JP2006137816A - Adhesive sheet for semiconductor member - Google Patents

Adhesive sheet for semiconductor member Download PDF

Info

Publication number
JP2006137816A
JP2006137816A JP2004327183A JP2004327183A JP2006137816A JP 2006137816 A JP2006137816 A JP 2006137816A JP 2004327183 A JP2004327183 A JP 2004327183A JP 2004327183 A JP2004327183 A JP 2004327183A JP 2006137816 A JP2006137816 A JP 2006137816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mass
radiation
sensitive adhesive
acrylate
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004327183A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5032740B2 (en
Inventor
Tomomichi Takatsu
知道 高津
Koichi Taguchi
広一 田口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denki Kagaku Kogyo KK filed Critical Denki Kagaku Kogyo KK
Priority to JP2004327183A priority Critical patent/JP5032740B2/en
Publication of JP2006137816A publication Critical patent/JP2006137816A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5032740B2 publication Critical patent/JP5032740B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive sheet which is used for semiconductor members, does not cause the scatter of chips and the pulling-up of a paste, when diced, and does not scatter the chips on the periphery, when irradiated with radiations and then picked up with a pick-up pin. <P>SOLUTION: This adhesive sheet for the semiconductor members, having a filmy substrate and a radiation-curable adhesive layer formed on at least one side of the substrate is characterized in that the radiation-curable adhesive layer comprises 100 pts.mass of an acrylic adhesive, 40 to 200 pts.mass of a radiation-polymerizable compound having two or more unsaturated bonds, and 0.03 to 20 pts.mass of a curing agent; the acrylic adhesive is produced by copolymerizing a (meth)acrylate, a carboxyl group-containing polymerizing monomer, and a hydroxyl group-containing polymerizable monomer; and 5 to 90 mass% of the radiation-polymerizable compound having two or more unsaturated bonds has four unsaturated bonds; the hydroxyl group-containing polymerizable monomer is contained in an amount of 0.2 to 10 mass% based on the acrylic adhesive; and the carboxyl group-containing polymerizing monomer is contained in an amount of 0.2 to 15 mass% based on the acrylic adhesive. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、半導体部材用粘着シートに係り、特に、粘着シートに貼り付けた半導体部材をチップ状にダイシングしても該半導体部材をみだりに飛散させず、ダイシング時の糊の掻き上げを起こさせず、さらにダイシング後にチップ化された半導体部材をピックアップする時に、周辺チップをばらけさせることなくピックアップすることが出来る半導体部材用粘着シートに関する。   The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member, and in particular, even if a semiconductor member affixed to a pressure-sensitive adhesive sheet is diced into chips, the semiconductor member is not scattered excessively and does not cause the glue to be scraped up during dicing. Furthermore, the present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member that can be picked up without separating peripheral chips when picking up a semiconductor member formed into chips after dicing.

半導体部材をダイシングにする際に用いられる粘着シートおよびこれを用いた半導体装置の製造方法として、特許文献1が知られている。   Patent Document 1 is known as a pressure-sensitive adhesive sheet used when dicing a semiconductor member and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.

特許第3410202号Japanese Patent No. 3410202

特許文献1記載のウエハ貼付用粘着シートおよびこれを用いた半導体装置の製造方法は、アクリル酸エステルにOH基含有重合性単量体を共重合させ、特定数の不飽和結合を有する放射線重合性化合物を配合させるものである。この技術においては、特定数の不飽和結合を有する放射線重合性化合物を配合させることにより、封止樹脂の剥離、パッケージクラックの発生を抑制するものである。   The pressure-sensitive adhesive sheet for wafer sticking described in Patent Document 1 and the method for producing a semiconductor device using the same are obtained by copolymerizing an acrylic ester with an OH group-containing polymerizable monomer and having a specific number of unsaturated bonds. A compound is added. In this technique, the release of the sealing resin and the generation of package cracks are suppressed by incorporating a radiation polymerizable compound having a specific number of unsaturated bonds.

しかしながら、この技術では、チップサイズ10mm□程度のダイシングには好適であるが、チップサイズ5mm□程度の最近要求されている微小化のダイシングを行うと、ダイシング時にチップ飛びや糊の掻き上げが生じたり、放射線照射後の突上げピンによるピックアップ作業時に周辺チップがばらけたりする課題が発生した。   However, this technique is suitable for dicing with a chip size of about 10 mm □. However, if the dicing of the recently requested miniaturization with a chip size of about 5 mm □ is performed, chip jumping or scraping of glue occurs during dicing. There was a problem that peripheral chips were scattered at the time of picking up with a push-up pin after irradiation.

本発明は、ダイシング時にチップ飛びや糊の掻き上げが生じず、放射線照射後の突上げピンによるピックアップ作業時に周辺チップがばらけない半導体部材用粘着シートを提供することにある。   It is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member that does not cause chip fly or glue scraping during dicing and does not disperse peripheral chips during pick-up work with a push-up pin after irradiation.

請求項1にかかる発明は、フイルム状の基材と、基材の少なくとも一方の面に形成された放射線硬化型粘着剤層を有する半導体部材用粘着シートにおいて、放射線硬化型粘着剤が、アクリル粘着剤100質量部と、不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物40〜200質量部及び硬化剤0.03〜20質量部を有する樹脂組成物で形成され、アクリル粘着剤が(メタ)アクリル酸エステルとカルボキシル基含有重合性単量体と水酸基含有重合性単量体とを共重合したものであり、不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物の5〜90質量%が不飽和結合を4個以上有し、水酸基含有重合性単量体がアクリル粘着剤の0.2〜10質量%含有され、カルボキシル基含有重合性単量体がアクリル粘着剤の0.2〜15質量%含有されている半導体部材用粘着シートである。   The invention according to claim 1 is a pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member having a film-shaped substrate and a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer formed on at least one surface of the substrate. Formed of a resin composition having 100 parts by weight of an agent, 40 to 200 parts by weight of a radiation polymerizable compound having two or more unsaturated bonds, and 0.03 to 20 parts by weight of a curing agent, and an acrylic pressure-sensitive adhesive is (meth) acrylic An acid ester, a carboxyl group-containing polymerizable monomer, and a hydroxyl group-containing polymerizable monomer are copolymerized, and 5 to 90% by mass of the radiation-polymerizable compound having two or more unsaturated bonds is unsaturated bonds. 4 or more, the hydroxyl group-containing polymerizable monomer is contained in an amount of 0.2 to 10% by mass of the acrylic adhesive, and the carboxyl group-containing polymerizable monomer is contained in an amount of 0.2 to 15% by mass of the acrylic adhesive. The And it has a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor member.

請求項2にかかる発明は、硬化剤がイソシアネート化合物である請求項1記載の半導体部材用粘着シートである。   The invention according to claim 2 is the pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor members according to claim 1, wherein the curing agent is an isocyanate compound.

請求項3にかかる発明は、不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物がウレタンアクリレートオリゴマである請求項1又は請求項2記載の半導体部材用粘着シートである。   The invention according to claim 3 is the pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor members according to claim 1 or 2, wherein the radiation polymerizable compound having 4 or more unsaturated bonds is a urethane acrylate oligomer.

本発明の効果は、ダイシング時にチップ飛びや糊の掻き上げが生じず、放射線照射後の突上げピンによるピックアップ作業時に周辺チップがばらけないことである。   The effect of the present invention is that chip skipping and glue scraping do not occur during dicing, and peripheral chips do not separate during pick-up work with a push-up pin after irradiation.

アクリル粘着剤として、(メタ)アクリル酸エステルとカルボキシル基含有重合性単量体と水酸基含有重合性単量体とを共重合したものとしたのは、カルボキシル基含有重合性単量体と水酸基含有重合性単量体の2種をアクリル酸エステルに共重合させることにより、カルボキシル基成分が被着体(半導体部材)への相互作用により粘着性を向上させ半導体部材をチップ状にダイシングしても該半導体部材をみだりに飛散させず、水酸基成分が硬化剤との反応により架橋点として働き粘着剤自身の凝集性を向上させ、ダイシング時の糊の掻き上げを起こさせなくすためである。   As an acrylic pressure-sensitive adhesive, a (meth) acrylic acid ester, a carboxyl group-containing polymerizable monomer, and a hydroxyl group-containing polymerizable monomer were copolymerized. By copolymerizing two kinds of polymerizable monomers with an acrylate ester, the carboxyl group component improves the adhesion due to the interaction with the adherend (semiconductor member), and the semiconductor member can be diced into chips. This is because the semiconductor component is not scattered unnecessarily, and the hydroxyl group component acts as a cross-linking point by reaction with the curing agent to improve the cohesiveness of the adhesive itself and prevent the glue from being scraped up during dicing.

(メタ)アクリル酸エステルの重合性単量体としては、例えば、ブチル(メタ)アクリレート、2−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。   Examples of polymerizable monomers for (meth) acrylic acid esters include butyl (meth) acrylate, 2-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, and octyl (meth) acrylate. , 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and mixtures of two or more thereof.

カルボキシル基含有重合性単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸β−カルボキシエチル、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、3−(メタ)アクリロイルプロピオン酸などが挙げられる。これらのうち好ましいものは、(メタ)アクリル酸である。   Examples of the carboxyl group-containing polymerizable monomer include (meth) acrylic acid, β-carboxyethyl (meth) acrylate, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, 3- (meth) acryloylpropionic acid, and the like. Is mentioned. Of these, preferred is (meth) acrylic acid.

カルボキシル基含有重合性単量体の割合は、0.2〜15質量%であり、好ましくは0.5〜11質量%である。0.2質量%より低い値の場合は目的とする粘着性が得られずダイシング時にチップ飛びが発生し、15質量%より高い値の場合は粘着剤自身が固くなりすぎてダイシング時にチップ飛びが発生する。   The proportion of the carboxyl group-containing polymerizable monomer is 0.2 to 15% by mass, preferably 0.5 to 11% by mass. If the value is lower than 0.2% by mass, the desired adhesiveness cannot be obtained and chip skipping occurs during dicing. If the value is higher than 15% by mass, the adhesive itself becomes too hard and chip skipping occurs during dicing. appear.

水酸基含有重合性単量体としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらのうち好ましいものは、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートである。   Examples of the hydroxyl group-containing polymerizable monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like. Among these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is preferable.

水酸基含有重合性単量体の割合は、アクリル粘着剤の0.2〜10質量%であり、好ましくは0.5〜8質量%である。0.2質量%より低い場合は硬化剤との架橋反応が十分に得られず、糊の掻き上げが発生する。10質量%より高い場合は粘着剤自身が固くなりすぎてダイシング時にチップ飛びが発生する。   The ratio of the hydroxyl group-containing polymerizable monomer is 0.2 to 10% by mass, preferably 0.5 to 8% by mass, based on the acrylic pressure-sensitive adhesive. When the content is lower than 0.2% by mass, the crosslinking reaction with the curing agent is not sufficiently obtained, and the glue is scraped up. When the content is higher than 10% by mass, the pressure-sensitive adhesive itself becomes too hard and chip fly occurs during dicing.

これらの重合性単量体を重合して得られる(メタ)アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量は、10万〜160万であり、好ましくは15万〜100万である。   The (meth) acrylic acid ester copolymer obtained by polymerizing these polymerizable monomers has a weight average molecular weight of 100,000 to 1,600,000, preferably 150,000 to 1,000,000.

また、この他のアクリル粘着剤の共重合成分としては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、酢酸アリル、(メタ)アクリロニトリル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、バーサテイク酸ビニル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルイソブチルエーテルなどがある。   Other copolymerization components of the acrylic pressure-sensitive adhesive include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, myristyl (meth) acrylate, cetyl (meth) Acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, styrene, vinyl toluene, allyl acetate, (meth) acrylonitrile, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl versatate, vinyl ethyl ether , Vinyl propyl ether, vinyl isobutyl ether and the like.

放射線硬化型粘着剤に配合される「不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物」は、放射線を照射することによって分子内に2個以上ある不飽和結合(炭素−炭素二重結合)を三次元網状化させて粘着剤自体の粘着力を低下させるために採用した。「不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物」の配合量は、40質量部より少ないと放射線照射による硬化性が不十分となってピックアップ性が悪くなり、200質量部を超えると凝集性が低下して糊の掻き上げやピックアップ時のチップばらけが発生してしまうため、40〜200質量部であり、好ましくは50〜180質量部である。   “Radiation polymerizable compound having two or more unsaturated bonds” blended in radiation curable pressure-sensitive adhesive has two or more unsaturated bonds (carbon-carbon double bonds) in the molecule when irradiated with radiation. Adopted to reduce the adhesive strength of the adhesive itself by making it into a three-dimensional network. When the blending amount of the “radiation polymerizable compound having two or more unsaturated bonds” is less than 40 parts by mass, the curability due to radiation irradiation becomes insufficient and the pick-up property is deteriorated. Is reduced to cause glue scraping and chip separation during pick-up, so that the amount is 40 to 200 parts by mass, preferably 50 to 180 parts by mass.

「不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物」は、その組成物中、「不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物」を5質量%より少なくすると放射線照射による硬化性が十分でなくなりピックアップ性が悪くなり、90質量%より多くすると放射線照射による硬化性が高くなり過ぎピックアップ時のチップばらけが生じるため、「不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物」の配合比は5〜90質量%であり、好ましくは10〜80質量%である。   The “radiation-polymerizable compound having two or more unsaturated bonds” is sufficient in curability by radiation irradiation if the content of the “radiation-polymerizable compound having four or more unsaturated bonds” in the composition is less than 5% by mass. When the amount exceeds 90% by mass, the curability due to radiation irradiation becomes too high and chip dispersion occurs at the time of picking up. Therefore, the blending ratio of “radiation polymerizable compound having 4 or more unsaturated bonds” is 5 It is -90 mass%, Preferably it is 10-80 mass%.

不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物としては、例えばアクリレート化合物、ポリエステルアクリレートオリゴマ、エポキシアクリレートオリゴマ、ウレタンアクリレートオリゴマがある。アクリレート化合物としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、シアヌル酸トリエチルアクリレートがある。   Examples of radiation polymerizable compounds having two or more unsaturated bonds include acrylate compounds, polyester acrylate oligomers, epoxy acrylate oligomers, and urethane acrylate oligomers. Examples of the acrylate compound include trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, There are 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, and cyanuric acid triethyl acrylate.

ウレタンアクリレートオリゴマは、ポリオール化合物、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールなどと、多価イソシアネート化合物、例えば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン4,4−ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマに、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートなどを反応させて得られる。   Urethane acrylate oligomers are polyol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, pentanediol, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol and many others. Divalent isocyanate compounds such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate , Terminal isocyanate urethane prepolymers obtained by reacting isophorone diisocyanate, etc. (Meth) acrylate having a hydroxy group, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, glycidol di (meth) acrylate, It can be obtained by reacting dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate.

不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物としてのアクリレート化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレートがある。   Examples of the acrylate compound as the radiation polymerizable compound having 4 or more unsaturated bonds include pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetra There are acrylate and pentaerythritol ethoxytetraacrylate.

不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物としてのウレタンアクリレートオリゴマとしては、ポリオール化合物、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールなどと、多価イソシアネート化合物、例えば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン4,4−ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマに、ヒドロキシ基を有する多価(メタ)アクリレート、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリシドールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートなどを反応させて得られる化合物が上げられる。   Urethane acrylate oligomers as radiation polymerizable compounds having 4 or more unsaturated bonds include polyol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, pentanediol, glycerin. , Trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol and the like, and polyvalent isocyanate compounds such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, Diphenylmethane 4,4-diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate The terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting, for example, is reacted with a polyvalent (meth) acrylate having a hydroxy group, such as pentaerythritol triacrylate, glycidol di (meth) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, etc. The resulting compound is raised.

硬化剤は、粘着剤組成物の凝集性を高めるために採用されるものであり、その配合量は、0.03〜20質量部、好ましくは0.05〜16質量部である。具体的にはイソシアネート化合物、エポキシ化合物、メチロール化合物、キレート化合物、アジリジン化合物の単体又は混合体があり、このうち、イソシアネート硬化剤が好ましい。イソシアネート硬化剤が好適な理由は、水酸基含有重合性単量体の水酸基との反応性が高く、これにより電子部材用粘着シートのエイジング期間短縮を図れるためである。   A hardening | curing agent is employ | adopted in order to improve the cohesiveness of an adhesive composition, and the compounding quantity is 0.03-20 mass parts, Preferably it is 0.05-16 mass parts. Specifically, there are a simple substance or a mixture of an isocyanate compound, an epoxy compound, a methylol compound, a chelate compound, and an aziridine compound, and among these, an isocyanate curing agent is preferable. The reason why the isocyanate curing agent is preferable is that the reactivity of the hydroxyl group-containing polymerizable monomer with the hydroxyl group is high, thereby shortening the aging period of the pressure-sensitive adhesive sheet for electronic members.

イソシアネート化合物としては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン4,4−ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、およびこれらのアダクトタイプのもの等がある。エポキシ化合物としては、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸ジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジルm−キシレンジアミン、1’3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジルジアミノジフェニルメタンがある。メチロール化合物としては、メラミン、フェノールがある。   As isocyanate compounds, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate , Isophorone diisocyanate, and those adduct types. Epoxy compounds include neopentyl glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, phthalic acid diglycidyl ester, dimer acid diglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, diglycerol tris Glycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl m-xylenediamine, 1′3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N There is' -tetraglycidyldiaminodiphenylmethane. Examples of methylol compounds include melamine and phenol.

本発明の粘着剤組成物には、本発明の目的が損なわれない範囲で、従来公知の添加剤、例えば放射線重合開始剤、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤、放射線吸収剤及び光安定剤を適宜選択して添加してもよい。   In the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, conventionally known additives such as a radiation polymerization initiator, a tackifier, a softening agent, an anti-aging agent, a filler, and a radiation absorber are within the range in which the object of the present invention is not impaired. In addition, a light stabilizer may be appropriately selected and added.

フイルム状の基材としては、用途に応じて従来公知の合成樹脂を適宜選択して使用でき、具体的にはポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、エチレンビニルアルコールがあり、その厚みは、用途に応じて適宜選択でき、シート状だけでなく、フイルム状も含めることができる。   As a film-like base material, a conventionally known synthetic resin can be appropriately selected and used according to the use, and specifically, there are polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, polyester, ethylene vinyl alcohol, and the thickness thereof is used. The film can be appropriately selected depending on the sheet shape, and can include not only a sheet shape but also a film shape.

放射線としては、紫外線、電子線があり、電子線としてはα線、β線、γ線、中性子線がある。   Radiation includes ultraviolet rays and electron beams, and electron beams include α rays, β rays, γ rays, and neutron rays.

本発明にかかる粘着シートの被着体の一例である半導体部材とは、BGA(ボール・グリッド・アレイ)基盤、シリコンウエハ、ガリウム−砒素、ガラス、エポキシ基盤、ベクトラ基盤がある。   The semiconductor member which is an example of the adherend of the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention includes a BGA (ball grid array) substrate, a silicon wafer, gallium arsenide, glass, an epoxy substrate, and a vector substrate.

以下、本発明の実施例について、比較例と対比しつつ、表1を参照しながら説明する。   Hereinafter, examples of the present invention will be described with reference to Table 1 in comparison with comparative examples.

Figure 2006137816
Figure 2006137816

表1のダイシング性は、実施例・比較例にかかる粘着シートを、パッケージ成形用モールド樹脂によりモールドされた半導体部材に気泡が入らないよう貼り付け、10分放置後に5mm□にダイシングし、この作業を5回繰り返した際に飛んだチップの数を100個あたりに換算した数(チップ飛び数)である。この値は、作業上、数値が小さいほど良く、0が好ましい。   The dicing properties shown in Table 1 indicate that the adhesive sheets according to the examples and comparative examples are pasted so that air bubbles do not enter the semiconductor member molded with the mold resin for package molding, and are diced to 5 mm □ after being left for 10 minutes. Is the number (chip skipping number) obtained by converting the number of chips skipped when the process is repeated five times. In terms of work, this value is better as the numerical value is smaller, and 0 is preferable.

表1の粘着力は、実施例・比較例にかかる粘着シートを、パッケージ成形用モールド樹脂によりモールドされた半導体部品に気泡が入らないよう貼り付け、JIS Z 0237に準じてUV(紫外線)照射前後に測定したものである。UV(紫外線)照射前は、5.0N/20mm以上でなければならず、UV照射後は0.3N/20mm以下でなければならない。UV照射は、光量150mJ/cmの照射である。 The adhesive strengths in Table 1 are as follows. Adhesive sheets according to Examples / Comparative Examples are pasted so that bubbles do not enter semiconductor components molded with a package molding mold resin, and before and after UV (ultraviolet) irradiation according to JIS Z 0237. Is measured. Before UV (ultraviolet) irradiation, it must be 5.0 N / 20 mm or more, and after UV irradiation, it must be 0.3 N / 20 mm or less. UV irradiation is irradiation with a light amount of 150 mJ / cm 2 .

表1の糊の掻上げは、実施例・比較例にかかる粘着シートを、パッケージ成形用モールド樹脂によりモールドされた半導体部材に気泡が入らないよう貼り付け、10分放置後に5mm□にダイシングし、この作業を5回繰り返した際のチップ総数100個に対し、チップ側面に1000倍の顕微鏡にて糊の付着を確認したものである。チップ側面に糊の付着が1個も確認されなかったものを○、確認されたものを×とした。   For the glue scraping in Table 1, the adhesive sheets according to the examples and comparative examples are pasted so that no air bubbles enter the semiconductor member molded with the mold resin for package molding, and left for 10 minutes, and then diced to 5 mm □, With respect to 100 chips in total when this operation was repeated 5 times, adhesion of glue was confirmed on the side of the chip with a 1000 × microscope. The case where no adhesion of glue was confirmed on the side surface of the chip was marked with ◯, and the case where the glue was confirmed was marked with ×.

表1のピックアップ性は、実施例・比較例にかかる粘着シートを、パッケージ成形用モールド樹脂によりモールドされた半導体部材に気泡が入らないよう貼り付け、10分放置後に5mm□にダイシングし、この作業を5回繰り返した際のチップ総数100個に対しピックアップ作業を行い、ピックアップ出来なかった個数を測定した。ピックアップミスが1個もないものを○、1個でもあるものを×とした。   The pick-up properties shown in Table 1 are as follows. The pressure-sensitive adhesive sheets according to Examples and Comparative Examples are pasted so that no air bubbles enter a semiconductor member molded with a mold resin for package molding, and left for 10 minutes and then diced to 5 mm □. Picking up was performed on 100 chips in total when 5 were repeated, and the number of chips that could not be picked up was measured. The case where there was no pick-up mistake was marked as ◯, and the case where there was even one pick-up was marked as x.

表1のチップばらけは、実施例・比較例にかかる粘着シートを、パッケージ成形用モールド樹脂によりモールドされた半導体部材に気泡が入らないよう貼り付け、10分放置後に5mm□にダイシングし、この作業を5回繰り返した際のチップ総数100個に対しピックアップ作業を行い、周辺チップのばらけを確認したものである。チップのばらけが1個も確認されなかったものを○、1個でも確認されたものを×とした。   The chip dispersion in Table 1 is obtained by attaching the pressure-sensitive adhesive sheet according to Example / Comparative Example so that bubbles do not enter the semiconductor member molded with the mold resin for package molding, dicing to 5 mm □ after leaving for 10 minutes, Pickup work was performed for 100 chips in total when the work was repeated 5 times, and the dispersion of peripheral chips was confirmed. The case where no chip variation was confirmed was marked with ○, and the case where even one chip was confirmed was marked with ×.

本発明にかかる実施例1の粘着シートは、基材としての厚さ150μmのポリエチレン製シートと、基材の一方の面に、厚さ25μmの粘着剤層である。粘着剤層の組成は、表1の粘着剤組成物の欄に示すように、(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部、放射線重合性化合物としての不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物100質量部、硬化剤としてのジフェニルメタン4,4−ジイソシアネート3質量部、表外の放射線重合開始剤のうちの紫外線重合開始剤としてのチバガイギー製イルガキュア184を3質量部配合したものである。(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、重合する際にカルボキシル基含有重合性単量体であるアクリル酸0.5質量%、水酸基含有重合性単量体である2−ヒドロキシエチルアクリレート6質量%を配合したものである。放射線重合性化合物は不飽和結合を4個有する4官能ウレタンアクリレートオリゴマ50質量%、不飽和結合を2個有する2官能ジエチレングリコールジアクリレート50質量%とした。なお、後述する他の実施例、比較例は、特に言及する部分以外は、本実施例と同様である。   The pressure-sensitive adhesive sheet of Example 1 according to the present invention is a polyethylene sheet having a thickness of 150 μm as a base material and a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 μm on one surface of the base material. The composition of the pressure-sensitive adhesive layer is, as shown in the column of the pressure-sensitive adhesive composition in Table 1, 100 parts by mass of a (meth) acrylic acid ester copolymer and radiation polymerization having two or more unsaturated bonds as a radiation-polymerizable compound. 100 parts by mass of a functional compound, 3 parts by mass of diphenylmethane 4,4-diisocyanate as a curing agent, and 3 parts by mass of Ciba Geigy Irgacure 184 as an ultraviolet polymerization initiator out of the outside radiation polymerization initiator. When the (meth) acrylic acid ester copolymer is polymerized, 0.5% by mass of acrylic acid which is a carboxyl group-containing polymerizable monomer, 6% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate which is a hydroxyl group-containing polymerizable monomer Are blended. The radiation-polymerizable compound was 50% by mass of a tetrafunctional urethane acrylate oligomer having 4 unsaturated bonds and 50% by mass of a bifunctional diethylene glycol diacrylate having 2 unsaturated bonds. Other examples and comparative examples which will be described later are the same as those of the present example except for the parts specifically mentioned.

本実施例1における粘着シートはダイシング性がよく(チップ飛び:0個/100個)、UV照射前後の粘着力も適正であり、糊の掻上げやピックアップ時の周辺チップばらけはなく良好であった。   The pressure-sensitive adhesive sheet in Example 1 has good dicing properties (chip skipping: 0/100), the adhesive strength before and after UV irradiation is also appropriate, and there is no adhesive scraping and peripheral chip dispersion during pick-up. It was.

実施例2は、実施例1のカルボキシル基含有重合性単量体であるアクリル酸を6質量%、水酸基含有重合性単量体である2−ヒドロキシエチルアクリレートを0.5質量%に変更したものであり、実施例3は、実施例1のアクリル酸を6質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレートを6質量%にし、放射線重合性化合物量を70質量部に変更したものである。実施例4は、実施例3の放射線重合性化合物量を170質量部に変更したものであり、実施例5は、実施例3の放射線重合性化合物を100質量部にし、不飽和結合を4個以上有する化合物を10質量%に変更したものであり、実施例6は、実施例5の不飽和結合を4個以上有する化合物量を70質量%に変更したものであり、さらに実施例7は、実施例1の硬化剤をエポキシ化合物のN,N,N’,N’−テトラグリシジルm−キシレンジアミンにしたものである。   In Example 2, acrylic acid which is a carboxyl group-containing polymerizable monomer of Example 1 is changed to 6% by mass, and 2-hydroxyethyl acrylate which is a hydroxyl group-containing polymerizable monomer is changed to 0.5% by mass. In Example 3, the acrylic acid of Example 1 was changed to 6% by mass, 2-hydroxyethyl acrylate was changed to 6% by mass, and the amount of the radiation polymerizable compound was changed to 70 parts by mass. In Example 4, the amount of the radiation polymerizable compound of Example 3 was changed to 170 parts by mass. In Example 5, the radiation polymerizable compound of Example 3 was changed to 100 parts by mass, and four unsaturated bonds were formed. The compound having the above was changed to 10% by mass, and Example 6 was obtained by changing the amount of the compound having 4 or more unsaturated bonds of Example 5 to 70% by mass. The curing agent of Example 1 is an epoxy compound N, N, N ′, N′-tetraglycidyl m-xylenediamine.

これら実施例は、いずれも、良好な特性値を得た。   In these examples, good characteristic values were obtained.

次に比較例について説明する。比較例1は実施例1における放射線重合性化合物量を35質量部にしたものであり、比較例2は実施例1における放射線重合性化合物量を220質量部にしたものである。比較例3は実施例1における不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物量を3質量%にしたものであり、比較例4は実施例1における不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物量を95質量%にしたものである。比較例5は実施例1の硬化剤を配合しなかったものであり、比較例6は実施例1の硬化剤を25質量部配合したものである。比較例7は実施例1におけるアクリル酸を0.1質量%にしたものであり、比較例8は実施例1におけるアクリル酸を17質量%にしたものである。比較例9は実施例1における2−ヒドロキシエチルアクリレート量を0.1質量%にしたものであり、比較例10は実施例1における2−ヒドロキシエチルアクリレート量を17質量%にしたものである。   Next, a comparative example will be described. In Comparative Example 1, the amount of the radiation polymerizable compound in Example 1 was 35 parts by mass, and in Comparative Example 2, the amount of the radiation polymerizable compound in Example 1 was 220 parts by mass. In Comparative Example 3, the amount of the radiation polymerizable compound having 4 or more unsaturated bonds in Example 1 was 3% by mass, and in Comparative Example 4 the radiation polymerizable having 4 or more unsaturated bonds in Example 1 was used. The amount of the compound is 95% by mass. In Comparative Example 5, the curing agent of Example 1 was not blended, and in Comparative Example 6, 25 parts by mass of the curing agent of Example 1 was blended. In Comparative Example 7, the acrylic acid in Example 1 was 0.1% by mass, and in Comparative Example 8, the acrylic acid in Example 1 was 17% by mass. In Comparative Example 9, the amount of 2-hydroxyethyl acrylate in Example 1 was 0.1% by mass, and in Comparative Example 10, the amount of 2-hydroxyethyl acrylate in Example 1 was 17% by mass.

比較例1及び2が示すように、放射線重合性化合物量が少なすぎると、ダイシング性、粘着力及びピックアップ性のいずれも悪く、多すぎると、糊の掻上げやチップばらけが生じた。比較例3及び4が示すように、「4個以上の不飽和結合を有する放射線重合性化合物の質量%」が少なすぎると、UV照射後の粘着力が高すぎると共にピックアップ性が悪く、多すぎると、チップばらけが生じた。比較例5及び6が示すように、硬化剤を配合しないと糊の掻き上げが生じ、配合し過ぎるとチップ飛びとチップばらけが生じた。比較例7及び8が示すように、カルボキシル基含有単量体の質量%が少なすぎても多すぎてもダイシング性及びUV照射前の粘着力が悪かった。比較例9及び10が示すように、水酸基含有単量体の質量%が少なすぎると糊の掻上げが生じ、多すぎるとダイシング性及びUV照射前の粘着力が悪かった。   As shown in Comparative Examples 1 and 2, when the amount of the radiation polymerizable compound was too small, all of the dicing property, the adhesive force and the pickup property were poor, and when too much, the glue was scraped up and the chips were scattered. As shown in Comparative Examples 3 and 4, if the “mass% of the radiation-polymerizable compound having 4 or more unsaturated bonds” is too small, the adhesive strength after UV irradiation is too high and the pick-up property is too bad and too much. As a result, chip breakage occurred. As shown in Comparative Examples 5 and 6, when the curing agent was not blended, the glue was scraped up, and when it was too blended, chip jumping and chip separation occurred. As Comparative Examples 7 and 8 show, the dicing property and the adhesive strength before UV irradiation were poor even if the mass% of the carboxyl group-containing monomer was too small or too large. As shown in Comparative Examples 9 and 10, when the mass% of the hydroxyl group-containing monomer was too small, the glue was scraped up, and when it was too large, the dicing property and the adhesive strength before UV irradiation were poor.

本発明にかかる半導体部材用粘着シートは、一枚の板状体に複数個作成された半導体部材を個々にダイシングされる際及びダイシング後にピックアップされる際、当該板状体の背面に貼り付けられるものである。
The pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member according to the present invention is attached to the back surface of the plate-shaped body when a plurality of semiconductor members formed on a single plate-shaped body are individually diced and picked up after dicing. Is.

Claims (3)

フイルム状の基材と、基材の少なくとも一方の面に形成された放射線硬化型粘着剤層を有する半導体部材用粘着シートにおいて、放射線硬化型粘着剤が、アクリル粘着剤100質量部と、不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物40〜200質量部及び硬化剤0.03〜20質量部を有する樹脂組成物で形成され、アクリル粘着剤が(メタ)アクリル酸エステルとカルボキシル基含有重合性単量体と水酸基含有重合性単量体とを共重合したものであり、不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物の5〜90質量%が不飽和結合を4個以上有し、水酸基含有重合性単量体がアクリル粘着剤の0.2〜10質量%含有され、カルボキシル基含有重合性単量体がアクリル粘着剤の0.2〜15質量%含有されている半導体部材用粘着シート。   In a pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member having a film-shaped base material and a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer formed on at least one surface of the base material, the radiation-curable pressure-sensitive adhesive comprises 100 parts by mass of an acrylic pressure-sensitive adhesive, and unsaturated. It is formed with a resin composition having 40 to 200 parts by mass of a radiation-polymerizable compound having two or more bonds and 0.03 to 20 parts by mass of a curing agent, and an acrylic adhesive is a (meth) acrylic acid ester and a carboxyl group-containing polymerizable compound. A monomer and a hydroxyl group-containing polymerizable monomer are copolymerized, and 5 to 90% by mass of the radiation-polymerizable compound having two or more unsaturated bonds has four or more unsaturated bonds, and a hydroxyl group. Adhesive for semiconductor member containing 0.2 to 10% by mass of polymerizable monomer in acrylic adhesive and 0.2 to 15% by mass of carboxyl-containing polymerizable monomer in acrylic adhesive Over door. 硬化剤がイソシアネート化合物である請求項1記載の半導体部材用粘着シート。   The pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member according to claim 1, wherein the curing agent is an isocyanate compound. 不飽和結合を4個以上有する放射線重合性化合物がウレタンアクリレートオリゴマである請求項1又は請求項2記載の半導体部材用粘着シート。
The pressure-sensitive adhesive sheet for a semiconductor member according to claim 1 or 2, wherein the radiation polymerizable compound having 4 or more unsaturated bonds is a urethane acrylate oligomer.
JP2004327183A 2004-11-11 2004-11-11 Manufacturing method of semiconductor member Active JP5032740B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004327183A JP5032740B2 (en) 2004-11-11 2004-11-11 Manufacturing method of semiconductor member

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004327183A JP5032740B2 (en) 2004-11-11 2004-11-11 Manufacturing method of semiconductor member

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006137816A true JP2006137816A (en) 2006-06-01
JP5032740B2 JP5032740B2 (en) 2012-09-26

Family

ID=36618834

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004327183A Active JP5032740B2 (en) 2004-11-11 2004-11-11 Manufacturing method of semiconductor member

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5032740B2 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008013692A (en) * 2006-07-07 2008-01-24 Denki Kagaku Kogyo Kk Adhesive sheet for fixing electronic parts and method of manufacturing electronic parts using the same
JP2008045091A (en) * 2006-08-21 2008-02-28 Nitto Denko Corp Pressure-sensitive adhesive sheet for processing
JP2008138023A (en) * 2006-11-30 2008-06-19 Denki Kagaku Kogyo Kk Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive tape, pressure-sensitive adhesive tape for dicing and method for producing electronic part
JP2008222894A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Denki Kagaku Kogyo Kk Pressure-sensitive adhesive sheet for electronic component fixation, and manufacturing method of electronic component using it
WO2009050787A1 (en) * 2007-10-16 2009-04-23 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Pressure-sensitive adhesive sheet for fixing electronic part and process for producing electronic part with the same
WO2009144985A1 (en) * 2008-05-29 2009-12-03 電気化学工業株式会社 Dicing method
JP2012046763A (en) * 2011-10-17 2012-03-08 Nitto Denko Corp Heat-resistant pressure-sensitive adhesive tape
US8389629B2 (en) 2007-10-16 2013-03-05 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Adhesive, adhesive sheet, multi-layered adhesive sheet, and production method for electronic part
JP2018129491A (en) * 2017-02-10 2018-08-16 デンカ株式会社 Pressure-sensitive adhesive sheet, and method of manufacturing semiconductor chip or semiconductor component using the same

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008013692A (en) * 2006-07-07 2008-01-24 Denki Kagaku Kogyo Kk Adhesive sheet for fixing electronic parts and method of manufacturing electronic parts using the same
JP2008045091A (en) * 2006-08-21 2008-02-28 Nitto Denko Corp Pressure-sensitive adhesive sheet for processing
JP2008138023A (en) * 2006-11-30 2008-06-19 Denki Kagaku Kogyo Kk Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive tape, pressure-sensitive adhesive tape for dicing and method for producing electronic part
JP2008222894A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Denki Kagaku Kogyo Kk Pressure-sensitive adhesive sheet for electronic component fixation, and manufacturing method of electronic component using it
WO2009050787A1 (en) * 2007-10-16 2009-04-23 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Pressure-sensitive adhesive sheet for fixing electronic part and process for producing electronic part with the same
US8389629B2 (en) 2007-10-16 2013-03-05 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Adhesive, adhesive sheet, multi-layered adhesive sheet, and production method for electronic part
JP5178732B2 (en) * 2007-10-16 2013-04-10 電気化学工業株式会社 Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive sheet, multilayer pressure-sensitive adhesive sheet, and electronic component manufacturing method
WO2009144985A1 (en) * 2008-05-29 2009-12-03 電気化学工業株式会社 Dicing method
JPWO2009144985A1 (en) * 2008-05-29 2011-10-06 電気化学工業株式会社 Dicing method
US8114759B2 (en) 2008-05-29 2012-02-14 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Dicing method using a die attach film on an adhesive sheet
JP2012046763A (en) * 2011-10-17 2012-03-08 Nitto Denko Corp Heat-resistant pressure-sensitive adhesive tape
JP2018129491A (en) * 2017-02-10 2018-08-16 デンカ株式会社 Pressure-sensitive adhesive sheet, and method of manufacturing semiconductor chip or semiconductor component using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP5032740B2 (en) 2012-09-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4318743B1 (en) Ultraviolet curable removable pressure-sensitive adhesive composition and pressure-sensitive adhesive sheet using the same
JP5917215B2 (en) Adhesive composition, adhesive sheet, and method for manufacturing semiconductor device
KR101370245B1 (en) Adhesive composition, adhesive sheet and production process for semiconductor device
JP2007291147A (en) Adhesive, adhesive sheet using the same and method for producing electronic component using adhesive sheet
JP6250265B2 (en) Adhesive composition, adhesive sheet, and method for manufacturing semiconductor device
JP7409029B2 (en) Method for manufacturing semiconductor devices, integrated dicing/die bonding film, and method for manufacturing the same
JP6393449B2 (en) Adhesive composition, adhesive sheet, and method for manufacturing semiconductor device
JP6833083B2 (en) Manufacturing method for film-like adhesives, adhesive sheets and semiconductor devices
TWI458003B (en) Dicing method
JP4805765B2 (en) An adhesive sheet for fixing an electronic component and a method for manufacturing an electronic component using the same.
KR20120117828A (en) Adhesive sheet and production method for electronic component
JPWO2013105455A1 (en) Method for manufacturing adhesive sheet and electronic component
JP6678641B2 (en) Film adhesive composite sheet and method for manufacturing semiconductor device
JP5032740B2 (en) Manufacturing method of semiconductor member
JP5080831B2 (en) Electronic component fixing adhesive sheet and method of manufacturing electronic component using the same
JP2008013692A (en) Adhesive sheet for fixing electronic parts and method of manufacturing electronic parts using the same
WO2011125683A1 (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer processing
KR101002089B1 (en) Photocuring Composition for Pressure Sensitive Adhesive and Dicing Die Bonding Film Comprising the Same
JP2009158503A (en) Tape for processing wafer
JP2018186119A (en) Adhesive tape for stealth dicing and method of manufacturing semiconductor chip using the same
KR20210148068A (en) Sheet for work processing
JPWO2020137836A1 (en) Evaluation method of photocurable adhesive, dicing / die bonding integrated film and its manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method
JP5016703B2 (en) Method for manufacturing adhesive sheet and electronic component
JP5291040B2 (en) Adhesive tape for wafer processing
JP2018129491A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet, and method of manufacturing semiconductor chip or semiconductor component using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090223

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090310

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090402

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090428

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111226

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20111226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20111226

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120508

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120629

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5032740

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150706

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250