JP2006100755A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006100755A5
JP2006100755A5 JP2004305544A JP2004305544A JP2006100755A5 JP 2006100755 A5 JP2006100755 A5 JP 2006100755A5 JP 2004305544 A JP2004305544 A JP 2004305544A JP 2004305544 A JP2004305544 A JP 2004305544A JP 2006100755 A5 JP2006100755 A5 JP 2006100755A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating element
processing apparatus
substrate processing
electric heater
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004305544A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4885438B2 (ja
JP2006100755A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004305544A priority Critical patent/JP4885438B2/ja
Priority claimed from JP2004305544A external-priority patent/JP4885438B2/ja
Publication of JP2006100755A publication Critical patent/JP2006100755A/ja
Publication of JP2006100755A5 publication Critical patent/JP2006100755A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4885438B2 publication Critical patent/JP4885438B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2004305544A 2003-10-21 2004-10-20 基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーター及びこれを備えた基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造及び基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法 Expired - Lifetime JP4885438B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004305544A JP4885438B2 (ja) 2003-10-21 2004-10-20 基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーター及びこれを備えた基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造及び基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003361292 2003-10-21
JP2003361292 2003-10-21
JP2004256651 2004-09-03
JP2004256651 2004-09-03
JP2004305544A JP4885438B2 (ja) 2003-10-21 2004-10-20 基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーター及びこれを備えた基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造及び基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006100755A JP2006100755A (ja) 2006-04-13
JP2006100755A5 true JP2006100755A5 (enExample) 2007-11-29
JP4885438B2 JP4885438B2 (ja) 2012-02-29

Family

ID=36240233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004305544A Expired - Lifetime JP4885438B2 (ja) 2003-10-21 2004-10-20 基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーター及びこれを備えた基板処理装置並びに基板処理装置用電気ヒーターにおける発熱体の保持構造及び基板処理装置を用いた半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4885438B2 (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4646592B2 (ja) * 2003-10-21 2011-03-09 貞徳舎株式会社 電気ヒーター及びこれを備えた炉
JP5139734B2 (ja) * 2007-06-25 2013-02-06 株式会社日立国際電気 基板処理装置及びこれに用いられる加熱装置
US8395096B2 (en) 2009-02-05 2013-03-12 Sandvik Thermal Process, Inc. Precision strip heating element
JP5544121B2 (ja) 2009-07-21 2014-07-09 株式会社日立国際電気 加熱装置、基板処理装置、及び半導体装置の製造方法
KR101096602B1 (ko) * 2009-07-21 2011-12-20 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 가열 장치, 기판 처리 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
US9064912B2 (en) 2009-07-21 2015-06-23 Hitachi Kokusai Electric, Inc. Heating device, substrate processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device
JP5525248B2 (ja) * 2009-12-03 2014-06-18 貞徳舎株式会社 電気ヒーター及び電気ヒーターの製造方法並びに加熱装置
JP6630146B2 (ja) * 2015-02-25 2020-01-15 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 基板処理装置、半導体装置の製造方法および加熱部
CN105914163B (zh) 2015-02-25 2020-03-24 株式会社国际电气 衬底处理装置、半导体器件的制造方法以及加热部
JP6887659B2 (ja) * 2015-09-15 2021-06-16 貞徳舎株式会社 熱風生成装置
EP4305984A4 (en) * 2021-06-16 2025-01-22 Japan Tobacco Inc. Aerosol generation system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6231997Y2 (enExample) * 1980-03-27 1987-08-15
US4403329A (en) * 1981-07-06 1983-09-06 General Signal Corporation Support system for electrical resistance element
JP3307924B2 (ja) * 1990-10-18 2002-07-29 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
JP3484387B2 (ja) * 2000-01-13 2004-01-06 株式会社第一機電 電気炉

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006100755A5 (enExample)
JP2018511314A5 (enExample)
JP2012503312A (ja) 熱処理工程の間半導体ウェーハを支持するウェーハホルダ
JP2016022857A5 (enExample)
JP2014034689A (ja) 鋼板焼入用加熱装置
CN102414516A (zh) 烹调设备
KR102206416B1 (ko) 가열 장치 및 가열로
KR101806509B1 (ko) 진공 증발원
JP2005150101A (ja) 電気ヒーター及びこれを備えた炉
TWI641284B (zh) 金屬發熱體及發熱構造體
KR200441974Y1 (ko) 와이어 형태의 발열체로 이루어진 히터 및 이를 이용한소둔로용 히팅파이프
KR101394325B1 (ko) 히터 및 그 제조방법
US6858819B2 (en) Electric heating element
US10612853B2 (en) Heating device
JP4809392B2 (ja) 熱処理装置、ボート、熱処理方法、及び半導体の製造方法
JP5932431B2 (ja) 加熱装置及び加熱方法
KR101234707B1 (ko) 열효율이 우수한 열풍시스템의 히터장치
KR100808766B1 (ko) 절연내화 애자 및 이를 이용한 원통형 전기가열로
JP2009004482A (ja) 配線基板の製造方法
KR20170004127U (ko) 진공로의 가열장치
US1241578A (en) Electric heating apparatus.
JP3194388U (ja) 赤外線ヒーター
JP3558127B2 (ja) ウエハの乾燥装置および乾燥方法
KR101428809B1 (ko) 조리기기용 랙
RU239463U1 (ru) Печь для бани