JP2006145897A - リソグラフィー用リンス液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 (A)水溶性含フッ素化合物及び(B)オルガノシラン化合物を含有する溶液からなるリソグラフィー用リンス液とする。
【選択図】 なし
Description
他方、現在、フッ素系界面活性剤として用いられているC8F17SO3H(PFOS)は、日本国内では指定化学物質となっており、また、米国の生態影響関連規則である重要新規利用規則(SNUR)の対象ともなっているため、取り扱いが制限されている。例えばSNUR規制に該当する物質は、健康若しくは環境を損なう不当なリスクをもたらすおそれがあるため、作業場での保護具の着用、有害性についての従業員への周知、教育、訓練等を行なうことが必要とされ、さらに廃棄処分についても規制がある。
一般式
又は一般式
Rf´−COOH (III)
(式中のRf´は炭素数8〜20の少なくとも部分的にフッ素化されたアルキル基である)
で表わされる水溶性含フッ素化合物が用いられる。
このような水溶性含フッ素化合物としては、一般式(I)及び(II)で表わされる化合物が、取り扱いが容易であるという点から好ましい。
また、一般式(III)におけるRf´としては、デカンカルボン酸、ドデカンカルボン酸、テトラデカンカルボン酸、ヘキサデカンカルボン酸の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたものを挙げることができるが、特に好ましいのは、ペルフルオロ(デカンカルボン酸)である。
なお、高級脂肪酸のフッ素化物は、水に溶解しないため、アルコール系溶剤、例えば水とメチルアルコール又はイソプロピルアルコールとの混合溶剤、水とトリフルオロエタノールとの混合溶剤を用いる必要がある。この場合の水とアルコールとの混合割合は体積比で60:40ないし99:1の範囲である。
このように、本発明のリンス液における(A)成分は、現像後におけるレジストパターン、特にアスペクト比の大きいパターンのパターン倒れを防止する役割を果している。
で表わされるシリル基をもつ脂肪酸が用いられる。
この(B)成分の添加により、このリンス液の本来の効果、すなわち(A)成分に基づく接触角を増大させるという効果は、何らそこなわれることはない。
なお、各例中の接触角及び水切り時間は次のようにして測定した。
接触角計(協和界面科学社製、製品名「CA−X150」)を用いて測定した。
リンス液による処理後、2000rpmにて基板を回転し乾燥させた際に要した時間を秒で表わした。
シリコンウェーハ上に反射防止膜[ブリューワ(Brewer)社製、製品名「ARC29A」]を塗布し、215℃にて60秒間加熱処理し膜厚77nmの反射防止膜を形成した。この反射防止膜上に、
樹脂成分として、下記一般式
露光終了後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて23℃で60秒の現像処理を行った。
次いで、参考例で得たレジストパターンにスピンナーを用いてこれらのリンス液のそれぞれを、23℃、2000rpm、6秒の条件下で塗布後、23℃の純水を用い、500rpmで3秒間リンスした。このようにして処理したサンプルについて、リンス処理前後の接触角を測定し、その結果を表1に示す。
次に、この反射防止膜上に、ポジ型ホトレジスト(東京応化工業社製、製品名「TARF−P6111」)を、スピンナーにより2000rpmで90秒間塗布し、膜厚18nmのレジスト膜を形成させた。
次に、このホトレジスト膜が形成された基板に対して、NikonS302A(ニコン社製)を用いて波長193nmの光で露光処理を行い、続いて130℃で90秒加熱処理した。
このようにして、純水との接触角が25度の表面をもつレジストパターンを得た。
次いで、このレジストパターンを、ペルフルオロデカンカルボン酸の0.05質量%水溶液及びこれにトリメチルシリルプロピオン酸(TMSiPAと略す)を0.005質量%又は0.01質量%濃度で添加して調製したリソグラフィー用リンス液で処理し、それぞれについて処理後の接触角及び水切り時間を測定した。その結果を表2に示す。
Claims (11)
- (A)水溶性含フッ素化合物及び(B)オルガノシラン化合物を含有する溶液からなるリソグラフィー用リンス液。
- (A)成分の水溶性含フッ素化合物が
一般式
一般式
又は一般式
Rf´−COOH
(式中のRf´は炭素数8〜20の少なくとも部分的にフッ素化されたアルキル基である)
で表わされるフッ素化合物の中から選ばれた少なくとも1種である請求項1記載のリソグラフィー用リンス液。 - 溶媒として水を用いた溶液である請求項1記載のリソグラフィー用リンス液。
- 溶媒としてアルコール系溶剤を用いた溶液である請求項1記載のリソグラフィー用リンス液。
- 水溶性含フッ素化合物が、式
C10F21COOH
で表わされるペルフルオロ(デカンカルボン酸)である請求項1ないし4記載のリソグラフィー用リンス液。 - (B)成分のオルガノシラン化合物がオルガノシランカルボン酸である請求項1ないし7のいずれかに記載のリソグラフィー用リンス液。
- (A)成分を0.0001〜5.0質量%濃度で、(B)成分を0.0001〜10.0質量%濃度で含有する請求項1ないし10のいずれかに記載のリソグラフィー用リンス液。
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