JP2006131612A - Method for producing sulfonium compound - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a sulfonium compound, more concretely, the method for efficiently and in high purity and good efficiency producing the compound useful as a curing initiator of a photo- and/or heat-curable epoxy resin composition or a polymerization and curing initiator of a cationically polymerizable vinyl compound such as styrene. <P>SOLUTION: The method for producing a 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound involves reacting a 4-acyloxyphenylalkylsulfide compound with dimethyl sulfate in an acetic ester as a solvent to afford a sulfonium salt, and subjecting the sulfonium salt to salt exchange. In the second embodiment, the method for producing the 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound involves reacting a 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium compound with an acid anhydride represented by R<SB>1</SB>OR<SB>1</SB>(wherein, R<SB>1</SB>is an acyl group or an alkylsulfonyl group) in the presence of dicyclohexylamine in ethyl acetate as a solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明はスルホニウム化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、光および/または熱硬化エポキシ樹脂組成物の硬化開始剤として、あるいはスチレンなどのカチオン重合性ビニル化合物の重合硬化開始剤としての効果を有するスルホニウム化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a sulfonium compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing a sulfonium compound having an effect as a curing initiator of a light and / or thermosetting epoxy resin composition or as a polymerization curing initiator of a cationically polymerizable vinyl compound such as styrene.

公開特許公報平成3年第200761号Published Patent Publication No. 200071 公開特許公報平成8年第188569号Published Patent Publication No. 1996/88569 公開特許公報平成1年第290658号Published Patent Publication No. 290658, Heisei 1 公開特許公報平成2年第172967号Published Patent Publication No. 172967

特許文献1によれば、本発明の製造方法で製造することができるスルホニウム化合物、ならびにこの製造方法が開示されている。ここでは、第一に 相当する4−置換オキシフェニル ジアルキルスルホニウムクロリド、あるいは4−置換オキシフェニル ジアルキルスルホニウムメチルサルフェートを出発原料として所定の酸のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩、例えばNaSbF6,
KSbF6, NaPF6, KPF6, KBF4, NH4SbF6のいずれかと所定の無水または含水酢酸エチル溶媒中で反応させて合成する方法、および第二に4−ヒドロキシフェニル ジアルキルスルホニウム化合物と塩化アセチル、クロルぎ酸メチルといった酸ハロゲン化物を、第三級アミンの存在下に反応させて、4−置換オキシフェニル ジアルキルスルホニウム化合物を得る方法が提案されている。
According to Patent Document 1, a sulfonium compound that can be produced by the production method of the present invention, and this production method are disclosed. Here, the alkali metal salt or ammonium salt of a predetermined acid starting from 4-substituted oxyphenyl dialkylsulfonium chloride corresponding to the first, or 4-substituted oxyphenyl dialkylsulfonium methyl sulfate, such as NaSbF 6 ,
A method of synthesis by reacting with any of KSbF 6 , NaPF 6 , KPF 6 , KBF 4 , NH 4 SbF 6 in a predetermined anhydrous or hydrous ethyl acetate solvent, and secondly, 4-hydroxyphenyl dialkylsulfonium compound and acetyl chloride A method has been proposed in which an acid halide such as methyl chloroformate is reacted in the presence of a tertiary amine to give a 4-substituted oxyphenyl dialkylsulfonium compound.

ところで、特許文献1の方法は、必ずしも満足のいく製造方法ではなかった。例えば第一の方法は4−置換オキシ基として、メトキシカルボニルオキシ基,アセトキシ基,ベンジルオキシカルボニルオキシ基,ジメチルアミノ基が例示されているが、これらの基は例えば原料として系内に添加されるNaSbF6のような酸性無機塩によってわずかに分解される。 By the way, the method of patent document 1 was not necessarily a satisfactory manufacturing method. For example, in the first method, methoxycarbonyloxy group, acetoxy group, benzyloxycarbonyloxy group and dimethylamino group are exemplified as 4-substituted oxy groups, but these groups are added to the system as raw materials, for example. It is slightly degraded by acidic inorganic salts such as NaSbF 6.

また、第二の方法は、原料の酸ハロゲン化物の反応性が高く、溶媒などとも副反応を行うことが判明している。また、第一、第二の方法に共通するが、原料由来のハロゲンイオンが製品に残り、ハロゲンイオンを忌避する電子材料用重合硬化開始剤として使用するためにはさらに精製が必要であるなど、工業的には満足のいくものではない。 In addition, it has been found that the second method has a high reactivity of the raw material acid halide and performs a side reaction with a solvent or the like. In addition, although common to the first and second methods, the halogen ions derived from the raw material remain in the product, and further purification is necessary to use it as a polymerization curing initiator for electronic materials that repels halogen ions. Not industrially satisfactory.

特許文献2によれば、本発明の製造方法と類似の製造方法が開示されている。ここでは、水中で4−アシルオキシフェニル アルキルスルフィド化合物とアルキルハライドから4−アシルオキシフェニル ジアルキルスルホニウムハライドを導いて、酢酸エチルを投入する。この水−酢酸エチルの2相系で例えばNaSbF6,
KSbF6, NaPF6, KPF6, KBF4, NH4SbF6を作用させて4−アシルオキシフェニル ジアルキルスルホニウム ポリフルオロ亜金属塩を得るものである。この特許文献2の特徴は、水−酢酸エチルの2相系で反応させているため、必要な4−アシルオキシフェニル ジアルキルスルホニウム ポリフルオロ亜金属塩は酢酸エチル層に、無機塩は水層に移行する。従って、酢酸エチル層を処理するだけで目的物が得られる点にある。
According to Patent Document 2, a manufacturing method similar to the manufacturing method of the present invention is disclosed. Here, 4-acyloxyphenyl dialkylsulfonium halide is derived from a 4-acyloxyphenyl alkylsulfide compound and an alkyl halide in water, and ethyl acetate is added. In this two-phase system of water-ethyl acetate, for example, NaSbF 6 ,
KSbF 6 , NaPF 6 , KPF 6 , KBF 4 , NH 4 SbF 6 is allowed to act to obtain 4-acyloxyphenyl dialkylsulfonium polyfluoro submetallic salt. The feature of this Patent Document 2 is that the reaction is carried out in a water-ethyl acetate two-phase system, so that the necessary 4-acyloxyphenyl dialkylsulfonium polyfluorometallate is transferred to the ethyl acetate layer and the inorganic salt is transferred to the water layer. . Therefore, the target product can be obtained only by treating the ethyl acetate layer.

特許文献3はスルホニウム化合物の製造方法であり、本発明の製造方法の前工程と類似の製造方法が開示されている。ここでは、チオアニソール誘導体と硫酸ジメチルを作用させて4−アシルオキシフェニル ジアルキルスルホニウムメチル硫酸塩を導くものであり、その溶媒にトルエンが示されている。しかしながら、特許文献3には酢酸エステル系溶媒の優位性は開示されていない。 Patent Document 3 is a method for producing a sulfonium compound, and discloses a production method similar to the previous step of the production method of the present invention. Here, thioanisole derivative and dimethyl sulfate are allowed to act to lead to 4-acyloxyphenyl dialkylsulfonium methyl sulfate, and toluene is shown as the solvent. However, Patent Document 3 does not disclose the superiority of acetate solvents.

特許文献4もスルホニウム化合物の製造方法であり、本発明の製造方法と類似の製造方法が開示されている。ここでは、ジシクロヘキシルアミン等の存在下、ヒドロキシフェニル ジアルキルスルホニウム化合物のアシル化剤としてのジ炭酸ジエステルの記載がある。しかしながら、特許文献4にも酢酸エステル系溶媒の優位性は開示されていない。 Patent Document 4 is also a method for producing a sulfonium compound, and a production method similar to the production method of the present invention is disclosed. Here, there is a description of a dicarbonate diester as an acylating agent for a hydroxyphenyl dialkylsulfonium compound in the presence of dicyclohexylamine or the like. However, Patent Document 4 does not disclose the superiority of acetate solvents.

従って、本発明は、特許文献1に開示された硬化開始剤として有用な化合物を高純度かつ効率よく製造するための方法に関する。 Therefore, the present invention relates to a method for producing a compound useful as a curing initiator disclosed in Patent Document 1 with high purity and efficiency.

本発明は、先行特許文献1と異なり、化1で表わされる4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物とR1OR1で表される酸無水物を、ジシクロヘキシルアミンの存在下に酢酸エチルを溶媒として反応させることによって、化2で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物を製造する方法である。この方法は先行特許文献1に記載の第二の方法に類似しているが、反応剤が酸ハロゲン化物でなく酸無水物である点、存在すべきアミンが第三級アミンでなくジシクロヘキシルアミンである点、溶媒が酢酸エチルに限定した点が異なっており、その構成差から高純度の化合物が高収率で得られるものである。 Unlike the prior art document 1, the present invention reacts a 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 1 with an acid anhydride represented by R 1 OR 1 in the presence of dicyclohexylamine using ethyl acetate as a solvent. In this way, the 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 2 is produced. This method is similar to the second method described in Patent Document 1, except that the reactant is not an acid halide but an acid anhydride, and the amine to be present is not a tertiary amine but dicyclohexylamine. There is a difference in that the solvent is limited to ethyl acetate, and a high-purity compound can be obtained in a high yield from the structural difference.

Figure 2006131612
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(ここでR1はR−CO−基,R−SO2−基(Rは共通して1もしくはそれ以上のハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4のアルキル基)を、R2は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲンのいずれかを、R3は、C1〜C4のアルキル基,ベンジル基,ナフチルメチル基のいずれかを、R4は、C1〜C4のアルキル基である。XはSbF6,PF6,BF4を示す。) Wherein R 1 is an R—CO— group or an R—SO 2 — group (R is a C 1 -C 4 alkyl group optionally substituted with one or more halogens), R 2 hydrogen, an alkyl group of C 1 -C 4, or halogen, R 3 is an alkyl group of C 1 -C 4, benzyl group, any one of a naphthylmethyl group, R 4 is C 1 -C And X represents SbF 6 , PF 6 , or BF 4 .

この反応の原料である、化1で表される4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物としては、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート、4−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート、4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスファート、4−ヒドロキシフェニルメチル−2−ナフチルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートが例示される。また、R1OR1で表される酸無水物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホン酸無水物が例示される。 Examples of 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium compounds represented by Chemical Formula 1, which are raw materials for this reaction, include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-hydroxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-hydroxyphenyl. Examples include dimethylsulfonium hexafluorophosphate, 4-hydroxyphenylmethyl-2-naphthylmethylsulfonium hexafluoroantimonate. Examples of the acid anhydride represented by R 1 OR 1 include acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, trifluoroacetic anhydride, methanesulfonic anhydride, and trifluoromethanesulfonic anhydride.

反応後 副生するカルボン酸やスルホン酸を中和、除去することを目的として添加する塩基としてはジシクロヘキシルアミンのみが有効である。この理由は明らかではないが、立体障害を有するアミンが、反応から副生してくるカルボン酸やスルホン酸を取り込んで、反応を制御しているものと推定している。 Only dicyclohexylamine is effective as a base to be added for the purpose of neutralizing and removing carboxylic acid and sulfonic acid by-produced after the reaction. The reason for this is not clear, but it is presumed that the amine having steric hindrance controls the reaction by taking in carboxylic acid and sulfonic acid by-produced from the reaction.

これ以外の例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン等の3級アミンは、脱酸剤として化学工業上多用されているものの、この反応においては、収率が向上していないので好ましくない。また、脱酸剤として水酸化アルカリなどの強塩基を使用すると、S-CH3の部分から水素イオンを引き抜き、イオウイリド(S=CH2)を生成させ、あるいは、SbF6イオンとOHイオンからSbF5(OH)などのイオン反応が起きて生成物の収率ならびに純度を低下させることが予想される。 Other tertiary amines such as triethylamine and trimethylamine are frequently used in the chemical industry as deoxidizers, but in this reaction, the yield is not improved, which is not preferable. When a strong base such as alkali hydroxide is used as a deoxidizer, hydrogen ions are extracted from the S-CH 3 moiety to generate iowilide (S = CH 2 ), or SbF 6 ions and OH ions are 5 It is expected that ionic reactions such as (OH) will occur and reduce the yield and purity of the product.

従って、ジシクロヘキシルアミン以外のアミン、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン等や水酸化アルカリなどの塩基は本発明の方法において有効ではない。ジシクロヘキシルアミンの添加量は原料スルホニウム化合物1モルに対して0.9〜1.1モル、好ましくは0.95〜1.05モルである Therefore, amines other than dicyclohexylamine, such as triethylamine, trimethylamine and bases such as alkali hydroxide are not effective in the method of the present invention. The amount of dicyclohexylamine added is 0.9 to 1.1 mol, preferably 0.95 to 1.05 mol, per 1 mol of the raw material sulfonium compound.

溶媒についても同様に、酢酸エチルのみが有効である。本発明は、酢酸エチルのみが、この反応についての副生物を溶解させず、必要な生成物のみを溶解、分離させることができるという知見からなされたものである。従って、実施例記載のとおり、反応後、副生物はろ過によって除去することができる。これ以外の例えばベンゼン、トルエン類、DMF、ジメチルスルホキシド類、水やメタノールやエタノールといったプロトン性溶媒には、このような長所はない。 Similarly, only ethyl acetate is effective for the solvent. The present invention has been made based on the finding that only ethyl acetate can dissolve and separate only the necessary products without dissolving the by-products of this reaction. Therefore, as described in the examples, after the reaction, by-products can be removed by filtration. Other protic solvents such as benzene, toluenes, DMF, dimethyl sulfoxides, water, methanol and ethanol do not have such advantages.

また、本発明は、化3で表される4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物を酢酸エチルに溶解させてNaSbF6類を作用させることで溶液中に化1で表されるスルホニウム化合物を生成させ、次いでその酢酸エチル溶液にジシクロヘキシルアミンの存在下に酸無水物を反応させ、化2で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物を製造するというワンポットの方法も提案する。 Further, in the present invention, a 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 3 is dissolved in ethyl acetate and NaSbF 6 is allowed to act to produce a sulfonium compound represented by Chemical Formula 1 in the solution, A one-pot method is also proposed in which an acid anhydride is reacted with the ethyl acetate solution in the presence of dicyclohexylamine to produce a 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 2.

Figure 2006131612
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(ここでR2は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲンのいずれかを、R3は、C1〜C4のアルキル基,ベンジル基,ナフチルメチル基のいずれかを、R4は、C1〜C4のアルキル基である。Yはメチル硫酸イオンまたはハロゲンイオンを示す。) (Where R 2 is hydrogen, a C 1 -C 4 alkyl group or halogen, R 3 is a C 1 -C 4 alkyl group, benzyl group or naphthylmethyl group, R 4 is C 1 -C 4 alkyl group, Y represents methyl sulfate ion or halogen ion.)

ここで使用される化3で表される原料化合物は、R3とR4は、同一でも異なっていてもよい4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウムクロリド、あるいは4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム メチルサルフェートが例示される。これを出発原料として所定の酸のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩、例えばNaSbF6,
KSbF6, NaPF6, KPF6, KBF4, NH4SbF6のいずれかとを酢酸エチル溶媒中で反応させて塩交換を行う。
The raw material compound represented by Chemical Formula 3 used here is exemplified by 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium chloride or 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium methylsulfate in which R 3 and R 4 may be the same or different. . Starting from this, an alkali metal salt or ammonium salt of a predetermined acid such as NaSbF 6 ,
Salt exchange is performed by reacting any one of KSbF 6 , NaPF 6 , KPF 6 , KBF 4 , and NH 4 SbF 6 in an ethyl acetate solvent.

そして無機物を除去した溶液について、先に記載の反応、つまり、生成している4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物と酸無水物をジシクロヘキシルアミンの存在下に反応させることによって、化2で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物を製造することができるものである。この発明は、溶媒を酢酸エチルとすることで、副生物のろ過だけで連続的に反応を行うことができるものである。 The solution from which the inorganic substance has been removed is subjected to the reaction described above, that is, by reacting the produced 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium compound with an acid anhydride in the presence of dicyclohexylamine. -An acyloxyphenyl dialkylsulfonium compound can be produced. In the present invention, by using ethyl acetate as a solvent, the reaction can be continuously performed only by filtration of by-products.

また、第2の本発明も先行文献と異なり、化4で表される4−アシルオキシフェニル アルキルスルフィド化合物を酢酸エステルを溶媒として硫酸ジメチルと作用させて化5で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物を得て、次いでこのスルホニウム化合物を水で抽出し、水層にMXで表される塩類を作用させることを特徴とする化6で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物の製造方法である。   Also, the second present invention is different from the prior art in that the 4-acyloxyphenyl dialkylsulfonium represented by the chemical formula 4 is obtained by reacting the 4-acyloxyphenyl alkylsulfide compound represented by the chemical formula 4 with dimethyl sulfate using the acetate ester as a solvent. This is a method for producing a 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 6, characterized in that a compound is obtained, then the sulfonium compound is extracted with water, and a salt represented by MX is allowed to act on the aqueous layer. .

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(上記 化4〜化6などにおいて、R1はR−CO−基,R−SO2−基(Rは共通して1もしくはそれ以上のハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4のアルキル基)、R2は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲン、R3は、C1〜C4のアルキル基,ベンジル基,ナフチルメチル基、R4はメチル基、Yはメチル硫酸イオン、Mはアルカリ金属,NH4を、XはSbF6,PF6,BF4を示す。) (In the above chemical formulas 4 to 6, etc., R 1 is an R—CO— group, an R—SO 2 — group (R is a C 1 to C 4 optionally substituted with one or more halogen atoms). Alkyl group), R 2 is hydrogen, C 1 -C 4 alkyl group, halogen, R 3 is C 1 -C 4 alkyl group, benzyl group, naphthylmethyl group, R 4 is methyl group, Y is methyl sulfate Ion, M is alkali metal, NH 4 , X is SbF 6 , PF 6 , BF 4

この方法は先行特許文献2ならびに3に記載の方法に類似しているが、第一反応における反応剤を硫酸ジメチルに限定し、スルホニウム化溶媒を酢酸エステルに限定した点、ならびに生成したスルホニウム化合物が水溶性であることを利用し、水で抽出することによって精製し、これに直接、MXで表される所定の酸のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩、例えばNaSbF6,
KSbF6, NaPF6, KPF6, KBF4, NH4SbF6のいずれかを作用させて水中で塩交換を行う点にその特徴がある。そしてその構成差から硬化開始剤として有用な化合物が、ハロゲンイオン等の不純物を含むことなく高純度かつ高収率で得られるものである。
This method is similar to the methods described in Prior Patent Documents 2 and 3, except that the reactant in the first reaction is limited to dimethyl sulfate, the sulfoniumated solvent is limited to acetate, and the resulting sulfonium compound is Utilizing the water-solubility, the product is purified by extraction with water, and an alkali metal salt or ammonium salt of a predetermined acid represented by MX, such as NaSbF 6 ,
It is characterized by salt exchange in water by acting any one of KSbF 6 , NaPF 6 , KPF 6 , KBF 4 , and NH 4 SbF 6 . From the structural difference, a compound useful as a curing initiator can be obtained with high purity and high yield without containing impurities such as halogen ions.

この反応の原料である、化4で表されるスルフィド化合物としては、4−アセトキシフェニルメチルスルフィド、4−メタンスルホニルオキシフェニルメチルスルフィドが例示される。また、化6で表されるこの反応で製造される化合物としては、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート、4−アセトキシフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスファート、4−アセトキシフェニルメチル−2−ナフチルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート、4−メタンスルホニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート、4−メタンスルホニルオキシフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート、4−メタンスルホニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスファートが例示される。 Examples of the sulfide compound represented by Chemical Formula 4 that is a raw material for this reaction include 4-acetoxyphenyl methyl sulfide and 4-methanesulfonyloxyphenyl methyl sulfide. The compounds produced by this reaction represented by Chemical Formula 6 include 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluorophos Fert, 4-acetoxyphenylmethyl-2-naphthylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-methanesulfonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-methanesulfonyloxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-methanesulfonyloxy Illustrative is phenyldimethylsulfonium hexafluorophosphate.

この反応の溶媒については、酢酸エステルのみが有効である。本発明にいう酢酸エステルとは、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸イソオクチル、酢酸エトキシエチルなどが例示される。そして、これら、酢酸エステルのみが、この反応についての副生物を溶解させず、必要な生成物のみを溶解、分離させることができるという知見からなされたものである。 As the solvent for this reaction, only acetate esters are effective. Examples of the acetate according to the present invention include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, isooctyl acetate, and ethoxyethyl acetate. And only these acetates are made from the knowledge that only the necessary products can be dissolved and separated without dissolving the by-products of this reaction.

そして、実施例記載のとおり、中間反応後、副生物は水での抽出という簡単な操作によって必要な中間体から分離することができる。溶媒として、酢酸エステル以外の例えばベンゼン、トルエン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド類、水やメタノールやエタノールといったプロトン性溶媒には、このような長所はない。酢酸エステルの添加量は、溶剤として化4のスルフィド化合物を溶解させればよい。 Then, as described in the Examples, after the intermediate reaction, the by-product can be separated from the necessary intermediate by a simple operation of extraction with water. Protic solvents such as benzene, toluenes, dimethylformamide, dimethyl sulfoxides, water, methanol, and ethanol other than acetates do not have such advantages as solvents. The addition amount of the acetate may be obtained by dissolving the sulfide compound of Chemical Formula 4 as a solvent.

また、この明細書にかかるすべての発明においての反応温度は20℃以下が好ましく、生成物の分解を避ける意味から、5℃以下が特に好ましい。 Further, the reaction temperature in all the inventions according to this specification is preferably 20 ° C. or lower, and particularly preferably 5 ° C. or lower in order to avoid decomposition of the product.

以下に第1の本発明の実施例を示すが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。
実施例1
4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートの合成
4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート 11.73g(0.030モル)を酢酸エチル200mlに溶解させ、撹拌しながら、ジシクロヘキシルアミン 5.44g(0.030モル)を混合し、さらに無水酢酸 3.06g(0.030モル)を3分で滴下する。滴下時から沈殿が生じる。滴下後、更に1時間撹拌する。生成した酢酸ジシクロヘキシルアミン塩をろ別し、溶媒を濃縮することで白色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量11.52g(収率88.7%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は99.3%であった。
Examples of the first aspect of the present invention are shown below, but the scope of the present invention is not limited thereto.
Example 1
Synthesis of 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate 11.73 g (0.030 mol) of 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate was dissolved in 200 ml of ethyl acetate, and 5.44 g (0,4) of dicyclohexylamine was stirred. 0.030 mol) is mixed, and 3.06 g (0.030 mol) of acetic anhydride is further added dropwise over 3 minutes. Precipitation occurs from the time of dropping. After the addition, the mixture is further stirred for 1 hour. The produced dicyclohexylamine salt is filtered off and the solvent is concentrated to obtain 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate as white crystals. The yield was 11.52 g (yield 88.7%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 99.3%.

実施例2
4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートの合成
4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム クロライド5.72g(0.030モル)を酢酸エチル250mlに溶解させ、撹拌しながら、KSbF6 8.24g(0.030モル)の粉末を加える。1時間撹拌して生成した無機物をろ別する。この溶液を撹拌しながら、ジシクロヘキシルアミン 5.44g(0.030モル)を混合し、さらに無水酢酸 3.06g(0.030モル)を5分で滴下する。滴下時から沈殿が生じる。滴下後、更に1時間撹拌する。実施例1と同様に処理して、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート11.09g(収率85.4%)を得る。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は99.0%であった。
Example 2
Synthesis of 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate 5.72 g (0.030 mol) of 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium chloride was dissolved in 250 ml of ethyl acetate, and 8.24 g (0.030 mol) of KSbF6 was stirred. Add the powder. The inorganic substance produced by stirring for 1 hour is filtered off. While stirring this solution, 5.44 g (0.030 mol) of dicyclohexylamine is mixed, and 3.06 g (0.030 mol) of acetic anhydride is added dropwise over 5 minutes. Precipitation occurs from the time of dropping. After the addition, the mixture is further stirred for 1 hour. The same treatment as in Example 1 is carried out to obtain 11.09 g (yield 85.4%) of 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate. The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 99.0%.

実施例3
4−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートの合成
4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート 11.73g(0.030モル)を酢酸エチル200mlに溶解させ、撹拌しながら、ジシクロヘキシルアミン 5.44g(0.030モル)を混合し、さらにトリフルオロメタンスルホン酸無水物 8.46g(0.030モル)を5分で滴下する。滴下時から沈殿が生じる。滴下後、更に1時間撹拌する。実施例1と同様に処理して、白色結晶の4−トリフルオロメタンスルホニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量13.11g(収率83.6%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は99.4%であった。
Example 3
4. Synthesis of 4-trifluoromethanesulfonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate 11.73 g (0.030 mol) of 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate is dissolved in 200 ml of ethyl acetate and stirred with dicyclohexylamine. 44 g (0.030 mol) is mixed, and 8.46 g (0.030 mol) of trifluoromethanesulfonic anhydride is added dropwise over 5 minutes. Precipitation occurs from the time of dropping. After the addition, the mixture is further stirred for 1 hour. The same treatment as in Example 1 is carried out to obtain 4-crystalline trifluoromethanesulfonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate as white crystals. The yield was 13.11 g (yield 83.6%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 99.4%.

実施例4
4−プロピオニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートの合成
4−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナート 11.73g(0.030モル)を酢酸エチル200mlに溶解させ、撹拌しながら、ジシクロヘキシルアミン 5.44g(0.030モル)を混合し、さらに無水プロピオン酸
3.90g(0.030モル)を3分で滴下する。滴下時から沈殿が生じる。滴下後、更に1時間撹拌する。生成したプロピオン酸ジシクロヘキシルアミン塩をろ別し、溶媒を濃縮することで白色結晶の4−プロピオニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量11.0g(収率82.0%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は99.5%であった。
Example 4
Synthesis of 4-propionyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate 11.73 g (0.030 mol) of 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate was dissolved in 200 ml of ethyl acetate, and 5.44 g of dicyclohexylamine was stirred. 0.030 mol) is mixed, and 3.90 g (0.030 mol) of propionic anhydride is added dropwise over 3 minutes. Precipitation occurs from the time of dropping. After the addition, the mixture is further stirred for 1 hour. The produced dicyclohexylamine salt of propionate is filtered off and the solvent is concentrated to obtain 4-propionyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate as white crystals. The yield was 11.0 g (yield 82.0%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 99.5%.

比較例1
ジシクロヘキシルアミンに代えてトリエチルアミン 3.03g(0.030モル)を 使用した以外は実施例1に従って実施した。白色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量5.69g(収率43.8%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は98.3%であった。
Comparative Example 1
The same procedure as in Example 1 was conducted except that 3.03 g (0.030 mol) of triethylamine was used instead of dicyclohexylamine. White crystalline 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate is obtained. The yield was 5.69 g (43.8% yield). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 98.3%.

比較例2
溶媒として酢酸エチル200mLをジメチルホルムアミド200mLに代えた以外は実施例1に従って実施した。副生物との分離ができなかったので、反応終了後、水を加えて生成物を取り出し、再結晶を行った。白微黄色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量8.04g(収率61.9%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は再結晶後にもかかわらず、97.1%であった。
Comparative Example 2
Example 1 was carried out except that 200 mL of ethyl acetate was replaced with 200 mL of dimethylformamide as a solvent. Since separation from by-products was not possible, water was added after the reaction was completed, and the product was taken out and recrystallized. 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate is obtained as white slightly yellow crystals. The yield was 8.04 g (yield 61.9%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 97.1%, even after recrystallization.

比較例3
ジシクロヘキシルアミンに代えて水酸化ナトリウム 1.20g(0.030モル)を 使用した以外は実施例1に従って実施した。白色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量2.99g(収率23.0%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は96.4%であった。
Comparative Example 3
Example 1 was carried out except that 1.20 g (0.030 mol) of sodium hydroxide was used instead of dicyclohexylamine. White crystalline 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate is obtained. The yield was 2.99 g (yield 23.0%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 96.4%.

以下に第2の本発明の実施例を示す。
参考例
4−アセトキシフェニルメチルスルフィドの合成
フランス公開特許2456731号に記載の方法に準じて合成した。4−ヒドロキシフェニルメチルスルフィド4.24g(0.03モル)と無水酢酸 3.37g(0.033モル)を混合して冷却しながら撹拌し、これに濃硫酸3滴を加えると発熱反応が開始した。2時間撹拌した後、過剰の無水酢酸を蒸留することで除いた。一夜放置し、冷却した後、固形物をヘキサンで再結晶したところ、4−アセトキシフェニルメチルスルフィド4.26gが得られた。収率75.4%
The second embodiment of the present invention will be described below.
Reference Example 4-Synthesis of 4-acetoxyphenyl methyl sulfide The 4-acetoxyphenyl methyl sulfide was synthesized according to the method described in French Published Patent No. 2456773. 4.24 g (0.03 mol) of 4-hydroxyphenylmethyl sulfide and 3.37 g (0.033 mol) of acetic anhydride were mixed and stirred while cooling, and when 3 drops of concentrated sulfuric acid was added thereto, an exothermic reaction started. did. After stirring for 2 hours, excess acetic anhydride was removed by distillation. After allowing to stand overnight and cooling, the solid was recrystallized with hexane to obtain 4.26 g of 4-acetoxyphenyl methyl sulfide. Yield 75.4%

実施例5
4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートの合成
参考例で合成した4−アセトキシフェニルメチルスルフィド5.65g(0.030モル)を酢酸エチル100mlに溶解させ、撹拌しながら、ジメチル硫酸3.78g(0.030モル)を3分で滴下する。滴下時から沈殿が生じる。滴下後、更に1時間撹拌する。その後、水50mLを加え、3分間強く撹拌することで水層に、生成物である4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム メチルサルフェートを移行させる。水層を分液しこれにNaSbF6 7.7g(0.030モル)の水溶液50mLを10分間で滴下したところ、白色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量12.03g(収率92.6%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は99.3%であった。
Example 5
Synthesis of 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate 5.65 g (0.030 mol) of 4-acetoxyphenylmethylsulfide synthesized in Reference Example was dissolved in 100 ml of ethyl acetate, and 3.78 g ( 0.030 mol) is added dropwise in 3 minutes. Precipitation occurs from the time of dropping. After the addition, the mixture is further stirred for 1 hour. Thereafter, 50 mL of water is added, and the product 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium methyl sulfate is transferred to the aqueous layer by vigorously stirring for 3 minutes. The aqueous layer is separated, and 50 mL of an aqueous solution of 7.7 g (0.030 mol) of NaSbF 6 is added dropwise over 10 minutes to obtain 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate as white crystals. The yield was 12.03 g (yield 92.6%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 99.3%.

実施例6
酢酸エチルに代えて酢酸ブチル 100mLを使用した以外は実施例5に従って実施した。白色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量11.78g(収率90.7%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は99.3%であった。
Example 6
Example 5 was performed except that 100 mL of butyl acetate was used instead of ethyl acetate. White crystalline 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate is obtained. The yield was 11.78 g (90.7% yield). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 99.3%.

実施例7
4−メタンスルホニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートの合成
4−メタンスルホニルオキシフェニルメチルスルフィド6.55g(0.030モル)を酢酸エチル100mlに溶解させ、撹拌しながら、ジメチル硫酸3.78g(0.030モル)を3分で滴下する。滴下時から沈殿が生じる。滴下後、更に1時間撹拌する。その後、水50mLを加え、3分間強く撹拌することで水層に、生成物である4−メタンスルホニルオキシフェニルジメチルスルホニウム メチルサルフェートを移行させる。水層を分液しこれにNaSbF6 7.7g(0.030モル)の水溶液50mLを10分間で滴下したところ、4−メタンスルホニルオキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量12.48g(収率88.7%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は99.0%であった。
Example 7
Synthesis of 4-methanesulfonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate 6.55 g (0.030 mol) of 4-methanesulfonyloxyphenyl methylsulfide was dissolved in 100 ml of ethyl acetate, and 3.78 g (0 0.030 mol) is added dropwise in 3 minutes. Precipitation occurs from the time of dropping. After the addition, the mixture is further stirred for 1 hour. Thereafter, 50 mL of water is added, and the product, 4-methanesulfonyloxyphenyldimethylsulfonium methyl sulfate, is transferred to the aqueous layer by vigorously stirring for 3 minutes. The aqueous layer is separated, and 50 mL of an aqueous solution of 7.7 g (0.030 mol) of NaSbF 6 is added dropwise thereto over 10 minutes to obtain 4-methanesulfonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate. The yield was 12.48 g (yield 88.7%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 99.0%.

比較例4
酢酸エチルに代えてトルエン 100mLを使用した以外は実施例5に従って実施した。白色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量5.69g(収率43.8%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は98.3%であった。
Comparative Example 4
Example 5 was performed except that 100 mL of toluene was used instead of ethyl acetate. White crystalline 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate is obtained. The yield was 5.69 g (43.8% yield). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 98.3%.

比較例5
酢酸エチルに代えて塩化メチレン100mLを使用した以外は実施例5に従って実施した。微黄白色結晶の4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモナートを得る。収量10.29g(収率79.2%)であった。高速液体クロマトグラフィー(HPLC)による純度は95.0%であった。
Comparative Example 5
The procedure was as in Example 5, except that 100 mL of methylene chloride was used instead of ethyl acetate. 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate having slightly yellowish white crystals is obtained. The yield was 10.29 g (yield 79.2%). The purity by high performance liquid chromatography (HPLC) was 95.0%.

実施例で明らかなように、本発明のジアルキルスルホニウム化合物の製造方法によれば、高純度を必要とする、エポキシ硬化開始剤として使用されるスルホニウム塩を簡便な方法で製造することができる。

As apparent from the examples, according to the method for producing a dialkylsulfonium compound of the present invention, a sulfonium salt used as an epoxy curing initiator that requires high purity can be produced by a simple method.

Claims (3)

化1で表される4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物とR1OR1で表される酸無水物をジシクロヘキシルアミンの存在下に酢酸エチルを溶媒として反応させることを特徴とする化2で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物の製造方法。
(ここでR1はR−CO−基,R−SO2−基(Rは共通して1もしくはそれ以上のハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4のアルキル基)、R2は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲン、R3は、C1〜C4のアルキル基,ベンジル基,ナフチルメチル基、R4は、C1〜C4のアルキル基である。XはSbF6,PF6,BF4を示す。)
Figure 2006131612
Figure 2006131612
A 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 1 and an acid anhydride represented by R 1 OR 1 are reacted in the presence of dicyclohexylamine using ethyl acetate as a solvent. A method for producing a 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound.
(Where R 1 is an R—CO— group, an R—SO 2 — group (R is a C 1 -C 4 alkyl group optionally substituted with one or more halogens), and R 2 is hydrogen, an alkyl group of C 1 -C 4, halogen, R 3 is an alkyl group of C 1 -C 4, benzyl group, naphthylmethyl group, R 4 is a is .X alkyl group C 1 -C 4 SbF 6 , PF 6 and BF 4 are shown.)
Figure 2006131612
Figure 2006131612
化3で表される4−ヒドロキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物を酢酸エチルに溶解させてMXで表される塩類を作用させ、次いでその酢酸エチル溶液にジシクロヘキシルアミンの存在下にR1OR1で表される酸無水物を反応させることを特徴とする化4で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物の製造方法。
(ここでR1はR−CO−基,R−SO2−基(Rは共通して1もしくはそれ以上のハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4のアルキル基)を、R2は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲンのいずれかを、R3は、C1〜C4のアルキル基,ベンジル基,ナフチルメチル基のいずれかを、R4は、C1〜C4のアルキル基である。Mはアルカリ金属,NH4を、XはSbF6,PF6,BF4を、Yはメチル硫酸イオンまたはハロゲンイオンを示す。)

Figure 2006131612
Figure 2006131612

A 4-hydroxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 3 is dissolved in ethyl acetate to act on a salt represented by MX, and then the ethyl acetate solution is represented by R 1 OR 1 in the presence of dicyclohexylamine. A method for producing a 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 4, wherein an acid anhydride is reacted.
Wherein R 1 is an R—CO— group or an R—SO 2 — group (R is a C 1 -C 4 alkyl group optionally substituted with one or more halogens), R 2 hydrogen, an alkyl group of C 1 -C 4, or halogen, R 3 is an alkyl group of C 1 -C 4, benzyl group, any one of a naphthylmethyl group, R 4 is C 1 -C ( M is an alkali metal, NH 4 , X is SbF 6 , PF 6 , BF 4 , and Y is a methyl sulfate ion or a halogen ion.)

Figure 2006131612
Figure 2006131612

化5で表される4−アシルオキシフェニル アルキルスルフィド化合物を酢酸エステルを溶媒として硫酸ジメチルと作用させて化6で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物となし、次いでこれを水で抽出し、水層にMXで表される塩類を作用させることを特徴とする化7で表される4−アシルオキシフェニルジアルキルスルホニウム化合物の製造方法。
(ここで、R1はR−CO−基,R−SO2−基(Rは共通して1もしくはそれ以上のハロゲンで置換されていてもよいC1〜C4のアルキル基)、R2は水素,C1〜C4のアルキル基,ハロゲン、R3は、C1〜C4のアルキル基,ベンジル基,ナフチルメチル基、R4はメチル基、Yはメチル硫酸イオン、Mはアルカリ金属,NH4を、XはSbF6,PF6,BF4を示す。)

Figure 2006131612
Figure 2006131612

Figure 2006131612

The 4-acyloxyphenyl alkylsulfide compound represented by Chemical Formula 5 is reacted with dimethyl sulfate using an acetic ester as a solvent to form a 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 6, which is then extracted with water, A method for producing a 4-acyloxyphenyldialkylsulfonium compound represented by Chemical Formula 7, wherein a salt represented by MX is allowed to act on the layer.
Wherein R 1 is an R—CO— group, an R—SO 2 — group (R is a C 1 -C 4 alkyl group optionally substituted with one or more halogens), R 2 is hydrogen, an alkyl group of C 1 -C 4, halogen, R 3 is an alkyl group of C 1 -C 4, benzyl group, naphthylmethyl group, R 4 is a methyl group, Y is methyl sulfate ion, M is an alkali metal , NH 4 , X represents SbF 6 , PF 6 , BF 4. )

Figure 2006131612
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008149929A1 (en) 2007-06-07 2008-12-11 Tokuyama Dental Corporation Dental filling/restoration kit
JP2014062057A (en) * 2012-09-20 2014-04-10 Sanshin Chem Ind Co Ltd Method for producing acetylated sulfonium compound
JP7397256B2 (en) 2019-11-12 2023-12-13 学校法人東京理科大学 Sulfonium compounds, acid generators, curable compositions and cured products

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH021470A (en) * 1988-03-03 1990-01-05 Sanshin Chem Ind Co Ltd Sulfonium compound and production thereof
JPH02124870A (en) * 1988-06-16 1990-05-14 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Production of sulfonium compound
JPH02172967A (en) * 1988-12-26 1990-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Production of carbonic acid ester
JPH0395144A (en) * 1989-08-04 1991-04-19 Ono Pharmaceut Co Ltd Production of aminophenol derivative
JPH08188569A (en) * 1995-01-06 1996-07-23 Sanshin Chem Ind Co Ltd Production of sulfonium compound
JPH08325225A (en) * 1995-05-26 1996-12-10 Nippon Soda Co Ltd New sulfonium salt compound, polymerization initiator and curable composition containing them
JPH11322664A (en) * 1998-03-09 1999-11-24 Rohm & Haas Co Production of benzoic acid compound

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH021470A (en) * 1988-03-03 1990-01-05 Sanshin Chem Ind Co Ltd Sulfonium compound and production thereof
JPH02124870A (en) * 1988-06-16 1990-05-14 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Production of sulfonium compound
JPH02172967A (en) * 1988-12-26 1990-07-04 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Production of carbonic acid ester
JPH0395144A (en) * 1989-08-04 1991-04-19 Ono Pharmaceut Co Ltd Production of aminophenol derivative
JPH08188569A (en) * 1995-01-06 1996-07-23 Sanshin Chem Ind Co Ltd Production of sulfonium compound
JPH08325225A (en) * 1995-05-26 1996-12-10 Nippon Soda Co Ltd New sulfonium salt compound, polymerization initiator and curable composition containing them
JPH11322664A (en) * 1998-03-09 1999-11-24 Rohm & Haas Co Production of benzoic acid compound

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008149929A1 (en) 2007-06-07 2008-12-11 Tokuyama Dental Corporation Dental filling/restoration kit
US8506298B2 (en) 2007-06-07 2013-08-13 Tokuyama Dental Corporation Dental filling/restoration kit
JP2014062057A (en) * 2012-09-20 2014-04-10 Sanshin Chem Ind Co Ltd Method for producing acetylated sulfonium compound
JP7397256B2 (en) 2019-11-12 2023-12-13 学校法人東京理科大学 Sulfonium compounds, acid generators, curable compositions and cured products

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