JP2006125875A - X線透視装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 比較的簡単なソフトを用いて、電極等の尖頭部の位置を正確に検出することのできるX線透視装置を提供する。
【解決手段】 透視対象物Wを透過したX線を検出するX線検出器2の出力に基づくX線透視像を画像処理する画像処理装置7に、透視対象物Wの尖頭部の座標を計測する機能を持たせ、その機能においては、X線透視像の輝度情報から粒子解析に基づいて透視対象物の端点を検出して、尖頭部の直交座標のうちの一方の座標を決定し、その座標情報に基づくエッジ検出により、他方の座標を決定する。
【選択図】 図3
【解決手段】 透視対象物Wを透過したX線を検出するX線検出器2の出力に基づくX線透視像を画像処理する画像処理装置7に、透視対象物Wの尖頭部の座標を計測する機能を持たせ、その機能においては、X線透視像の輝度情報から粒子解析に基づいて透視対象物の端点を検出して、尖頭部の直交座標のうちの一方の座標を決定し、その座標情報に基づくエッジ検出により、他方の座標を決定する。
【選択図】 図3
Description
本発明は、各種工業製品等をX線を用いて透視して、各種検査や計測を行う装置に関する。
例えばランプ内で互いに対向する電極等の尖頭部間の距離を、そのランプ等を破壊することなく計測する場合、X線透視装置が用いられることが多い。このような用途に用いられるX線透視装置は、X線発生装置とX線エリアセンサを対向配置し、これらの間に透視対象物を支持するための試料ステージを配置した構成を採る(例えば特許文献1参照)。
ここで、このようなX線透視像から尖頭部の位置を検出するには、一般には公知のパターン認識の技法を採用することができる。
また、電極の尖頭部の位置検出等、円筒状ないしは円錐状など、中心軸を持つ物品の尖頭部の検出には、図4に例示するように、中心軸の探索に基づいた尖頭部の検出を行う手法も実用化されている。この図4に示す手法は、物品の円筒部分の像Fの軸方向複数箇所において、軸直交方向両側のエッジ検出を行い、各箇所における両側のエッジE1,E2の各中点Cを探索し、これらの各中点Cを通る線を中心軸Aと判定する。そして、その中心軸A上でエッジを検出すれば、そのエッジ位置Pが尖頭部の位置となる。
特開2003−28812号公報
ところで、尖頭部の位置を検出するための上記した各従来の手法のうち、パターン認識を用いる場合、尖頭部の検出の正確さは基準となるパターン画像に依存し、パターン画像の選択は装置オペレータが試行錯誤的に行う必要がある。また、画像内に検出対象とする尖頭部と類似した形状部分が存在する場合にはそちらを誤検出する危険もある。
一方、中心軸を利用する手法は、比較的簡単なソフトにより尖頭の位置検出を行うことができる反面、物品の製造上の諸事情等に起因して、図5に例示するように、尖頭部の位置Pが中心軸A上に存在しない場合には、その位置を正しく検出することができない。
本発明はこのような実情に鑑みてなされたもので、比較的簡単なソフトを用いて、電極等の尖頭部の位置を正確に検出することのできるX線透視装置の提供をその課題としている。
上記の課題を解決するため、本発明のX線透視装置は、互いに対向配置されたX線発生装置とX線検出器の間に、透視対象物を載せるための試料ステージが配置されているとともに、上記X線検出器の出力に基づく透視対象物のX線透視像を画像処理する画像処理装置を備えたX線透視装置において、上記画像処理装置が、透視対象物の尖頭部の座標を計測する尖頭部座標検出機能を有し、その尖頭部座標検出機能においては、X線透視像の輝度情報から粒子解析に基づいて透視対象物の端点を検出して、尖頭部の直交座標のうちの一方の座標決定し、その座標情報に基づくエッジ検出により、他方の座標を決定することによって特徴づけられる(請求項1)。
ここで、本発明において、粒子解析による尖頭部の一方の座標の決定の具体的手法として、透視対象物のX線透視像をオブジェクトとし、そのオブジェクトに外接する矩形の該当方向への長さの計測により行う構成(請求項2)を好適に採用することができる。
また、本発明において、エッジ検出による他方の座標の決定の具体的手法として、粒子解析により求められた一方の座標を通り、かつ、他方の座標軸に平行なライン上のラインプロファイルを求め、そのラインプロファイルの輝度変化位置を探索することによって行う構成(請求項3)を採用することができる。
本発明は、透視対象物のX線透視像から、粒子解析の手法を用いて端点の座標を求めることにより、課題を解決しようとするものである。
すなわち、粒子解析は画像を2値化してオブジェクトを抽出し、そのオブジェクトの特徴量(面積・直径等)を計測する公知の手法であり、この粒子解析により、尖頭部を有する透視対称物の座標のうち、一方の座標を尖頭部の端点検出によって決定する。この一方の座標の決定に際しては、請求項2に係る発明のように、オブジェクトに外接する矩形の該当方向に沿った辺の長さの計測により容易に行うことができる。そして、このように決定した一方の座標情報に基づくエッジ検出を行うことによって、その一方の座標に直交する他方の座標を決定することができる。この他方の座標の決定の具体例は、請求項3に係る発明のように、一方の座標を通り、かつ、他方の座標軸に平行なライン上のラインプロファイルを求めて、そのラインプロファイルの輝度変化位置を探索する手法であり、このように、粒子解析を主体とする尖頭部の座標計測を採用することにより、前記した図5に例示するように中心軸から逸脱した位置に尖頭部が存在する電極等であっても、その尖頭部の座標を常に正確に求めることができる。
本発明によれば、例えば電極の尖頭部等の座標を、粒子解析を主体とする画像処理により求めるため、従来のパターン認識における基準パターン画像のように、結果に大きく影響するパラメータを持たないが故に、装置オペレータによる試行錯誤的なパラメータの最適化作業が不要となる。しかも、尖頭部が物品の中心軸上に位置していない場合であっても、その座標を正確に計測することができる。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。
図1は本発明の実施の形態の構成図で、機械的構成を表す模式図とシステム構成を表すブロック図とを併記して示す図である。
図1は本発明の実施の形態の構成図で、機械的構成を表す模式図とシステム構成を表すブロック図とを併記して示す図である。
X線発生装置1はX線光軸Lが鉛直上方に向くようにX線を出力し、そのX線発生装置1の直上にX線検出器2が配置されている。このX線検出器2は、例えばイメージインテンシファイアとCCDカメラを組み合わせたものが用いられる。そして、これらの間に、透視対象物Wを保持するための試料ステージ3が配置されている。なお、この試料ステージ3はステージ移動機構4によって互いに直交するx,y,z軸方向に移動させることができ、また、X線検出器2は、検出器移動機構5によってX線光軸Lの方向(z軸方向)に移動させることができる。
X線検出器2の出力はキャプチャーボード等の画像取込回路6を介して画像処理装置7に取り込まれる。この画像処理装置7は、例えばパーソナルコンピュータを主体とするものであり、X線検出器2の画素出力を用いた透視対象物WのX線透視像等を表示するための表示器7aと、キーボード、マウス等からなる操作部7bが接続されている。前記したステージ移動機構4および検出器移動機構5は、この画像処理装置7からインターフェース8を介して供給される制御信号によって制御され、操作部7bの操作により手動で、あるいは画像処理装置7にインストールされているプログラムに従って自動的に、X線検出器2並びに試料ステージ3を移動させる。
そして、この画像処理装置7は、透視対象物Wの尖頭部の座標を、以下に示すように粒子解析を主体とする手法により計測する。以下、その手法を図面を参照しつつ詳細に説明する。
図2(A)は、ステージ移動機構4および検出器移動機構5を操作して透視対象物Wの位置および撮影倍率を調節することにより、例えばランプ内の電極をX線撮影した画像Fを示すものあり、前記した図5に示すものと同様、中心軸上に尖頭部が存在しないものであったとし、図示するように定められているx軸およびy軸の座標を計測するものとする。画像処理装置7では、このようなX線透視像を、まず、2値化することによって図2(B)に示すような2値化画像を得る。2値化に用いるしきい値は、2値化によって透視対象物W内の測定対象部位のみがオブジェクトOとして分離される値に選定する。
次に、2値化されたオブジェクトOに対して、粒子解析を行う。この粒子解析は、2値化されたオブジェクトの特徴量(面積、直径等)を計測するために多用されるソフトであって、市販ソフト・ライブラリなどを利用することができる。ここでは、粒子解析により、図3(A)に示すように、オブジェクトOに外接する矩形Sのx軸方向(オブジェクトの長手方向)の辺の長さPxを特徴量として計測する。この長さPxが尖頭部のx軸座標となる。
次に、図3(B)に示すように、X線透視像を構成する画素のうち、x軸座標Pxを通り、かつ、y軸に平行なラインLy上の画素のラインプロファイルを求める。このラインプロファイルは、同図(C)に示すように、ラインLyはオブジェクトOに外接しているが故に、尖頭部の位置においてのみ輝度が黒レベルになる。従って、このラインプロファイルにおける輝度変化の位置を探索することにより、尖頭部のy軸座標Pyを求めることができる。
ここで、以上の実施の形態においては、粒子解析によりオブジェクトに外接する矩形の辺の長さを特徴量として計測して一方の座標を求めた例を示したが、オブジェクト長軸の長さなど、透視対象の形状によって他の特徴量利用することもできる。
また、他方の座標(y軸座標)についても、以上の実施の形態においては一方の座標情報を用いてラインプロファイルの輝度変化位置から求めたが、例えば矩形S中でx軸に沿った全ラインについて、黒レベルの画素数を表すヒストグラムを作成して、黒レベルの画素数が最も多いライン位置をy軸座標とすることもできる。
なお、粒子解析によりオブジェクトの特徴量を計測することによって、一方の座標のみならず他方の座標も一意的に決定する場合には、他方の座標を決定するための工程は不要となることは勿論である。
また、透視対象の形状等によっては、座標の決定の手順を上記と逆とすることもできる。
1 X線発生装置
2 X線検出器
3 試料ステージ
6 画像取込回路
7 画像処理装置
W 透視対象物
2 X線検出器
3 試料ステージ
6 画像取込回路
7 画像処理装置
W 透視対象物
Claims (3)
- 互いに対向配置されたX線発生装置とX線検出器の間に、透視対象物を載せるための試料テーブルが配置されているとともに、上記X線検出器の出力に基づく透視対象物のX線透視像を画像処理する画像処理装置を備えたX線透視装置において、
上記画像処理装置が、透視対象物の尖頭部の座標を計測する尖頭部座標検出機能を有し、その尖頭部座標検出機能においては、X線透視像の輝度情報から粒子解析に基づいて透視対象物の端点を検出して、尖頭部の直交座標のうちの一方の座標を決定し、その座標情報に基づくエッジ検出により、他方の座標を決定することを特徴とするX線透視装置。 - 上記粒子解析による尖頭部の一方の座標の決定を、透視対象物のX線透視像をオブジェクトとし、そのオブジェクトに外接する矩形の該当方向に沿った辺の長さの計測により行うことを特徴とする請求項1に記載のX線透視装置。
- 上記他方の座標の決定を、上記一方の座標を通り、かつ、他方の座標軸に平行なライン上のラインプロファイルを求め、そのラインプロファイルの輝度変化位置を探索することによって行うことを特徴とする請求項1または2に記載のX線透視装置。
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JP2004311265A JP2006125875A (ja) | 2004-10-26 | 2004-10-26 | X線透視装置 |
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Cited By (1)
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JP2022141078A (ja) * | 2021-03-15 | 2022-09-29 | トヨタ自動車株式会社 | 膜電極接合体の検査方法および検査装置 |
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2004
- 2004-10-26 JP JP2004311265A patent/JP2006125875A/ja active Pending
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