JP2006114771A - 回路基板、回路素子実装基板、及び回路素子実装基板製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 異方性導電膜を挟んで対向させて接続した導電箔の腐食を防止する回路基板、回路素子実装基板及び回路素子実装基板製造方法を提供する。
【解決手段】 回路基板は、絶縁板11、導電箔13、及び被覆膜14を備える基板1と、絶縁板21、導電箔23、及び被覆膜24を備える基板2とを、基板1に転写された異方性導電膜3を介して加熱圧着して接続することにより構成される。異方性導電膜3は矩形状をなし、異方性導電膜3の縁部3aは、基板1の導電箔13の縁部13aに沿って配置してある。また、異方性導電膜3の縁部3bは、基板2の導電箔23の縁部23aに沿って配置してある。基板1の縁部11aは、基板2の被覆膜24の縁部24aに沿って配置し、基板2の縁部21aは、基板1の被覆膜14の縁部14aに沿って配置してある。
【選択図】 図3
【解決手段】 回路基板は、絶縁板11、導電箔13、及び被覆膜14を備える基板1と、絶縁板21、導電箔23、及び被覆膜24を備える基板2とを、基板1に転写された異方性導電膜3を介して加熱圧着して接続することにより構成される。異方性導電膜3は矩形状をなし、異方性導電膜3の縁部3aは、基板1の導電箔13の縁部13aに沿って配置してある。また、異方性導電膜3の縁部3bは、基板2の導電箔23の縁部23aに沿って配置してある。基板1の縁部11aは、基板2の被覆膜24の縁部24aに沿って配置し、基板2の縁部21aは、基板1の被覆膜14の縁部14aに沿って配置してある。
【選択図】 図3
Description
本発明は、異方性導電膜を介して複数の基板を接続した回路基板、該回路基板に回路素子を実装した回路素子実装基板、及び回路素子実装基板製造方法に関する。
情報端末装置又は携帯電話機などの小型化の要求に応じて、これらの機器に内蔵される実装基板には、限られた収容スペースを有効に活用するために、フレキシブル基板を用いて回路部品を実装したものが増加している。
機器に備えられる機能も多様化し、ユーザの要求に合わせて簡単な機能を備えたものから高度な機能を備えたものまで製品化されるようになった。このため、機能の多様化に対応するため、共通する機能を一方のフレキシブル基板に集約し、機能の多様化に合わせてカスタマイズ可能な機能を他方のフレキシブル基板に集約し、両基板を接続することにより、回路部品、基板などのコストを抑えつつ機能の多様化を実現している。
例えば、フレキシブル基板を接続する方法として、一方の基板に形成された電極リード(導電箔)の露出面に対して、熱硬化異方性導電樹脂の塗布範囲を、前記基板の端部から0.1〜0.5mm離れた範囲として熱硬化異方性導電樹脂を塗布することにより、余剰樹脂のはみ出しを防止して、熱硬化異方性導電樹脂を介して他の基板の端子部(導電箔)に接続する方法が提案されている(特許文献1参照)。
特開2003−297516号公報
しかしながら、特許文献1の接続方法にあっては、矩形状の導電箔が形成された基板の端面と該導電箔の端部断面とは、同一面上に形成してあるため、金めっきを施した導電箔が形成された原板から所定の形状の基板を裁断する場合には、導電箔の端部断面は金めっきが取り除かれ、導電箔の銅部分が露出するため、基板に回路部品を実装した後に実施される信頼性試験において導電箔が腐食するという問題があった。また、加熱圧着時の熱硬化異方性導電樹脂のはみ出しを防止するため、熱硬化異方性導電樹脂の塗布範囲を基板端部から離して塗布するため、導電箔が熱硬化異方性導電樹脂により覆われない部分が生じ、導電箔が露出して腐食を進行させるという問題もあった。
本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであり、矩形状の導電箔の縁部を基板縁部から離隔して設けてあることにより、金めっきを施した導電箔が設けられた原板から所定の形状の基板を裁断する場合に、導電箔の銅部分が露出せず、腐食を防止することができる回路基板、及び該回路基板に回路素子を実装した回路素子実装基板を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、矩形状の異方性導電膜の縁部を導電箔の縁部に沿って配置し、基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置してあることにより、導電箔を露出せず、腐食を防止することができる回路基板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、導電箔の縁部と基板縁部との間隔を0.3〜0.7mmの範囲にしてあることにより、加熱圧着時に異方性導電膜が伸長した場合に、異方性導電膜が導電箔を覆って、腐食を防止することができる回路基板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、矩形状の導電箔の縁部と基板縁部との間に、矩形状をなし、前記導電箔の幅より狭幅の電極を設けてあることにより、金めっきを施した導電箔が設けられた原板から所定の形状の基板を裁断する場合に、電解めっきを用いて金めっきをすることができる回路基板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、矩形状の導電箔の縁部を基板縁部から離隔して設け、矩形状の異方性導電膜の縁部を前記導電箔の縁部に沿って配置し、前記異方性導電膜を前記導電箔を覆って転写し、基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置し、両基板を加熱圧着して矩形状導電箔同士を接続することにより、腐食を防止することができる回路素子実装基板製造方法を提供することにある。
第1発明に係る回路基板は、複数の矩形状の導電箔を露出させて被覆膜を設けてあり、回路素子を実装するための基板夫々の前記導電箔を、異方性導電膜を挟んで対向させて接続してなる回路基板において、前記導電箔の縁部は、基板縁部から離隔して設けてあることを特徴とする。
第2発明に係る回路基板は、第1発明において、前記異方性導電膜は矩形状をなし、前記被覆膜の縁部は基板縁部に平行に設けてあり、前記異方性導電膜の縁部を前記導電箔の縁部に沿って配置してあり、基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置してあることを特徴とする。
第3発明に係る回路基板は、第2発明において、前記導電箔の縁部と基板縁部との間隔は0.3〜0.7mmの範囲にあることを特徴とする。
第4発明に係る回路基板は、第1発明乃至第3発明のいずれかにおいて、前記導電箔の縁部と基板縁部との間に、矩形状をなし、前記導電箔の幅より狭幅の電極を設けてあることを特徴とする。
第5発明に係る回路素子実装基板は、複数の矩形状の導電箔を露出させて被覆膜を設けた複数の基板夫々の前記導電箔を、異方性導電膜を挟んで対向させて接続してなる回路基板に回路素子を実装した回路素子実装基板において、前記導電箔の縁部は、基板縁部から離隔して設けてあることを特徴とする。
第6発明に係る回路素子実装基板製造方法は、複数の矩形状の導電箔を露出させて被覆膜を設けた複数の基板夫々の前記導電箔を、異方性導電膜を挟んで対向させて接続した回路基板に回路素子を実装する回路素子実装基板製造方法において、前記導電箔の縁部を基板縁部から離隔して設け、前記被覆膜の縁部は基板縁部に平行に設け、矩形状の異方性導電膜の縁部を前記導電箔の縁部に沿って配置し、前記異方性導電膜を前記導電箔を覆って転写し、基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置し、両基板を加熱圧着して前記導電箔同士を接続することを特徴とする。
第1発明及び第5発明にあっては、矩形状の導電箔の縁部は、基板縁部から離隔して設けてある。金めっきを施した導電箔が設けられた原板から所定の形状の基板を裁断する場合、前記導電箔の縁部が基板縁部から離隔しているので、前記導電箔が裁断されることがなく、導電箔の銅部分は露出しない。
第2発明にあっては、矩形状の異方性導電膜の縁部を導電箔の縁部に沿って配置してある。加熱圧着時に異方性導電膜が伸長し、伸長した異方性導電膜が導電箔の縁部断面を覆って硬化することにより、導電箔の縁部断面は露出しない。また、基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置してある。加熱圧着時に、異方性導電膜は導電箔の縁部を超えて、基板縁部まで伸長する。基板縁部は他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置してあるため、他の基板の露出した導電箔は、伸長した異方性導電膜により覆われる。
第3発明にあっては、導電箔の縁部と基板端部との間隔を0.3〜0.7mmの範囲にしてある。導電箔の縁部と基板端部との間隔が0.3mmより小さい場合は、加熱圧着時に、異方性導電膜は導電箔の縁部から基板縁部を超えて伸長し、基板縁部からはみ出すため、異方性導電膜は加熱圧着工程において基板を載置する圧着台に付着し、はみ出した異方性導電膜が硬化して基板に付着する。また、導電箔の縁部と基板端部との間隔が0.7mmより大きい場合は、加熱圧着時に、異方性導電膜が他の基板の被覆膜の縁部まで伸長せず、他の基板の導電箔が異方性導電膜で覆われず露出する。
導電箔の縁部と基板端部との間隔が0.3〜0.7mmの範囲である場合は、硬化した異方性導電膜が基板縁部からはみ出さず、導電箔は露出しない。
第4発明にあっては、導電箔の縁部と基板縁部との間に、矩形状をなし、前記導電箔の幅より狭幅の電極を設けてある。原板に複数の基板の導電箔を設ける場合、電極により各基板の導電箔を接続することにより、電解めっきを使用して金めっきを施した導電箔を設ける。所定の形状の基板を裁断した場合に、導電箔を裁断せず狭幅の電極を裁断して、基板縁部において露出する電極の縁部断面を小さくする。
第6発明にあっては、矩形状の導電箔の縁部を基板縁部から離隔して設け、矩形状の異方性導電膜の縁部を前記導電箔の縁部に沿って配置し、前記異方性導電膜を、前記導電箔を覆って転写する。基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置し、両基板を加熱圧着する。加熱圧着により異方性導電膜が導電箔の縁部から他の基板の被覆膜の縁部まで伸長し、導電箔を覆って硬化する。異方性導電膜は、加熱圧着時の熱により、異方性導電膜の中の導電粒子が両基板の導電箔の間の導電性を確保するとともに、基板上の導電箔間の絶縁をする。
第1発明及び第5発明にあっては、所定の形状の基板を裁断した場合であっても、導電箔の銅部分が露出することがなく、腐食を防止することができ、信頼性が低下することを防止できる。また、腐食を防止するための合成樹脂を塗布する必要がなく、生産工程の省力化、部品コストの低減をすることができる。
第2発明及び第6発明にあっては、導電箔の露出をなくし、腐食を防止することができ、信頼性が低下することを防止できる。
第3発明にあっては、加熱圧着時に異方性導電膜が基板縁部にはみ出して硬化することを防止して、歩留まりを向上させることができる。また、はみ出した異方性導電膜が圧着台に付着することを防止でき、生産性を向上することができる。さらに、導電箔の露出部分をなくし、腐食による信頼性の低下を防止することができる。
第4発明にあっては、矩形状をなし、導電箔の幅より狭幅の電極を形成してあることにより、電解めっきを使用することができる。
実施の形態1
以下、本発明を実施の形態を示す図面に基づいて説明する。図1は本発明の回路基板を構成する基板1の平面図であり、図2は図1のII―II線切断断面図である。図において、11は絶縁板である。絶縁板11は、有機ポリイミド又はポリエステルフィルムなどの絶縁フィルムであり、絶縁板11の一面には、銅箔による導電箔13、13、…を形成してあり、導電箔13、13、…の表面には金めっきを施してある。被覆膜(ソルダーレジスト)14は、他の基板と接続するための端子部としての矩形状の導電箔13、13、…を露出し、絶縁板11を被覆してあり、被覆膜14の縁部14aは、基板1の縁部11aに対向して、基板1の縁部11aと平行に設けてある。
以下、本発明を実施の形態を示す図面に基づいて説明する。図1は本発明の回路基板を構成する基板1の平面図であり、図2は図1のII―II線切断断面図である。図において、11は絶縁板である。絶縁板11は、有機ポリイミド又はポリエステルフィルムなどの絶縁フィルムであり、絶縁板11の一面には、銅箔による導電箔13、13、…を形成してあり、導電箔13、13、…の表面には金めっきを施してある。被覆膜(ソルダーレジスト)14は、他の基板と接続するための端子部としての矩形状の導電箔13、13、…を露出し、絶縁板11を被覆してあり、被覆膜14の縁部14aは、基板1の縁部11aに対向して、基板1の縁部11aと平行に設けてある。
被覆膜14から露出した矩形状の導電箔13、13、…は、等間隔に配置されてり、導電箔13、13、…のピッチ間隔は、例えば、350μmであり、幅は175μm、長手方向の寸法は、2.0mmである。導電箔13、13、…の縁部13aと基板1の縁部11aとの間隔は、0.5mmである。
図3は本発明の加熱圧着前の回路基板の断面図であり、図4は異方性導電膜3を転写した基板1の平面図である。図に示すように、回路基板は、絶縁板11、導電箔13、及び被覆膜14を備える基板1と、絶縁板21、導電箔23、及び被覆膜24を備える基板2とを、基板1に転写された異方性導電膜3を介して加熱圧着して接続することにより構成される。異方性導電膜3は、粘着性の合成樹脂フィルムの中に分散した数μmの導電性粒子を有する。
異方性導電膜3は矩形状をなし、異方性導電膜3の縁部3aは、基板1の導電箔13の縁部13aに沿って配置してある。また、異方性導電膜3の縁部3bは、基板2の導電箔23の縁部23aに沿って配置してある。
基板1の縁部11aは、基板2の被覆膜24の縁部24aに沿って配置し、基板2の縁部21aは、基板1の被覆膜14の縁部14aに沿って配置してある。
基板2に緩衝材42を当接し、所定の温度及び圧力を加えて押圧して基板1及び基板2を加熱圧着して接続する。加熱圧着時の熱により、異方性導電膜3は、水平方向に伸長するとともに、異方性導電膜3の中の数μmの導電性粒子は、基板1の導電箔13と基板2の導電箔23との間の導電性を確保するとともに、基板1及び2夫々の導電箔13間、導電箔23間の絶縁を行う。
図5は本発明の加熱圧着後の回路基板の断面図である。加熱圧着時に伸長し、硬化した異方性導電膜31、31は、導電箔13、23夫々の縁部13a、23aの断面を覆うとともに、導電箔13、23の露出部分を覆う。
これにより、導電箔13、23は露出する部分がなくなり、腐食を防止することができ、信頼性の低下を防止できる。また、基板1の縁部11aを基板2の被覆膜24の縁部24aに沿って配置してあることにより、異方性導電膜3が基板1の縁部11aまで伸長した場合、基板2の導電箔23の露出部分をなくすことができる。また、基板1の縁部11aと導電箔13の縁部13aとの離隔寸法が0.5mm存在するため、伸長した異方性導電膜3が、基板1の縁部11aからはみ出すことも防止できる。
基板1の縁部11aと導電箔13の縁部13aとの離隔寸法は、0.3〜0.7mmの範囲においても、導電箔13、23は露出する部分がなくなり、腐食を防止することができ、信頼性の低下を防止できる。また、伸長した異方性導電膜3が、基板1の縁部11aからはみ出すことも防止できる。基板2の縁部21aとの導電箔23の縁部23aとの離隔寸法についても同様である。
図6は本発明の回路素子実装基板の製造方法を示す説明図である。図において40は圧着機である。圧着機40は、基板1、2を固定する固定用台6を垂直方向及び水平方向に移動させるステージ41、加熱圧着時に基板1、2を押圧する際のクッションとして機能する緩衝材(ゴム)42、緩衝材42を取り付けてある加熱ヒータ43、加熱ヒータ43を押圧する加圧シリンダ44を備えている。
クリーム半田印刷機50は、固定用台6を垂直方向及び水平方向に移動させるステージ51、基板1、2のパターン上で半田印刷を行う箇所の位置に合わせて、予め半田用の開口部が形成されているマスク版52、マスク版52の上面に備えられたクリーム半田53、及びクリーム半田53をマスク版52に沿って開口部に注入するスキージ54を備えている。
表面実装機60は、固定用台6を水平方向に移動させるステージ61、及び集積回路素子などの回路部品を基板1、2上に配置する部品搭載ヘッド62を備えている。
リフロー炉70は、炉内に所定の温度(例えば、230度)の温風を供給する温風供給部71を備えている。
固定用台6に固定され、予め異方性導電膜3が転写された基板1と、基板1に接続される基板2を圧着機40に搬送すると、圧着機40は、ステージ41を移動させて、基板1、2の位置あわせを行う。圧着機40は、緩衝材42を基板2に当接させ、位置合わせした基板1、2の異方性導電膜3を仮圧着して位置ずれを防止する。圧着機40は、仮圧着された基板1、2に、さらに所定の温度及び圧力を加えて本圧着をする。これにより、基板1、2を異方性導電膜3を介して接続する。
基板1、2を固定した固定用台6をクリーム半田印刷機50に搬送すると、クリーム半田印刷機50は、ステージ51を移動させてマスク版52の開口部と基板1、2のランド部との位置合わせを行う。クリーム半田印刷機50は、マスク版52を基板1、2上に押圧し、マスク版52の上面に配置されたスキージ54をマスク版52の上面に沿って水平方向に移動させる。マスク版52上のクリーム半田53はマスク版52の前記開口部に流れ込み、クリーム半田印刷機50は、基板1、2のランド部に半田を印刷する。
固定用台6を表面実装機60に搬送すると、表面実装機60は、部品搭載ヘッド62で吸着した回路部品を基板1、2上の所定の位置に搭載する。
固定用台6をリフロー炉70に搬送すると、リフロー炉70は、基板1、2を所定の時間及び温度で加熱する。リフロー炉70は、基板1、2上に印刷された半田を溶融させて回路部品を基板1、2上のパターンに接続する。これにより、回路部品が基板1、2上に実装される。
上述の通り、本発明にあっては、基板1の縁部11aと矩形状の導電箔13、13、…の縁部13a、13a、…とが離隔して形成してあることにより、基板1が裁断された場合であっても、導電箔13、13、…が裁断されることがなく、導電箔13、13、…の銅部分が露出せず、腐食を防止することができる。
また、異方性導電膜3の縁部3aを導電箔13の縁部13aに沿って配置し、基板1の縁部11aを基板2の被覆膜24の縁部24aに沿って配置してあることにより、加熱圧着時に伸長した異方性導電膜3が、導電箔13の縁部13aの断面を覆うとともに、導電箔23の表面を覆う。これにより、導電箔13、23が金めっきされている場合であっても、導電箔13、23が露出されることを防止し、腐食を防止することができる。
また、異方性導電膜3の縁部3bを導電箔23の縁部23aに沿って配置し、基板2の縁部21aを基板1の被覆膜14の縁部14aに沿って配置してあることにより、加熱圧着時に伸長した異方性導電膜3が、導電箔23の縁部23aの断面を覆うとともに、導電箔13の表面を覆う。これにより、導電箔13、23が金めっきされている場合であっても、導電箔13、23が露出されることを防止し、腐食を防止することができる。
上述の実施の形態においては、基板1、2はフレキシブル基板であったが、これに限らず、プリント配線基板であってもよい。また、テープオートメーションボンディング(TAB)基板であってもよい。この場合には、金めっきに限定されず、導電箔13、23に錫めっきが施されているときでも、導電箔13、23の錫めっき部分、導電箔13、23が露出されることを防止し、腐食を防止することができる。
上述の実施の形態においては、基板1、2は矩形状であったが、これに限定されるものではない。また、導電箔13の縁部13aは四角状であったが、これに限定されるものではなく、丸みを有する湾曲した形状、又は屈曲した形状であってもよい。
上述の実施の形態においては、基板1、2を異方性導電膜を介して対向させて接続する構成であったが、接続する基板の数は2枚に限定されるものではなく、1枚の基板に複数枚の基板を接続する構成であってもよい。
実施の形態2
図7は実施の形態2の回路基板を構成する基板100の平面図である。図において、101は絶縁板である。絶縁板101は、有機ポリイミド又はポリエステルフィルムなどの絶縁フィルムであり、絶縁板101の一面には、銅箔による導電箔103、103、…を形成してあり、導電箔103、103、…の表面には金めっきを施してある。被覆膜(ソルダーレジスト)104は、他の基板と接続するための端子部としての矩形状の導電箔103、103、…を露出し、絶縁板101を被覆してあり、被覆膜104の縁部104aは、基板100の縁部101aに対向して、基板100の縁部101aに平行に設けてある。
図7は実施の形態2の回路基板を構成する基板100の平面図である。図において、101は絶縁板である。絶縁板101は、有機ポリイミド又はポリエステルフィルムなどの絶縁フィルムであり、絶縁板101の一面には、銅箔による導電箔103、103、…を形成してあり、導電箔103、103、…の表面には金めっきを施してある。被覆膜(ソルダーレジスト)104は、他の基板と接続するための端子部としての矩形状の導電箔103、103、…を露出し、絶縁板101を被覆してあり、被覆膜104の縁部104aは、基板100の縁部101aに対向して、基板100の縁部101aに平行に設けてある。
導電箔103のすくなくとも1つの縁部103aと基板100の縁部101aとの間に、矩形状をなし、導電箔103の幅より狭幅の電極106を設けてある。
基板100が導電箔103、103、…とともに複数枚形成された原板の導電箔103、103、…を電解めっきする場合、電極106を介して基板100、100、…の導電箔103、103、…を電気的に接続することにより、基板100、100、…の導電箔103、103、…に金めっきを施すことができる。
また、原板から基板100を裁断する場合、導電箔103、103、…を裁断せず、電極106を裁断したときでも、電極106の幅は導電箔103の幅より小さく、また、裁断される数も少ないため、電極106の裁断面の面積を小さくして、銅部分が露出する面積を小さくし、腐食を低減することができる。
実施の形態3
図8は実施の形態3の加熱圧着前の回路基板の断面図であり、図9は実施の形態3の加熱圧着後の回路基板の断面図である。異方性導電膜3の縁部3aは、基板1の導電箔13の縁部13aに沿って配置してある。また、基板1の縁部11aは、基板2の被覆膜24の縁部24aに沿って配置してある。また、異方性導電膜3の縁部3bは、基板1の被覆膜14の縁部14aを覆ってある。
図8は実施の形態3の加熱圧着前の回路基板の断面図であり、図9は実施の形態3の加熱圧着後の回路基板の断面図である。異方性導電膜3の縁部3aは、基板1の導電箔13の縁部13aに沿って配置してある。また、基板1の縁部11aは、基板2の被覆膜24の縁部24aに沿って配置してある。また、異方性導電膜3の縁部3bは、基板1の被覆膜14の縁部14aを覆ってある。
加熱圧着時に伸長し、硬化した異方性導電膜31は、導電箔13の縁部13aを覆うとともに、導電箔13の露出部分を覆う。異方性導電膜3で基板1の被覆膜14を覆うことにより、硬化した異方性導電膜31は、導電箔13を覆って、導電箔13が露出して腐食することを防止する。
なお、被覆膜14の縁部14aの緩衝材42からの距離が大きい場合であって、加熱圧着時に、被覆膜14の縁部14aの近傍の異方性導電膜3が十分に硬化しないときでも、加熱圧着後のリフロー工程における熱により、異方性導電膜3は十分に硬化し、導電箔13が露出することを防止することができる。
これにより、被覆膜14の縁部14aから露出する導電箔13、13、…の長手方向の寸法が基板1、2との間で異なる場合であっても、腐食を防止することができる。
1、2 基板
3 異方性導電膜
3a、3b 縁部
11、21 絶縁板
11a、21a 縁部
13、23 導電箔
13a、23a 縁部
14、24 被覆膜
14a、24a 縁部
31 硬化した異方性導電膜
40 加圧機
100 基板
101 絶縁板
101a 縁部
103 導電箔
103a 縁部
104 被覆膜
104a 縁部
106 電極
3 異方性導電膜
3a、3b 縁部
11、21 絶縁板
11a、21a 縁部
13、23 導電箔
13a、23a 縁部
14、24 被覆膜
14a、24a 縁部
31 硬化した異方性導電膜
40 加圧機
100 基板
101 絶縁板
101a 縁部
103 導電箔
103a 縁部
104 被覆膜
104a 縁部
106 電極
Claims (6)
- 複数の矩形状の導電箔を露出させて被覆膜を設けてあり、回路素子を実装するための基板夫々の前記導電箔を、異方性導電膜を挟んで対向させて接続してなる回路基板において、
前記導電箔の縁部は、基板縁部から離隔して設けてあることを特徴とする回路基板。 - 前記異方性導電膜は矩形状をなし、
前記被覆膜の縁部は基板縁部に平行に設けてあり、
前記異方性導電膜の縁部を前記導電箔の縁部に沿って配置してあり、
基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置してあることを特徴とする請求項1に記載の回路基板。 - 前記導電箔の縁部と基板縁部との間隔は0.3〜0.7mmの範囲にあることを特徴とする請求項2に記載の回路基板。
- 前記導電箔の縁部と基板縁部との間に、矩形状をなし、前記導電箔の幅より狭幅の電極を設けてあることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の回路基板。
- 複数の矩形状の導電箔を露出させて被覆膜を設けた複数の基板夫々の前記導電箔を、異方性導電膜を挟んで対向させて接続してなる回路基板に回路素子を実装した回路素子実装基板において、
前記導電箔の縁部は、基板縁部から離隔して設けてあることを特徴とする回路素子実装基板。 - 複数の矩形状の導電箔を露出させて被覆膜を設けた複数の基板夫々の前記導電箔を、異方性導電膜を挟んで対向させて接続した回路基板に回路素子を実装する回路素子実装基板製造方法において、
前記導電箔の縁部を基板縁部から離隔して設け、
前記被覆膜の縁部は基板縁部に平行に設け、
矩形状の異方性導電膜の縁部を前記導電箔の縁部に沿って配置し、
前記異方性導電膜を前記導電箔を覆って転写し、
基板縁部を他の基板の被覆膜の縁部に沿って配置し、
両基板を加熱圧着して前記導電箔同士を接続することを特徴とする回路素子実装基板製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004301890A JP2006114771A (ja) | 2004-10-15 | 2004-10-15 | 回路基板、回路素子実装基板、及び回路素子実装基板製造方法 |
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JP2004301890A JP2006114771A (ja) | 2004-10-15 | 2004-10-15 | 回路基板、回路素子実装基板、及び回路素子実装基板製造方法 |
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ID=36383021
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JP (1) | JP2006114771A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014220363A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | パナソニック株式会社 | フレキシブル基板の実装方法 |
-
2004
- 2004-10-15 JP JP2004301890A patent/JP2006114771A/ja active Pending
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