものである。 The present invention relates to a film forming apparatus for forming a film having a uniform film thickness, a film forming method, a droplet discharge apparatus, and a pallet used for forming a film having a uniform film thickness.
従来、基板上に薄膜、例えば、配向膜を形成する手法として、フレキソ印刷法やスピンコート法等の方法が用いられている。例えば、基板上に配向膜材料を印刷法(フレキソ印刷法)により塗布し、基板上に塗布された配向膜材料を一定時間放置して平滑化した後、焼成等を行い配向膜を形成する方法が存在する(例えば、特許文献1参照)。 Conventionally, methods such as a flexographic printing method and a spin coating method have been used as a method for forming a thin film, for example, an alignment film, on a substrate. For example, a method of forming an alignment film by applying an alignment film material on a substrate by a printing method (flexographic printing method), allowing the alignment film material applied on the substrate to stand for a certain period of time and then smoothing, followed by baking or the like. (See, for example, Patent Document 1).
ここで、基板上に塗布された配向膜材料は、外側から乾燥が生じるため、平滑化を行うことによって基板表面の外側と内側とで乾燥ムラが生じるという問題があった。従って、上述の特許文献1記載の方法においては、溶媒雰囲気が充満した処理室内に配向膜材料が塗布された基板を所定時間放置することにより、配向膜材料の乾燥を防止して平滑化を行っている。 Here, since the alignment film material applied on the substrate is dried from the outside, there is a problem in that drying unevenness occurs on the outside and inside of the substrate surface by performing smoothing. Therefore, in the method described in Patent Document 1 described above, the substrate coated with the alignment film material is allowed to stand for a predetermined time in the processing chamber filled with the solvent atmosphere, thereby preventing the alignment film material from drying and smoothing. ing.
ところで、高い精度で均一性を保持した配向膜等を形成する方法として、インクジェット技術を応用した液滴吐出装置が用いられている。このインクジェット技術を応用した液滴吐出装置を用いて薄膜、例えば、配向膜が形成される場合、基板上に均一に液滴が塗布されるため、フレキソ印刷法を用いた場合のように平滑化を行う工程を設ける必要がない。 By the way, as a method for forming an alignment film or the like having high uniformity with high accuracy, a droplet discharge device using an inkjet technique is used. When a thin film, for example, an alignment film, is formed using a droplet discharge device that applies this inkjet technology, the droplets are evenly applied on the substrate, so smoothing is achieved using the flexographic printing method. There is no need to provide a process for performing the above.
一方、一般的に、配向膜材料を含むインクには、揮発性の高い溶媒が用いられているため、塗布された直後から乾燥が始まる。また、生産性を向上させるべく、複数の基板をパレットに載置し、パレット単位で配向膜材料を塗布する処理が行われている。このような場合、即ち、複数の基板に配向膜材料を含むインクを塗布している場合、例えば、複数の基板の中ですでにインクが塗布された基板において、他の基板にインクを塗布している間に塗布されたインクが乾燥してしまい、乾燥ムラが発生し結果として均一な膜厚を有する膜を形成することができないという問題があった。 On the other hand, in general, a highly volatile solvent is used for the ink containing the alignment film material, so that drying starts immediately after being applied. In order to improve productivity, a process of placing a plurality of substrates on a pallet and applying an alignment film material in units of pallets is performed. In such a case, that is, when an ink including an alignment film material is applied to a plurality of substrates, for example, in a substrate that has already been applied with ink among a plurality of substrates, the ink is applied to another substrate. During this time, the applied ink dries and drying unevenness occurs, resulting in a problem that a film having a uniform film thickness cannot be formed.
この発明の課題は、パレットに載置された複数の基板の各々に膜形成材料を塗布している期間における膜形成材料の乾燥を防止する膜形成装置、膜形成方法、液滴吐出装置及びパレットを提供することである。 An object of the present invention is to provide a film forming apparatus, a film forming method, a droplet discharge apparatus, and a pallet for preventing drying of the film forming material during a period in which the film forming material is applied to each of a plurality of substrates placed on the pallet. Is to provide.
この発明に係る膜形成装置は、パレットに載置された基板に対して所定の膜を形成する膜形成材料を吐出する液滴吐出ヘッドを有する液滴吐出装置と、前記液滴吐出装置により前記基板上に塗布された前記膜形成材料を乾燥させる乾燥装置と、前記液滴吐出装置及び前記乾燥装置との間を接続し、前記パレットを搬送する搬送装置とを備える膜形成装置であって、前記液滴吐出装置は、前記パレットに載置された前記基板に対して前記膜形成材料を塗布する際に、前記液滴吐出ヘッドから前記膜形成材料の液滴を吐出することにより前記パレットに形成されたフラッシングエリアに対してフラッシングを行うことを特徴とする。 The film forming apparatus according to the present invention includes a droplet discharge apparatus having a droplet discharge head that discharges a film forming material that forms a predetermined film on a substrate placed on a pallet, and the droplet discharge apparatus A film forming apparatus comprising: a drying device that dries the film forming material applied on a substrate; and a transport device that connects the droplet discharge device and the drying device and transports the pallet. The droplet discharge device discharges droplets of the film forming material from the droplet discharge head onto the pallet when applying the film forming material to the substrate placed on the pallet. Flushing is performed on the formed flushing area.
この膜形成装置によれば、液滴吐出装置において、パレットに載置された基板に対して膜形成材料を塗布する際に、パレットに形成されているフラッシングエリアに対して膜形成材料の液滴を吐出しフラッシングを行っている。従って、パレットに形成されているフラッシングエリアに吐出された膜形成材料が蒸発することにより、載置されている基板の上部に膜形成材料の溶媒雰囲気が形成される。そのため、例えば、搬送中に基板が自然乾燥することを防止し、基板上に塗布された膜形成材料を確実に均一に乾燥させることができる。 According to this film forming apparatus, when the film forming material is applied to the substrate placed on the pallet in the droplet discharge apparatus, the film forming material droplets are applied to the flushing area formed on the pallet. Flushing is performed by discharging. Accordingly, the film forming material discharged to the flushing area formed on the pallet evaporates, so that a solvent atmosphere of the film forming material is formed on the top of the placed substrate. Therefore, for example, the substrate can be prevented from naturally drying during conveyance, and the film forming material applied on the substrate can be reliably dried uniformly.
また、この発明に係る膜形成装置は、前記パレットに複数の前記基板が載置されており、前記液滴吐出装置は、前記パレットにおいて、複数の前記基板に前記膜形成材料を塗布する前または後に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行うことを特徴とする。 Further, in the film forming apparatus according to the present invention, a plurality of the substrates are placed on the pallet, and the droplet discharge device is configured to apply the film forming material to the plurality of substrates in the pallet or before Thereafter, flushing is performed by discharging droplets of the film forming material to the flushing area.
この膜形成装置によれば、パレット上に載置されている複数の基板に膜形成材料を塗布する前または塗布された後に、フラッシングを行っている。従って、パレット上に載置されている複数の基板の中で、既に膜形成材料が塗布された基板上の膜形成材料が、他の基板に膜形成材料が塗布されている間に自然乾燥することを適切に防止することができる。 According to this film forming apparatus, flushing is performed before or after the film forming material is applied to the plurality of substrates placed on the pallet. Accordingly, among the plurality of substrates placed on the pallet, the film forming material on the substrate already coated with the film forming material is naturally dried while the film forming material is applied to the other substrate. This can be prevented appropriately.
また、この発明に係る膜形成装置は、前記液滴吐出装置が、更に、改行又は改列した後に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行うことを特徴とする。 Further, the film forming apparatus according to the present invention performs flushing by ejecting droplets of the film forming material to the flushing area after the droplet ejecting apparatus further performs a line feed or line break. Features.
この膜形成装置によれば、更に、改行又は改列した後にもフラッシングを行っている。従って、基板上に塗布された膜形成材料が自然乾燥することをより一層確実に防止すると共に、液滴吐出装置のノズル詰り等を確実に防止することができる。 According to this film forming apparatus, flushing is further performed after line feed or line break. Therefore, it is possible to more reliably prevent the film forming material applied on the substrate from being naturally dried, and to reliably prevent nozzle clogging of the droplet discharge device.
また、この発明に係る膜形成装置は、前記搬送装置が、前記フラッシングエリアに吐出された前記膜形成材料により形成される雰囲気を保持する空間を有する搬送路を備え、該搬送路を介して前記液滴吐出装置から前記乾燥装置に前記パレットを搬送することを特徴とする。 Further, the film forming apparatus according to the present invention includes a transport path in which the transport apparatus has a space for holding an atmosphere formed by the film forming material discharged to the flushing area, and the transport path includes the transport path. The pallet is transported from a droplet discharge device to the drying device.
この膜形成装置によれば、パレットに形成されたフラッシングエリアに吐出された膜形成材料により形成される雰囲気を保持する空間を有する搬送路を介して、複数の基板を載置したパレットを液滴吐出装置から乾燥装置まで搬送している。従って、液滴吐出装置から乾燥装置までパレットが搬送される間に、基板に塗布された膜形成材料が乾燥することを確実に防止することができる。 According to this film forming apparatus, a pallet on which a plurality of substrates are placed is dropped on a pallet placed through a conveyance path having a space for holding an atmosphere formed by a film forming material discharged to a flushing area formed on the pallet. It is transported from the discharge device to the drying device. Therefore, it is possible to reliably prevent the film forming material applied to the substrate from being dried while the pallet is conveyed from the droplet discharge device to the drying device.
また、この発明に係る膜形成方法は、基板に所定の膜を形成する膜形成材料を塗布する液滴吐出装置を用いて前記膜形成材料を塗布する塗布工程と、前記塗布工程において前記膜形成材料が塗布された前記基板を載置したパレットを搬送する搬送工程と、前記搬送工程において搬送された基板上に塗布された前記膜形成材料を乾燥させる乾燥工程とを含む膜形成方法において、前記塗布工程は、前記液滴吐出装置において、前記パレットに載置された前記基板に対して前記膜形成材料を塗布する際に、前記パレットに形成されているフラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出しフラッシングを行う工程を含むことを特徴とする。 The film forming method according to the present invention includes: a coating step of applying the film forming material using a droplet discharge device that applies a film forming material for forming a predetermined film on a substrate; and the film formation in the coating step. In a film forming method including a transporting process of transporting a pallet on which the substrate on which a material has been applied is placed, and a drying process of drying the film forming material applied on the substrate transported in the transporting process, In the application step, when the film forming material is applied to the substrate placed on the pallet in the droplet discharge device, the film forming material is applied to the flushing area formed on the pallet. The method includes a step of performing flushing by discharging droplets.
この膜形成方法によれば、パレットに載置された基板に対して膜形成材料を塗布する際に、パレットに形成されているフラッシングエリアに対して膜形成材料の液滴を吐出しフラッシングを行っている。従って、パレットに形成されているフラッシングエリアに吐出された膜形成材料が蒸発し膜形成材料の溶媒雰囲気が形成される。そのため、例えば、パレットの搬送中に基板の自然乾燥が進むことを防止し、基板上に塗布された膜形成材料を確実に均一に乾燥させることができる。 According to this film forming method, when the film forming material is applied to the substrate placed on the pallet, the film forming material droplets are discharged to the flushing area formed on the pallet to perform the flushing. ing. Accordingly, the film forming material discharged to the flushing area formed on the pallet is evaporated to form a solvent atmosphere of the film forming material. Therefore, for example, it is possible to prevent the substrate from being naturally dried during conveyance of the pallet, and to reliably dry the film forming material applied on the substrate.
また、この発明に係る膜形成方法は、前記パレットに、複数の前記基板が載置されており、前記塗布工程においては、前記パレット上に載置されている前記基板に前記膜形成材料を塗布した後または前に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行う工程を含むことを特徴とする。 In the film forming method according to the present invention, a plurality of the substrates are placed on the pallet, and in the coating step, the film forming material is coated on the substrate placed on the pallet. After or before, a step of performing flushing by discharging droplets of the film forming material to the flushing area is included.
この膜形成方法によれば、基板に膜形成材料が塗布される前または後にフラッシングを行っている。そのため、パレット上に載置されている複数の基板の中で、既に膜形成材料が塗布された基板上の膜形成材料が、他の基板に膜形成材料が塗布されている間に自然乾燥することを適切に防止することができる。 According to this film forming method, flushing is performed before or after the film forming material is applied to the substrate. Therefore, among the plurality of substrates placed on the pallet, the film forming material on the substrate to which the film forming material has already been applied is naturally dried while the film forming material is being applied to another substrate. This can be prevented appropriately.
また、この発明に係る膜形成方法は、前記塗布工程において、更に、改行又は改列した後に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行う工程を含むことを特徴とする。 Further, the film forming method according to the present invention further includes a step of performing flushing by discharging droplets of the film forming material to the flushing area after a line feed or line break in the coating step. It is characterized by.
この膜形成方法によれば、更に、改行又は改列した後にもフラッシングを行っている。従って、基板上に塗布された膜形成材料が自然乾燥することをより一層確実に防止すると共に、液滴吐出装置のノズル詰り等を確実に防止することができる。 According to this film forming method, flushing is further performed after line feed or line break. Therefore, it is possible to more reliably prevent the film forming material applied on the substrate from being naturally dried, and to reliably prevent nozzle clogging of the droplet discharge device.
また、この発明に係る膜形成方法は、前記搬送工程において、前記塗布工程において前記フラッシングエリアに吐出された前記膜形成材料により形成される雰囲気を保持する空間を介して、複数の前記基板を載置した前記パレットを搬送することを特徴とする。 Further, in the film forming method according to the present invention, in the transporting process, a plurality of the substrates are mounted via a space that holds an atmosphere formed by the film forming material discharged to the flushing area in the coating process. The placed pallet is transported.
この膜形成方法によれば、パレットに形成されたフラッシングエリアに吐出された膜形成材料が蒸発して形成される溶媒雰囲気を保持する空間を有する搬送路を介して、複数の基板を載置したパレットが搬送されている。従って、パレットの搬送工程において、基板に塗布された膜形成材料が乾燥することを確実に防止することができる。 According to this film forming method, a plurality of substrates are mounted via a conveyance path having a space for holding a solvent atmosphere formed by evaporation of a film forming material discharged to a flushing area formed on a pallet. The pallet is being transported. Therefore, it is possible to reliably prevent the film forming material applied to the substrate from being dried in the pallet transport process.
また、この発明に係る液滴吐出装置は、基板を載置したパレットを載置するステージと、前記ステージに載置された前記パレット上の基板に、所定の膜を形成する膜形成材料を塗布する液滴吐出ヘッドと、前記液滴吐出ヘッドによる動作を制御する制御手段と、前記制御手段による制御に基づいて、前記液滴吐出ヘッドから前記パレットに形成されているフラッシングエリアに対して液滴を吐出することによりフラッシングを行うフラッシング手段とを備えることを特徴とする。 Further, the droplet discharge device according to the present invention applies a stage on which a pallet on which a substrate is placed and a film forming material for forming a predetermined film to the substrate on the pallet placed on the stage. A droplet discharge head for controlling the operation of the droplet discharge head, and a droplet from the droplet discharge head to a flushing area formed on the pallet based on the control by the control unit. And a flushing means for performing flushing by discharging the liquid.
この液滴吐出装置によれば、パレットに形成されたフラッシングエリアに対して液滴を吐出しフラッシングを行っている。従って、液滴吐出装置そのものがフラッシングエリアやフラッシングエリアに吐出された液滴を回収する手段等を備える必要がなく、液滴吐出装置の構造を簡素化し、液滴吐出装置のメンテナンスを容易にすると共に、液滴吐出装置を小型化することができる。また、パレットに形成されているフラッシングエリアに吐出された液滴が蒸発することにより、パレット上に膜形成材料の溶媒雰囲気が形成される。そのため、例えば、膜形成材料を塗布する処理を行っている間に、既に塗布された膜形成材料が乾燥することを適切に防止することができる。 According to this droplet discharge device, droplets are discharged to the flushing area formed on the pallet to perform flushing. Therefore, it is not necessary for the droplet discharge device itself to include a flushing area or a means for collecting droplets discharged to the flushing area, and the structure of the droplet discharge device is simplified and the maintenance of the droplet discharge device is facilitated. At the same time, the droplet discharge device can be miniaturized. Further, the droplets discharged to the flushing area formed on the pallet are evaporated, so that a solvent atmosphere of the film forming material is formed on the pallet. Therefore, for example, it is possible to appropriately prevent the already-applied film forming material from being dried during the process of applying the film forming material.
また、この液滴吐出装置は、前記制御手段が前記基板に前記膜形成材料を塗布する際に、前記フラッシング手段により前記フラッシングエリアに対して液滴を吐出しフラッシングを行うように、前記液滴吐出ヘッドの動作を制御することを特徴とする。 Further, the liquid droplet ejection apparatus is configured such that when the control unit applies the film forming material to the substrate, the flushing unit ejects a liquid droplet to the flushing area and performs flushing. The operation of the ejection head is controlled.
この液滴吐出装置によれば、基板に膜形成材料を塗布する際に、パレットに形成されているフラッシングエリアに液滴を吐出しフラッシングを行っている。従って、液滴吐出ヘッドの吐出不良を適切に防止し、高い精度で膜形成材料を均一に塗布することができる。 According to this droplet discharge device, when the film forming material is applied to the substrate, the droplet is discharged to the flushing area formed on the pallet to perform the flushing. Accordingly, it is possible to appropriately prevent the ejection failure of the droplet ejection head and uniformly apply the film forming material with high accuracy.
また、この発明に係るパレットは、インクジェット式の液滴吐出装置を用いて基板上に所定の膜を形成する際に用いられるパレットであって、前記基板を載置する基板載置部と、前記液滴吐出装置によるフラッシングに用いられるフラッシングエリアとを備えることを特徴とする。 A pallet according to the present invention is a pallet used when a predetermined film is formed on a substrate using an ink jet type droplet discharge device, and includes a substrate mounting portion on which the substrate is mounted; And a flushing area used for flushing by the droplet discharge device.
このパレットによれば、液滴吐出装置によるフラッシングに用いられるフラッシングエリアを備えている。従って、フラッシングエリアに吐出された膜形成材料が蒸発することにより、パレット上に載置されている基板の上部に膜形成材料の溶媒雰囲気が形成される。そのため、パレット上に載置されている基板上に塗布された膜形成材料が自然乾燥することを適切に防止することができる。 According to this pallet, the flushing area used for flushing by the droplet discharge device is provided. Therefore, when the film forming material discharged to the flushing area evaporates, a solvent atmosphere of the film forming material is formed on the upper part of the substrate placed on the pallet. Therefore, it is possible to appropriately prevent the film forming material applied on the substrate placed on the pallet from being naturally dried.
また、この発明に係るパレットは、前記フラッシングエリアが、少なくとも前記基板載置部の外周部に前記基板載置部に沿って形成されていることを特徴とする。このパレットによれば、基板の中央部に比較して自然乾燥が進みやすい基板周縁部の乾燥を適切に防止することができる。 The pallet according to the present invention is characterized in that the flushing area is formed at least on an outer peripheral portion of the substrate platform along the substrate platform. According to this pallet, it is possible to appropriately prevent the peripheral portion of the substrate from being dried more easily than the central portion of the substrate.
また、この発明に係るパレットは、前記基板載置部に、複数の前記基板を載置することを特徴とする。このパレットによれば、基板載置部に複数の基板を載置しているため、例えば、小型基板に所定の膜を形成する処理をパレット単位で行うことにより、作業効率を適切に向上させることができる。 The pallet according to the present invention is characterized in that a plurality of the substrates are placed on the substrate placing portion. According to this pallet, since a plurality of substrates are mounted on the substrate mounting portion, for example, by performing processing for forming a predetermined film on a small substrate in units of pallets, work efficiency can be improved appropriately. Can do.
以下、図面を参照してこの発明の実施の形態に係る膜形成装置について説明する。なお、以下においては、この発明の実施の形態に係る膜形成装置を用いて液晶表示装置を製造する場合を例として説明する。 Hereinafter, a film forming apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following, a case where a liquid crystal display device is manufactured using the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention will be described as an example.
図1は、この発明の実施の形態に係る膜形成装置の構成の一例を示す図である。図1に示すように、膜形成装置(液晶表示装置製造ライン)100は、各工程においてそれぞれ用いられる洗浄装置102、表面処理装置104、液滴吐出装置106、乾燥装置108、焼成装置110及びラビング装置112、各装置を接続するベルトコンベアBC、ベルトコンベアBCを駆動させる駆動装置116及び液晶表示装置製造ライン100全体の制御を行う制御装置114により構成されている。また、洗浄装置102、表面処理装置104、液滴吐出装置106、乾燥装置108、焼成装置110及びラビング装置112は、ベルトコンベアBCに沿って配置されている。また、図1に示すように、液滴吐出装置106と乾燥装置108との間においては、ベルトコンベアBCが所定の部材により覆われることによって気密性を保持する空間(気密空間)118が形成されている。
FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of a film forming apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a film forming apparatus (liquid crystal display device production line) 100 includes a
制御装置114は、洗浄装置102、表面処理装置104、液滴吐出装置106、乾燥装置108、焼成装置110、ラビング装置112及び駆動装置116に接続されている。駆動装置116は、制御装置114からの制御信号に基づいてベルトコンベアBCを駆動させ、後述するパレットに載置された液晶表示装置の基板(以下、単に「基板」とする。)を洗浄装置102、表面処理装置104、液滴吐出装置106、乾燥装置108、焼成装置110及びラビング装置112に搬送する。洗浄装置102においては基板を洗浄する処理が行われ、表面処理装置104においては基板表面の親液性(濡れ性)を向上させる処理(表面改質処理)が行われ、液滴吐出装置106においては基板上に配向膜材料を塗布する処理、即ち、基板上に配向膜材料を含む液滴を吐出する処理が行われる。また、乾燥装置108においては配向膜材料を仮乾燥させる処理が行われ、焼成装置110においては乾燥させた配向膜材料を焼成させる処理が行われ、ラビング装置112においては配向膜のラビング処理が行われる。
The
図2は、この発明の実施の形態に係る液滴吐出装置として用いられるインクジェット式の液滴吐出装置106の構成の概略を示す図である。この液滴吐出装置106は、ベース31、パレット移動手段32、ヘッド移動手段33、液滴吐出ヘッド34、液供給手段35、制御装置(制御手段)40等により構成されている。ベース31には、図2に示すように、複数の基板Pを載置したパレット50を移動させるパレット移動手段32及び液滴吐出ヘッド34を移動させるヘッド移動手段33が設置されている。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of an ink jet type
パレット移動手段32は、図2に示すように、ベース31上に、Y軸方向に沿って配置されたガイドレール36を有している。このパレット移動手段32は、例えば、リニアモータ(図示せず)により、スライダ37をガイドレール36に沿って移動させるように構成されている。また、スライダ37上には、複数の基板Pを載置したパレット50を保持するステージ39が固定されている。このステージ39は、公知の吸着保持手段(図示せず)を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、複数の基板Pを載置したパレット50をステージ39の上に吸着保持する。また、複数の基板Pを載置したパレット50は、例えば、ステージ39の位置決めピン(図示せず)により、ステージ39上の所定位置に正確に位置決めされ保持される。
As shown in FIG. 2, the pallet moving means 32 has a
ヘッド移動手段33は、ベース31の後部側に立てられた一対の架台33a、33aと、これら架台33a、33a上に設けられた走行路33bとを備えており、該走行路33bをX軸方向、即ち、上述のパレット移動手段32におけるパレット50の移動方向であるY軸方向と直交する方向に沿って配置されている。走行路33bは、架台33a、33a間に渡された保持板33cと、この保持板33c上に設けられた一対のガイドレール33d、33dとにより形成されており、ガイドレール33d、33dの長さ方向に液滴吐出ヘッド34を搭載するキャリッジ42が移動可能に保持されている。キャリッジ42は、リニアモータ(図示せず)等の作動によってガイドレール33d、33d上を走行し、これにより液滴吐出ヘッド34をX軸方向に移動させるように構成されている。なお、このキャリッジ42は、ガイドレール33d、33dの長さ方向、即ち、X軸方向に例えば1μm単位で移動が可能である。このような移動は制御装置40により制御される。
The head moving means 33 includes a pair of
液滴吐出ヘッド34は、キャリッジ42に取付部43を介して回動可能に取り付けられている。取付部43にはモータ44が設けられており、液滴吐出ヘッド34はその支持軸(図示せず)がモータ44に連結し、液滴吐出ヘッド34はその周方向に回動可能となっている。また、モータ44も制御装置40に接続されており、これによって液滴吐出ヘッド34はその周方向への回動が、制御装置40により制御される。
The
液滴吐出ヘッド34は、その底面形状が略矩形状のもので、図3に示すようにノズルN(ノズル孔18)が縦横に整列した状態で矩形状に配置されている。また、各ノズルN(ノズル孔18)には、それぞれに独立して図示しない圧電素子が設けられており、その吐出動作等を独立して行う。
The
液供給手段35は、液滴吐出ヘッド34に配向膜材料を供給する液供給源(タンク)45と、この液供給源45から液滴吐出ヘッド34に液を送るための液供給チューブ46とにより構成されている。制御装置40は、コンピュータ等により構成されており、液滴吐出ヘッド34の位置情報、即ち、液滴吐出ヘッド34のガイドレール33d、33d上での位置(X座標)とそのときの各ノズルの位置(X座標)とを検出し、検出された位置を記憶するものである。また、制御装置40に記憶されている各ノズルの位置に基づいて、各ノズルに対し通常の吐出動作やフラッシング等を行わせる制御を実行している。
The liquid supply means 35 includes a liquid supply source (tank) 45 that supplies the alignment film material to the
図4は、この発明の実施の形態に係るパレットの一例を示す図である。パレット50には、図4に示すように、複数の基板Pを載置する基板載置部52及び液滴吐出装置106のフラッシングに用いられるフラッシングエリア54が設けられている。フラッシングエリア54は、図4に示すように、基板載置部52を囲うように基板載置部52の外周部に形成されている。液滴吐出装置106においては、このフラッシングエリア54に対して液滴を吐出することによりフラッシングが行われる。なお、パレット50においては、フラッシングエリア54に吐出された配向膜材料の液滴が蒸発することにより基板載置部52の上部に配向膜材料の溶媒雰囲気が形成される。
FIG. 4 is a view showing an example of a pallet according to the embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the
ここで、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドにおいてフラッシング(捨て吐出)動作を行う目的は、次のようなものである。液滴吐出ヘッドは、液滴の吐出を休止してから吐出を再開するまでの時間が長くなった場合、液滴の吐出方向が乱れる、吐出量が多くなり過ぎる、吐出量が少なくなり過ぎる等の現象が起こり易くなると共に、液滴吐出動作が不安定になる傾向がある。即ち、液滴吐出ヘッドは、液滴の吐出を開始した直後は、吐出状態が安定せず吐出された液滴がまっすぐ飛ばない、吐出量が安定しない等の傾向がある。このため、液滴吐出ヘッドがフラッシングを行うことによって吐出状態が安定した後に、基板等の吐出対象物に対して吐出を開始している。つまり、フラッシングを行うことにより吐出を安定させながら、均一な膜形成も可能にし、かつ、図4に示すように、フラッシングエリアが設けられているパレットを用いることにより、液滴吐出装置の構成も簡素化している。 Here, the purpose of performing the flushing (discarding discharge) operation in the droplet discharge head of the droplet discharge apparatus is as follows. Droplet discharge heads, when the time from when the discharge of the droplet is suspended to when the discharge is restarted becomes long, the discharge direction of the droplet is disturbed, the discharge amount becomes too large, the discharge amount becomes too small, etc. This phenomenon tends to occur and the droplet discharge operation tends to become unstable. That is, the droplet discharge head has a tendency that immediately after the discharge of the droplet is started, the discharge state is not stable and the discharged droplet does not fly straight, the discharge amount is not stable. For this reason, after the discharge state is stabilized by the flushing of the droplet discharge head, the discharge is started to the discharge target such as the substrate. In other words, by performing flushing, it is possible to form a uniform film while stabilizing ejection, and as shown in FIG. 4, by using a pallet provided with a flushing area, the configuration of the droplet ejection device can also be improved. It is simplified.
次に、図5のフローチャートを参照して、実施の形態に係る液滴吐出装置を用いた液晶表示装置製造ラインにおける液晶表示装置の製造処理について説明する。 Next, a manufacturing process of a liquid crystal display device in a liquid crystal display device manufacturing line using the droplet discharge device according to the embodiment will be described with reference to a flowchart of FIG.
まず、配向膜を形成する基板P、例えば、セグメント電極が形成された基板Pを、パレット50の基板載置部52に配置する。例えば、図4に示すように、所定の間隔を空けて複数の基板Pを基板載置部52に配置する。なお、基板載置部52に配置される基板Pの数は、例えば、基板Pの大きさや、液晶表示装置製造ライン100を構成する各装置の処理能力等に基づいて任意に変更することができる。
First, the substrate P on which the alignment film is formed, for example, the substrate P on which the segment electrode is formed, is placed on the
次に、パレット50の基板載置部52に配置された基板を洗浄する(ステップS10、図5参照)。即ち、ベルトコンベアBCにより搬送されたパレット50が洗浄装置102内に取り込まれ、アルカリ系洗剤、純水等を用いてパレット50の基板載置部52に載置されている基板Pの各々が洗浄された後、所定の温度及び時間、例えば、80〜90℃で5〜10分間乾燥させる処理が行われる。なお、洗浄及び乾燥が行われた基板Pは、パレット50に載置されベルトコンベアBCにより表面処理装置104まで搬送される。
Next, the board | substrate arrange | positioned at the board |
次に、ステップS10において洗浄された基板の表面に親液性(濡れ性)を向上させる処理(表面改質処理)を施す(ステップS11)。即ち、ベルトコンベアBCにより表面処理装置104まで搬送されたパレット50を表面処理装置104内に取り込む。そして、パレット50上に載置されている複数の基板Pの各々に、基板Pの表面の親液性を向上させる処理を施す。例えば、表面処理装置104として、紫外線(UV)によりオゾンを発生させる装置を用いている場合には、紫外線により発生させたオゾンにより基板表面の撥水剤成分や有機物成分を除去するUVオゾン処理を施す。また、表面処理装置104として、コロナ発生装置を用いている場合には、基板表面の撥水剤成分や有機物成分を除去するコロナ放電処理を施し基板Pの親液性(濡れ性)を向上させる。
Next, a process (surface modification process) for improving lyophilicity (wetability) is performed on the surface of the substrate cleaned in step S10 (step S11). That is, the
次に、ステップS11において親液性(濡れ性)を向上させる処理が施された基板上に配向膜材料を塗布する(ステップS12)。即ち、まず、ベルトコンベアBCにより液滴吐出装置106まで搬送されたパレット50を、ステージ39に載置して液滴吐出装置106内に取り込む。液滴吐出装置106内においては、液供給源45に収容されている配向膜材料を制御装置40による制御に基づいて液滴吐出ヘッド34を介して吐出し、基板P上に配向膜材料を塗布する。
Next, an alignment film material is applied on the substrate that has been subjected to the treatment for improving the lyophilicity (wetting property) in step S11 (step S12). That is, first, the
ここで、液滴吐出装置106においては、パレット50の基板載置部52に載置された基板Pに配向膜材料を塗布する際には、まず、制御装置40による制御に基づいて、パレット50に形成されているフラッシングエリア54に液滴吐出ヘッド34を介して配向膜材料の液滴を吐出しフラッシングを行う。即ち、液滴吐出装置106において配向膜材料は、図6において矢印で示すように、パレット50の基板載置部52の図中左側上部に配置されている基板P11から順に、P12、P13、P14と矢印の方向に沿って1行毎に各基板P上に塗布される。従って、1行に配置されている基板P11〜基板P14に対して配向膜材料を塗布する前に、まず、フラッシングエリア54(基板P11の近傍に形成されているフラッシングエリア54)に液滴吐出ヘッド34を介して配向膜材料の液滴を吐出しフラッシングを行う。次に、基板P11〜基板P14に配向膜材料を塗布した後、改行を行う前に、基板P14の近傍に形成されているフラッシングエリア54に対して液滴吐出ヘッド34を介して液滴を吐出し再びフラッシングを行う。
Here, in the
次に、制御装置40による制御に基づいてヘッド移動手段33により液滴吐出ヘッド34を、基板P11〜基板P14が配置されている行の隣の行に配置されている基板Pに対応する位置に移動させ改行を行う。この時、その行に配置されている基板Pに配向膜材料の液滴を吐出する前に、まず、制御装置40による制御に基づいて、フラッシングエリア54に配向膜材料の液滴を吐出しフラッシングを行う。そして、その行に配置されている基板Pの各々に配向膜材料を塗布し、その行の最後の基板Pに配向膜材料を塗布した後、フラッシングエリア54に対して配向膜材料の液滴を吐出し再度フラッシングを行う。その後、次の行に対応する位置に液滴吐出ヘッド34を移動させて改行を行い、上述の処理と同様の処理を繰り返すことにより、パレット50の基板載置部52に載置されている基板Pの各々に配向膜材料を塗布する。なお、液滴吐出装置106においては、1行毎に配向膜材料を塗布しているが、1列毎に配向膜材料を塗布するようにしてもよい。その場合には、最初の基板に配向膜材料を塗布する前と、1列塗布する毎であって改列前及び改列後にフラッシングが行われる。
Next, based on the control by the
ここで、パレット50においては、フラッシングエリア54が図4及び図6に示すように基板載置部52に沿って形成されている。従って、フラッシングエリア54に対して吐出された配向膜材料がフラッシングエリア54内に濡れ広がることによって、基板載置部52の外周部に配向膜材料が塗布されている状態になる。また、フラッシングエリア54内の配向膜材料が蒸発することによって、配向膜材料の溶媒による雰囲気が形成される。即ち、フラッシングエリア54内の配向膜材料が蒸発することによって形成された配向膜材料の溶媒雰囲気中で、パレット50の基板載置部52上に配置された基板Pの各々に対する配向膜材料の塗布が行われる。なお、配向膜材料が塗布された基板Pは、ステージ39からベルトコンベアBCへと移され、気密空間118中をベルトコンベアBCを介して乾燥装置108まで搬送される。また、気密空間118中には、フラッシングエリア54内の配向膜材料が蒸発することによって形成された溶媒雰囲気が充満している。即ち、ベルトコンベアBCを介してパレット50が搬送されている間にも、フラッシングエリア54内の配向膜材料が蒸発するため、気密性が保持されている気密空間118の中には、蒸発した配向膜材料による溶媒雰囲気が充満し、搬送中における配向膜材料の乾燥を防止している。
Here, in the
次に、基板に塗布された配向膜材料を仮乾燥させる処理が行われる(ステップS13)。即ち、ベルトコンベアBCにより気密空間118中を乾燥装置108まで搬送されたパレット50を取り込み、パレット50上に載置されている複数の基板Pを、例えば、60〜100℃で仮乾燥させる。なお、塗布された配向膜材料の仮乾燥が行われた後、複数の基板Pを載置したパレット50はベルトコンベアBCへと移され、ベルトコンベアBCにより焼成装置110へと搬送される。
Next, a process of temporarily drying the alignment film material applied to the substrate is performed (step S13). That is, the
次に、仮乾燥が行われた配向膜材料を焼成する処理が行われる(ステップS14)。即ち、ベルトコンベアBCにより焼成装置110まで搬送されたパレット50を焼成装置110内に取り込み、パレット50上に載置されている複数の基板Pを、例えば、180〜250℃で焼成する。なお、焼成が行われ配向膜が形成された後、複数の基板Pを載置したパレット50はベルトコンベアBCへと移され、ベルトコンベアBCによりラビング装置112へと搬送される。
Next, a process of baking the alignment film material that has been temporarily dried is performed (step S14). That is, the
次に、基板上に形成された配向膜をラビングする処理が行われる(ステップS15)。即ち、ベルトコンベアBCによりラビング装置112まで搬送されたパレット50をラビング装置112内に取り込み、パレット50上に載置されている基板P上に形成されている配向膜を、例えば、布を用いて擦ることによりラビング処理を施す。なお、配向膜にラビング処理が施された後、複数の基板Pを載置したパレット50は、ベルトコンベアBCへと移され、ベルトコンベアBCにより、図示しない基板収容カセット等に収容される。また、図示しない基板収容カセット等に収容された基板Pは、図示しない組立装置において、カラーフィルタ、ブラックマトリクス、オーバーコート膜、コモン電極及び配向膜が形成された他の基板と貼り合わせられる。そして、基板Pと他の基板との間に液晶が注入されることにより液晶表示装置が製造される。
Next, a process of rubbing the alignment film formed on the substrate is performed (step S15). That is, the
次に、この発明の実施の形態に係る膜形成装置を用いて製造された液晶表示装置を搭載した電子機器について説明する。図7は、この発明の実施の形態に係る膜形成装置を用いて製造された液晶表示装置を搭載した電子機器の一例を示す斜視図である。 Next, an electronic apparatus equipped with a liquid crystal display device manufactured using the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 is a perspective view showing an example of an electronic apparatus equipped with a liquid crystal display device manufactured using the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention.
図7(a)は、液晶表示装置を搭載した携帯電話の一例を示す図である。図7(a)に示すように携帯電話140の表示画面として、この発明の実施の形態に係る膜形成装置を用いて製造された液晶表示装置141が搭載されている。また、図7(b)は、液晶表示装置を搭載した携帯型情報端末処理装置(例えば、携帯型のワードプロセッサや、携帯型のパーソナルコンピュータ等)の一例を示す図である。図7(b)に示すように、情報処理装置150は、情報処理装置本体151、キーボード等により構成される入力部152、この発明の実施の形態に係る膜形成装置を用いて製造された液晶表示装置153を備えている。更に、図7(c)は、液晶表示装置を搭載した時計の一例を示す図である。図7(c)に示すように、時計160の表示画面として、この発明の実施の形態に係る膜形成装置を用いて製造された液晶表示装置161が搭載されている。
FIG. 7A is a diagram illustrating an example of a mobile phone equipped with a liquid crystal display device. As shown in FIG. 7A, a liquid
この発明の実施の形態に係る膜形成装置によれば、液滴吐出装置において、パレットに載置されている複数の基板に配向膜材料を塗布する際に、1行に配置されている基板に配向膜材料を塗布した後、改行前及び改行後にパレットに形成されているフラッシングエリアに配向膜材料の液滴を吐出しフラッシングを行っている。従って、複数の基板を載置したパレット上、即ち、複数の基板上にフラッシングエリアに吐出された配向膜材料が蒸発した溶媒雰囲気が形成される。そのため、パレット上に複数の基板が載置されている場合であっても、すでに配向膜材料が塗布された基板における塗布された配向膜材料の乾燥を防止することができ、均一な膜厚を有する配向膜を効率的に形成することができる。 According to the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention, when the alignment film material is applied to the plurality of substrates placed on the pallet in the droplet discharge device, the substrate is arranged in one row. After the alignment film material is applied, flushing is performed by discharging droplets of the alignment film material to the flushing area formed on the pallet before and after the line feed. Therefore, a solvent atmosphere is formed on the pallet on which the plurality of substrates are placed, that is, the alignment film material discharged to the flushing area is evaporated on the plurality of substrates. Therefore, even when a plurality of substrates are placed on the pallet, it is possible to prevent drying of the applied alignment film material on the substrate on which the alignment film material has already been applied. Thus, the alignment film can be efficiently formed.
また、この発明の実施の形態に係る膜形成装置によれば、液滴吐出装置と乾燥装置との間は、ベルトコンベアが所定の部材により覆われることによって気密空間が形成されており、該気密空間には配向膜材料の溶媒雰囲気が充満している。従って、複数の基板を載置したパレットが液滴吐出装置から乾燥装置に搬送される間に、パレットに載置された基板が乾燥することを防止できる。そのため、乾燥ムラに基づいて配向膜の膜厚が不均一になること、即ち、基板外周部の配向膜材料が乾燥することによって、基板中央部の配向膜材料が外周部に移動し、最終的に中央部の膜厚が薄く、外周部の膜厚が厚くなるしみあがりの発生を適切に防止することができる。 In addition, according to the film forming apparatus according to the embodiment of the present invention, an airtight space is formed between the droplet discharge device and the drying device by covering the belt conveyor with a predetermined member. The space is filled with the solvent atmosphere of the alignment film material. Therefore, it is possible to prevent the substrate placed on the pallet from being dried while the pallet on which the plurality of substrates are placed is transported from the droplet discharge device to the drying device. For this reason, the film thickness of the alignment film becomes non-uniform based on the drying unevenness, that is, the alignment film material in the outer peripheral part of the substrate is dried, so that the alignment film material in the central part of the substrate moves to the outer peripheral part. In addition, it is possible to appropriately prevent the occurrence of smearing in which the thickness of the central portion is thin and the thickness of the outer peripheral portion is thick.
また、上述の実施の形態に係る液滴吐出装置によれば、複数の基板を載置したパレットに形成されたフラッシングエリアに対して配向膜材料の液滴を吐出しフラッシングを行っている。従って、液滴吐出装置においてフラッシングエリアやフラッシングにより吐出された液滴を回収する液滴回収手段等を備えている必要がない。そのため、液滴吐出装置の構造を簡易にすることができると共に、液滴吐出装置の構成部材を削減することにより容易に液滴吐出装置を小型化することができる。 Further, according to the droplet discharge device according to the above-described embodiment, the flushing is performed by discharging droplets of the alignment film material to the flushing area formed on the pallet on which a plurality of substrates are placed. Therefore, it is not necessary for the droplet discharge device to include a flushing area or a droplet collection means for collecting droplets ejected by flushing. Therefore, the structure of the droplet discharge device can be simplified, and the droplet discharge device can be easily downsized by reducing the number of constituent members of the droplet discharge device.
また、上述の実施の形態に係る液滴吐出装置によれば、基板に配向膜材料を塗布する前に、パレットに形成されたフラッシングエリアに対して配向膜材料の液滴を吐出しフラッシングを行っている。従って、フラッシングエリアに吐出された配向膜材料が蒸発することにより配向膜材料の溶媒雰囲気が形成されるため、液滴吐出ヘッドのノズルが乾燥することを適切に防止することができる。そのため、ノズル詰り等による吐出不良を削減し、各基板に対して適切な量の配向膜材料を的確に塗布することができる。 Further, according to the droplet discharge device according to the above-described embodiment, before applying the alignment film material to the substrate, the alignment film material is discharged to the flushing area formed on the pallet to perform the flushing. ing. Accordingly, the alignment film material discharged to the flushing area evaporates to form a solvent atmosphere of the alignment film material, so that it is possible to appropriately prevent the nozzle of the droplet discharge head from drying. Therefore, ejection defects due to nozzle clogging or the like can be reduced, and an appropriate amount of alignment film material can be accurately applied to each substrate.
また、上述の実施の形態に係るパレットによれば、複数の基板を載置する基板載置部とフラッシングエリアとを備えている。即ち、液滴吐出装置が基板に配向膜材料を塗布する前に、パレットに形成されているフラッシングエリアに配向膜材料の液滴を吐出しフラッシングを行い、フラッシングエリアに吐出された配向膜材料が蒸発することにより配向膜材料の溶媒雰囲気が形成されている。従って、基板載置部に載置された複数の基板の各々に対して順に配向膜材料を塗布する場合であっても、すでに配向膜材料が塗布された基板上において、全ての基板に配向膜材料を塗布するまでの間に塗布された配向膜材料が乾燥することを適切に防止することができる。そのため、パレット単位で複数の基板を一括して処理することができると共に、液滴吐出装置を用いて効率的に配向膜を形成する処理を行うことができ、作業効率を適切に向上させることができる。 Moreover, according to the pallet which concerns on the above-mentioned embodiment, the board | substrate mounting part and the flushing area which mount a some board | substrate are provided. That is, before the droplet discharge device applies the alignment film material to the substrate, the droplets of the alignment film material are discharged to the flushing area formed on the pallet to perform flushing, and the alignment film material discharged to the flushing area is By evaporation, a solvent atmosphere of the alignment film material is formed. Therefore, even when the alignment film material is applied in order to each of the plurality of substrates placed on the substrate placement portion, the alignment film is applied to all the substrates on the substrate on which the alignment film material has already been applied. It is possible to appropriately prevent the applied alignment film material from being dried before the material is applied. As a result, a plurality of substrates can be processed in batches in units of pallets, and an alignment film can be efficiently formed using a droplet discharge device, thereby improving work efficiency appropriately. it can.
また、上述の実施の形態に係る液晶表示装置は、上述の実施の形態に係る膜形成装置を用いて製造されている。即ち、乾燥ムラの発生を防止することによって形成された均一な膜厚の配向膜を備えているため、不均一な膜厚等に起因する表示不良の発生が低減されている。従って、液晶表示装置の製造コストを削減すると共に、効率的に液晶表示装置を製造することができる。 The liquid crystal display device according to the above-described embodiment is manufactured using the film forming apparatus according to the above-described embodiment. That is, since an alignment film having a uniform thickness formed by preventing the occurrence of drying unevenness is provided, the occurrence of display defects due to a non-uniform film thickness or the like is reduced. Accordingly, the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be reduced and the liquid crystal display device can be efficiently manufactured.
また、上述の実施の形態に係る電子機器によれば、上述の実施の形態に係る膜形成装置を用いて製造された液晶表示装置を搭載しているため、電子機器の歩留まりを向上させることができ、効率的に電子機器を生産することができるため、電子機器そのものの製造コストを低減させることができ、電子機器の低価格化を図ることができる。 Moreover, according to the electronic device according to the above-described embodiment, since the liquid crystal display device manufactured using the film forming apparatus according to the above-described embodiment is mounted, the yield of the electronic device can be improved. In addition, since the electronic device can be efficiently produced, the manufacturing cost of the electronic device itself can be reduced, and the price of the electronic device can be reduced.
また、この発明に係る膜形成方法によれば、パレット上に複数の基板を載置し、パレットに形成されているフラッシングエリアに配向膜材料を吐出しフラッシングを行った後に基板に配向膜材料を塗布している。従って、複数の基板をパレット単位で一括して処理することができると共に、パレットに形成されたフラッシングエリアに液滴を吐出しフラッシングを行うことができ、効率的に作業を行うことができる。即ち、フラッシングと配向膜材料を塗布する処理とを、一連の処理として行うことができるため、作業効率を適切に向上させることができる。 In addition, according to the film forming method of the present invention, a plurality of substrates are placed on a pallet, the alignment film material is discharged to the flushing area formed on the pallet, and after flushing, the alignment film material is applied to the substrate. It is applied. Accordingly, it is possible to process a plurality of substrates in a pallet unit, and it is possible to perform flushing by discharging droplets to a flushing area formed on the pallet, so that work can be performed efficiently. That is, since the flushing and the process of applying the alignment film material can be performed as a series of processes, work efficiency can be improved appropriately.
なお、上述の実施の形態に係るパレットにおいては、基板載置部の外周部にフラッシングエリアが形成されているが、フラッシングエリアの形成位置は基板載置部の外周部に限定されるものではない。例えば、図8に示すように、基板の行を改行毎にフラッシングを行うべくフラッシングエリアが設けられており、基板の列に沿ったフラッシングエリアは設けられていなくてもよい。また、例えば、一番最初に配向膜材料が塗布された基板が最も乾燥しやすいため、図6に示すフラッシングエリアに加えて、図6において示す基板P11を囲うように更にフラッシングエリアが設けられていてもよい。即ち、フラッシングエリアは、配向膜材料を含むインクの粘度や溶媒の種類等による乾燥の度合いに基づいて、効率的に乾燥を防止できる範囲であれば、任意の位置及び任意の形状に形成されていてもよい。 In the pallet according to the above-described embodiment, the flushing area is formed on the outer peripheral portion of the substrate mounting portion. However, the formation position of the flushing area is not limited to the outer peripheral portion of the substrate mounting portion. . For example, as shown in FIG. 8, a flushing area is provided to flush a row of a substrate for each line feed, and a flushing area along a row of substrates may not be provided. Further, for example, the most since the first alignment layer material substrate is easily driest coated, in addition to the flushing area shown in FIG. 6, further flushing area is provided so as to surround the substrate P 11 shown in FIG. 6 It may be. In other words, the flushing area is formed in any position and in any shape as long as it can efficiently prevent drying based on the degree of drying depending on the viscosity of the ink containing the alignment film material, the type of solvent, and the like. May be.
また、上述の実施の形態に係るパレットにおいては、基板載置部に複数の基板を載置しているが、基板載置部には1枚の基板が載置されていてもよい。また、上述の実施の形態に係る膜形成装置においては、液滴吐出装置と乾燥装置との間に気密空間が形成されているが、パレットに形成されたフラッシングエリアに吐出された配向膜材料が蒸発することにより形成される溶媒雰囲気を保持することができる空間であれば、気密空間でなくてもよい。 In the pallet according to the above-described embodiment, a plurality of substrates are placed on the substrate platform, but a single substrate may be placed on the substrate platform. Further, in the film forming apparatus according to the above-described embodiment, an airtight space is formed between the droplet discharge device and the drying device, but the alignment film material discharged to the flushing area formed on the pallet is The space need not be an airtight space as long as it can maintain a solvent atmosphere formed by evaporation.
また、上述の実施の形態に係る膜形成装置においては、液晶表示装置の配向膜を形成する場合を例として説明したが、その他の場合に用いてもよい。例えば、レジスト、オーバーコート等を吐出する際に用いてもよく、また、カラーフィルタや有機ELディスプレイ等を形成する際に用いるようにしてもよい。 In the film forming apparatus according to the above-described embodiment, the case where the alignment film of the liquid crystal display device is formed has been described as an example. However, the film forming apparatus may be used in other cases. For example, it may be used when discharging a resist, an overcoat, or the like, or may be used when forming a color filter, an organic EL display, or the like.
50…パレット、52…基板載置部、54…フラッシングエリア、100…膜形成装置(液晶表示装置製造ライン)、102…洗浄装置、104…表面処理装置、106…液滴吐出装置、108…乾燥装置、110…焼成装置、112…ラビング装置、114…制御装置、116…駆動装置、118…気密空間。
DESCRIPTION OF
Claims (13)
前記液滴吐出装置により前記基板上に塗布された前記膜形成材料を乾燥させる乾燥装置と、
前記液滴吐出装置及び前記乾燥装置との間を接続し、前記パレットを搬送する搬送装置と
を備える膜形成装置であって、
前記液滴吐出装置は、
前記パレットに載置された前記基板に対して前記膜形成材料を塗布する際に、前記液滴吐出ヘッドから前記膜形成材料の液滴を吐出することにより前記パレットに形成されたフラッシングエリアに対してフラッシングを行うことを特徴とする膜形成装置。 A droplet discharge apparatus having a droplet discharge head for discharging a film forming material for forming a predetermined film on a substrate placed on a pallet;
A drying device for drying the film forming material applied on the substrate by the droplet discharge device;
A film forming apparatus comprising: a transport device that connects between the droplet discharge device and the drying device and transports the pallet;
The droplet discharge device includes:
When the film forming material is applied to the substrate placed on the pallet, a droplet of the film forming material is discharged from the droplet discharge head to the flushing area formed on the pallet. A film forming apparatus characterized by performing flushing.
前記液滴吐出装置は、
前記パレットにおいて、複数の前記基板に前記膜形成材料を塗布する前または後に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行うことを特徴とする請求項1記載の膜形成装置。 A plurality of the substrates are placed on the pallet,
The droplet discharge device includes:
2. The flushing is performed by discharging droplets of the film forming material to the flushing area before or after applying the film forming material to a plurality of the substrates in the pallet. Film forming apparatus.
更に、改行又は改列した後に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行うことを特徴とする請求項2記載の膜形成装置。 The droplet discharge device includes:
3. The film forming apparatus according to claim 2, further comprising performing flushing by discharging droplets of the film forming material to the flushing area after a line feed or line break.
前記フラッシングエリアに吐出された前記膜形成材料により形成される雰囲気を保持する空間を有する搬送路を備え、該搬送路を介して前記液滴吐出装置から前記乾燥装置に前記パレットを搬送することを特徴とする請求項1〜請求項3の何れか一項に記載の膜形成装置。 The transfer device
A transport path having a space for holding an atmosphere formed by the film forming material discharged to the flushing area, and transporting the pallet from the droplet discharge device to the drying device via the transport path. The film forming apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the film forming apparatus is characterized.
前記塗布工程において前記膜形成材料が塗布された前記基板を載置したパレットを搬送する搬送工程と、
前記搬送工程において搬送された基板上に塗布された前記膜形成材料を乾燥させる乾燥工程とを含む膜形成方法において、
前記塗布工程は、
前記液滴吐出装置において、前記パレットに載置された前記基板に対して前記膜形成材料を塗布する際に、前記パレットに形成されているフラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出しフラッシングを行う工程を含むことを特徴とする膜形成方法。 An application step of applying the film forming material using a droplet discharge device for applying a film forming material for forming a predetermined film on the substrate;
A transporting process for transporting a pallet on which the substrate on which the film forming material has been applied in the coating process;
In a film forming method including a drying step of drying the film forming material applied on the substrate transferred in the transfer step,
The coating process includes
In the droplet discharge device, when the film forming material is applied to the substrate placed on the pallet, the droplet of the film forming material is discharged to a flushing area formed on the pallet. A film forming method comprising a step of performing flushing.
前記塗布工程においては、
前記パレット上に載置されている前記基板に前記膜形成材料を塗布した後または前に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行う工程を含むことを特徴とする請求項5記載の膜形成方法。 A plurality of the substrates are placed on the pallet,
In the application step,
After or before applying the film forming material to the substrate placed on the pallet, including a step of performing flushing by discharging droplets of the film forming material to the flushing area. 6. The film forming method according to claim 5, wherein:
更に、改行又は改列した後に、前記フラッシングエリアに対して前記膜形成材料の液滴を吐出することによりフラッシングを行う工程を含むことを特徴とする請求項6記載の膜形成方法。 In the application step,
The film forming method according to claim 6, further comprising a step of performing flushing by discharging a droplet of the film forming material to the flushing area after a line feed or line break.
前記塗布工程において前記フラッシングエリアに吐出された前記膜形成材料により形成される雰囲気を保持する空間を介して、複数の前記基板を載置した前記パレットを搬送することを特徴とする請求項5〜請求項7の何れか一項に記載の膜形成方法。 In the transport process,
6. The pallet on which a plurality of the substrates are placed is transported through a space that holds an atmosphere formed by the film forming material discharged to the flushing area in the coating step. The film forming method according to claim 7.
前記ステージに載置された前記パレット上の基板に、所定の膜を形成する膜形成材料を塗布する液滴吐出ヘッドと、
前記液滴吐出ヘッドによる動作を制御する制御手段と、
前記制御手段による制御に基づいて、前記液滴吐出ヘッドから前記パレットに形成されているフラッシングエリアに対して液滴を吐出することによりフラッシングを行うフラッシング手段と
を備えることを特徴とする液滴吐出装置。 A stage for placing a pallet on which a substrate is placed;
A droplet discharge head for applying a film forming material for forming a predetermined film on a substrate on the pallet placed on the stage;
Control means for controlling the operation of the droplet discharge head;
And a flushing unit that performs flushing by ejecting droplets from the droplet ejection head to a flushing area formed on the pallet based on the control by the control unit. apparatus.
前記基板に前記膜形成材料を塗布する際に、前記フラッシング手段により前記フラッシングエリアに対して液滴を吐出しフラッシングを行うように、前記液滴吐出ヘッドの動作を制御することを特徴とする請求項9記載の液滴吐出装置。 The control means includes
The operation of the droplet discharge head is controlled such that when the film forming material is applied to the substrate, the flushing unit discharges droplets to the flushing area to perform flushing. Item 10. A droplet discharge device according to Item 9.
前記基板を載置する基板載置部と、
前記液滴吐出装置によるフラッシングに用いられるフラッシングエリアと
を備えることを特徴とするパレット。 A pallet used when a predetermined film is formed on a substrate using an ink jet type droplet discharge device,
A substrate mounting portion for mounting the substrate;
And a flushing area used for flushing by the droplet discharge device.
少なくとも前記基板載置部の外周部に前記基板載置部に沿って形成されていることを特徴とする請求項11記載のパレット。 The flushing area is
The pallet according to claim 11, wherein the pallet is formed at least on an outer peripheral portion of the substrate platform along the substrate platform.
The pallet according to claim 11 or 12, wherein a plurality of the substrates are mounted on the substrate mounting portion.
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