JP2006156269A - 平行光源装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 投影装置、投影露光装置、マスクレス露光装置等に用いられる光源装置であって、光の利用効率が高く、面内強度分布の均一性が高く、平行度の高い平行光源装置。
【解決手段】 稠密配置した正レンズ1のレンズアレイ10と、その正レンズ1の焦点各々に射出端を配置した偏波保存型シングルモード光ファイバ2とからなり、その偏波保存型シングルモード光ファイバ2各々の入射端に偏光した光が結合され、その射出端の偏光方向が全て同じ方向を向いている2つの光ファイバコリメータアレイ11、12(13、14)を含み、一方の光ファイバコリメータアレイ11から射出される平行光と他方の光ファイバコリメータアレイ12から射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように選ばれ、両平行光が偏光合成器15(16)により合成されるように構成されてなる平行光源装置。
【選択図】 図1

Description

本発明は、平行光源装置に関し、特に、高効率で、面内強度分布の均一性が高く、平行度の高い光ファイバを用いた平行光源装置に関するものである。
従来、例えば、半導体露光用のレーザ光源は、ピグテイルモジュールを束ねた高出力かつ大口径光ファイバ束出力構造であり、DMD(Digital Micromirror Device)を利用したマスクレス露光機用光源として使用されている。DMDにその光源からの光を導入する際、光束は平行光である程露光面への照射効率(トータルとしての利用効率)が高いが、理想的な平行光を作るには、光ファイバ束出力端のビームスポットを限りなくゼロに近づける必要がある。光ファイバ束出力構造タイプの光源は、高出力である一方、ビームスポットサイズが大きく(例えば、600μm)、平行光として取り出すことが困難であるため、光の利用効率が低くなってしまうという課題がある。光学系でその利用効率を上げるのに制限があるため、ピグテイルモジュールに用いている半導体レーザ個々の高出力化に頼らざるを得ないのが現状である。
また、露光制御の際、面内強度分布の平均化が必要となる。例えば光ファイバ束モジュールの場合、照明領域の中心部分の出力が高く、中心から離れるに従って光強度が減少する傾向を持つ。強度の低い部分は露光に寄与することができないので、有効面積が制限される。また、有効範囲内においても、面内強度が低い箇所に合わせて露光制御をするため、強度の高い部分を低い部分に合わせる必要があり、出力が低くなってしまう問題がある。
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、投影装置、投影露光装置、マスクレス露光装置等に用いられる光源装置であって、光の利用効率が高く、面内強度分布の均一性が高く、平行度の高い平行光源装置を提供することである。
上記目的を達成する本発明の平行光源装置は、稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に射出端を配置した偏波保存型シングルモード光ファイバとからなり、その偏波保存型シングルモード光ファイバ各々の入射端に偏光した光が結合され、その射出端の偏光方向が全て同じ方向を向いている2つの光ファイバコリメータアレイを含み、一方の光ファイバコリメータアレイから射出される平行光と他方の光ファイバコリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように選ばれ、両平行光が偏光合成器により合成されるように構成されてなることを特徴とするものである。
この場合、前記レンズアレイの前記正レンズが列状に並ぶ方向をX方向、それに直交する方向をY方向とするとき、前記偏光合成器により両平行光が合成された状態において、前記一方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのX方向と前記他方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのX方向とが一致し、前記一方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と前記他方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは同じで、X方向の配列は相互にX方向配列ピッチの1/2ずれているように配置することが望ましい。
本発明のもう1つの平行光源装置は、稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に射出端を配置した偏波保存型シングルモード光ファイバとからなり、その偏波保存型シングルモード光ファイバ各々の入射端に偏光した光が結合され、その射出端の偏光方向が全て同じ方向を向いている4つの光ファイバコリメータアレイを含み、その中の第1光ファイバコリメータアレイから射出される平行光と第2光ファイバコリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように選ばれ、両平行光を合成して第1合成平行光とする第1偏光合成器を備え、第3光ファイバコリメータアレイから射出される平行光と第4光ファイバコリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように選ばれ、両平行光を合成して第2合成平行光とする第2偏光合成器を備え、前記第1合成平行光の一部を透過させ前記第2合成平行光の一部を反射させて両平行光を合成して第3合成平行光とし、前記第1合成平行光の残りの一部を反射させ前記第2合成平行光の残りの一部を透過させて両平行光を合成して第4合成平行光とする無偏光合成器を備え、前記第3合成平行光と前記第4合成平行光を隣接して同じ方向に進む平行光にする偏向手段を含むことを特徴とするものである。
この場合、前記レンズアレイの前記正レンズが列状に並ぶ方向をX方向、それに直交する方向をY方向とするとき、前記無偏光合成器により4つの平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイから前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのX方向が全て一致し、前記第1偏光合成器により両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは同じで、X方向の配列は相互にX方向配列ピッチの1/2ずれており、前記第2偏光合成器により両平行光が合成された状態において、前記第3光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは同じで、X方向の配列は相互にX方向配列ピッチの1/2ずれており、さらに、前記無偏光合成器で前記第1合成平行光と前記第2合成平行光で両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイ及び前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と、前記第3光ファイバコリメータアレイ及び前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは、相互にY方向配列ピッチの1/2ずれていることが望ましい。
そして、前記無偏光合成器で前記第1合成平行光と前記第2合成平行光で両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせに対する、前記第3光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせのX方向への繰り返しピッチの位相ずれが、前記レンズアレイのX方向配列ピッチの1/6又は1/3となっているか、1/4となっているか、あるいは、1/8から3/8の範囲内にあることが望ましい。
また、以上において前記第1偏光合成器と前記第2偏光合成器とが同一偏光合成器からなるようにすることもできる。
本発明のもう1つ別の平行光源装置は、正レンズと、その正レンズの焦点に光源を有し、前記光源から前記正レンズに直線偏光が入射される2つの光コリメータを含み、一方の光コリメータから射出される平行光と他方の光コリメータから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光が偏光合成器により合成されるように構成され、前記一方の光コリメータと前記他方の光コリメータが相互にずれていることを特徴とするものである。
本発明のさらにもう1つ別の平行光源装置は、正レンズと、その正レンズの焦点に光源を有し、前記光源から前記正レンズに直線偏光が入射される4つの光コリメータを含み、その中の第1光コリメータから出射される平行光と第2光コリメータから出射される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第1合成平行光とする第1偏光合成器を備え、第3光コリメータから出射される平行光と第4光コリメータから出射される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第2合成平行光とする第2偏光合成器を備え、前記第1合成平行光の一部を透過させ前記第2合成平行光の一部を反射させて両平行光を合成して第3合成平行光とし、前記第1合成平行光の残りの一部を反射させ前記第2合成平行光の残りの一部を透過させて両平行光を合成して第4合成平行光とする無偏光合成器を備え、前記第3合成平行光と前記第4合成平行光を隣接して同じ方向に進む平行光にする偏向手段を含み、前記第1光コリメータと前記第2光コリメータが相互にずれており、前記第3光コリメータと前記第4光コリメータが相互にずれていることを特徴とするものである。
本発明のさらにもう1つ別の平行光源装置は、稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に光源を有し、前記光源から偏光方向が全て同じ方向を向いている光が入射される2つの光コリメータアレイを含み、一方の光コリメータアレイから射出される平行光と他方の光コリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光が偏光合成器により合成されるように構成されてなることを特徴とするものである。
本発明のさらにもう1つ別の平行光源装置は、稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に光源を有し、前記光源から偏光方向が全て同じ方向を向いている光が入射される4つの光コリメータアレイを含み、その中の第1光コリメータアレイから出射される平行光と第2光コリメータアレイから出射される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第1合成平行光とする第1偏光合成器を備え、第3光コリメータアレイから出射される平行光と第4光コリメータアレイから出射される平行先の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第2合成平行光とする第2偏光合成器を備え、前記第1合成平行光の一部を透過させ前記第2合成平行光の一部を反射させて両平行光を合成して第3合成平行光とし、前記第1合成平行光の残りの一部を反射させ前記第2合成平行光の残りの一部を透過させて両平行光を合成して第4合成平行光とする無偏光合成器を備え、前記第3合成平行光と前記第4合成平行光を隣接して同じ方向に進む平行光にする偏向手段を含むことを特徴とするものである。
本発明の平行光源装置によると、偏波保存型シングルモード光ファイバの射出端等から出た全ての光を無駄なく平行光として利用できるため、光の利用効率が極めて高い。そして、レンズアレイの各正レンズの焦点に配置される偏波保存型シングルモード光ファイバの射出端等は点光源と見なすことができるので、平行度の極めて高い平行光が得られる。さらに、少なくとも2つの平行光を合成して(重ねて)平均化しているので、面内強度分布の均一性が高い平行光が得られる。そのため、投影装置、投影露光装置、マスクレス露光装置等の照明光源装置に適したものが得られる。例えばDMDを利用したマスクレス露光機用光源として使用すると、露光時間の短縮を図ることができる。
なお、本発明の平行光源装置は、面内位置で偏光方向が異なるので、光強度のみの均一性を要する平行光源装置に適している。
以下に、本発明の平行光源装置を実施例に基づいて説明する。
図1は、本発明の1実施例の平行光源装置の構成を示す断面図である。この平行光源装置は、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14と、第1光ファイバコリメータアレイ11からの平行光と第2光ファイバコリメータアレイ12からの平行光とを合成する第1偏光合成器15と、第3光ファイバコリメータアレイ13からの平行光と第4光ファイバコリメータアレイ14からの平行光とを合成する第2偏光合成器16と、第1偏光合成器15で合成された第1合成平行光19と第2偏光合成器16で合成された第2合成平行光20とを合成して第3合成平行光21と第4合成平行光22にする無偏光合成器17と、無偏光合成器17で合成された第4合成平行光22を第3合成平行光21と同じ方向に向ける反射プリズム18とからなる。
ここで、まず、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14は同様の構成であるので、光ファイバコリメータアレイ11を代表にあげてその構成を説明する。光ファイバコリメータアレイ11は、図2に平面図を示すような同一特性の微小な正レンズ1を複数稠密にアレイ状に配置したレンズアレイ10と、その正レンズ1の光軸上の焦点位置各々に射出端を配置したPANDA型等の偏波保存型シングルモード光ファイバ2のアレイとからなり、レンズアレイ10の個々の正レンズ1に対応して配置されている各偏波保存型シングルモード光ファイバ2の入射端には、図3に示すように、同一特性の半導体レーザ3からの両矢符方向に偏波面5を持つ発振光が偏波保存型シングルモード光ファイバ2の1つの偏波面保存方向に一致して入射結合するように、集光レンズ4を介して結合されている。
ここで、今後の説明のために、光ファイバコリメータアレイ11のレンズアレイ10の正レンズ1の形状と配置方向を説明しておく。図2に示すように、正レンズ1を稠密に配置しようとする場合、その外形は円でなく光軸を中心とする正六角形になる。正レンズ1が列状に並ぶ方向をX方向、それに直交する方向をY方向とするとき、X方向に一列に並ぶ正レンズ1の列とY方向に隣接する隣の正レンズ1の列とでは正レンズ1の繰り返しピッチが半分ずれていることになる。
図1に戻って、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14のレンズアレイ10のY方向は何れも図1の面に垂直に向いており、したがって、各レンズアレイ10のX方向は図1の面に平行となっており、何れのレンズアレイ10においても、正レンズ1は図1の面に平行に列状に並んでいる。
そして、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14それぞれにおいては、レンズアレイ10の個々の偏波保存型シングルモード光ファイバ2の射出端から出る光の偏波方向が、各光ファイバコリメータアレイ中で同じになるように配置されており、図1に示すように、第1ファイバコリメータアレイ11においてはp偏光に、第2ファイバコリメータアレイ12においてはs偏光に、第3ファイバコリメータアレイ13においてはp偏光に、第4ファイバコリメータアレイ14においてはs偏光になるように配置されている。
このような構成であるので、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14各々においては、アレイ状に配置された偏波保存型シングルモード光ファイバ2各々の射出端からp偏光又はs偏光のシングルモードで強度がガウス分布の発散光が射出され、おのおのの発散光はレンズアレイ10の対応する正レンズ1で平行光に変換される。レンズアレイ10の隣接した何れの正レンズ1からも同一方向(光軸方向)の平行光が射出されるため、それぞれ、第1ファイバコリメータアレイ11からは全体でp偏光の平行光が、第2ファイバコリメータアレイ12からは全体でs偏光の平行光が、第3ファイバコリメータアレイ13からは全体でp偏光の平行光が、第4ファイバコリメータアレイ14からは全体でs偏光の平行光が射出される。
そして、第1光ファイバコリメータアレイ11からのp偏光の平行光と、第2光ファイバコリメータアレイ12からのs偏光の平行光とは、図示のように相互に直交する方向に進み、第3ファイバコリメータアレイ13からのp偏光の平行光と、第4ファイバコリメータアレイ14からのs偏光の平行光とは、図示のように同様に相互に直交する方向に進むように、相互に直交する方向に向き、かつ、第1光ファイバコリメータアレイ11のレンズアレイ10と、第4光ファイバコリメータアレイ14のレンズアレイ10が略同一面に、また、第2光ファイバコリメータアレイ12のレンズアレイ10と、第3光ファイバコリメータアレイ13のレンズアレイ10が略同一面に位置するように配置されている。
第1光ファイバコリメータアレイ11からのp偏光の平行光と第2光ファイバコリメータアレイ12からのs偏光の平行光とが直交する位置に第1偏光合成器15が配置され、第3光ファイバコリメータアレイ13からのp偏光の平行光と第4光ファイバコリメータアレイ14からのs偏光の平行光とが直交する位置に第2偏光合成器16が配置されている。第1偏光合成器15と第2偏光合成器16は、偏光ビームスプリッタープリズムのように、それぞれの45°配置の偏光合成面A、Bでp偏光を略100%透過し、s偏光を略100%反射する特性を持つものである。したがって、第1光ファイバコリメータアレイ11からのp偏光の平行光は第1偏光合成器15の偏光合成面Aを透過し、第2光ファイバコリメータアレイ12からのs偏光の平行光はその偏光合成面Aで反射され、両平行光は第1偏光合成器15の偏光合成面Aで合成されて第1合成平行光19となる。また、第3光ファイバコリメータアレイ13からのp偏光の平行光は第2偏光合成器16の偏光合成面Bを透過し、第4光ファイバコリメータアレイ14からのs偏光の平行光はその偏光合成面Bで反射され、両平行光は第2偏光合成器16の偏光合成面Bで合成されて第2合成平行光20となる。
そして、第1合成平行光19と第2合成平行光20とが直交する位置に無偏光合成器17が配置されている。この無偏光合成器17は、通常のビームスプリッタープリズム又はハーフミラーのように、その45°配置の無偏光合成面Cで、第1合成平行光19、第2合成平行光20の偏光状態に依存せずに、それらの略50%の強度を反射し、残りの略50%の強度を透過するものであり、したがって、無偏光合成面Cで第1合成平行光19の略半分の強度が反射され、第2合成平行光20の略半分の強度が無偏光合成面Cを透過してそれらの平行光は合成されて第3合成平行光21となる。また、無偏光合成面Cを第1合成平行光19の略半分の強度が透過し、第2合成平行光20の略半分の強度が無偏光合成面Cで反射されてそれらの平行光は合成され、反射プリズム18の反射面Dで第3合成平行光21と同じ方向に反射されて第4合成平行光22となる。第3合成平行光21と第4合成平行光22は同じ強度で同じ方向に隙間なく隣接しているので、第3合成平行光21と第4合成平行光22を合わせて、平行度の高い平行光として、投影装置、投影露光装置、マスクレス露光装置等の照明光として用いることができる。しかも、第1偏光合成器15、第2偏光合成器16、無偏光合成器17を反射あるいは透過した光は、最終的に全て平行光成分として利用されているので、光の利用効率が極めて高いものとなっている。しかも、正レンズ1の焦点に配置される光源は、偏波保存型シングルモード光ファイバ2の射出端であるため、実質的に点光源であるので、合成平行光19、20、21、22の平行度は極めて高いものである。
ところで、このようにして得られる第1合成平行光19、第2合成平行光20、第3合成平行光21と第4合成平行光22の並列合成平行光は、平均的に見れば面内強度が均一であり、合成平行光19、20だけでも、投影装置、投影露光装置、マスクレス露光装置等の照明光として用いることができる。しかしながら、上記したように、偏波保存型シングルモード光ファイバ2各々の射出端から発散される光は強度分布がガウス分布となっているので、レンズアレイ10の正レンズ1のNA(開口数)と偏波保存型シングルモード光ファイバ2のNAを合わせて効率的に射出光を利用しようとすると、レンズアレイ10から出る平行光は、各正レンズ1中心に強度のガウス分布のピークがあり、その周辺に向かうにつれて強度が弱まっていき、レンズアレイ10全面では正レンズ1の配列に対応したガウス分布が周期的に繰り返してなる強度分布の平行光であるので、局所的には強度分布は必ずしも均一であるとは言えない。
そこで、第1偏光合成器15(偏光合成面A)で第1光ファイバコリメータアレイ11からの平行光と第2光ファイバコリメータアレイ12からの平行光を合成するときに、及び、第2偏光合成器16(偏光合成面B)で第3光ファイバコリメータアレイ13からの平行光と第4光ファイバコリメータアレイ14からの平行光を合成するときに、直交する2方向の中の少なくとも1つの方向、例えばX方向に強度分布を平均化して略均一になるようにし、次に、無偏光合成器17で第1合成平行光19と第2合成平行光20とを合成するときに、直交する2方向の中の別の1つの方向、例えばY方向に強度分布を平均化して面内全体で略均一になるようにすることができる。そのための構成を以下に説明する。
図4は、第1偏光合成器15、第2偏光合成器16それぞれで合成された平行光に対するレンズアレイ10相互の位置関係と合成光の強度分布を示す図である。以後、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14のレンズアレイ10をそれぞれ101 〜104 とする。
図2のように正レンズ1が稠密にアレイ状に配置されている場合に、正レンズ1のX方向の配列ピッチを2Mとすると、Y方向の配列ピッチは(3/2)Lとなり、MとLの間には、M=(√3/2)Lの関係がある。ここで、Lは正レンズ1の正六角形の1辺の長さに相当する。この図2のような配列において、第1光ファイバコリメータアレイ11(第3光ファイバコリメータアレイ13)のレンズアレイ101 (103 )と第2光ファイバコリメータアレイ12(第4光ファイバコリメータアレイ14)のレンズアレイ102 (104 )との間にX方向にレンズ配列ピッチの1/2、すなわち、Mの配置ずれが発生するように、第1偏光合成器15(第2偏光合成器16)で第1光ファイバコリメータアレイ11(第3光ファイバコリメータアレイ13)と第2光ファイバコリメータアレイ12(第4光ファイバコリメータアレイ14)を合成するようにすると、図4の上方に分布曲線を示したように、第1合成平行光19(第2合成平行光20)のX方向の光強度分布は略均一になる。より具体的には、正レンズ1のNAと偏波保存型シングルモード光ファイバ2のNAを略一致させた場合、正レンズ1の中心を結ぶX方向の光強度分布のバラツキは略2%である。
しかしながら、第1合成平行光19(第2合成平行光20)のY方向の光強度分布は、図4の左方に分布曲線を示したように、Y方向の配列ピッチと同じピッチで変化し、正レンズ1の中心位置に対応してピークを持つ繰り返し分布となる。
次に、図5に、無偏光合成器17でこのようにX方向に平均化された第1合成平行光19と第2合成平行光20とが合成された平行光に対するレンズアレイ101 〜104 相互の位置関係と合成光の強度分布を示す。第1光ファイバコリメータアレイ11のレンズアレイ101 と第2光ファイバコリメータアレイ12のレンズアレイ102 との間、及び、第3光ファイバコリメータアレイ13のレンズアレイ103 と第4光ファイバコリメータアレイ14のレンズアレイ104 との間は、上記のように、それぞれX方向にレンズ配列ピッチの半分のMの配置ずれがあるが、Y方向にはY方向の配列ピッチ(3/2)Lの半分、すなわち、(3/4)Lだけ、レンズアレイ101 (102 )とレンズアレイ103 (104 )の間がずれるように合成する。そして、図5の場合は、レンズアレイ101 と102 の組み合わせに対するレンズアレイ103 と104 の組み合わせのX方向への繰り返しピッチの位相ずれが、X方向のレンズ配列ピッチ2Mの1/3、すなわち、(2/3)Mとなるように、レンズアレイ101 と102 の組み合わせ(第1合成平行光19)とレンズアレイ103 と104 の組み合わせ(第2合成平行光20)とを合成するようにする。その場合の正レンズ1の中心を結ぶX方向の光強度分布のバラツキは図5の上方に分布曲線を示すようになり、上記の具体例においては略2%であり、また、Y方向の光強度分布は図5の左方に分布曲線を示すように、平均化されて略均一になる。ここで、レンズアレイ101 と102 の組み合わせに対するレンズアレイ103 と104 の組み合わせのX方向へのずらし量を横軸に、面内の光強度分布のバラツキΔP/Pmax を縦軸にとった図7から、上記の具体例においては、面内の光強度分布のバラツキは略6.5%であることが分かる。なお、ΔPは、光強度分布の最大値をPmax 、最小値をPmin としたとき、ΔP=Pmax −Pmin である。
図5の代わりに、図6に示すように、レンズアレイ101 と102 の組み合わせに対するレンズアレイ103 と104 の組み合わせのX方向への繰り返しピッチの位相ずれを、X方向のレンズ配列ピッチ2Mの1/4、すなわち、(1/2)Mとなるように、レンズアレイ101 と102 の組み合わせ(第1合成平行光19)とレンズアレイ103 と104 の組み合わせ(第2合成平行光20)とを合成するようにしてもよい。その場合の正レンズ1の中心を結ぶX方向の光強度分布のバラツキは図6の上方に分布曲線を示すようになり、上記の具体例においては略2%であり、また、Y方向の光強度分布は図6の左方に分布曲線を示すように、平均化されて略均一になる。上記の具体例においては、面内の光強度分布のバラツキは、図7から略7.5%であることが分かり、図5の配置に比べてバラツキが若干大きくなるが、十分に平均化されていると言える。なお、その他の配置関係は図5の場合と同様である。
なお、レンズアレイ101 と102 の組み合わせに対するレンズアレイ103 と104 の組み合わせのX方向へのずらし量をX方向のレンズ配列ピッチ2Mの1/6、すなわち、(1/3)Mの場合は、1/3、すなわち、(2/3)Mの場合と同様に、面内の光強度分布のバラツキは略6.5%であり、1/8、3/8、すなわち、(1/4)M、(3/4)Mの場合は、1/4、すなわち、(1/2)Mの場合と同様に、面内の光強度分布のバラツキは略7.5%であることが、図7から分かる。
このことから、レンズアレイ101 と102 の組み合わせに対するレンズアレイ103 と104 の組み合わせのX方向へのずらし量は、(1/4)M〜(3/4)Mの範囲にあれば、面内の光強度分布のバラツキは略7.5%以下になることが分かる。なお、図形の対称性から、(5/4)M〜(7/4)Mの範囲においても同様である。
次に、図8に、図1の平行光源装置の変形例の構成を示す断面図を示す。図1の実施例と異なるのは、第1偏光合成器15と第2偏光合成器16の代わりに、図の断面内の大きさが縦横略2倍の同様な構成の単一の偏光合成器25を用いる点と、反射プリズム18と無偏光合成器17の代わりに、形状が異なり反射面の配置が異なる単一の無偏光合成器26を用いる点である。この変形例を説明すると、図1の場合と同様に、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14を備え、各々の光ファイバコリメータアレイ11〜14の構成は図1の場合と同様であるが、第1光ファイバコリメータアレイ11と第3光ファイバコリメータアレイ13は、図8の面で隣接していてそれらのp偏光の射出平行光も隣接していて同一方向に射出されるようになっており、また、第2光ファイバコリメータアレイ12と第4光ファイバコリメータアレイ14も、図8の面で隣接していてそれらのs偏光の射出平行光も隣接していて同一方向に射出されるようになっており、かつ、第1光ファイバコリメータアレイ11と第3光ファイバコリメータアレイ13からのp偏光の平行光と、第2光ファイバコリメータアレイ12と第4光ファイバコリメータアレイ14からのs偏光の平行光とは、図示のように相互に直交する方向に進むように、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14が配置されている。そして、第1光ファイバコリメータアレイ11のレンズアレイ10と、第3光ファイバコリメータアレイ13のレンズアレイ10とが同一面で隣接するように、また、第2光ファイバコリメータアレイ12のレンズアレイ10と、第4光ファイバコリメータアレイ14のレンズアレイ10とが同一面で隣接するように、配置されている。
そして、第1光ファイバコリメータアレイ11と第3光ファイバコリメータアレイ13からのp偏光の平行光と、第2光ファイバコリメータアレイ12と第4光ファイバコリメータアレイ14からのs偏光の平行光とが直交する位置に、偏光合成面Eがそれら平行光に対して45°の角度をなすように偏光合成器25が配置されている。
そのため、第1光ファイバコリメータアレイ11からのp偏光の平行光は偏光合成器25の偏光合成面Eの片側を透過し、第2光ファイバコリメータアレイ12からのs偏光の平行光は偏光合成面Eの同じ片側で反射され、両平行光は偏光合成面Eの片側で合成されて第1合成平行光19となる。また、第3光ファイバコリメータアレイ13からのp偏光の平行光は偏光合成器25の偏光合成面Eの反対側の片側を透過し、第4光ファイバコリメータアレイ14からのs偏光の平行光は偏光合成面Eの同じ片側で反射され、両平行光は偏光合成面Eの反対側の片側で合成されて第2合成平行光20となる。
第1合成平行光19と第2合成平行光20とは、図示のように、相互に隣接して平行に出るので、その射出側に配置される無偏光合成器26には、第2合成平行光20が入射する位置に進行方向を90°偏向する反射面Gが配置されている。また、第1合成平行光19が入射する位置には、無偏光合成面Cと同様の無偏光合成面Fが配置され、さらに、無偏光合成面Fで反射された平行光の進行方向を90°折り曲げて無偏光合成面Fに入射する平行光と同じ方向に向ける反射面Dと同様の反射面Hが配置されている。無偏光合成器26のこれら反射面G、無偏光合成面F、反射面Hは相互に平行に配置されており、これらの面を透明プリズム中に一体に配置するように構成するのが望ましい。
無偏光合成器26の反射面Gに入射した第2合成平行光20は、90°偏向されて無偏光合成面Fに入射し、その略50%の強度が反射され、残りの略50%の強度は透過する。また、無偏光合成面Fに入射した第1合成平行光19も、その略50%の強度が反射され、残りの略50%の強度は透過する。したがって、無偏光合成面Fで第1合成平行光19の略半分の強度が透過し、第2合成平行光20の略半分の強度が反射されてそれらの平行光は合成されて第4合成平行光22として無偏光合成器26から射出する。また、無偏光合成面Fで第1合成平行光19の略半分の強度が反射され、第2合成平行光20の略半分の強度が透過してそれらの平行光は合成され、反射面Hで第3合成平行光21と同じ方向に反射されて第3合成平行光21となる。第3合成平行光21と第4合成平行光22は同じ強度で同じ方向に隙間なく隣接しているので、第3合成平行光21と第4合成平行光22を合わせて、平行度の高い平行光として、投影装置、投影露光装置、マスクレス露光装置等の照明光として用いることができる。しかも、偏光合成器25、無偏光合成器26を反射あるいは透過した光は、最終的に全て平行光成分として利用されているので、光の利用効率が極めて高いものとなっている。しかも、正レンズ1の焦点に配置される光源は、偏波保存型シングルモード光ファイバ2の射出端であるため、実質的に点光源であるので、合成平行光19、20、21、22の平行度は極めて高いものである。
この変形例においても、図5、図6に示したように、第1〜第4光ファイバコリメータアレイ11〜14のレンズアレイ101 〜104 相互の位置関係を調節することにより、直交するX方向、Y方向両方向において強度分布が平均化され略均一になった平行度が極めて高い平行光を得ることができる。
以上、本発明の平行光源装置を実施例に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能である。例えば、レンズアレイ10、101 〜104 の正レンズ1の焦点位置各々に偏波保存型シングルモード光ファイバ2の射出端(2次光源)を配置する代わりに、直線偏光を放射する半導体レーザ等の点光源を配置するようにしてもよい。また、レンズアレイ10、101 〜104 の正レンズ1の稠密配置に関しては、図2のように正六角形の外形の正レンズ1を稠密に配置する場合以外に、図9(a)に示すように、正方形の外形の正レンズ1を例えば碁盤の目状に稠密に配置するようにしてもよく、あるいは、図9(b)に示すように、円形外形の正レンズ1を俵積み状に配置してもよい。
本発明の1実施例の平行光源装置の構成を示す断面図である。 レンズアレイの平面図である。 偏波保存型シングルモード光ファイバの入射端に半導体レーザが結合されている構成を説明するための模式的斜視図である。 第1偏光合成器、第2偏光合成器それぞれで合成された平行光に対するレンズアレイ相互の位置関係と合成光の強度分布を示す図である。 無偏光合成器で合成された平行光に対するレンズアレイ相互の位置関係と合成光の強度分布を示す図である。 図5の変形を示す同様の図である。 一方のレンズアレイの組み合わせに対する他方のレンズアレイの組み合わせのX方向へのずらし量と面内の光強度分布のバラツキの関係を示す図である。 図1の平行光源装置の変形例の構成を示す断面図である。 レンズアレイの変形例の平面図である。
符号の説明
1…正レンズ
2…偏波保存型シングルモード光ファイバ
3…半導体レーザ
4…集光レンズ
5…偏波面
10…レンズアレイ
101 …第1光ファイバコリメータアレイのレンズアレイ
102 …第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイ
103 …第3光ファイバコリメータアレイのレンズアレイ
104 …第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイ
11…第1光ファイバコリメータアレイ
12…第2光ファイバコリメータアレイ
13…第3光ファイバコリメータアレイ
14…第4光ファイバコリメータアレイ
15…第1偏光合成器
16…第2偏光合成器
17…無偏光合成器
18…反射プリズム
19…第1合成平行光
20…第2合成平行光
21…第3合成平行光
22…第4合成平行光
25…偏光合成器
26…無偏光合成器
A…偏光合成面
B…偏光合成面
C…無偏光合成面
D…反射面
E…偏光合成面
F…無偏光合成面
G…反射面
H…反射面

Claims (12)

  1. 稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に射出端を配置した偏波保存型シングルモード光ファイバとからなり、その偏波保存型シングルモード光ファイバ各々の入射端に偏光した光が結合され、その射出端の偏光方向が全て同じ方向を向いている2つの光ファイバコリメータアレイを含み、一方の光ファイバコリメータアレイから射出される平行光と他方の光ファイバコリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように選ばれ、両平行光が偏光合成器により合成されるように構成されてなることを特徴とする平行光源装置。
  2. 前記レンズアレイの前記正レンズが列状に並ぶ方向をX方向、それに直交する方向をY方向とするとき、前記偏光合成器により両平行光が合成された状態において、前記一方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのX方向と前記他方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのX方向とが一致し、前記一方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と前記他方の光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは同じで、X方向の配列は相互にX方向配列ピッチの1/2ずれていることを特徴とする請求項1記載の平行光源装置。
  3. 稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に射出端を配置した偏波保存型シングルモード光ファイバとからなり、その偏波保存型シングルモード光ファイバ各々の入射端に偏光した光が結合され、その射出端の偏光方向が全て同じ方向を向いている4つの光ファイバコリメータアレイを含み、その中の第1光ファイバコリメータアレイから射出される平行光と第2光ファイバコリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように選ばれ、両平行光を合成して第1合成平行光とする第1偏光合成器を備え、第3光ファイバコリメータアレイから射出される平行光と第4光ファイバコリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように選ばれ、両平行光を合成して第2合成平行光とする第2偏光合成器を備え、前記第1合成平行光の一部を透過させ前記第2合成平行光の一部を反射させて両平行光を合成して第3合成平行光とし、前記第1合成平行光の残りの一部を反射させ前記第2合成平行光の残りの一部を透過させて両平行光を合成して第4合成平行光とする無偏光合成器を備え、前記第3合成平行光と前記第4合成平行光を隣接して同じ方向に進む平行光にする偏向手段を含むことを特徴とする平行光源装置。
  4. 前記レンズアレイの前記正レンズが列状に並ぶ方向をX方向、それに直交する方向をY方向とするとき、前記無偏光合成器により4つの平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイから前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのX方向が全て一致し、前記第1偏光合成器により両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは同じで、X方向の配列は相互にX方向配列ピッチの1/2ずれており、前記第2偏光合成器により両平行光が合成された状態において、前記第3光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは同じで、X方向の配列は相互にX方向配列ピッチの1/2ずれており、さらに、前記無偏光合成器で前記第1合成平行光と前記第2合成平行光で両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイ及び前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列と、前記第3光ファイバコリメータアレイ及び前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイのY方向の配列とは、相互にY方向配列ピッチの1/2ずれていることを特徴とする請求項3記載の平行光源装置。
  5. 前記無偏光合成器で前記第1合成平行光と前記第2合成平行光で両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせに対する、前記第3光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせのX方向への繰り返しピッチの位相ずれが、前記レンズアレイのX方向配列ピッチの1/6又は1/3となっていることを特徴とする請求項4記載の平行光源装置。
  6. 前記無偏光合成器で前記第1合成平行光と前記第2合成平行光で両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせに対する、前記第3光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせのX方向への繰り返しピッチの位相ずれが、前記レンズアレイのX方向配列ピッチの1/4となっていることを特徴とする請求項4記載の平行光源装置。
  7. 前記無偏光合成器で前記第1合成平行光と前記第2合成平行光で両平行光が合成された状態において、前記第1光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第2光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせに対する、前記第3光ファイバコリメータアレイのレンズアレイと前記第4光ファイバコリメータアレイのレンズアレイとの組み合わせのX方向への繰り返しピッチの位相ずれが、前記レンズアレイのX方向配列ピッチの1/8から3/8の範囲内にあることを特徴とする請求項4記載の平行光源装置。
  8. 前記第1偏光合成器と前記第2偏光合成器とが同一偏光合成器からなることを特徴とする請求項3から7の何れか1項記載の平行光源装置。
  9. 正レンズと、その正レンズの焦点に光源を有し、前記光源から前記正レンズに直線偏光が入射される2つの光コリメータを含み、一方の光コリメータから射出される平行光と他方の光コリメータから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光が偏光合成器により合成されるように構成され、前記一方の光コリメータと前記他方の光コリメータが相互にずれていることを特徴とする平行光源装置。
  10. 正レンズと、その正レンズの焦点に光源を有し、前記光源から前記正レンズに直線偏光が入射される4つの光コリメータを含み、その中の第1光コリメータから出射される平行光と第2光コリメータから出射される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第1合成平行光とする第1偏光合成器を備え、第3光コリメータから出射される平行光と第4光コリメータから出射される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第2合成平行光とする第2偏光合成器を備え、前記第1合成平行光の一部を透過させ前記第2合成平行光の一部を反射させて両平行光を合成して第3合成平行光とし、前記第1合成平行光の残りの一部を反射させ前記第2合成平行光の残りの一部を透過させて両平行光を合成して第4合成平行光とする無偏光合成器を備え、前記第3合成平行光と前記第4合成平行光を隣接して同じ方向に進む平行光にする偏向手段を含み、前記第1光コリメータと前記第2光コリメータが相互にずれており、前記第3光コリメータと前記第4光コリメータが相互にずれていることを特徴とする平行光源装置。
  11. 稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に光源を有し、前記光源から偏光方向が全て同じ方向を向いている光が入射される2つの光コリメータアレイを含み、一方の光コリメータアレイから射出される平行光と他方の光コリメータアレイから射出される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光が偏光合成器により合成されるように構成されてなることを特徴とする平行光源装置。
  12. 稠密配置した正レンズのレンズアレイと、その正レンズの焦点各々に光源を有し、前記光源から偏光方向が全て同じ方向を向いている光が入射される4つの光コリメータアレイを含み、その中の第1光コリメータアレイから出射される平行光と第2光コリメータアレイから出射される平行光の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第1合成平行光とする第1偏光合成器を備え、第3光コリメータアレイから出射される平行光と第4光コリメータアレイから出射される平行先の偏光方向が相互に直交するように配置され、両平行光を合成して第2合成平行光とする第2偏光合成器を備え、前記第1合成平行光の一部を透過させ前記第2合成平行光の一部を反射させて両平行光を合成して第3合成平行光とし、前記第1合成平行光の残りの一部を反射させ前記第2合成平行光の残りの一部を透過させて両平行光を合成して第4合成平行光とする無偏光合成器を備え、前記第3合成平行光と前記第4合成平行光を隣接して同じ方向に進む平行光にする偏向手段を含むことを特徴とする平行光源装置。
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