JP2006112845A - Pattern inspection device - Google Patents

Pattern inspection device Download PDF

Info

Publication number
JP2006112845A
JP2006112845A JP2004298492A JP2004298492A JP2006112845A JP 2006112845 A JP2006112845 A JP 2006112845A JP 2004298492 A JP2004298492 A JP 2004298492A JP 2004298492 A JP2004298492 A JP 2004298492A JP 2006112845 A JP2006112845 A JP 2006112845A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
light
illumination
resin film
tape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004298492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Nagamori
進一 永森
Koki Hayashi
宏樹 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2004298492A priority Critical patent/JP2006112845A/en
Priority to TW094120850A priority patent/TW200612090A/en
Priority to KR20050093656A priority patent/KR100926872B1/en
Priority to CN2005101138062A priority patent/CN1763511B/en
Publication of JP2006112845A publication Critical patent/JP2006112845A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95684Patterns showing highly reflecting parts, e.g. metallic elements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/314Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry with comparison of measurements at specific and non-specific wavelengths
    • G01N2021/3181Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry with comparison of measurements at specific and non-specific wavelengths using LEDs
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/59Transmissivity
    • G01N21/5907Densitometers
    • G01N2021/5957Densitometers using an image detector type detector, e.g. CCD
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/10Scanning
    • G01N2201/102Video camera

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the contrast between a wiring part and a resin film part to easily detect a wiring pattern by reflective illumination. <P>SOLUTION: A TAB tape 5 having the wiring pattern formed thereon is unwound from a feed-out reel 11 to be fed to an inspection part 1 and illuminated by a reflective illumination means 1a to image the inspection pattern on the TAB tape 5 by an imaging means 1b in the inspection part 1. The image of the imaged inspection pattern is sent to a control part 4 and compared with a reference pattern to judge the quality of the pattern. The light source of the reflective illumination means 1a is, for example, an infrared LED for emitting, for example, only light with a wavelength of 500 nm or above. Since the wavelength of is illuminated only by the light with the wavelength of 500 nm or above which penetrates the TAB tape 5, an image of good contrast can be obtained. Further, if the infrared reflectivity of a stage 1c is not set to 10% or below and the stage 1c is not provided, an image further good in contrast can be obtained. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、パターン検査装置に関わり、特に、テープキャリア方式によるTAB(Tape Automated Bonding)テープに照明光を照射し、TABテープ上に形成された集積回路(IC)等のパターンを、撮像手段により撮像し自動で外観検査を行なう、パターン検査装置に関するものである。   The present invention relates to a pattern inspection apparatus, and in particular, illuminates illumination light on a TAB (Tape Automated Bonding) tape based on a tape carrier system, and a pattern such as an integrated circuit (IC) formed on the TAB tape is captured by an imaging unit. The present invention relates to a pattern inspection apparatus that performs imaging and automatically inspects an appearance.

半導体デバイスは、高集積化と高密度実装の要求に対応して、リードの多ピン化と微小化が進んでいる。この多ピン化や微小化に有利なことから、半導体チップをフィルム状のTABテープに設けた多数のリード線と接続する方法が採用されている。
図7に、TABテープが作られる手順と構造(断面図)を示す。
TABテープは、図7(a)に示すように厚さ20〜150μm程度(多くは25〜75μm)、幅35〜165mm程度のポリイミド系の樹脂フィルムで形成されており、この樹脂フィルム上に、パーフォレーションホール103が形成される両側周辺部を除いて、厚さ10〜15μm程度の接着剤が塗布される。その上には、図7(b)に示すように銅箔などの金属箔105が貼りつけられている。
配線パターン106を形成するには、図7(c)に示すように、この金属箔(銅箔)105を露光およびエッチングにより加工する。
In the semiconductor device, the number of leads and the miniaturization are progressing in response to the demand for high integration and high-density mounting. A method of connecting a semiconductor chip to a large number of lead wires provided on a film-like TAB tape is adopted because it is advantageous for this increase in the number of pins and miniaturization.
FIG. 7 shows the procedure and structure (cross-sectional view) for producing a TAB tape.
The TAB tape is formed of a polyimide resin film having a thickness of about 20 to 150 μm (many 25 to 75 μm) and a width of about 35 to 165 mm, as shown in FIG. An adhesive having a thickness of about 10 to 15 μm is applied except for the peripheral portions on both sides where the perforation holes 103 are formed. A metal foil 105 such as a copper foil is affixed thereon as shown in FIG.
In order to form the wiring pattern 106, as shown in FIG. 7C, the metal foil (copper foil) 105 is processed by exposure and etching.

図8に、上記のようにして配線パターンが形成されたTABテープを示す。
同図に示すように、ポリイミド系樹脂等の樹脂フィルム102等などで形成され、両側にパーフォレーションホール103を有する帯状のテープ(TABテープ)の上に、同一の回路が複数連続して製作される。
同図の点線で囲んだ部分は一つの配線パターン(1ピースという)を示し、各ピースには、配線パターン111が形成される。また、内部の長方形は、半導体チップを取り付ける開口部(デバイスホール)110である。
このようなTABテープの製造工程においては、配線パターンが、正しく形成されているかどうかを検査する必要があり、配線パターン検査装置によって検査が行なわれる。
FIG. 8 shows a TAB tape on which a wiring pattern is formed as described above.
As shown in the figure, a plurality of identical circuits are continuously formed on a strip-shaped tape (TAB tape) formed of a resin film 102 of polyimide resin or the like and having perforation holes 103 on both sides. .
A portion surrounded by a dotted line in the figure shows one wiring pattern (referred to as one piece), and a wiring pattern 111 is formed on each piece. The rectangular inside is an opening (device hole) 110 for attaching a semiconductor chip.
In such a TAB tape manufacturing process, it is necessary to inspect whether the wiring pattern is correctly formed, and the inspection is performed by a wiring pattern inspection apparatus.

配線パターン検査装置は、検査するTABテープを照明光で照明し、配線パターンの状態(外観)を撮像装置または目視にて検出し、マスタパターン(基準パターン)と比較して形成された配線パターンの良否を判定する。
近年は、あらかじめ検査装置の制御部の記憶手段にマスタパターン(基準パターン)を記憶させておき、記憶しているマスタパターンと、撮像装置により撮像した実際の配線パターンとを比較し、自動的に良否を判定する自動検査装置も用いられるようになってきた。
パターン検査装置の照明光の照明方法には、反射光を用いる方法と、透過光を用いる方法がある。
反射光を用いる方法は、TABテープの配線パターンが形成された側に設けた照明手段から照明光を照射し、パターンからの反射光を、照明手段と同じ側に設けた撮像手段により撮像し観察する方法である。反射光を用いる方法については、例えば特許文献1、特許文献2などに記載されている。
一方、透過照明を用いる方法は、テープに対し、照明手段とは反対側に設けた撮像手段により、TABテープを透過した光を撮像し観察する方法である。
特開2002−250700号公報 特開平10−185832号公報
The wiring pattern inspection device illuminates the TAB tape to be inspected with illumination light, detects the state (appearance) of the wiring pattern with an imaging device or visually, and compares the formed wiring pattern with the master pattern (reference pattern). Judge the quality.
In recent years, a master pattern (reference pattern) is stored in advance in the storage means of the control unit of the inspection apparatus, and the stored master pattern is compared with the actual wiring pattern captured by the imaging apparatus, and automatically Automatic inspection devices for determining pass / fail are also being used.
As a method for illuminating the pattern inspection apparatus, there are a method using reflected light and a method using transmitted light.
In the method using reflected light, illumination light is irradiated from the illumination means provided on the side where the wiring pattern of the TAB tape is formed, and the reflected light from the pattern is imaged and observed by the imaging means provided on the same side as the illumination means. It is a method to do. About the method using reflected light, it describes in patent document 1, patent document 2, etc., for example.
On the other hand, the method using transmitted illumination is a method of imaging and observing light transmitted through the TAB tape by an imaging unit provided on the opposite side of the tape from the illumination unit.
JP 2002-250700 A Japanese Patent Laid-Open No. 10-185832

上記したように、パターン検査装置の照明光の照明方法には反射光を用いる方法があるが、反射光を用いるパターン検査装置の場合、配線パターン(以下パターンと呼ぶ場合もある)は、配線部分とそれ以外の部分の、コントラストの差として撮像手段(目視の場合は目)に入力される。
図9に、反射光を用いて撮像された配線パターンの一例を示す。同図のように、配線の部分は金属であるので、照明光をよく反射し、撮像素子に明るく映る。一方、配線以外の下地であるポリイミド系の樹脂フィルムの部分は暗くなる。
しかし、反射光を用いたパターン検査装置において、配線の部分とそれ以外の樹脂フィルム部分の明暗差(コントラスト)が小さい(以下コントラストが悪いと呼ぶ場合もある)画像が撮像されることがある。
このようなコントラストの悪い画像でも、従来の、いわゆるラフな(配線が太く、配線間のスペースが広い)パターンであれば、画像の明るさや色調などを調整することにより検査することができた。
しかし、最近はパターンが密(配線が細く、配線間のスペースが狭い)になってきており、画像の調整のみでは対応できず検査が困難になってきている。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、反射照明よりパターンを検出するパターン検査装置において、配線部分と樹脂フィルム部分のコントラストが大きくなるようにし、配線パターンを容易に検出できるようにすることを目的とする。
As described above, the illumination method for the illumination light of the pattern inspection apparatus includes a method using reflected light. In the case of a pattern inspection apparatus using reflected light, a wiring pattern (hereinafter also referred to as a pattern) is a wiring portion. And the other part are input to the imaging means (eye in the case of visual observation) as a contrast difference.
FIG. 9 shows an example of a wiring pattern imaged using reflected light. As shown in the figure, since the wiring portion is made of metal, it reflects the illumination light well and appears bright on the image sensor. On the other hand, the portion of the polyimide resin film which is the base other than the wiring becomes dark.
However, in a pattern inspection apparatus using reflected light, an image with a small contrast (contrast) between the wiring portion and the other resin film portion (hereinafter sometimes referred to as poor contrast) may be captured.
Even such an image with poor contrast can be inspected by adjusting the brightness, color tone, etc. of the image if it is a conventional so-called rough pattern (thick wiring and wide space between wirings).
Recently, however, the pattern has become dense (thin wiring is narrow and the space between the wirings is narrow), and it is difficult to perform inspection by adjusting only the image.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a pattern inspection apparatus that detects a pattern from reflected illumination, the contrast between the wiring portion and the resin film portion is increased so that the wiring pattern can be easily detected. For the purpose.

上記問題点について検討したところ、反射画像のコントラストが悪くなるのは「樹脂フィルム(テープ)からの反射」と「ステージからの反射」の二つが原因であると突き止めた。以下にこの点について詳しく説明する。
(1)テープからの反射について。
図10に、TABテープに使用される代表的なポリイミド系樹脂フィルム(厚さ75μm)の透過率を示す。縦軸が透過率(%)であり、横軸が波長(nm)である。
同図に示されるように、波長500nm以下の光は、ポリイミド系の樹脂フィルム(以下TABテープまたはテープと呼ぶ場合もある)をほとんど透過しない。透過しない光は吸収される成分もあるが、反射される成分もある。透過するのは波長約500nm以上であり、700nmでは透過率が約40%、850nmで約60%になり、ほぼ飽和する。 従来、パターン検査装置用の照明手段の光源として、一般的なハロゲンランプを使用している。タングステンをフィラメントとする一般的なハロゲンランプからは、波長1000nm付近をピークとした連続光が放射される。
上記したように、反射照明において、コントラストの大きい(以下コントラストが良いと呼ぶ場合もある)パターンの像を得る条件は、配線部分が照明光を反射し、撮像素子には明るい部分として入力され、それ以外の部分では、照明光が反射されず、撮像素子には暗い部分として入力されることである。
As a result of examining the above-mentioned problems, it was found that the contrast of the reflected image was deteriorated due to “reflection from the resin film (tape)” and “reflection from the stage”. This point will be described in detail below.
(1) About reflection from the tape.
FIG. 10 shows the transmittance of a typical polyimide resin film (thickness 75 μm) used for the TAB tape. The vertical axis represents the transmittance (%), and the horizontal axis represents the wavelength (nm).
As shown in the figure, light having a wavelength of 500 nm or less hardly transmits through a polyimide resin film (hereinafter also referred to as a TAB tape or a tape). Some light that is not transmitted is absorbed, but some is reflected. The light is transmitted at a wavelength of about 500 nm or more. At 700 nm, the transmittance is about 40%, and at 850 nm, it is about 60%, and is almost saturated. Conventionally, a general halogen lamp is used as a light source of illumination means for a pattern inspection apparatus. From a general halogen lamp using tungsten as a filament, continuous light having a peak near a wavelength of 1000 nm is emitted.
As described above, in the reflected illumination, the condition for obtaining a pattern image with a large contrast (hereinafter sometimes referred to as good contrast) is that the wiring part reflects the illumination light and is input to the image sensor as a bright part. In other portions, the illumination light is not reflected and is input to the image sensor as a dark portion.

ところが、従来のハロゲンランプの白色光による照明では、波長500nm以下の成分が含まれる。このため、図11に示すように、上記白色光による照明手段1aからTABテープ5に光を照射し、撮像手段1bで撮像した場合、波長500nm以下の成分の光が配線以外の樹脂フィルムの部分でも反射され撮像素子1bに入射する。そのために、前記したようなコントラストの悪い画像になることがある。
この対策として、本発明では、検査装置の照明手段と撮像手段を、次のような構成とする。
(i)照明手段として、ポリイミド系樹脂を比較的良く透過する波長500nm以上の光のみが放射され、波長500nm以下の光が放射されないような光源を用いる。撮像手段は、少なくとも波長500nm以上の光に感度を有する素子を使用する。
この場合、照明手段の光源としては赤外光を放射するLED(赤外LED)を用いることができる。
このような赤外LEDとしては、例えば波長700nmの光を放射するもの、波長850nmの光を放射するものなどが市販されている。ピーク波長700nmのLEDの場合は例えば半値幅が20nm、波長850nmのLEDの場合は例えば半値幅が40nmである。
また、撮像手段としては、CCD(Charge Coupled Device)カメラやCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)がある。図12は、一般に市販されているCCDカメラの分光感度曲線(カタログ値)である。波長700nmのLEDを使用しても、波長850nmのLEDを使用しても、CCDカメラは受光感度を有している。
したがって、このような光源を使用した場合の撮像手段として上記CCD、CMOSを使用することができる。
上記構成とすることで、照明手段からは、テープにより反射される500nm以下の光が出射せず、テープを透過する波長500nm以上の光のみで照明するので、コントラストの良い画像を得ることが期待できる。なお、本発明では、上記波長700nmや850nmのLEDから放射される光も含めて、波長が500nm以上の光を赤外光と呼ぶこととする。
However, the conventional halogen lamp illumination with white light includes a component having a wavelength of 500 nm or less. Therefore, as shown in FIG. 11, when the TAB tape 5 is irradiated with light from the illuminating means 1a using the white light and picked up by the image pickup means 1b, the light component having a wavelength of 500 nm or less is a portion of the resin film other than the wiring. However, it is reflected and enters the image sensor 1b. Therefore, an image with poor contrast as described above may be obtained.
As a countermeasure, in the present invention, the illumination unit and the imaging unit of the inspection apparatus are configured as follows.
(I) As a lighting means, a light source that emits only light having a wavelength of 500 nm or longer and that does not emit light having a wavelength of 500 nm or shorter, which is relatively well transmitted through the polyimide resin, is used. The imaging means uses an element having sensitivity to at least light having a wavelength of 500 nm or more.
In this case, an LED that emits infrared light (infrared LED) can be used as the light source of the illumination means.
As such an infrared LED, for example, one that emits light having a wavelength of 700 nm, one that emits light having a wavelength of 850 nm, and the like are commercially available. In the case of an LED having a peak wavelength of 700 nm, for example, the half width is 20 nm, and in the case of an LED having a wavelength of 850 nm, for example, the half width is 40 nm.
In addition, as an imaging unit, there are a CCD (Charge Coupled Device) camera and a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor). FIG. 12 is a spectral sensitivity curve (catalog value) of a commercially available CCD camera. Whether an LED with a wavelength of 700 nm or an LED with a wavelength of 850 nm is used, the CCD camera has light receiving sensitivity.
Therefore, the CCD and CMOS can be used as an imaging means when such a light source is used.
By adopting the above configuration, the illumination means does not emit light of 500 nm or less reflected by the tape, and illumination is performed only with light having a wavelength of 500 nm or more that is transmitted through the tape. it can. In the present invention, light having a wavelength of 500 nm or more, including light emitted from the LED having the wavelength of 700 nm or 850 nm, is referred to as infrared light.

(ii)照明手段の光源として、波長500nm以上の光を含むハロゲンランプを用い、撮像手段は、上記と同様、少なくとも波長500nm以上の光に感度を有する素子(CCDカメラやCMOS)を使用する。
そして、照明手段とテープとの間、またはテープと撮像手段との間に、500nm以下の光をカットするフィルタを組み合せて用いる。
上記500nm以下の光をカットするフィルタとして、例えば赤外透過フィルタがある。赤外透過フィルタとしては、例えば波長720nm以下の光をカットし、それ以上の波長を透過する赤外透過フィルタが市販されており、このようなフィルタを使用すればよい。
上記のような赤外透過フィルタを照明手段とテープとの間に設けることにより、テープには500nm以下の光が照射されない。したがって、テープから反射される光の成分が少なくなり、コントラストの良い画像を得ることが期待できる。
また、赤外透過フィルタをテープと撮像手段との間に設けることにより、テープから反射された500nm以下の光が撮像素子に入射しない。したがって、コントラストの良い画像を得ることが期待できる。
(iii)照明手段の光源として、波長500nm以上の光を含むハロゲンランプを用い、撮像手段は、波長500nm以下には感度がなく、赤外光域にのみ感度を有する撮像素子、例えば赤外用CCDカメラを使用する。
この場合は、テープから反射された500nm以下の光に感度がないので、上記の赤外透過フィルタを撮像手段の光入射側に設けた場合と同じように、コントラストの良い画像を得ることが期待できる。
(2)ステージからの反射について。
照明手段と撮像手段を上記のように構成するだけでは、十分にコントラストの良い画像を得ることができない。この原因ついてさらに検討したところ、以下のようなことがわかった。
従来、TABテープに照明光を照射してパターンを撮像する時、該テープが振動等により撮像素子の撮像位置や焦点位置からずれないように、テープの照明手段が設けられる側とは反対側に表面が平面のステージを設け、テープを吸着保持することが行なわれている。しかし、撮像時、TABテープを透過した波長500nm以上の照明光が、ステージの表面で反射し、再びテープを透過して、撮像素子に受光され、その結果画像のコントラストを悪化させる。
この対策として、検査装置を次のように構成する。
(i)パターン撮像時にテープを吸着保持するステージの赤外線反射率を10%以下とする。赤外線の反射率を10%以下にするためには、「ステージ表面を黒アルマイト処理する」、「反射の少ない色で塗装をする」、「フロスト加工をしてつや消しする」などがあげられる。
このように構成することで、再びテープを透過して撮像素子に受光される光の量を減らすことができ、コントラストの良い画像を得ることが期待できる。
(ii)パターン撮像時にテープを保持する手段として、テープを吸着保持するステージに換えて、テープの検査領域以外の周辺部を把持し、テンションを与えて固定する手段を設ける。これにより、ステージを用いる場合と同様に、撮像時テープが振動等により撮像素子の撮像位置や焦点位置からずれないようにすることができる。
一方、テープを透過した照明光を反射するものがなくなるので、テープを透過した光は撮像素子に受光されることはなく、コントラストの良い画像を得ることが期待できる。
(Ii) A halogen lamp containing light having a wavelength of 500 nm or more is used as the light source of the illumination means, and the imaging means uses an element (CCD camera or CMOS) that is sensitive to light having a wavelength of 500 nm or more as described above.
A filter that cuts light of 500 nm or less is used in combination between the illumination unit and the tape or between the tape and the imaging unit.
An example of a filter that cuts light of 500 nm or less is an infrared transmission filter. As the infrared transmission filter, for example, an infrared transmission filter that cuts light having a wavelength of 720 nm or less and transmits a wavelength longer than that is commercially available, and such a filter may be used.
By providing the infrared transmission filter as described above between the illumination means and the tape, the tape is not irradiated with light of 500 nm or less. Therefore, the light component reflected from the tape is reduced, and it can be expected to obtain an image with good contrast.
Further, by providing the infrared transmission filter between the tape and the image pickup means, light of 500 nm or less reflected from the tape does not enter the image pickup device. Therefore, it can be expected to obtain an image with good contrast.
(Iii) A halogen lamp containing light having a wavelength of 500 nm or more is used as the light source of the illumination means, and the imaging means has no sensitivity at a wavelength of 500 nm or less and has an sensitivity only in the infrared light region, for example, an infrared CCD Use the camera.
In this case, since there is no sensitivity to light of 500 nm or less reflected from the tape, it is expected that an image with good contrast will be obtained as in the case where the above infrared transmission filter is provided on the light incident side of the imaging means. it can.
(2) About reflection from the stage.
By simply configuring the illumination unit and the imaging unit as described above, it is not possible to obtain a sufficiently high contrast image. Further examination of this cause revealed the following.
Conventionally, when a pattern is imaged by irradiating illumination light to a TAB tape, the tape is placed on the side opposite to the side on which the illumination means is provided so that the tape does not deviate from the imaging position or the focal position of the imaging device. A stage having a flat surface is provided to hold the tape by suction. However, during imaging, illumination light having a wavelength of 500 nm or more that has passed through the TAB tape is reflected by the surface of the stage, is again transmitted through the tape, and is received by the imaging device. As a result, the contrast of the image is deteriorated.
As a countermeasure, the inspection apparatus is configured as follows.
(I) The infrared reflectance of the stage that sucks and holds the tape during pattern imaging is 10% or less. In order to reduce the reflectance of infrared rays to 10% or less, “treat the surface of the stage with black alumite”, “paint with a color with little reflection”, “matte with frosting”, and the like.
With this configuration, it is possible to reduce the amount of light that is transmitted through the tape again and received by the imaging device, and an image with good contrast can be expected.
(Ii) As means for holding the tape at the time of pattern imaging, a means for holding and fixing the peripheral portion other than the inspection area of the tape is provided in place of the stage for sucking and holding the tape. As a result, as in the case of using the stage, it is possible to prevent the imaging tape from being displaced from the imaging position or the focal position of the imaging device due to vibration or the like.
On the other hand, since there is no reflection of the illumination light transmitted through the tape, the light transmitted through the tape is not received by the image sensor, and an image with good contrast can be expected.

本発明においては、以下の効果を得ることができる。
(1)反射照明よりパターンを検出するパターン検査装置において、照明手段として、少なくとも500nm以上の波長を含む光を放射する光源を使用し、撮像手段として、500nm以上の波長に感度を有するものを使用したので、樹脂フィルムからの反射光成分を少なくし、また、樹脂フィルムから反射される500nm以下の波長の光をカットすることができる。
このため、配線部分と樹脂フィルム部分のコントラストが良い画像を得ることができ、配線パターンを容易に検出することが可能となった。
(2)上記(1)において、テープに対して照明手段の反対側に設けられたステージ表面の赤外線の反射率を10%以下にしたり、テープを保持するステージを設けずに、樹脂フィルムの周辺を把持する手段を設け、撮像時に該把持手段により上記樹脂フィルムにテンションを与えるようにすることで、ステージ表面での反射光の影響を低減化あるいは除去することができ、一層、コントラストのよい画像を得ることができる。
In the present invention, the following effects can be obtained.
(1) In a pattern inspection apparatus that detects a pattern from reflected illumination, a light source that emits light having a wavelength of at least 500 nm is used as an illumination unit, and an imaging unit having sensitivity at a wavelength of 500 nm or more is used. Therefore, the reflected light component from the resin film can be reduced, and light having a wavelength of 500 nm or less reflected from the resin film can be cut.
For this reason, an image with good contrast between the wiring portion and the resin film portion can be obtained, and the wiring pattern can be easily detected.
(2) In the above (1), the periphery of the resin film can be obtained without reducing the infrared reflectance of the stage surface provided on the opposite side of the illumination means to the tape to 10% or less, or without providing a stage for holding the tape. By providing a means for gripping and applying tension to the resin film by the gripping means during imaging, the influence of reflected light on the stage surface can be reduced or eliminated, and an image with better contrast Can be obtained.

図1は本発明の第1の実施例の配線パターン検査装置の概略構成を示すブロック図である。なお、以下の実施例ではTABテープの配線パターンの検査について説明するが、本発明は、TABテープの外、ポリイミド系の樹脂フィルム上に形成されたパターンを反射照明光により検査する場合にも、同様に適用することができる。
本実施例のパターン検査装置は、テープ搬送機構10を備え、配線パターンが形成されたTABテープ5は、テープ搬送機構10の送り出しリール11から巻きだされ、巻き取りリール12に巻き取られる。
巻き取りリール12の近傍には、不良のパターンにマークをつけるマーカ部3が設けられている。マーカ部3において、不良と判定されたパターンにパンチで穿孔したり、あるいは、その部分が不良品であることが目視ですぐに確認できるように色塗りなどのマークを施す。
送り出しリール11から送り出されたTABテープ5は、検査部1に送られる。検査部1の搬送下流側には、搬送ローラ(図示せず)が設けられ、また、検査部1の搬送上流側には、ブレーキローラ(図示せず)が設けられており、TABテープ5の搬送方向にテンションをかけ、検査部1におけるTABテープ5のたるみを防いでいる。
検査部1は、反射照明手段1aと、TABテープ5で反射した照明光によりTABテープ5に形成されている回路等のパターン5aを撮像する撮像手段1bとから構成される。 また、TABテープ5に対して反射照明手段1aの反対側には、撮像中にTABテープ5を吸着保持するステージ1cを有する。このステージ1cは取り外すこともできる。
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a wiring pattern inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention. In addition, although the following examples explain the inspection of the wiring pattern of the TAB tape, the present invention is also applicable to the case where the pattern formed on the polyimide resin film is inspected by reflected illumination light outside the TAB tape. The same can be applied.
The pattern inspection apparatus according to the present embodiment includes a tape transport mechanism 10, and the TAB tape 5 on which the wiring pattern is formed is unwound from the feed reel 11 of the tape transport mechanism 10 and wound on the take-up reel 12.
In the vicinity of the take-up reel 12, a marker portion 3 for marking a defective pattern is provided. In the marker portion 3, a pattern determined to be defective is punched by a punch, or a mark such as color coating is applied so that the portion can be immediately confirmed visually as a defective product.
The TAB tape 5 delivered from the delivery reel 11 is sent to the inspection unit 1. A conveyance roller (not shown) is provided on the conveyance downstream side of the inspection unit 1, and a brake roller (not shown) is provided on the conveyance upstream side of the inspection unit 1. Tension is applied in the transport direction to prevent sagging of the TAB tape 5 in the inspection unit 1.
The inspection unit 1 includes a reflected illumination unit 1 a and an imaging unit 1 b that images a pattern 5 a such as a circuit formed on the TAB tape 5 with illumination light reflected by the TAB tape 5. Further, a stage 1c that holds the TAB tape 5 by suction during imaging is provided on the opposite side of the reflected illumination means 1a with respect to the TAB tape 5. This stage 1c can also be removed.

反射照明手段1aの光源は、例えば、前記した波長850nmの光を出射する赤外LEDである。この赤外LEDは、前記したように出射する光のピーク波長が850nm、半値幅は40nmである。このLEDは、例えばテレビのリモコン等で一般に使用されている。
撮像手段1bとして、本実施例ではCCDカメラを使用した。CCDの受光感度は、前記した図12に示したように、波長400〜1000nm程度まで実用範囲である。なお、図12の横軸は波長(nm)、縦軸は応答特性を示し、この図では、10μmピクセル、7μmピクセルのものを示しているが、ともに波長400〜1000nm程度まで実用範囲である。なお、撮像手段1bとしては、CCDのほかにもCMOSを使用することができる。
The light source of the reflective illumination unit 1a is, for example, an infrared LED that emits light having a wavelength of 850 nm. In this infrared LED, the peak wavelength of the emitted light is 850 nm and the half width is 40 nm as described above. This LED is generally used in, for example, a television remote controller.
In this embodiment, a CCD camera is used as the imaging means 1b. The light receiving sensitivity of the CCD is in a practical range up to a wavelength of about 400 to 1000 nm as shown in FIG. In FIG. 12, the horizontal axis indicates the wavelength (nm) and the vertical axis indicates the response characteristics. In this figure, the 10 μm pixel and 7 μm pixels are shown, but both are in the practical range up to a wavelength of about 400 to 1000 nm. In addition to the CCD, a CMOS can be used as the imaging unit 1b.

走査手段2は、TABテープ5の検査パターン5a上で、撮像手段1bと反射照明手段1aを同図の紙面左右方向に走査させ、TABテープ5の検査領域(パターンが形成されている領域)全体の画像を得る。
なお、走査手段2による走査方向は、同図紙面の前後方向であってもよく、この場合、上記反射照明手段1aは、撮像手段1bの光軸を軸として90°回転した状態に配置される。
また、撮像した画像パターンと基準となるマスターパターンとを比較し、製品の良否を判定するとともに、検査部1、走査手段2、マーカ部3、及びテープ搬送機構10の動作を制御する制御部4が設けられている。制御部4には、あらかじめパターン検査の基準となる基準パターン(マスタパターン)が入力されている。なお、基準パターンは、良品と判定されている実際のパターンを撮像した画像であっても良いし、CADデータを利用したものであっても良い。
TABテープ上のパターン検査時、反射照明手段1aによりTABテープ5が照明され、撮像手段1bには、TABテープ5からの反射光が入射する。撮像手段1bで撮像された検査パターンの画像は上記制御部4に送られ、上記基準パターンと比較され、パターンの良否が判定される。
The scanning unit 2 scans the imaging unit 1b and the reflected illumination unit 1a on the inspection pattern 5a of the TAB tape 5 in the left-right direction on the paper surface of the drawing, and the entire inspection region (region where the pattern is formed) of the TAB tape 5. Get the image.
Note that the scanning direction by the scanning unit 2 may be the front-rear direction of the drawing sheet. In this case, the reflected illumination unit 1a is arranged in a state rotated by 90 ° about the optical axis of the imaging unit 1b. .
In addition, the captured image pattern is compared with a reference master pattern to determine the quality of the product, and the control unit 4 that controls the operation of the inspection unit 1, the scanning unit 2, the marker unit 3, and the tape transport mechanism 10. Is provided. A reference pattern (master pattern) serving as a reference for pattern inspection is input to the control unit 4 in advance. Note that the reference pattern may be an image obtained by capturing an actual pattern determined to be non-defective, or may be one using CAD data.
At the time of pattern inspection on the TAB tape, the TAB tape 5 is illuminated by the reflective illumination means 1a, and the reflected light from the TAB tape 5 enters the imaging means 1b. The image of the inspection pattern imaged by the imaging means 1b is sent to the control unit 4 and compared with the reference pattern, and the quality of the pattern is determined.

図1の装置を用い、TABテープを保持するステージを反射率の異なるものに種々取り替えた場合、また、ステージを設けない場合について、TABテープに形成された配線パターンを撮像した。
その結果を図2に示す。また、図3には、各ステージの表面反射率を示す。反射率の測定は、ウシオ電機製反射率測定器(URE)を使用した。
なお、本実施例におけるTABテープに使われている樹脂フィルムの、波長850nmにおける透過率は、前記図10に示したように約60%である。
図2(a)はステージの表面がアルミ板(波長850nmにおける反射率は約60%)の場合、(b)は銅板(波長850nmにおける反射率は約65%)の場合である。両者とも、撮像される画像は、配線パターンと樹脂フィルムの部分とのコントラストが小さく、配線パターンの検出は困難である。
Using the apparatus shown in FIG. 1, the wiring pattern formed on the TAB tape was imaged when the stage holding the TAB tape was variously changed to one having a different reflectance and when the stage was not provided.
The result is shown in FIG. FIG. 3 shows the surface reflectance of each stage. The reflectivity was measured using a Ushio Electric reflectometer (URE).
In addition, the transmittance | permeability in wavelength 850nm of the resin film used for the TAB tape in a present Example is about 60% as shown in the said FIG.
2A shows the case where the surface of the stage is an aluminum plate (reflectance at a wavelength of 850 nm is about 60%), and FIG. 2B shows the case where the surface is a copper plate (the reflectance at a wavelength of 850 nm is about 65%). In both cases, the captured image has a small contrast between the wiring pattern and the resin film, and it is difficult to detect the wiring pattern.

図2(c)はステージ表面を青色に色つけした場合、(d)はオレンジ色に色つけした場合(ともに波長850nmにおける反射率は約10%)である。
色つけした場合の撮像画像は、上記(a)(b)に比べて、配線パターンと樹脂フィルムの部分とのコントラストが大きくなり、これであれば、配線パターンの検出及び画像処理が可能である。
図2(e)は、ステージ表面を灰色に色つけした場合(波長850nmにおける反射率は約5%)、(f)は、表面を黒アルマイト処理した場合(つやあり黒)、(g)は、黒アルマイトの表面をサンドペーパーでフロスト加工した場合(つやなし黒)である。
(f)(g)それぞれの波長850nmにおける反射率は2〜3%である。撮像画像のコントラストは、(c)(d)に比べてさらに大きくなる。
したがって、TABテープの照明光が照射される側とは反対側に、照明光の波長の反射率が10%以下の部材を設けることにより、コントラストの大きい画像を撮像できる。
FIG. 2C shows the case where the stage surface is colored blue, and FIG. 2D shows the case where the stage surface is colored orange (both have a reflectance of about 10% at a wavelength of 850 nm).
In contrast to the above (a) and (b), the picked-up image in the case of coloring has a higher contrast between the wiring pattern and the resin film, and this enables detection of the wiring pattern and image processing. .
FIG. 2 (e) shows a case where the stage surface is colored gray (reflectance at a wavelength of 850 nm is about 5%), FIG. 2 (f) shows a case where the surface is black anodized (glossy black), and FIG. In this case, the surface of black anodized is frosted with sandpaper (glossy black).
(F) (g) The reflectance at a wavelength of 850 nm is 2-3%. The contrast of the captured image is further increased compared to (c) and (d).
Therefore, by providing a member having a reflectance of the illumination light wavelength of 10% or less on the side opposite to the side irradiated with the illumination light of the TAB tape, an image with a large contrast can be taken.

図4に本発明の第2の実施例の配線パターン検査装置の概略構成図を示す。
前記図1と同様、TABテープ5は、テープ搬送機構10の送り出しリール11にから巻きだされ、巻き取りリール12に巻き取られる。
巻き取りリール12の近傍には、不良のパターンにマークをつけるマーカ部3が設けられている。
送り出しリール11から送り出されたTABテープ5は、検査部1に送られる。検査部1は、例えば前記した波長850nmの光を出射する赤外LEDからなる反射照明手段1aと、パターン5aを撮像する例えばCCDカメラからなる撮像手段1bとから構成される。
走査手段2は、TABテープ5の検査パターン5a上で、撮像手段1bと反射照明手段1aを同図の紙面左右方向に走査させる。
TABテープ上のパターン検査時、上記反射照明手段1aによりTABテープ5が照明され、撮像手段1bには、TABテープ5からの反射光が入射する。撮像手段1bで撮像された検査パターンの画像は制御部4に送られ、上記基準パターンと比較され、パターンの良否が判定される。
FIG. 4 shows a schematic configuration diagram of a wiring pattern inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention.
As in FIG. 1, the TAB tape 5 is unwound from the delivery reel 11 of the tape transport mechanism 10 and is taken up by the take-up reel 12.
In the vicinity of the take-up reel 12, a marker portion 3 for marking a defective pattern is provided.
The TAB tape 5 delivered from the delivery reel 11 is sent to the inspection unit 1. The inspection unit 1 is composed of, for example, the reflective illumination unit 1a including an infrared LED that emits light having a wavelength of 850 nm, and the imaging unit 1b including a CCD camera that images the pattern 5a.
The scanning unit 2 scans the imaging unit 1b and the reflected illumination unit 1a on the inspection pattern 5a of the TAB tape 5 in the horizontal direction of the drawing.
At the time of pattern inspection on the TAB tape, the TAB tape 5 is illuminated by the reflection illumination means 1a, and the reflected light from the TAB tape 5 enters the imaging means 1b. The image of the inspection pattern imaged by the imaging means 1b is sent to the control unit 4 and compared with the reference pattern, and the quality of the pattern is determined.

本実施例では、前記図1に示したテープを吸着保持するステージをなくし、テープの検査領域以外の周辺部を把持して固定するテープ把持手段21を設けている。
図5は検査部1の平面図である。同図に示すように、テープ把持手段21は検査領域の周辺部分の四隅に設けられ、TABテープ5を把持するグリップ部22と、グリップ駆動部23から構成される。
グリップ部22が、TABテープ5の検査領域ではない周辺部分を把持し、グリップ駆動部23により、テープを幅方向に(同図上下方向)引っ張ってテンションを与え、撮像時、テープが移動しないように固定する。
In this embodiment, the stage for sucking and holding the tape shown in FIG. 1 is eliminated, and a tape gripping means 21 for gripping and fixing a peripheral portion other than the inspection area of the tape is provided.
FIG. 5 is a plan view of the inspection unit 1. As shown in the figure, the tape gripping means 21 is provided at the four corners of the peripheral portion of the inspection area, and includes a grip portion 22 for gripping the TAB tape 5 and a grip drive portion 23.
The grip portion 22 grips a peripheral portion that is not the inspection area of the TAB tape 5, and the grip drive portion 23 pulls the tape in the width direction (up and down in the figure) to apply tension, so that the tape does not move during imaging. To fix.

図6は、テープ把持手段21の詳細構成例を示す図である。同図は、搬送方向から見たテープ把持手段21の構成を示している。
グリップ部22は、把持部Gr1とGr2により、TABテープ5の周辺部を把持し、グリップ駆動部23により、グリップ部22は図面左右方向に移動する。
グリップ駆動部23は、送りモータ23aにより回転するボールねじ23bを備え、送りモータ23aによりボールねじ23bが回転し、ボールねじ23bに係合するグリップ部22が同図の左右方向、即ちTABテープ5の幅方向に移動する。
グリップ部22は、TABテープ5の周辺部を上部材22aの把持部Gr1と下部材22bの把持部Gr2とで上下から挟む構造になっている。下部材22bにはシャフト22cが取り付けられグリップ固定台22dに固定されている。
上部材22aは軸22eを介して下部材22bに取り付けられており、軸22eを中心に回動する。また、上部材22aと下部材22bの把持部Gr1,Gr2の反対側にはスプリング22fにより、上部材22aと下部材22bは把持部Gr1,Gr2の開く方向に付勢されている。
下部材22bには、エアシリンダ22gが取り付けられており、エアシリンダ22gの駆動軸は、下部材22bを貫通して突出し、その先端は上部材22aの軸22eを挟んで把持部Gr1とは反対側に当接している。このため、エアシリンダ22gを駆動すると、上部材22aが軸22eを中心として回動し、把持部Gr1,Gr2が閉じる。
FIG. 6 is a diagram illustrating a detailed configuration example of the tape gripping means 21. This figure shows the configuration of the tape gripping means 21 as viewed from the transport direction.
The grip portion 22 grips the peripheral portion of the TAB tape 5 by the grip portions Gr1 and Gr2, and the grip portion 22 moves in the horizontal direction of the drawing by the grip drive portion 23.
The grip drive unit 23 includes a ball screw 23b that is rotated by a feed motor 23a. The ball screw 23b is rotated by the feed motor 23a, and the grip unit 22 that engages with the ball screw 23b is in the horizontal direction in FIG. Move in the width direction.
The grip portion 22 has a structure in which the peripheral portion of the TAB tape 5 is sandwiched from above and below by the grip portion Gr1 of the upper member 22a and the grip portion Gr2 of the lower member 22b. A shaft 22c is attached to the lower member 22b and is fixed to the grip fixing base 22d.
The upper member 22a is attached to the lower member 22b via a shaft 22e, and rotates about the shaft 22e. The upper member 22a and the lower member 22b are biased in the direction in which the gripping portions Gr1 and Gr2 are opened by springs 22f on the opposite sides of the gripping portions Gr1 and Gr2 of the upper member 22a and the lower member 22b.
An air cylinder 22g is attached to the lower member 22b, and the drive shaft of the air cylinder 22g protrudes through the lower member 22b, and the tip of the air cylinder 22g is opposite to the grip portion Gr1 across the shaft 22e of the upper member 22a. It is in contact with the side. For this reason, when the air cylinder 22g is driven, the upper member 22a rotates about the shaft 22e, and the grip portions Gr1 and Gr2 are closed.

図2(h)に、テープを吸着保持するステージをなくし、テープの検査領域以外の周辺部を把持してテープ把持手段21で固定した場合の実験結果を示す。
TABテープ5を透過した照明光は、反射されることはなく、したがって、撮像素子には入射しない。したがって、コントラストの良い画像が得られる。
FIG. 2 (h) shows the experimental results when the stage for sucking and holding the tape is eliminated, the peripheral part other than the inspection area of the tape is gripped and fixed by the tape gripping means 21.
The illumination light transmitted through the TAB tape 5 is not reflected and therefore does not enter the image sensor. Therefore, an image with good contrast can be obtained.

上記第1、第2の実施例では、反射照明手段1aの光源として850nmの光を放射するLEDを使用したが、TABテープ5を透過する波長500nmの光を放射するLEDであれば、その他のLEDを使用することができる。例えば前記波長700nmの光を放射するLEDも同様に使用することができ、波長700nmの光を放射するLEDを使用しても、第1、第2の実施例と同様な効果を得ることができる。   In the said 1st, 2nd Example, although LED which radiates | emits 850 nm light was used as a light source of the reflective illumination means 1a, if it is LED which radiates | emits the light of wavelength 500nm which permeate | transmits the TAB tape 5, other LEDs can be used. For example, an LED that emits light having a wavelength of 700 nm can be used in the same manner. Even when an LED that emits light having a wavelength of 700 nm is used, the same effects as those of the first and second embodiments can be obtained. .

また、上記のLEDのような、赤外光域の単色光を放射する光源ではなく、ハロゲンランプやキセノンランプのような連続光を放射する光源であっても、波長500nm以上の光を含むものであれば、同様に使用することができる。
その場合は、反射照明手段1aとTABテープ5との間、またはTABテープ5と撮像手段1bとの間に、500nm以下の波長をカットするフィルタ、例えば赤外透過フィルタを設ければよい。
赤外透過フィルタを反射照明手段1aとTABテープ5との間に設ければ、TABテープ5には反射する500nm以下の光が照射されない。また、赤外透過フィルタをTABテープ5と撮像手段1bとの間に設ければ、TABテープ5から反射された500nm以下の光が撮像素子1bに入射しない。このため、上記実施例1、実施例2と同様に、コントラストの良い画像を得ることができる。
さらに、上記の赤外透過フィルタをテープと撮像手段1bとの間に設ける替わりに、撮像手段1bとして、波長500nm以下には感度がなく、赤外光域にのみ感度を有する撮像素子、例えば赤外用CCDカメラを使用してもよい。
Moreover, even if it is not a light source which radiates | emits monochromatic light of an infrared region like said LED but a light source which radiates | emits continuous light like a halogen lamp and a xenon lamp, it contains light with a wavelength of 500 nm or more If it is, it can be used similarly.
In that case, a filter that cuts a wavelength of 500 nm or less, for example, an infrared transmission filter may be provided between the reflective illumination unit 1a and the TAB tape 5 or between the TAB tape 5 and the imaging unit 1b.
If an infrared transmission filter is provided between the reflective illumination unit 1 a and the TAB tape 5, the reflected light of 500 nm or less is not irradiated on the TAB tape 5. If an infrared transmission filter is provided between the TAB tape 5 and the imaging means 1b, light of 500 nm or less reflected from the TAB tape 5 does not enter the imaging element 1b. For this reason, an image with good contrast can be obtained as in the first and second embodiments.
Further, instead of providing the above infrared transmission filter between the tape and the image pickup means 1b, the image pickup means 1b is an image pickup element having no sensitivity at a wavelength of 500 nm or less and having sensitivity only in the infrared light region, for example, red An external CCD camera may be used.

本発明の第1の実施例の配線パターン検査装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the wiring pattern inspection apparatus of 1st Example of this invention. 本発明の実施例の装置により撮像した配線パターンの画像を示す図である。It is a figure which shows the image of the wiring pattern imaged with the apparatus of the Example of this invention. ステージ表面の材質、色等を変えた場合の表面反射率を示す図である。It is a figure which shows the surface reflectance at the time of changing the material of a stage surface, a color, etc. 本発明の第2の実施例の配線パターン検査装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the wiring pattern inspection apparatus of 2nd Example of this invention. 本発明の第2の実施例の検査部の平面図である。It is a top view of the inspection part of the 2nd example of the present invention. テープ把持手段の詳細構成例を示す図である。It is a figure which shows the detailed structural example of a tape holding means. TABテープが作られる手順とTABテープの構造を示す図である。It is a figure which shows the procedure in which a TAB tape is made, and the structure of a TAB tape. 配線パターンが形成されたTABテープを示す図である。It is a figure which shows the TAB tape in which the wiring pattern was formed. 反射光を用いて撮像された配線パターンの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the wiring pattern imaged using reflected light. TABテープに使用される代表的なポリイミド系樹脂フィルム(厚さ75μm)の透過率を示す図である。It is a figure which shows the transmittance | permeability of the typical polyimide resin film (thickness 75 micrometers) used for a TAB tape. 照明手段からの光が樹脂フィルムの部分で反射される様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the light from an illumination means is reflected in the part of a resin film. 一般に市販されているCCDカメラの分光感度曲線を示す図である。It is a figure which shows the spectral sensitivity curve of the CCD camera generally marketed.

符号の説明Explanation of symbols

1 検査部
1a 反射照明手段
1b 撮像手段
1c ステージ
2 走査手段
3 マーカ部
4 制御部
5 TABテープ
5a 検査パターン
10 テープ搬送機構
11 送り出しリール
12 巻き取りリール
21 テープ把持手段
22 グリップ部
23 グリップ駆動部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Test | inspection part 1a Reflection illumination means 1b Image pickup means 1c Stage 2 Scanning means 3 Marker part 4 Control part 5 TAB tape 5a Inspection pattern 10 Tape conveyance mechanism 11 Sending reel 12 Take-up reel 21 Tape grip means 22 Grip part 23 Grip drive part

Claims (5)

ポリイミド系の樹脂フィルム上に形成されたパターンを照明光により照明し、該パターンからの反射光を撮像することにより、上記パターンの外観を検査するパターン検査装置において、
赤外光を放射するLEDを有する照明手段と、
上記樹脂フィルムに対して上記照明手段と同一面側に設けた、赤外光域に感度を有するCCDまたはCMOSを有する撮像手段とを備えた
ことを特徴とするパターン検査装置。
In the pattern inspection apparatus that inspects the appearance of the pattern by illuminating the pattern formed on the polyimide resin film with illumination light and imaging the reflected light from the pattern,
Illuminating means having LEDs that emit infrared light;
A pattern inspection apparatus comprising: an imaging unit having a CCD or a CMOS having sensitivity in an infrared light region provided on the same surface side as the illumination unit with respect to the resin film.
ポリイミド系の樹脂フィルム上に形成されたパターンを照明光により照明し、該パターンからの反射光を撮像することにより、上記パターンの外観を検査するパターン検査装置において、
赤外光を含む光を放射するランプを有する照明手段と、
上記樹脂フィルムに対して上記照明手段と同一面側に設けた、赤外光域に感度を有するCCDまたはCMOSを有する撮像手段と
上記照明手段から上記撮像手段に至る照明光の光路途中に挿入された、波長500nm以下の光をカットするフィルタとを備えた
ことを特徴とするパターン検査装置。
In the pattern inspection apparatus that inspects the appearance of the pattern by illuminating the pattern formed on the polyimide resin film with illumination light and imaging the reflected light from the pattern,
Illumination means having a lamp that emits light including infrared light;
An image pickup means having a CCD or CMOS having sensitivity in the infrared light region provided on the same side as the illumination means with respect to the resin film, and inserted in the optical path of illumination light from the illumination means to the image pickup means A pattern inspection apparatus comprising a filter for cutting light having a wavelength of 500 nm or less.
ポリイミド系の樹脂フィルム上に形成されたパターンを照明光により照明し、該パターンからの反射光を撮像することにより、上記パターンの外観を検査するパターン検査装置において、
赤外光を含む光を放射するランプを有する照明手段と、
上記樹脂フィルムに対して上記照明手段と同一面側に設けた、500nm以下の波長に感度がなく赤外光域に感度を有する撮像素子とを備えた
ことを特徴とするパターン検査装置。
In the pattern inspection apparatus that inspects the appearance of the pattern by illuminating the pattern formed on the polyimide resin film with illumination light and imaging the reflected light from the pattern,
Illumination means having a lamp that emits light including infrared light;
A pattern inspection apparatus comprising: an imaging element provided on the same surface side as the illumination unit with respect to the resin film and having no sensitivity at a wavelength of 500 nm or less and sensitivity in an infrared light region.
撮像時、上記樹脂フィルムを吸着保持するステージを設け、
該ステージの表面赤外線反射率が10%以下である
ことを特徴とする請求項1,2または請求項3記載のパターン検査装置。
At the time of imaging, a stage that holds the resin film by suction is provided
4. The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the stage has a surface infrared reflectance of 10% or less.
樹脂フィルムを吸着保持するステージに替えて、樹脂フィルムの周辺を把持する手段を設け、撮像時に該把持手段により上記樹脂フィルムにテンションを与える
ことを特徴とする請求項1,2または請求項3記載のパターン検査装置。
4. The apparatus according to claim 1, wherein a means for holding the periphery of the resin film is provided in place of the stage for adsorbing and holding the resin film, and tension is applied to the resin film by the holding means during imaging. Pattern inspection equipment.
JP2004298492A 2004-10-13 2004-10-13 Pattern inspection device Pending JP2006112845A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004298492A JP2006112845A (en) 2004-10-13 2004-10-13 Pattern inspection device
TW094120850A TW200612090A (en) 2004-10-13 2005-06-22 Pattern inspection device
KR20050093656A KR100926872B1 (en) 2004-10-13 2005-10-06 Pattern checker
CN2005101138062A CN1763511B (en) 2004-10-13 2005-10-12 Pattern checking device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004298492A JP2006112845A (en) 2004-10-13 2004-10-13 Pattern inspection device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006112845A true JP2006112845A (en) 2006-04-27

Family

ID=36381486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004298492A Pending JP2006112845A (en) 2004-10-13 2004-10-13 Pattern inspection device

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2006112845A (en)
KR (1) KR100926872B1 (en)
CN (1) CN1763511B (en)
TW (1) TW200612090A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007138798A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-06 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Method and apparatus for inspecting wiring pattern of flexible printed wiring board
JP2010251513A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Nitto Denko Corp Method of manufacturing printed circuit board
US8310668B2 (en) 2009-02-17 2012-11-13 Nitto Denko Corporation Producing method of wired circuit board
JP2012251808A (en) * 2011-06-01 2012-12-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Inspection image acquisition device, pattern inspection device, and inspection image acquisition method
US8378226B2 (en) * 2007-11-06 2013-02-19 Nitto Denko Corporation Wired circuit board
JP2014059253A (en) * 2012-09-19 2014-04-03 Komori Corp Inspection device for sheet-like material
JP2021064730A (en) * 2019-10-16 2021-04-22 日東電工株式会社 Method for manufacturing wiring circuit board

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100853861B1 (en) * 2007-02-12 2008-08-22 한국표준과학연구원 Apparatus and method for testing inkjet printed circuit board
TWI426247B (en) * 2009-06-05 2014-02-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Method for measuring light source
CN101924052B (en) * 2009-06-15 2011-08-24 上海华虹Nec电子有限公司 Method for quickly detecting drift defects of epitaxial patterns
JP5582932B2 (en) * 2010-09-16 2014-09-03 日東電工株式会社 Inspection apparatus and printed circuit board manufacturing method
KR101376450B1 (en) * 2011-06-01 2014-03-19 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Image Acquisition Apparatus, Pattern Inspection Apparatus, and Image Acquisition Method
CN103376259A (en) * 2012-04-11 2013-10-30 百励科技股份有限公司 Device and method for detecting internal defects of element
CN102636119A (en) * 2012-04-23 2012-08-15 苏州市金松精密电子有限公司 Automatic FFC (flexible flat cable) dimension detection device
CN102841104A (en) * 2012-08-03 2012-12-26 杭州良淋电子科技有限公司 Automatic inspection device for wire rods
JP5866673B2 (en) * 2014-01-22 2016-02-17 トヨタ自動車株式会社 Image inspection apparatus and image inspection method for welds
KR102022472B1 (en) * 2014-07-04 2019-09-18 한화정밀기계 주식회사 Tape adhesion apparatus
CN105910990B (en) * 2016-04-12 2018-10-16 杭州士兰明芯科技有限公司 Graphics test method
KR102166032B1 (en) 2020-06-17 2020-10-15 에스케이이노베이션 주식회사 Polyimide film and flexible display panel including the same
KR102286213B1 (en) 2020-07-30 2021-08-06 에스케이이노베이션 주식회사 Polyimide film and flexible display panel including the same
KR102650432B1 (en) * 2021-05-13 2024-03-25 (주)피아이이 3-Dimension image defect measurement system and method

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08222832A (en) * 1995-02-14 1996-08-30 Fujitsu Ltd Method for observing wiring pattern of printed board
JP2003172711A (en) * 2001-09-26 2003-06-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Surface inspection of inspected object using image processing
JP2003207455A (en) * 2002-01-15 2003-07-25 Towa Corp Tool for retaining package
JP2003279498A (en) * 2002-03-20 2003-10-02 Ushio Inc Visual inspection device
JP2004028597A (en) * 2002-06-21 2004-01-29 Ushio Inc Pattern inspecting apparatus
JP2004047879A (en) * 2002-07-15 2004-02-12 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Image production method
WO2004023122A1 (en) * 2002-09-03 2004-03-18 Hamamatsu Foundation For Science And Technology Promotion Pattern inspection method and inspection device therefor
JP2004191214A (en) * 2002-12-12 2004-07-08 Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd Line lighting system, and inspection device using line lighting system

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0651535A (en) * 1992-06-19 1994-02-25 Du Pont Japan Ltd Formation of patterned polyimide film on substrate

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08222832A (en) * 1995-02-14 1996-08-30 Fujitsu Ltd Method for observing wiring pattern of printed board
JP2003172711A (en) * 2001-09-26 2003-06-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Surface inspection of inspected object using image processing
JP2003207455A (en) * 2002-01-15 2003-07-25 Towa Corp Tool for retaining package
JP2003279498A (en) * 2002-03-20 2003-10-02 Ushio Inc Visual inspection device
JP2004028597A (en) * 2002-06-21 2004-01-29 Ushio Inc Pattern inspecting apparatus
JP2004047879A (en) * 2002-07-15 2004-02-12 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Image production method
WO2004023122A1 (en) * 2002-09-03 2004-03-18 Hamamatsu Foundation For Science And Technology Promotion Pattern inspection method and inspection device therefor
JP2004191214A (en) * 2002-12-12 2004-07-08 Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd Line lighting system, and inspection device using line lighting system

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007138798A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-06 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Method and apparatus for inspecting wiring pattern of flexible printed wiring board
JP2007322154A (en) * 2006-05-30 2007-12-13 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd Method and device for inspecting wiring pattern of flexible printed wiring board
JP4536033B2 (en) * 2006-05-30 2010-09-01 三井金属鉱業株式会社 Wiring pattern inspection method and inspection apparatus for flexible printed wiring board
US8378226B2 (en) * 2007-11-06 2013-02-19 Nitto Denko Corporation Wired circuit board
US8310668B2 (en) 2009-02-17 2012-11-13 Nitto Denko Corporation Producing method of wired circuit board
JP2010251513A (en) * 2009-04-15 2010-11-04 Nitto Denko Corp Method of manufacturing printed circuit board
US8316532B2 (en) 2009-04-15 2012-11-27 Nitto Denko Corporation Method of producing a wired circuit board
JP2012251808A (en) * 2011-06-01 2012-12-20 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Inspection image acquisition device, pattern inspection device, and inspection image acquisition method
JP2014059253A (en) * 2012-09-19 2014-04-03 Komori Corp Inspection device for sheet-like material
JP2021064730A (en) * 2019-10-16 2021-04-22 日東電工株式会社 Method for manufacturing wiring circuit board
WO2021075195A1 (en) * 2019-10-16 2021-04-22 日東電工株式会社 Method for manufacturing wiring circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
CN1763511A (en) 2006-04-26
KR20060052054A (en) 2006-05-19
TW200612090A (en) 2006-04-16
KR100926872B1 (en) 2009-11-16
CN1763511B (en) 2010-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100926872B1 (en) Pattern checker
KR102100889B1 (en) Die bonding device and method of manufacturing semiconductor device
JP4536033B2 (en) Wiring pattern inspection method and inspection apparatus for flexible printed wiring board
JP7225337B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment and semiconductor device manufacturing method
CN100472204C (en) Wiring pattern check up apparatus
JP2000065758A (en) Apparatus and method for inspection of cream solder piece on printed circuit board
US7407822B2 (en) Method for inspecting insulating film for film carrier tape for mounting electronic components thereon, inspection apparatus for inspecting the insulating film, punching apparatus for punching the insulating film, and method for controlling the punching apparatus
JP4228778B2 (en) Pattern inspection device
JP2006105816A (en) Article inspecting device and article inspection method
JP2005140663A (en) Inspection device for wiring pattern, and wiring pattern inspecting method
KR100605451B1 (en) Pattern inspection apparatus
JP5145495B2 (en) Inspection device
KR20070068169A (en) Vision inspection system
CN113436986A (en) Chip mounting device and method for manufacturing semiconductor device
CN100395518C (en) Figure checking device
KR20200112639A (en) Semiconductor manufacturing apparatus and method for manufacturing semiconductor device
TW202409554A (en) Image capturing apparatus, substrate inspection apparatus, image capturing method, and substrate inspection method
JPH07286834A (en) Device for inspecting defect of tape carrier
CN114093789A (en) Chip mounting device and method for manufacturing semiconductor device
JP2007010586A (en) Inspection device and method for infrared reflecting film coated member
JP2002228712A (en) Auto handler for cof and lighting system and method for cof image pickup

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070918

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091222

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100727

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101130