JP2006153532A - バイオチップ用基板及びバイオチップ並びにバイオチップ用基板の製造方法及びバイオチップの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数の所定位置に、同一種類或いは互いに異なる複数の生体関連物質を含む溶液Wを固相可能なものであって、基板表面2aの所定位置以外の領域に形成され、溶液Wを撥水する疎水性領域4と、基板表面2aの所定位置に形成され、溶液Wを固相可能な複数の親水性領域3とを備え、複数の親水性領域3が、それぞれが疎水性領域4に周囲を囲まれるように形成されているバイオチップ用基板2、該バイオチップ用基板2で製造されたバイオチップ1並びにバイオチップ用基板2の製造方法及びバイオチップ1の製造方法を提供する。
【選択図】 図2
Description
するバイオチップ用基板及びバイオチップ並びにバイオチップ用基板の製造方法及びバイ
オチップの製造方法に関するものである。
このように、目的に応じた所望の生体材料をプレート(基板)上に所定のパターンで形成したバイオチップが使用され始めている。
上記タイピング法は、図12に示すように、所望の生体材料が収容されている容器から、先鋭化された金属ピンやガラスキャピラリー(1本或いはアレイ状に配された複数本)により生体材料を取り出し、該生体材料を基板表面にドット状(円形状)にタイピングする方法である。そして、このタイピングを複数回繰り返すことで、ドット状の生体材料が複数並んだ(例えば、アレイ状)バイオチップを製造することができる。
また、上記半導体プロセス法は、半導体プロセスを応用する方法であって、図13に示すように、まず、基板上にフォトレジスト膜の塗布を行う。塗布後、フォトレジスト膜に、所望のパターン(ドット状の開口部を有するデザイン)を露光して、開口部とフォトレジスト膜とのマトリックスを形成する。そして、ドット状の開口部に所望の生体材料を塗布した後、フォトレジスト膜を除去(剥離)することで、基板上にドット状の生体材料が複数並んだ(例えば、アレイ状)バイオチップを製造することができるものである。
また、上記インクジェット法は、図14に示すように、リザーバタンク内に生体材料を収容した後に、ピエゾ方式やバブルジェット(登録商標)方式等で生体材料を基板上に噴射し、これを繰り返すことで、基板上にドット状の生体材料が複数並んだ(例えば、アレイ状)バイオチップを製造することができるものである。
即ち、タイピング法による製造方法では、金属ピン等を使用するので、ドットの大きさやドット間の距離が制限されてしまい、極微小(例えば、数十〜数百μm)の大きさや間隔でドットを形成することが困難なものであった。
特に、バイオチップを観察、分析等する際、従来より光による観察が主流(蛍光観察等)とされているが、タンパク質等の増幅不可能な生体試料は試料の絶対的な量が少ないが、これらの生体材料をより詳細、厳密に分析することが今後望まれており、光を利用した観察では限界が生じている。これは、極微小の観察領域に生体材料を配置したとしても、蛍光励起効率が低く検出ができない等、光では観察が困難であり、また、増幅等も困難であるためである。そこで、生体材料を、走査型プローブ顕微鏡(SPM:Scanning Probe Microscope)を用いて、微小領域を原子レベルで観察したり、走査型プローブ顕微鏡の修飾を施した探針との相互作用を検出したりする等の方法が考えられている。そのためには、生体材料を微小な観察領域に配置して、効率良く観察や分析等を行うことが必須とされている。
ところが、上述したように、従来のタイピング法による製造方法では、このような要望に対応することはできなかった。
更に、生体材料をタイピングする際に、生体材料が微量ながら周囲、即ち、ドット間に飛沫し易いものであった。この飛沫は、分析時にノイズの発生を招いてしまうので、結果的に高精度の分析等を行うことができなかった。また、この飛沫が発生することからも、ドット間の距離を狭くすることができなかった。
また、フォトレジスト膜の除去後の基板表面は、生体材料を着けた表面と同じ状態であり、反応後の後天的な汚染確立が高く、結果的にドットの分離性が低下するという問題があった。
また、サーバタンクへ投入した生体材料の再使用は、汚染等の観点から推奨されるものではなかった。このことからも、生体材料を効率良く使用することは難しかった。よって、高価な試料や収率の低い試料を取り扱うには不利なものであった。
更に、バブルジェット(登録商標)方式(インクジェット噴射方式の1つ)においては、ヒータを作動させることで発生した気泡により、管路から生体材料を押し出す(噴射)ものであるので、生体材料に対して熱影響を与えてしまい、やはり変性の恐れがあった。
本発明のバイオチップ用基板は、複数の所定位置に、同一種類或いは互いに異なる複数の生体関連物質を含む溶液を固相可能なバイオチップ用基板であって、基板表面の前記所定位置以外の領域に形成され、前記溶液を撥水する疎水性領域と、基板表面の前記所定位置に形成され、前記溶液を固相可能な複数の親水性領域とを備え、前記複数の親水性領域が、それぞれが前記疎水性領域に周囲を囲まれるように形成されていることを特徴とするものである。
このように、基板表面に親水性領域の周囲を囲んで疎水性領域が形成されているので、溶液を親水性領域に、例えば、分注ノズル等により吐出して固相させる際に、仮に周囲に飛沫したとしても、飛沫した溶液は疎水性領域で弾かれて親水性領域に戻り易い。よって、従来のように、隣接する親水性領域の間に飛沫が存在して汚染されることがなくなる。その結果、ノイズ等の発生がなくなり、高精度な観察や分析等を行うことができる。
また、従来のインクジェット方式を利用する必要もないので、熱影響による溶液の変性もなくすことができる。
よって、各親水性領域に固相された溶液を、原子間力顕微鏡(AFM;Atomic Force Microscope)等の走査型プローブ顕微鏡(SPM;Scanning Probe Microscope)を利用して、効率良く高分解能で観察、分析したり、相互作用を検出したりすることができる。その結果、生体試料をより厳密に分析することができる。この際、上述したように、飛沫や変性もない状態で観察を行えるので、観察結果の信頼性を向上することができる。
更に、親水性領域に固相される溶液の量は微量で済むので、例えば、タンパク質等のように多量に確保し難く、高価なものであっても、無駄なく最小限の量で効率良く使用することができる。
よって、金属薄膜に電圧を印加して所望の電位に調整(例えば、マイナスチャージ、プラスチャージ)することで、溶液を親水性領域に、より積極的に集めることができる。従って、より飛沫をなくした状態で確実に溶液を親水性領域に固相でき、より正確な溶液の分析等を行うことができる。
よって、溶液を親水性領域に、より積極的に集めることができる。従って、より飛沫をなくした状態で確実に溶液を親水性領域に固相でき、より正確な溶液の分析等を行うことができる。
このように、微小な大きさ及び間隔で並んだ各親水性領域に、飛沫がない状態で溶液を確実に区分けしたバイオチップを容易に製造することができる。
本実施形態のバイオチップ1は、図1及び図2に示すように、バイオチップ用基板2と、該バイオチップ用基板2の親水性領域3に固相された溶液(生体材料)Wとを備えている。
上記バイオチップ用基板2は、複数の所定位置に、同一種類或いは互いに異なる複数の生体関連物質を含む上記溶液Wを固相可能なものであって、基板表面2aの所定位置以外の領域に形成され、溶液Wを撥水する疎水性領域4と、基板表面2aの所定位置に形成され、溶液Wを固相可能な上記複数の親水性領域3とを備えている。また、複数の親水性領域3は、それぞれが疎水性領域4に周囲を囲まれるように形成されている。
本実施形態のバイオチップ1の製造方法は、バイオチップ用基板2の製造方法で形成された複数の親水性領域3に、溶液Wを固相させる固相工程を有している。
また、上記バイオチップ用基板2の製造方法は、基板表面2aの所定位置以外の領域に、溶液Wを撥水する疎水性の薄膜Mをパターン形成して、所定位置で溶液Wを固相可能な複数の親水性領域3と、該複数の親水性領域3それぞれの周囲を囲む疎水性領域4とを形成する領域形成工程を有している。
具体的に、領域形成工程は、基板表面2a全体にフォトレジスト膜Rを塗布する塗布工程と、該塗布工程後、フォトレジスト膜Rの所定位置に、フォトリソグラフィ技術によって溶液Wを固相可能な親水性領域3をパターン形成するパターン工程と、該パターン工程後、親水性領域3以外のフォトレジスト膜Rを除去すると共に、基板表面2a全体に溶液Wを撥水する疎水性の薄膜Mを成膜して疎水性領域4を形成する疎水性領域形成工程と、該疎水性領域形成工程後、親水性領域3以外のフォトレジスト膜Rを除去する除去工程とを有している。
これら各工程について、以下に詳細に説明する。
次いで、現像処理を行って不要な部分、即ち、親水性領域3以外のフォトレジスト膜Rの除去を行う。例えば、ポジ型レジストを用いた場合には、光が当たった露光部分を除去し、ネガ型レジストを用いた場合には、露光部分以外の除去を行う。
そして、最後に図7に示すように、リフトオフ等により親水性領域3のフォトレジスト膜Rを除去する除去工程を行うことで、疎水性の薄膜Mがパターニングされた状態となり、その結果、基板表面2aに親水性領域3及び疎水性領域4が形成されたバイオチップ用基板2を製造することができる。
特に、本実施形態においては、半導体プロセスを利用してバイオチップ用基板2を製造するので、微小な大きさ(500nm〜10000nm)の親水性領域3を、複数の所定位置に高精度に形成することができる。
例えば、図8に示すように、同一種類の生体関連物質を含む溶液Wをスピンコート等により基板表面2aに塗布するだけで、該溶液Wは疎水性領域4で弾かれて、確実且つ自然的に各親水性領域3に集まって固相される。これにより、同一種類の生体関連物質を含む溶液Wが各親水性領域3に固相されたバイオチップ1を製造することができる。なお、この場合は、溶液Wが多量にあると共に価格が低い溶液Wを使用する場合に適している。
また、図9に示すように、異なる複数の生体関連物質を含む溶液W(W(1)、W(2)、W(3)・・・)を、分注ノズルN等により各親水性領域3に吐出して固相させることで、異なる種類の生体関連物質を含む溶液W(W(1)、W(2)、W(3)・・・)が各親水性領域3に固相されたバイオチップ1を製造することができる。この際、仮に親水性領域3外に溶液Wが飛沫したとしても、疎水性領域4で弾かれて再度自然的に親水性領域3に戻る。
このように、微小な大きさ及び間隔で並んだ各親水性領域3に、飛沫がない状態で溶液Wを確実に区分けしたバイオチップ1を容易に製造することができる。
また、従来の半導体プロセス法のように、溶液Wを固相させた後に、フォトレジスト膜Rを薬品(アセトン等の有機溶剤や化学薬品)で溶解させる溶解処理が不要であるので、溶液Wを変性させる恐れがない。このことからも、高精度な観察や分析等を行うことができる。また、溶液Wを固相させる際に、従来のインクジェット方式を利用する必要もないので、熱影響による溶液Wの変性の恐れもない。
また、本実施形態においては、親水性領域3が、基板表面2aに平行なXY方向に向けてきれいに整列した状態、即ち、アレイ状に並んでいるので、スペースを無駄なく有効的に利用することができ、多くの親水性領域3を形成することができると共に走査型プローブ顕微鏡で観察し易い。
なお、上記実施形態において、溶液Wに含む塩等の析出が問題になる場合には、PBS(バッファー溶液)や超純水等により基板表面2aを洗い流すリンスを行っても構わない。このようなリンスを行ったとしても、疎水性領域4により親水性領域3間に汚染物等が付着することを防止できるので、完全なるリンスを行うことができる。
よって、金属薄膜5に電圧を印加して所望の電位に調整(例えば、マイナスチャージ又はプラスチャージ)することで、溶液Wを親水性領域3に、より積極的に集めることができる。従って、より飛沫をなくした状態で確実に溶液Wを親水性領域3に固相でき、より正確な溶液Wの分析等を行うことができる。
また、疎水性領域4を形成する際に、四フッ化樹脂溶液を利用したが、疎水性としては、少なくとも1本のフルオロアルキル基を有する表面処理剤からなる被覆膜をもつものでよく、以下のものを使用して構わない。
即ち、フルオロアルキル基と少なくとも1つのアルコキシ基又は塩素が珪素に結合した有機珪素化合物や、ポリアミド酸アミン塩の単分子膜や、単分子累積膜や、ポリアミド酸と下記一般式(1)から(3)のいずれかで表される第1のアルキルアミンと下記一般式(4)から(6)のいずれかで表される第2のアルキルアミンとからなる単分子膜又は単分子累積膜でも良いし、これらのアルキルアミンの分子内にフッ素基を有しても良いし、ポリアミド酸内にフッ素基をもっている皮膜でも良い。
このμTAS10は、ポンプ、バルブ、センサ等の構成品を小型化、集積化した化学分析システムであり、図11(b)に示すように、入り口となる開口11からチューブ等を利用してサンプルを注入して、該サンプルに対する各種の分析を行う。そして、サンプルは、出口となる開口12から排出される。
ここで、通常のバイオチップ1は、ガラス基板上にドットを形成し、そのドットと後工程で添加する材料との反応を見る等の使用方法である。これに対して、分析(反応系)を一環して行うμTAS10のパターンに、予めバイオチップ1を組み込んでおくことで、電気計測や反応生成物の分析と共に、反応途中(過程)の状態を、例えば、蛍光で観察することが可能となる。
このように、本発明のバイオチップ1を、各種の装置に応用することも可能である。
R フォトレジスト膜
W 溶液
1 バイオチップ
2a 基板表面
2 バイオチップ用基板
3 親水性領域
4 疎水性領域
5 金属薄膜
Claims (11)
- 複数の所定位置に、同一種類或いは互いに異なる複数の生体関連物質を含む溶液を固相可能なバイオチップ用基板であって、
基板表面の前記所定位置以外の領域に形成され、前記溶液を撥水する疎水性領域と、
基板表面の前記所定位置に形成され、前記溶液を固相可能な複数の親水性領域とを備え、
前記複数の親水性領域は、それぞれが前記疎水性領域に周囲を囲まれるように形成されていることを特徴とするバイオチップ用基板。 - 請求項1記載のバイオチップ用基板において、
前記親水性領域は、アレイ状に複数並んで形成されていることを特徴とするバイオチップ用基板。 - 請求項2記載のバイオチップ用基板において、
前記親水性領域は、直径が500nm〜10000nmの範囲内である円形に形成されていると共に、隣り合う親水性領域の間隔が100nm〜10000nmの範囲内になるように形成されていることを特徴とするバイオチップ用基板。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載のバイオチップ用基板において、
前記親水性領域には、外部電極パッドと配線によって電気的接続され、所望の電位に調整可能な金属薄膜が形成されていることを特徴とするバイオチップ用基板。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載のバイオチップ用基板において、
前記親水性領域には、前記溶液との親和性を促進させる材料からなる薄膜が形成されていることを特徴とするバイオチップ用基板。 - 請求項1から5のいずれか1項に記載のバイオチップ用基板と、
前記親水性領域に固相された前記溶液とを備えていることを特徴とするバイオチップ。 - 複数の所定位置に、同一種類或いは互いに異なる複数の生体関連物質を含む溶液を固相可能なバイオチップ用基板の製造方法であって、
基板表面の所定位置以外の領域に、前記溶液を撥水する疎水性の薄膜をパターン形成して、前記所定位置で前記溶液を固相可能な複数の親水性領域と、該複数の親水性領域それぞれの周囲を囲む疎水性領域とを形成する領域形成工程を備えていることを特徴とするバイオチップ用基板の製造方法。 - 請求項7記載のバイオチップ用基板の製造方法において、
前記領域形成工程は、基板表面全体にフォトレジスト膜を塗布する塗布工程と、
該塗布工程後、前記フォトレジスト膜の前記所定位置に、フォトリソグラフィ技術によって前記溶液を固相可能な親水性領域をパターン形成するパターン工程と、
該パターン工程後、前記親水性領域以外の前記フォトレジスト膜を除去すると共に、前記基板表面全体に前記溶液を撥水する疎水性の薄膜を成膜して疎水性領域を形成する疎水性領域形成工程と、
該疎水性領域形成工程後、前記親水性領域の前記フォトレジスト膜を除去する除去工程とを備えていることを特徴とするバイオチップ用基板の製造方法。 - 請求項8記載のバイオチップ用基板の製造方法において、
前記塗布工程の前に、前記基板表面全体に所望の電位に調整可能な金属薄膜を成膜する金属成膜工程とを備えていることを特徴とするバイオチップ用基板の製造方法。 - 請求項8記載のバイオチップ用基板の製造方法において、
前記塗布工程の前に、前記基板表面全体に前記溶液との親和性を促進させる材料からなる薄膜を成膜する成膜工程とを備えていることを特徴とするバイオチップ用基板の製造方法。 - 請求項7から10のいずれか1項に記載のバイオチップ用基板の製造方法で形成された
複数の前記親水性領域に、前記溶液を固相させる固相工程を備えていることを特徴とするバイオチップの製造方法。
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A02 | Decision of refusal |
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