JP2006088581A - Method for producing laminate - Google Patents

Method for producing laminate Download PDF

Info

Publication number
JP2006088581A
JP2006088581A JP2004278194A JP2004278194A JP2006088581A JP 2006088581 A JP2006088581 A JP 2006088581A JP 2004278194 A JP2004278194 A JP 2004278194A JP 2004278194 A JP2004278194 A JP 2004278194A JP 2006088581 A JP2006088581 A JP 2006088581A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
film
laminate
layer
laminated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004278194A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryuichiro Maeyama
龍一郎 前山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP2004278194A priority Critical patent/JP2006088581A/en
Publication of JP2006088581A publication Critical patent/JP2006088581A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a laminate which can obtain enough adhesive strength. <P>SOLUTION: The method for producing the laminate includes a process in which two or more resin films of the same kind or different kinds and at least one heat generation layer generating heat by an external factor are laminated and a process for making the heat generation layer generate heat by the external factor. For example, when the resin films in the shape of a sheet or a belt are laminated, at least one heat generation layer is laminated (lamination process), and in the production process, the heat generation layer is made to generate heat by the external factor. For example, a heat generation layer (1) containing a photothermal conversion material which generates heat by absorbing light of at least a part of a range from an ultraviolet domain to an infrared domain, a heat generation layer (2) comprising a metal which generates heat by electromagnetic induction, or a heat generation layer (3) holding water which generates heat by microwaves is used preferably as the heat generation layer. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本願発明は、樹脂フィルムの積層体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a laminate of resin films.

従来、樹脂フィルムの積層体は、種々分野に利用されてきているものである。例えば、耐熱性樹脂からなる薄板又は芯材に耐熱性樹脂を含浸させた薄板に、銅、アルミニウム等の導電性金属の薄膜を積層した積層体は、従来よりプリント配線用基板として広く用いられている。また、電子写真方式、静電記録方式等、乾式のトナーを用いる画像形成装置においても、トナー像を一旦担持する中間転写体として、耐熱性樹脂と金属薄膜とを積層したフィルムを無端状にして用いられることがある。この中間転写体は、静電潜像にトナーを付着させることによって形成されたトナー像が転写され、このトナー像を電磁誘導加熱して記録媒体に転写及び定着を同時に行うものである。   Conventionally, a laminate of resin films has been used in various fields. For example, a laminate in which a thin plate made of a heat-resistant resin or a thin plate obtained by impregnating a heat-resistant resin into a core material and a thin film of a conductive metal such as copper or aluminum is laminated has been widely used as a printed wiring board. Yes. Also, in an image forming apparatus using a dry toner such as an electrophotographic system or an electrostatic recording system, a film in which a heat-resistant resin and a metal thin film are laminated is used as an intermediate transfer body for temporarily supporting a toner image. Sometimes used. In this intermediate transfer member, a toner image formed by adhering toner to an electrostatic latent image is transferred, and this toner image is heated by electromagnetic induction to simultaneously transfer and fix it on a recording medium.

例えば、中間転写体は、例えば、厚さが50〜200μmの熱硬化性ポリイミド、芳香族ポリアミド(アラミド)、液晶ポリマー等の耐熱性樹脂からなるフィルム状部材と厚さが1〜50μm程度の銅の薄膜とを積層し、無端状ベルトとしたものが用いられる。なお、液晶ポリマーは、溶液状態又は溶融状態で液晶性を示すポリマーであるが、溶融状態で液晶性を示すサーモトロピック液晶ポリマーは、特に高強度、高耐熱、低線膨張率、高絶縁、低吸湿、高ガスバリアー性等の優れた特性を持っている。このため、液晶性を利用するものに限らず、機械的な部品や繊維としての用途も増加している。   For example, the intermediate transfer member is, for example, a film-like member made of a heat-resistant resin such as thermosetting polyimide, aromatic polyamide (aramid), or liquid crystal polymer having a thickness of 50 to 200 μm and copper having a thickness of about 1 to 50 μm. These are laminated to form an endless belt. The liquid crystal polymer is a polymer that exhibits liquid crystallinity in a solution state or a molten state, but a thermotropic liquid crystal polymer that exhibits liquid crystallinity in a molten state is particularly high strength, high heat resistance, low linear expansion coefficient, high insulation, low Excellent properties such as moisture absorption and high gas barrier properties. For this reason, the use as a mechanical part and a fiber is increasing as well as what utilizes liquid crystallinity.

上記のように、耐熱性樹脂の層と金属薄膜とを積層したフィルム状部材の製造は、耐熱性樹脂のフィルムと金属箔とを接着剤等によって張り合わせる方法、耐熱性樹脂のフィルム上に電解めっき、無電解めっき、蒸着法等により金属薄膜を形成する方法等が知られている。   As described above, the production of a film-like member in which a heat-resistant resin layer and a metal thin film are laminated includes a method of bonding a heat-resistant resin film and a metal foil with an adhesive, etc., and electrolysis on a heat-resistant resin film. A method of forming a metal thin film by plating, electroless plating, vapor deposition, or the like is known.

しかしながら、上記のように接着剤等で張り合わせる方法では、金属薄膜がくり返し電磁誘導加熱されたときの接着力に信頼性が乏しい。   However, in the method of bonding with an adhesive or the like as described above, the adhesive strength when the metal thin film is repeatedly heated by electromagnetic induction is not reliable.

また、耐熱性樹脂の上に金属薄膜を形成する方法でも、一般にポリイミドや芳香族ポリアミド(アラミド)のような耐熱性樹脂と銅等の金属薄膜とを強固に付着させるのが難しい。このため、付着性を向上させるための技術が開示されており、例えば特開平5−299820号公報には、ポリイミドに金属蒸着膜を形成し、その後に電子ビーム加熱蒸着銅層及び電解めっき銅層を順次に積層する技術が提案されている。   Further, even in a method of forming a metal thin film on a heat resistant resin, it is generally difficult to firmly attach a heat resistant resin such as polyimide or aromatic polyamide (aramid) and a metal thin film such as copper. For this reason, a technique for improving adhesion is disclosed. For example, in Japanese Patent Laid-Open No. 5-299820, a metal vapor deposition film is formed on polyimide, and then an electron beam heating vapor deposition copper layer and an electrolytic plating copper layer are formed. A technique for sequentially stacking layers has been proposed.

特開平6−316768号公報には、ポリイミドにフッ素を含有させておき、このフッ素を接着サイトとするために、まず、ヒドラジンを含有する水溶液を用いて1段目のエッチング処理を行い、続いて、ナフタリンー1―ナトリウムで2段目のエッチング処理を行って銅が付着し易くする技術が開示されている。また、特開平7−216225号公報には、ポリイミド前躯体に、金属粉末を混合しておくことにより、めっきによる金属膜との接着性を高める技術が開示されている。   In Japanese Patent Laid-Open No. 6-316768, fluorine is contained in polyimide, and in order to use this fluorine as an adhesion site, first, a first-stage etching process is performed using an aqueous solution containing hydrazine, and then A technique is disclosed in which copper is easily deposited by performing a second-stage etching process with naphthalene-1-sodium. Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-216225 discloses a technique for improving the adhesion with a metal film by plating by mixing a metal powder with a polyimide precursor.

さらに、耐熱性樹脂が芳香族ポリアミド(アラミド)である場合も、特開平6−256960号公報に、ヒドラジンとアルカリ金属水酸化物とを含有する水溶液によってエッチング処理し、次いで無電解めっきのための触媒付与処理を行う技術が提案されている。   Further, even when the heat resistant resin is an aromatic polyamide (aramid), JP-A-6-256960 discloses an etching treatment with an aqueous solution containing hydrazine and an alkali metal hydroxide, and then for electroless plating. Techniques for performing catalyst application treatment have been proposed.

しかしながら、上記の従来から知られている技術のように、耐熱性樹脂を成形した後、この上に金属の薄膜を形状する方法では、充分な接着性が得られなかったり、製造工程の合理化が難しい。   However, the method of forming a heat-resistant resin and then forming a metal thin film thereon after forming a heat-resistant resin as described above does not provide sufficient adhesion, or the manufacturing process is rationalized. difficult.

一方、耐熱性樹脂として液晶ポリマーを用いる場合には、フィルム状にしたものを金属箔と直接に熱圧着することができるが、液晶ポリマーのフィルム状部材は、一般に成形時に著しく配向し、一方向に裂け易いものなってしまう。これを防止するために、特開2002−248705では、ベルトを金属箔で補強しながらベルトを製造することが提案されている。   On the other hand, when a liquid crystal polymer is used as the heat-resistant resin, the film-like material can be directly thermocompression bonded to the metal foil, but the liquid crystal polymer film-like member is generally remarkably oriented during molding and is unidirectional. It will be easy to tear. In order to prevent this, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-248705 proposes manufacturing a belt while reinforcing the belt with a metal foil.

一方、特開2004−4393では、ポリイミドを主成分とするポリイミドベルトの製造方法が提案され、シリコーンゴムやフッ素樹脂を積層したベルトが提案されている。   On the other hand, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-4393, a method for producing a polyimide belt mainly composed of polyimide is proposed, and a belt in which silicone rubber or fluororesin is laminated is proposed.

また、特開2002−36441では、優れた耐衝撃性及び耐候性などを有するとともに、表面硬度が高く、特に窓ガラスや窓用プラスチックボードなどの外側表面貼付用として好適なハードコートフィルムを同一又は異種の複数の樹脂フィルムを積層してなる多層基材の一方の面に、シリコーン系ハードコート層を設けることが提案されている。
特開平5−299820号公報 特開平6−316768号公報 特開平7−216225号公報 特開平6−256960号公報 特開2002−248705公報 特開2004−4393公報 特開2002−36441公報
In JP-A-2002-36441, while having excellent impact resistance and weather resistance, etc., the surface hardness is high, and in particular, a hard coat film suitable for application to an outer surface such as a window glass or a plastic board for windows is the same or It has been proposed to provide a silicone-based hard coat layer on one surface of a multilayer base material formed by laminating a plurality of different types of resin films.
JP-A-5-299820 JP-A-6-316768 JP 7-216225 A JP-A-6-256960 JP 2002-248705 A JP 2004-4393 A JP 2002-36441 A

しかしながら、上記の従来から知られている技術のように、積層体では、耐熱樹脂を単に積層したり、金属層を設けただけでは、十分な各層間の接着強度が得られなく、例えば、左右から力が加わると膜厚の薄い、強度の弱い部分から折れる座くつという現象が起こることがある。   However, as in the above-described conventionally known techniques, in a laminated body, it is not possible to obtain a sufficient adhesion strength between layers by simply laminating a heat-resistant resin or providing a metal layer. When a force is applied, the phenomenon of a seat that breaks from a thin part with a weak film thickness may occur.

従って、本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明の目的は、十分な接着強度が得られる積層体の製造方法を提供することである。   Accordingly, it is an object of the present invention to solve the conventional problems and achieve the following object. That is, the objective of this invention is providing the manufacturing method of the laminated body from which sufficient adhesive strength is obtained.

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
本発明の積層体の製造方法は、
同一又は異種の複数の樹脂フィルムと、外的要因により発熱する発熱層の少なくとも1層と、を積層する工程と、
前記発熱層を外的要因により発熱させる工程と、
を有することを特徴としている。
The above problem is solved by the following means. That is,
The method for producing the laminate of the present invention comprises:
Laminating a plurality of the same or different resin films and at least one heat generating layer that generates heat due to external factors;
Heating the heat generating layer due to external factors;
It is characterized by having.

本発明の積層体の製造方法では、樹脂フィルムを、発熱層と共に積層して、この発熱層を発熱させることで、積層体内部から効率良く加熱され、異種の樹脂あるいは金属あるいは樹脂と金属接触面の熱抵抗を緩和あるいは低くすることができるため、例えば、異種の樹脂フィルム同士でも、金属層などの機能層が存在しても各層間に、十分な接着強度が得られる。また、事前に加熱し、材料内部に存在する水分や未反応モノマー等放出ガスを逃がすことでより効果的に接着強度が得られる。また、異種フィルムの場合には、保護のために潤滑油等を塗ってある場合もあり、これを有機溶媒等でふき取って使用するにはコスト高になるため、事前に発熱揮発あるいは熱分解させることで除去でき、清掃された面を接着に提供することが可能となる。   In the method for producing a laminate of the present invention, a resin film is laminated together with a heat generation layer, and the heat generation layer generates heat, whereby the laminate is efficiently heated from the inside of the laminate, and a different resin or metal or resin and metal contact surface Therefore, even if different resin films or functional layers such as metal layers are present, sufficient adhesive strength can be obtained between the respective layers. In addition, the adhesive strength can be more effectively obtained by heating in advance and releasing released gas such as moisture and unreacted monomers present in the material. In the case of dissimilar films, lubricating oil may be applied for protection, and it is costly to use it by wiping it with an organic solvent. This can be removed and the cleaned surface can be provided for bonding.

なお、発熱層は、積層体の表面に形成された状態で積層してもよいし、樹脂フィルム間に介在するように積層してもよい。   The heat generating layer may be laminated in a state where it is formed on the surface of the laminated body, or may be laminated so as to be interposed between the resin films.

本発明の積層体の製造方法において、前記発熱層はとしては、次の3種が好適に挙げられる。1)紫外領域から赤外領域までの少なくとも一部の光を吸収して発熱する光熱変換材料を含む発熱層。2)電磁誘導により発熱する金属からなる発熱層。3)マイクロ波により発熱する水分を保持してなる発熱層。   In the manufacturing method of the laminated body of this invention, the following three types are mentioned suitably as said heat generating layer. 1) A heat generating layer containing a photothermal conversion material that generates heat by absorbing at least part of light from the ultraviolet region to the infrared region. 2) A heat generating layer made of a metal that generates heat by electromagnetic induction. 3) A heating layer that retains moisture generated by microwaves.

本発明の積層体の製造方法において、前記複数の樹脂フィルムは、同一の樹脂フィルムであってもよし、異種の前記樹脂フィルムであってもよい。また、前記複数の樹脂フィルムは、耐熱性樹脂フィルムと耐衝撃性樹脂フィルムとを含むでいてもよい。   In the method for producing a laminate of the present invention, the plurality of resin films may be the same resin film or different resin films. Further, the plurality of resin films may include a heat resistant resin film and an impact resistant resin film.

本発明の積層体の製造方法において、前記複数の樹脂フィルムと共に、さらに機能層を積層することもできる。この機能層として、例えば、電子写真装置の定着部材や中間転写体に利用する際に積層体が発熱できるように電磁誘導加熱用の金属層や、表面を保護するシリコーン系ハードコート層などが挙げられる。また、機能層は、積層体の表面に形成された状態で積層してもよいし、樹脂フィルム間に介在するように積層してもよい。   In the method for producing a laminate of the present invention, a functional layer may be further laminated together with the plurality of resin films. Examples of the functional layer include a metal layer for electromagnetic induction heating and a silicone hard coat layer for protecting the surface so that the laminate can generate heat when used as a fixing member or an intermediate transfer member of an electrophotographic apparatus. It is done. Moreover, a functional layer may be laminated | stacked in the state formed in the surface of a laminated body, and may be laminated | stacked so that it may interpose between resin films.

本発明の積層体の製造方法においては、積層体はシート状或いはベルト状に形成することができる。   In the manufacturing method of the laminated body of this invention, a laminated body can be formed in a sheet form or a belt form.

本発明の積層体の製造方法においては、非酸化雰囲気下で製造することが好適である。これにより、積層体を構成する有機或いは無機材料の酸化劣化や錆びを防止することができる。   In the manufacturing method of the laminated body of this invention, manufacturing in non-oxidizing atmosphere is suitable. Thereby, the oxidative degradation and rust of the organic or inorganic material which comprises a laminated body can be prevented.

本発明によれば、十分な接着強度が得られる積層体の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the laminated body from which sufficient adhesive strength is obtained can be provided.

本発明の積層体の製造方法は、例えば、シート状或いはベルト状の樹脂フィルムを複数積層する際、外的要因により発熱する発熱層の少なくとも1層も積層して(積層工程)、その製造過程中に、当該発熱層を外的要因により発熱させるものである(発熱工程)。また、積層する際、必要に応じて、電磁誘導加熱用の金属層や、シリコーン系ハードコート層などの機能層も一緒に積層してもよい。   The method for producing a laminate of the present invention includes, for example, laminating at least one heat generating layer that generates heat due to an external factor when laminating a plurality of sheet-like or belt-like resin films (laminating step), and the production process thereof The heat generation layer generates heat due to external factors (heat generation process). Moreover, when laminating | stacking, you may laminate | stack functional layers, such as a metal layer for electromagnetic induction heating, and a silicone type hard-coat layer, as needed.

まず、樹脂フィルムの構成材料としては、例えば、耐熱性樹脂、耐衝撃性樹脂などが好適に挙げられる。   First, as a constituent material of the resin film, for example, a heat resistant resin, an impact resistant resin, and the like are preferably exemplified.

上記耐熱性樹脂は、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリアミド等が含まれるが、ポリイミド、芳香族ポリアミド、サーモトロピック液晶ポリマーとして分類されるものを使用するのが望ましい。上記サーモトロピック液晶ポリマーには、完全芳香族ポリエステル、芳香族−脂肪族ポリエステル、芳香族ポリアゾメチ、芳香族ポリエステル−カーボネ−ト等がある。   The heat-resistant resin includes polyester, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polyether ketone, polysulfone, polyimide, polyimide amide, polyamide, etc., but those classified as polyimide, aromatic polyamide, and thermotropic liquid crystal polymer. It is desirable to use it. Examples of the thermotropic liquid crystal polymer include fully aromatic polyester, aromatic-aliphatic polyester, aromatic polyazomethy, aromatic polyester-carbonate.

耐衝撃性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく用いられ、特にポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。   Examples of the impact resistant resin include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Among these, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferably used, and polyethylene terephthalate is particularly preferably used.

これらの耐熱性樹脂や耐衝撃性樹脂をフィルム状に形成する方法については、熱可塑性のものでは、溶融状態で押し出し成形や遠心成形を用いることができ、ポリマー溶液又はポリマーアロイの溶液として成形できるものであれば、塗布又は流延してフイルム状に成形することができ、乾燥、硬化反応を行う前の前駆体を用いて成形するものであれば、塗布・乾燥・硬化反応してフィルム状に成形することができ、材料に応じた既存の方法を用いることができる。   As for the method for forming these heat-resistant resin and impact-resistant resin into a film, for thermoplastic materials, extrusion molding or centrifugal molding can be used in a molten state, and the polymer can be molded as a polymer solution or a polymer alloy solution. If it is a thing, it can be applied or cast to be formed into a film, and if it is formed using a precursor before drying and curing reaction, it is coated, dried and cured to form a film. The existing method according to the material can be used.

なお、耐衝撃性樹脂フィルムとしては、シャルピー衝撃強さ(JIS K7111法)が10kg-cm/cm2以上のフィルムが好ましく用いられる。この場合、耐衝撃性樹脂フィルムは単層でシャルピー衝撃強さが10kg-cm/cm2以上になるものであってもよく、また単層でシャルピー衝撃強さが10kg-cm/cm2以下であっても積層して10kg-cm/cm2以上になるものであってもよい。 In addition, as an impact-resistant resin film, a film having Charpy impact strength (JIS K7111 method) of 10 kg - cm / cm 2 or more is preferably used. In this case, the impact-resistant resin film may be a single layer having a Charpy impact strength of 10 kg - cm / cm 2 or more, or a single layer having a Charpy impact strength of 10 kg - cm / cm 2 or less. Even if it exists, it may be laminated and become 10 kg - cm / cm 2 or more.

樹脂フィルムは、一般的には6〜200μm、さらに好ましくは50〜150μm程度が好適である。また、樹脂フィルムは、所望により着色又は蒸着されていてもよく、また紫外線吸収剤を含んでいてもよい。紫外線吸収剤を含ませることで、フィルムの耐候性を向上できる。紫外線吸収剤は、高エネルギーをもつ紫外線を吸収し、無害のエネルギーに転換し、再輻射することによって、紫外線遮断効果をもたらし、またプラスチックの耐光性や耐候性を向上させるものであって、一般に、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、その他に大別することができる。サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−アミル−5′−イソブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−イソブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−イソブチル−5′−プロピルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−5′−(1,1,3,3−テトラメチル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどが挙げられ、置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチル、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸2−エチルヘキシルなどが挙げられる。   The resin film is generally 6 to 200 μm, more preferably about 50 to 150 μm. Moreover, the resin film may be colored or vapor-deposited as desired, and may contain an ultraviolet absorber. By including the ultraviolet absorber, the weather resistance of the film can be improved. Ultraviolet absorbers absorb ultraviolet rays with high energy, convert them to harmless energy, re-radiate them, thereby providing an ultraviolet blocking effect and improving the light resistance and weather resistance of plastics. , Salicylates, benzophenones, benzotriazoles, substituted acrylonitriles, and others. Examples of salicylate ultraviolet absorbers include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate and the like. Examples of benzophenone ultraviolet absorbers include 2,2'-dihydroxy-4- Methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2- And hydroxy-4-octoxybenzophenone. Examples of benzotriazole ultraviolet absorbers include 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3). '-Tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-amyl-5'-isobutylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-propylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5' Methylphenyl) benzotriazole, 2- [2′-hydroxy-5 ′-(1,1,3,3-tetramethyl) phenyl] benzotriazole, and the like. Examples of substituted acrylonitrile ultraviolet absorbers include 2 -Ethyl cyano-3,3-diphenylacrylate, 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3-diphenylacrylate, and the like.

さらに、その他紫外線吸収剤としては、例えばレゾルシノールモノベンゾエート、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、N−(2−エチルフェニル)−N′−(2−エトキシ−5−t−ブチルフェニル)蓚酸ジアミドなどが挙げられる。   Further, as other ultraviolet absorbers, for example, resorcinol monobenzoate, 2,4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, N- (2-ethylphenyl) -N '-(2-Ethoxy-5-t-butylphenyl) succinic acid diamide and the like can be mentioned.

また、紫外線吸収剤は、光安定剤としてヒンダードアミン系のような、耐光性や耐候性を向上させるものも所望により組み合わせて用いてもよい。   In addition, as the ultraviolet absorber, a light stabilizer such as a hindered amine type which improves light resistance and weather resistance may be used in combination as desired.

これらの紫外線吸収剤は単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、樹脂フィルム中における紫外線吸収剤の含有量には特に制限はなく、紫外線吸収剤の種類やフィルムの種類などに応じて適宜選定されるが、通常は0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜5重量%の範囲である。なお、光安定剤を併用する場合には、紫外線吸収剤と光安定剤との合計含有量は0.01〜10重量%の範囲が好ましく、特に0.05〜5重量%の範囲が好ましい。   These ultraviolet absorbers may be used alone or in combination of two or more. Moreover, there is no restriction | limiting in particular in content of the ultraviolet absorber in a resin film, Although it selects suitably according to the kind of ultraviolet absorber, the kind of film, etc., Usually 0.01 to 10 weight%, Preferably It is in the range of 0.05 to 5% by weight. When the light stabilizer is used in combination, the total content of the ultraviolet absorber and the light stabilizer is preferably in the range of 0.01 to 10% by weight, particularly preferably in the range of 0.05 to 5% by weight.

樹脂フィルムには、その表面に積層される他の層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。   The resin film can be subjected to surface treatment on one side or both sides by an oxidation method or a concavo-convex method, if desired, for the purpose of improving the adhesion with other layers laminated on the surface. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like, and examples of the unevenness method include sand blast method and solvent treatment method. Is mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the base film, but generally, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.

また、樹脂フィルムとしては、次に示す充実構造のフッ素樹脂膜を適用してもよい。充実構造のフッ素樹脂膜としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)膜、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)膜などが挙げられる。   Moreover, as a resin film, you may apply the fluororesin film | membrane of the following solid structure. Examples of solid-state fluororesin films include polytetrafluoroethylene (PTFE) films, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA) films, and tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP) films. Can be mentioned.

そして、これら充実構造のフッ素樹脂膜とは、以下の特性を有するものである。   These solid fluororesin films have the following characteristics.

空隙率は、5〜98%が好ましく、より好ましくは20〜96 %である。空孔率は、JIS K 6885の見掛け密度測定に準拠し、測定した見掛け密度(ρ)より次式:空孔率(%)=(2.2−ρ)/2.2×100で計算して求めた値である。   The porosity is preferably 5 to 98%, more preferably 20 to 96%. The porosity is based on the apparent density measurement of JIS K 6885, and is calculated from the measured apparent density (ρ) by the following formula: porosity (%) = (2.2−ρ) /2.2×100. This is the value obtained.

表面粗さ(Ra)は(値)は、0.5〜15μmが好ましく、より好ましくは1〜10 μmである。この表面粗さ(Ra)は、JIS B 0601により求めた値である。   The surface roughness (Ra) (value) is preferably 0.5 to 15 μm, more preferably 1 to 10 μm. This surface roughness (Ra) is a value determined according to JIS B 0601.

引張強度は、10N/mm2以上であることが好ましく、より好ましくは50N/mm2以上である。このの引張強度は、JIS K 7127により測定した値(試験片は2号試験片、試験速度は50mm/min、タテ・ヨコの平均値)である。 The tensile strength is preferably 10 N / mm 2 or more, more preferably 50 N / mm 2 or more. The tensile strength is a value measured according to JIS K 7127 (the test piece is a No. 2 test piece, the test speed is 50 mm / min, the average value of vertical and horizontal).

厚さは、1〜30μmであることが好ましく、より好ましくは5〜25μmである。   The thickness is preferably 1 to 30 μm, more preferably 5 to 25 μm.

このような特性を有する充実構造のフッ素樹脂膜は、離型性、強度、耐摩耗性等に優れている。   A solid structure fluororesin film having such characteristics is excellent in releasability, strength, wear resistance, and the like.

次に、充実構造のフッ素樹脂膜の製造方法について説明する。例えば、充実構造のPFAとFEPは、熱溶融性であるため、例えば、押出しインフレーション法、キャスティング法等により得られた充実構造の薄膜である。また、充実構造のPTFEは、延伸多孔質PTFE(ePTFE)フィルムを熱プレスすることにより得られ充実構造の薄膜である。特に、ePTFEフィルムを熱プレスして製造される充実構造のPTFE膜は、特に、耐熱性、離型性、強度、耐摩耗性等に優れているため好ましい。   Next, a method for manufacturing a solid structure fluororesin film will be described. For example, full-structure PFA and FEP are heat-meltable, and are, for example, full-structure thin films obtained by the extrusion inflation method, casting method, or the like. Further, a solid structure PTFE is a thin film having a solid structure obtained by hot pressing an expanded porous PTFE (ePTFE) film. In particular, a solid PTFE film produced by hot pressing an ePTFE film is particularly preferable because of its excellent heat resistance, releasability, strength, wear resistance, and the like.

ここで、ePTFEフィルムとは、PTFEのファインパウダーを成形助剤と混合することにより得られるペーストの成形体から、成形助剤を除去した後、高温高速度で延伸、さらに必要に応じて焼成することにより得られるもので、一軸延伸の場合、ノード(折り畳み結晶)が延伸方向に直角に細い島状となっていて、このノード間を繋ぐようにすだれ状にフィブリル(折り畳み結晶が延伸により解けて引出された直鎖状の分子束)が延伸方向に配向している。そして、フィブリル間、又はフィブリルとノードとで画される空間が空孔となった繊維質構造となっている。また、二軸延伸の場合には、フィブリルが放射状に広がり、フィブリルを繋ぐノードが島状に点在して、フィブリルとノードとで画された空間が多数存在するクモの巣状の繊維質構造となっている。   Here, the ePTFE film is a paste formed by mixing PTFE fine powder with a molding aid, after removing the molding aid, stretching at a high temperature and high speed, and further firing if necessary. In the case of uniaxial stretching, the nodes (folded crystals) are thin islands perpendicular to the stretching direction, and the fibrils (folded crystals are unwound by stretching) so as to connect the nodes. The drawn linear molecular bundle is oriented in the stretching direction. And it has a fibrous structure in which spaces defined between fibrils or between fibrils and nodes become holes. In the case of biaxial stretching, the fibrils spread radially, the nodes connecting the fibrils are scattered in islands, and a cobweb-like fibrous structure in which many spaces defined by the fibrils and the nodes exist. ing.

このePTFEフィルムは、1軸延伸ePTFEフィルムであってもよいし、2軸延伸ePTFEフィルムであってもよいが、好ましくは2軸延伸ePTFEフィルムである。2軸延伸されたePTFEフィルムは、2軸方向に延伸されているため、1軸延伸されたePTFEフィルムよりも異方性が低く、TD方向(フィルム幅方向)、MD方向(フィルム長さ方向)ともに高い強度のPTFE膜を得ることができる。   The ePTFE film may be a uniaxially stretched ePTFE film or a biaxially stretched ePTFE film, but is preferably a biaxially stretched ePTFE film. Since the biaxially stretched ePTFE film is stretched in the biaxial direction, it has lower anisotropy than the uniaxially stretched ePTFE film, and is in the TD direction (film width direction) and MD direction (film length direction). In both cases, a high-strength PTFE membrane can be obtained.

充実構造のPTFE膜を製造するには、例えば、先ず、ePTFEフィルムを、第1圧縮工程において、その融点未満の温度で圧縮(加圧)して圧延フィルムを得る。この場合、その圧縮温度は、PTFEの融点よりも低い温度であれば特に制約されないが、通常1℃以上、好ましくは100℃以上低い温度である。圧縮温度が融点以上になると充実フィルムの収縮が大きくなる。その圧縮条件は、得られるフィルムの空孔率が5〜98%以下、好ましくは20〜96%、より好ましくは40〜95%以下となるような条件である。圧縮力は、面圧で、例えば、0.05〜120N/mm2、好ましくは0.1〜100N/mm2である。 In order to manufacture a solid structure PTFE membrane, for example, first, in the first compression step, the ePTFE film is compressed (pressed) at a temperature lower than its melting point to obtain a rolled film. In this case, the compression temperature is not particularly limited as long as it is lower than the melting point of PTFE, but it is usually 1 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower. When the compression temperature exceeds the melting point, the shrinkage of the solid film increases. The compression conditions are such that the resulting film has a porosity of 5 to 98% or less, preferably 20 to 96%, more preferably 40 to 95%. The compressive force is a surface pressure, for example, 0.05 to 120 N / mm 2 , preferably 0.1 to 100 N / mm 2 .

次に、第1圧縮工程において得られる圧延フィルムを、第2圧縮工程において、例えば、PTFEの融点以上の温度で圧縮(加圧)する。この場合、その圧縮温度は、PTFEの融点以上の温度であればよく、特に制約されないが、通常、その融点よりも1〜100℃、好ましくは20〜80℃高い温度である。ePTFEフィルムを融点以上に加熱することにより、充実膜表面の平滑性を高めることができる。圧縮温度は、圧力を開放する時点で融点よりも低い温度まで下げられていることが好ましい。融点以上の温度で圧力を開放すると、充実フィルムの収縮が大きくなり、又皺が入り易くなる。圧縮条件は、得られる充実構造のフィルムの空孔率が上記範囲となるようにな条件である。その圧縮力は、面圧で、例えば、5〜50N/mm2、好ましくは5〜30N/mm2程度である。 Next, the rolled film obtained in the first compression step is compressed (pressurized) at a temperature equal to or higher than the melting point of PTFE, for example, in the second compression step. In this case, the compression temperature is not particularly limited as long as it is a temperature equal to or higher than the melting point of PTFE, but is usually 1-100 ° C., preferably 20-80 ° C. higher than the melting point. By heating the ePTFE film above the melting point, the smoothness of the solid film surface can be enhanced. The compression temperature is preferably lowered to a temperature lower than the melting point when the pressure is released. When the pressure is released at a temperature higher than the melting point, the shrinkage of the solid film increases and wrinkles easily occur. The compression condition is such a condition that the porosity of the obtained film having a full structure is in the above range. The compressive force is a surface pressure, for example, about 5 to 50 N / mm 2 , preferably about 5 to 30 N / mm 2 .

この際、ePTFEフィルムを圧縮しながらPTFEの融点以上の温度をかけた後、圧力を保持した状態でPTFEの融点以下の温度まで冷却することがよく、これにより1パスで充実膜を製造することができる。この方法によれば、ePTFEフィルムに圧縮開始時点からPTFEの融点以上の温度をかけても、ePTFEフィルムにかけられた圧力が開放される前にPTFEの融点より低い温度まで冷却されるため、得られる充実構造の膜に収縮がほとんど起こらない。例えば、ベルトプレス装置を用いれば、ePTFEフィルムがベルト間で圧縮された状態で、PTFEの融点以上の温度をかけた後、融点より低い温度まで冷却することにより、収縮の小さい充実膜を得ることができる。   At this time, after compressing the ePTFE film, a temperature higher than the melting point of PTFE is applied, and then it is preferably cooled to a temperature lower than the melting point of PTFE while maintaining the pressure, thereby producing a solid film in one pass. Can do. According to this method, even if a temperature higher than the melting point of PTFE is applied to the ePTFE film from the start of compression, it is cooled to a temperature lower than the melting point of PTFE before the pressure applied to the ePTFE film is released. There is almost no shrinkage in the solid film. For example, if a belt press apparatus is used, a solid film with small shrinkage can be obtained by applying a temperature equal to or higher than the melting point of PTFE while the ePTFE film is compressed between the belts and then cooling to a temperature lower than the melting point. Can do.

また、この方法によれば、スカイビング法では困難であった薄膜(例えば50μm以下)の透明PTFE薄膜を容易に得ることができる。また、得られるPTFE膜の表面粗さ(Ra)は、第2圧縮工程で圧縮(加圧)手段(プレス板を用いて熱プレスを行うときにはそのプレス板、熱プレス板で圧縮するときには、主にその耐熱性フィルム)の表面粗さ(Ra)で決まる。   In addition, according to this method, a transparent PTFE thin film having a thin film (for example, 50 μm or less), which has been difficult by the skiving method, can be easily obtained. Further, the surface roughness (Ra) of the obtained PTFE film is determined mainly by compression (pressurization) means in the second compression step (when the press plate is used for hot pressing, the press plate, The surface roughness (Ra) of the heat resistant film).

なお、充実構造のフッ素樹脂膜は、特開2003−254324公報に従って作製することができる。   Note that a full-structure fluororesin film can be manufactured according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-254324.

次に、発熱層としては、外的要因により発熱するものであれば、特に制限はないが、取扱い性や発熱効率を考慮すると、1)紫外領域から赤外領域までの少なくとも一部の光を吸収して発熱する光熱変換材料を含む発熱層(以下、光熱変換材料含有発熱層)、2)電磁誘導により発熱する金属からなる発熱層(以下、金属発熱層)、3)マイクロ波により発熱する水分を保持してなる発熱層(以下、水分保持発熱層)が好適に挙げられる。また、これらの発熱層は、積層体中に同一種、異種問わず2以上積層してもよい。なお、これらの発熱層における外的要因は、それぞれ光、電磁波、マイクロ波が相当する。   Next, the heat generating layer is not particularly limited as long as it generates heat due to an external factor. However, in consideration of handleability and heat generation efficiency, 1) at least a part of light from the ultraviolet region to the infrared region is emitted. Heat generation layer containing a light-to-heat conversion material that generates heat upon absorption (hereinafter referred to as a light-to-heat conversion material-containing heat generation layer) 2) Heat generation layer made of metal that generates heat by electromagnetic induction (hereinafter referred to as a metal heat generation layer) 3) Heat generation by microwaves A heat generating layer that retains moisture (hereinafter referred to as a water retaining heat generating layer) is preferably used. Further, two or more of these heat generating layers may be laminated in the laminated body regardless of the same kind or different kinds. The external factors in these heat generation layers correspond to light, electromagnetic waves, and microwaves, respectively.

光熱変換材料含有発熱層は、例えば結着樹脂中に光熱変換材料を含む層である。この光熱変換材料は、紫外領域から赤外領域までの少なくとも一部の光を吸収して発熱する材料であり、照射光の波長に応じて、紫外線、可視光線、赤外線、白色光線等の光を吸収して熱に変換しうる材料であれば全て使用することができる。具体的には、例えば、カーボンブラック、カーボングラファイト、顔料、フタロシアニン系顔料、鉄粉、黒鉛粉末、酸化鉄粉、酸化鉛、酸化銀、酸化クロム、硫化鉄、硫化クロム、等が挙げられる。   The heat-generating layer containing a light-to-heat conversion material is a layer containing a light-to-heat conversion material in a binder resin, for example. This photothermal conversion material is a material that generates heat by absorbing at least a part of light from the ultraviolet region to the infrared region, and emits light such as ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, white rays, etc. according to the wavelength of the irradiation light. Any material that can be absorbed and converted to heat can be used. Specific examples include carbon black, carbon graphite, pigment, phthalocyanine pigment, iron powder, graphite powder, iron oxide powder, lead oxide, silver oxide, chromium oxide, iron sulfide, chromium sulfide, and the like.

これらの中でも、波長760〜1200nmの波長領域の赤外線を有効に吸収する赤外線吸収剤が好ましい。このような赤外線吸収剤としては、赤外光を吸収し熱を発生する染料であれば特に制限はなく、赤外線吸収剤として知られる種々の染料を用いることができる。   Among these, an infrared absorber that effectively absorbs infrared rays in a wavelength region of 760 to 1200 nm is preferable. Such an infrared absorber is not particularly limited as long as it is a dye that absorbs infrared light and generates heat, and various dyes known as infrared absorbers can be used.

赤外線吸収剤としては、市販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料などの染料が挙げられる。そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号の各公報、米国特許第4,973,572号明細書等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号の各公報等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号の各公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書に記載のシアニン染料等を挙げることができる。   As the infrared absorber, commercially available dyes and known dyes described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by Organic Synthetic Chemistry Association, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Examples of dyes that absorb such infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, US Pat. Cyanine dyes described in Japanese Patent No. 4,973,572, etc., methine described in JP-A Nos. 58-173696, 58-181690, 58-194595, etc. Dye, JP-A 58-112793, JP-A 58-224793, JP-A 59-48187, JP-A 59-73996, JP-A 60-52940, JP-A 60-63744 A naphthoquinone dye described in each publication, a squarylium dye described in JP-A-58-112792, and a cyanine dye described in British Patent No. 434,875. It can gel.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に記載されているピリリウム化合物等、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料、市販品のエポリン社製のEpolight III−178、Epolight III−130、Epolight III−125等も好適なものとして挙げられる。   Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938, a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645, JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-14663 Pyryllium compounds described in JP-A-59-146061, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium described in US Pat. No. 4,283,475 US Pat. No. 4,756,993, such as salts and pyrylium compounds described in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. Also suitable are near-infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in the specification, commercially available products Epolight III-178, Epolight III-130, and Epolight III-125 manufactured by Eporin. Can be mentioned.

また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Another particularly preferable example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

光熱変換材料(特に赤外線吸収剤)の添加量としては、全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜30重量%、特に好ましくは1.0〜30重量%の割合で添加することができる。添加量が0.01重量%未満であると感度(発熱性)が低くなり、また50重量%を超えると均一性が失われる。   The addition amount of the photothermal conversion material (particularly infrared absorber) is 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 30% by weight, particularly preferably 1.0 to 30% by weight, based on the total solid content. Can be added. When the addition amount is less than 0.01% by weight, the sensitivity (exothermic property) is lowered, and when it exceeds 50% by weight, the uniformity is lost.

光熱変換材料含有発熱層として具体的には、例えば、上記樹脂フィルム中に光熱変換材料を含ませたものが挙げられる。また、光熱変換材料含有発熱層は、上記樹脂フィルム(結着樹脂)中に光熱変換材料を含ませた形態に限られず、光熱変換材料を蒸気蒸着技術によって堆積させてもよし、直接塗布したり、まぶしたり、真空めっき、また、光熱変換材料を溶剤(例えばイソプロピルアルコール)に分散し、塗布・乾燥して形成した、光熱変換材料単独層であってもよい。   Specific examples of the light-to-heat conversion material-containing heat generating layer include, for example, those in which a light-to-heat conversion material is included in the resin film. Further, the heat-generating layer containing the photothermal conversion material is not limited to the form in which the photothermal conversion material is included in the resin film (binder resin), and the photothermal conversion material may be deposited by a vapor deposition technique or directly applied. It may be a single layer of photothermal conversion material formed by coating, vacuum plating, or dispersing the photothermal conversion material in a solvent (for example, isopropyl alcohol), applying and drying.

このような構成の光熱変換材料含有発熱層は、光照射により、光熱変換材料がその光の少なくとも一部を吸収して発熱して、積層体の内部から加熱することができる。   The light-to-heat conversion material-containing heat generating layer having such a configuration can be heated from the inside of the laminate by generating light by the light-to-heat conversion material absorbing at least a part of the light by light irradiation.

なお、光熱変換材料含有発熱層に光照射する光源としては、通常のハロゲンランプ、水銀ランプ、フラッシュランプ、赤外線レーザ等があるが、フラッシュランプによる照射は、瞬時に光熱変換材料を発熱させることができ、エネルギ節約のためには最適である。このフラッシュランプの発光エネルギーが1.0〜7.0J/cm2の範囲であることが好ましい。 As a light source for irradiating the heat-generating layer containing the photothermal conversion material, there are a normal halogen lamp, mercury lamp, flash lamp, infrared laser, etc., but irradiation with the flash lamp can instantaneously heat the photothermal conversion material. It is ideal for saving energy. The light emission energy of this flash lamp is preferably in the range of 1.0 to 7.0 J / cm 2 .

ここで、キセノンのランプ強度を示すフラッシュ光の単位面積当りの発光エネルギは以下の式で表される。
式:S=((1/2)×C×V2)/(u×L)/(n×f)
ランプ本数:n(本)
点灯周波数: f(Hz)
入力電圧: V(V)
コンデンサ容量: C(μF)
プロセス搬送速度: u(mm/s)
印字幅: L(mm)
エネルギ密度: S(J/cm2
Here, the emission energy per unit area of flash light indicating the lamp intensity of xenon is expressed by the following equation.
Formula: S = ((1/2) × C × V 2 ) / (u × L) / (n × f)
Number of lamps: n (books)
Lighting frequency: f (Hz)
Input voltage: V (V)
Capacitor capacity: C (μF)
Process transfer speed: u (mm / s)
Print width: L (mm)
Energy density: S (J / cm 2 )

また、光源は、その照射光量(照射時間や、照度)を調整し、光熱変換材料含有発熱層の発熱量を制御することができる。   Moreover, the light source can adjust the irradiation light quantity (irradiation time and illumination intensity), and can control the emitted-heat amount of a heat-generating layer containing a photothermal conversion material.

金属発熱層は、電磁誘導により発熱する金属からなる金属層であり、その構成材料としては、例えばニッケル、鉄、銅、金、銀、アルミニウム、スチール、クロムなどが選択可能である。これらのうちコスト、発熱性能、及び加工性を考慮すれば、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄、クロムが適しており、特に銅が好ましい。なお、この金属発熱層は、後述する、電磁誘導加熱用の金属層としての機能層とその機能を兼ねている。   The metal heat generating layer is a metal layer made of a metal that generates heat by electromagnetic induction, and as its constituent material, for example, nickel, iron, copper, gold, silver, aluminum, steel, chromium, or the like can be selected. Of these, copper, nickel, aluminum, iron, and chromium are suitable in consideration of cost, heat generation performance, and workability, and copper is particularly preferable. The metal heat generating layer also functions as a functional layer as a metal layer for electromagnetic induction heating, which will be described later.

また、金属発熱層は、単一の金属の層に限らず、複数の金属層が積層されたものでもよく、そのときに異種の金属層が積層されたものであってもよい。   The metal heat generating layer is not limited to a single metal layer, and may be a laminate of a plurality of metal layers, or a laminate of different metal layers at that time.

金属発熱層は、例えば、電解めっき、無電解めっき、蒸着法、スパッタリング法等により形成することができる。また、金属発熱層は、圧延、めっき等によって別途に形成された金属箔を積層させてもよい。   The metal heating layer can be formed by, for example, electrolytic plating, electroless plating, vapor deposition, sputtering, or the like. The metal heating layer may be formed by laminating a metal foil separately formed by rolling, plating, or the like.

このような構成の金属発熱層は、電磁誘導コイルに交流電流を印加することにより、発生する磁場を励磁回路で変化させ、金属発熱層(金属層)に渦電流を発生させる。そして、この渦電流が金属発熱層(金属層)の電気抵抗によって熱(ジュール熱)に変換されて発熱して、積層体の内部から加熱することができる。   The metal heat generating layer having such a configuration generates an eddy current in the metal heat generating layer (metal layer) by applying an alternating current to the electromagnetic induction coil to change the generated magnetic field by an excitation circuit. And this eddy current is converted into heat (Joule heat) by the electric resistance of the metal heat generating layer (metal layer) to generate heat, and can be heated from the inside of the laminate.

なお、金属発熱層を電磁誘導する電磁誘導加熱装置は、例えばその周波数、出力電力、電磁波照射時間などにより、金属発熱層の発熱量を制御することができる。   Note that an electromagnetic induction heating device that electromagnetically induces a metal heat generating layer can control the amount of heat generated by the metal heat generating layer, for example, by its frequency, output power, electromagnetic wave irradiation time, and the like.

水分保持発熱層は、水分を保持できるものであれば制限はないが、紙おむつ等に一般に用いられる吸水性ポリマー(例えば、アクリル酸重合体部分ナトリウム塩架橋物からなるアクアキープ(住友精化株式会社製)、変性アルキレンオキサイドからなるアクアコーク(住友精化株式会社製)など)で構成した層が挙げられる。また、水分保持発熱層は、物理的に存在する孔にあらかじめ毛細管現象等で水分を保持させた多孔質体[充実構造のフッ素樹脂質(ジャパンゴアテックス製のePTFEt)や発泡ポリイミド]で構成してもよい。   The moisture retaining heat generating layer is not limited as long as it can retain moisture. However, a water absorbing polymer generally used for paper diapers and the like (for example, Aquakeep (Sumitomo Seika Co., Ltd.) comprising a crosslinked sodium salt of an acrylic acid polymer. Aqua coke (manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd., etc.) made of modified alkylene oxide). The moisture retaining heat generating layer is composed of a porous material [a full-structure fluororesin (ePTFEt made by Japan Gore-Tex) or a foamed polyimide] in which moisture is retained in a physically existing hole in advance by capillary action or the like. May be.

このような構成の水分保持発熱層は、マイクロ波が照射されると、含まれる水分子が水の分子を振動し、その摩擦熱で発熱し、積層体の内部から加熱することができる。   When the moisture holding heat generating layer having such a structure is irradiated with microwaves, the contained water molecules vibrate the water molecules, generate heat by the frictional heat, and can be heated from the inside of the laminate.

なお、水分保持発熱層にマイクロ波を照射するマイクロ波加熱装置は、その周波数、出力電力、マイクロ波照射時間などにより、水分保持発熱層の発熱量を制御することができる。   Note that the microwave heating apparatus that irradiates the moisture holding heat generation layer with microwaves can control the heat generation amount of the moisture holding heating layer according to the frequency, output power, microwave irradiation time, and the like.

次に、機能層について説明する。機能層としては、例えば、電子写真装置の定着部材や中間転写体に利用する際に積層体が発熱できるように電磁誘導加熱用の金属層や、表面を保護するシリコーン系ハードコート層などが挙げられる。   Next, the functional layer will be described. Examples of the functional layer include a metal layer for electromagnetic induction heating and a silicone hard coat layer for protecting the surface so that the laminate can generate heat when used as a fixing member or an intermediate transfer member of an electrophotographic apparatus. It is done.

電磁誘導加熱用の金属層は、上記発熱層としての金属発熱層と兼ねることができ、その構成については同様である。   The metal layer for electromagnetic induction heating can also serve as the metal heat generating layer as the heat generating layer, and the configuration is the same.

一方、シリコーン系ハードコート層は、シロキサン結合を有するケイ素化合物を含有する層であって、例えば無機シリカ系化合物(ポリケイ酸も含む)及び/又はポリオルガノシロキサン系化合物を主成分とする層を好ましく挙げることができる。この無機シリカ系化合物やポリオルガノシロキサン系化合物、あるいはこれらの混合系は、以下のような様々な方法によって製造することができる。例えば、一般式[1]:R1nSi(OR24-n …[1]〔式中のR1は非加水分解性基であって、アルキル基、置換アルキル基(置換基:ハロゲン原子、エポキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基など)、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基、R2は低級アルキル基であり、nは0又は1〜3の整数である。R1及びOR2がそれぞれ複数ある場合、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、また複数のOR2は同一でも異なっていてもよい。〕で表されるアルコキシシラン化合物を、塩酸や硫酸などの無機酸、シュウ酸や酢酸などの有機酸を用いて部分又は完全加水分解し、重縮合させる方法が好ましく用いられる。この場合、nが0の化合物、すなわちテトラアルコキシシランを完全加水分解すれば無機シリカ系のバインダーが得られるし、部分加水分解すれば、ポリオルガノシロキサン系バインダー又は無機シリカ系とポリオルガノシロキサン系との混合系バインダーが得られる。一方、nが1〜3の化合物では、非加水分解性基を有するので、部分又は完全加水分解により、ポリオルガノシロキサン系バインダーが得られる。この際、加水分解を均一に行うために、適当な有機溶媒を用いてもよい。 On the other hand, the silicone-based hard coat layer is a layer containing a silicon compound having a siloxane bond, and is preferably a layer mainly composed of, for example, an inorganic silica compound (including polysilicic acid) and / or a polyorganosiloxane compound. Can be mentioned. This inorganic silica-based compound, polyorganosiloxane-based compound, or a mixed system thereof can be produced by various methods as described below. For example, the general formula [1]: R 1 nSi (OR 2 ) 4-n [1] [wherein R1 is a non-hydrolyzable group, and includes an alkyl group, a substituted alkyl group (substituent: halogen atom, An epoxy group, a (meth) acryloyloxy group, etc.), an alkenyl group, an aryl group or an aralkyl group, R 2 is a lower alkyl group, and n is an integer of 0 or 1-3. When there are a plurality of R 1 and OR 2 , the plurality of R 1 may be the same or different, and the plurality of OR 2 may be the same or different. A method of partially or completely hydrolyzing and polycondensing the alkoxysilane compound represented by the above using an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid or an organic acid such as oxalic acid or acetic acid is preferably used. In this case, an inorganic silica binder can be obtained by completely hydrolyzing a compound in which n is 0, that is, tetraalkoxysilane, and a polyorganosiloxane binder or inorganic silica and polyorganosiloxane can be obtained by partial hydrolysis. A mixed system binder is obtained. On the other hand, since a compound having n of 1 to 3 has a non-hydrolyzable group, a polyorganosiloxane-based binder can be obtained by partial or complete hydrolysis. At this time, an appropriate organic solvent may be used in order to perform hydrolysis uniformly.

一般式[1]で表されるアルコキシシラン化合物の例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルメトキシシラン、トリビニルエトキシシランなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、この際、必要ならば、アルミニウム化合物、例えば塩化アルミニウムやトリアルコキシアルミニウムなどを適当量添加することができる。さらに、別の方法として、原料のケイ素化合物にメタケイ酸ナトリウム、オルソケイ酸ナトリウム又は水ガラス(ケイ酸ナトリウム混合物)を用い、塩酸、硫酸、硝酸などの酸又は塩化マグネシウム、硫酸カルシウムなどの金属化合物を作用させ、加水分解処理する方法を用いることができる。この加水分解処理により、遊離のケイ酸が生成するが、このものは重合しやすく、原料の種類によって異なるが、鎖状、環状、網目状のものの混合物である。水ガラスから得られたポリケイ酸は、一般式[2]で表される鎖状構造のものが主体なる(式中のmは重合度を示し、Rは水素、ケイ素又はマグネシウムやアルミニウムなどの金属である。)。   Examples of the alkoxysilane compound represented by the general formula [1] include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetraisobutoxysilane, tetra -Sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltriisopropoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, butyl Trimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloylio Shi trimethoxysilane, dimethyl dimethoxysilane, methylphenyl dimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, divinyl dimethoxysilane, divinyl diethoxy silane, trivinyl silane, such as trivinyl silane and the like. These may be used alone or in combination of two or more. At this time, if necessary, an appropriate amount of an aluminum compound such as aluminum chloride or trialkoxyaluminum can be added. Furthermore, as another method, sodium metasilicate, sodium orthosilicate or water glass (sodium silicate mixture) is used as a raw material silicon compound, and an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid or nitric acid or a metal compound such as magnesium chloride or calcium sulfate is added. A method of acting and hydrolyzing can be used. By this hydrolysis treatment, free silicic acid is produced, which is easily polymerized and is a mixture of chain, ring, and network, depending on the type of raw material. The polysilicic acid obtained from water glass is mainly composed of a chain structure represented by the general formula [2] (where m represents the degree of polymerization and R represents hydrogen, silicon or a metal such as magnesium or aluminum) .)

Figure 2006088581
Figure 2006088581

このようにして、完全な無機シリカ系バインダーが得られる。なお、無機シリカ系バインダーとして、シリカゲル(SiOX・nH2O)も使用することができる。このハードコート層においては、ハードコート性能が重要視されることから、必要な密着性が維持される範囲で、できるだけ無機シリカ系化合物を多く含む層が好適である。また、このハードコート層には、耐擦傷性が損なわれない範囲で、所望により無機系紫外線散乱剤などを含有させることができる。 In this way, a complete inorganic silica-based binder is obtained. Silica gel (SiO x .nH 2 O) can also be used as the inorganic silica binder. In this hard coat layer, since hard coat performance is regarded as important, a layer containing as much inorganic silica compound as possible is preferable as long as necessary adhesion is maintained. In addition, the hard coat layer may contain an inorganic ultraviolet scattering agent or the like as desired as long as the scratch resistance is not impaired.

このハードコート層は、ハードコート剤含有塗工液を、公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、積層体上に塗工し、加熱して硬化させることにより形成することができる。このようにして形成されたハードコート層の厚さは、通常0.05〜30μm、好ましくは1.0〜20μmの範囲である。   This hard coat layer is obtained by applying a hard coat agent-containing coating solution on a laminate using a known method such as a bar coat method, a knife coat method, a roll coat method, a blade coat method, a die coat method, or a gravure coat method. It can be formed by coating and heating to cure. The thickness of the hard coat layer thus formed is usually 0.05 to 30 μm, preferably 1.0 to 20 μm.

ハードコート層は、積層体の一方の表面に形成されることがよい。積層体が、耐候性樹脂フィルムと耐衝撃性樹脂フィルムとの積層体である場合には、耐候性樹脂フィルムの表面にハードコート層を設けることが特に好ましい。ハードコート層が設けられる積層体の表面には、積層体とハードコート層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は積層体の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。   The hard coat layer is preferably formed on one surface of the laminate. When the laminate is a laminate of a weather resistant resin film and an impact resistant resin film, it is particularly preferable to provide a hard coat layer on the surface of the weather resistant resin film. For the purpose of improving the adhesion between the laminate and the hard coat layer, the surface of the laminate on which the hard coat layer is provided may be subjected to a surface treatment on one or both sides by an oxidation method or an uneven method, if desired. it can. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like, and examples of the unevenness method include sand blast method and solvent treatment method. Is mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of the laminate, but in general, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.

また、必要に応じ、ハードコート層が設けられる積層体の表面にはプライマー層を設けておいてもよい。このプライマーとしては特に制限はなく、従来公知のもの、例えばアクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系、シリコーン系、ゴム系などのプライマーを用いることができるが、耐久性及び密着性などの点から、アクリル系及びポリエステル系プライマーが好適である。このプライマーには、必要により紫外線吸収剤や光安定剤を含有させることができる。このプライマー層の厚さは、均質な塗布性及び密着性などの点から、0.1〜10μmの範囲が好ましく、特に0.5〜5μmの範囲が好適である。   Moreover, you may provide the primer layer in the surface of the laminated body in which a hard-coat layer is provided as needed. The primer is not particularly limited, and conventionally known primers such as acrylic, polyester, polyurethane, silicone, and rubber can be used. From the viewpoint of durability and adhesion, acrylic System and polyester primers are preferred. This primer can contain an ultraviolet absorber and a light stabilizer, if necessary. The thickness of the primer layer is preferably in the range of 0.1 to 10 [mu] m, particularly preferably in the range of 0.5 to 5 [mu] m, from the viewpoints of uniform coatability and adhesion.

本発明の積層体の製造方法においては、樹脂フィルムから選択される一種以上と、上記発熱層から選択される一種以上と、必要に応じて機能層と、を積層するが、この積層体の全厚は、特に制限はなく、使用目的に応じて適宜選定すればよく、通常は350μm以下、好ましくは100〜250μmの範囲である。   In the method for producing a laminate of the present invention, one or more selected from the resin film, one or more selected from the heat generating layer, and a functional layer as necessary are laminated. The thickness is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose of use, and is usually 350 μm or less, preferably 100 to 250 μm.

積層方法は、種々の汎用手段で行われ、たとえば接着剤あるいは粘着剤を用いた積層であってもよく、また接着剤等を用いないドライラミネーションであってもよく、さらにこれらを組合せてもよい。また、一方のフィルムの上に、他方のフィルムを形成する液状物質を塗布した後、液状物質を硬化させることで樹脂フィルムを積層することもできる。   The laminating method is performed by various general-purpose means, and may be, for example, laminating using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, or may be dry lamination not using an adhesive or the like, or a combination thereof. . Moreover, after apply | coating the liquid substance which forms the other film on one film, a resin film can also be laminated | stacked by hardening a liquid substance.

なお、接着剤あるいは粘着剤としては、従来公知のアクリル系、ポリエーテル系、シリコーン系、ゴム系等の接着剤あるいは粘着剤が特に制限されることなく用いられる。接着剤あるいは粘着剤を用いる場合、その使用量には特に制限はないが、積層体の全厚が前記の範囲内におさまるように用いる。   As the adhesive or pressure-sensitive adhesive, conventionally known acrylic, polyether-based, silicone-based, rubber-based adhesives or pressure-sensitive adhesives are used without any particular limitation. When using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, the amount used is not particularly limited, but it is used so that the total thickness of the laminate falls within the above range.

また、複数の樹脂フィルムとして、同一種のみを積層する場合には、樹脂フィルムの中でも特にポリイミド又はポリアミドイミドからなるフィルムが好ましく用いられる。一方、異種のものを積層する場合には、それぞれ特性の異なるフィルムを組合せて用いることが好ましい。   Moreover, when laminating | stacking only the same kind as a some resin film, the film which consists of a polyimide or a polyamideimide especially among resin films is used preferably. On the other hand, when different types are laminated, it is preferable to use a combination of films having different characteristics.

このように積層された積層体の発熱層を発熱させ内部から加熱する。この加熱は積層時(積層毎)に行ってもよいし、積層前後に行ってもよい。これにより、積層体内部から効率良く加熱され、異種の樹脂あるいは金属あるいは樹脂と金属接触面の熱抵抗を緩和あるいは低くすることができるため、例えば、異種の樹脂フィルム同士でも、金属層などの機能層が存在しても各層間に、十分な接着強度が得られる。また、事前に加熱し、材料内部に存在する水分や未反応モノマー等放出ガスを逃がすことでより効果的に接着強度が得られる。   The heat generating layer of the laminated body thus laminated is heated and heated from the inside. This heating may be performed at the time of lamination (each lamination) or before and after lamination. As a result, it is possible to efficiently heat from the inside of the laminate and to reduce or reduce the thermal resistance of the different resin or metal or the resin-metal contact surface. Even if layers are present, sufficient adhesive strength can be obtained between the layers. In addition, the adhesive strength can be more effectively obtained by heating in advance and releasing released gas such as moisture and unreacted monomers present in the material.

また、異種フィルムの場合には、保護のために潤滑油等を塗ってある場合もあり、これを有機溶媒等でふき取って使用するにはコスト高になるため、事前に発熱揮発あるいは熱分解させることで除去でき、清掃された面を接着に提供することが可能となる。   In the case of dissimilar films, lubricating oil may be applied for protection, and it is costly to use it by wiping it with an organic solvent. This can be removed and the cleaned surface can be provided for bonding.

また、発熱層による加熱を、樹脂フィルムの塗布形成の際の硬化反応及び溶媒除去、また、積層体の残留溶媒除去に利用してもよい。また、発熱層による加熱を、例えば、樹脂フィルムの半硬化状態で積層し、その完全硬化に寄与させてもよい。これにより、効率良く積層体が得られる。   Moreover, you may utilize the heating by a heat-emitting layer for the hardening reaction and solvent removal at the time of application | coating formation of a resin film, and the residual solvent removal of a laminated body. Moreover, the heating by the heat generating layer may be laminated, for example, in a semi-cured state of the resin film and contribute to the complete curing. Thereby, a laminated body is obtained efficiently.

さらに、積層体の製造は、積層体の一部もしくは全部が酸化するのを防止するため、非酸化雰囲気下で行うことが好適である。この非酸化雰囲気下は、例えば、窒素、アルゴンなどの不活性ガスを2気圧あるいは常圧で充填することで実現することができる。これにより、効果的には、積層体を構成する有機或いは無機材料(特に、金属層)の酸化劣化や錆びを防止することができる。   Furthermore, it is preferable to manufacture the laminate in a non-oxidizing atmosphere in order to prevent a part or all of the laminate from being oxidized. This non-oxidizing atmosphere can be realized, for example, by filling an inert gas such as nitrogen or argon at 2 atm or normal pressure. Thereby, it is possible to effectively prevent oxidative deterioration and rust of the organic or inorganic material (particularly the metal layer) constituting the laminate.

なお、得られた積層体は、その樹脂フィルムの材料種や形状(シート状或いはベルト状)により、種々の分野で利用することができる。また、得られた積層体は、発熱層を発熱原とする発熱体としても利用することができる。   In addition, the obtained laminated body can be utilized in various fields by the material type and shape (sheet shape or belt shape) of the resin film. The obtained laminate can also be used as a heating element having a heating layer as a heating source.

以下、本発明を、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。ただし、これら各実施例は、本発明を制限するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, these examples do not limit the present invention.

(実施例1)
まず、3、3’、4、4’−ビフェニルテトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンをN−メチル−2−ピロリドン中で反応させて得られた溶液に、赤外線吸収剤(C. I. Pigment Blue 15、α型銅フタロシアニン)を樹脂分100重量部に対して5重量部で添加してポリイミド前駆体溶液を準備し、キセノンランプから5J/cm2の光を30分照射し、配合した赤外線吸収剤を発熱させることで溶液を増粘させて粘度300ポイズに調整する。また、このポリイミド前駆体溶液には、抵抗率調整用の導電剤(酸化錫)を樹脂分100重量部に対して5重量部で添加した。
Example 1
First, an infrared absorber (C.I.I.) was added to a solution obtained by reacting 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine in N-methyl-2-pyrrolidone. Pigment Blue 15, α-type copper phthalocyanine) is added at 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of resin to prepare a polyimide precursor solution, which is irradiated with 5 J / cm 2 light from a xenon lamp for 30 minutes. The viscosity of the solution is adjusted to 300 poise by increasing the viscosity of the infrared absorber by generating heat. In addition, a resistivity adjusting conductive agent (tin oxide) was added to the polyimide precursor solution at 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin content.

次に、加熱可能な回転ドラムと回転ドラム内に光を照射するキセノンランプからなる光源とを有する遠心成形装置を準備し、常温の回転ドラムをまず低速で回転させながら所望厚さの塗膜が得られるように、予め求めた所定量のポリイミド前駆体溶液を、を回転ドラム内に注入する。そして所定量の注入が終わると徐々に回転を加速し必要な回転数に達した後、徐々にドラム全体を加熱し、所定の温度になってから所定時間その回転数を維持する。所定時間等諸条件は、回転数を300rpm、ドラムの温度を60℃とした。   Next, a centrifugal molding apparatus having a heatable rotating drum and a light source composed of a xenon lamp that irradiates light into the rotating drum is prepared, and a coating film having a desired thickness is formed while first rotating the rotating drum at room temperature. A predetermined amount of the polyimide precursor solution obtained in advance is poured into the rotating drum so as to be obtained. When the injection of a predetermined amount is completed, the rotation is gradually accelerated to reach the required rotation speed, and then the entire drum is gradually heated, and the rotation speed is maintained for a predetermined time after reaching a predetermined temperature. The various conditions such as the predetermined time were such that the rotation speed was 300 rpm and the drum temperature was 60 ° C.

この際、回転ドラムの加熱と共に、光源から3J/cm2の光をポリイミド前駆体溶液の塗膜に120分間光照射し、配合した赤外線吸収剤を発熱させることで、塗膜を加熱する。この加熱により塗膜からは溶媒が蒸発させる。 At this time, along with the heating of the rotating drum, the coating film is heated by irradiating the coating film of the polyimide precursor solution with light of 3 J / cm 2 from the light source for 120 minutes and causing the blended infrared absorber to generate heat. The solvent evaporates from the coating film by this heating.

次に、加熱状態で所定時間が経過すると、加熱を停止し、全体が常温まで冷却した時点で回転を停止する。   Next, when a predetermined time elapses in the heating state, the heating is stopped, and the rotation is stopped when the whole is cooled to room temperature.

次に、回転ドラムを加熱し、このポリアミド酸のポリアミド酸のベルト状物を所定の温度まで昇温し、その温度で所定の時間、加熱を続ける。温度としては350℃〜500℃、時間は3〜30分とした。所定時間の加熱を終えたら、加熱を停止し、常温まで冷却する。このようにして、残留溶剤が完全に除去され、ポリイミド酸のベルト状物を得る。   Next, the rotating drum is heated, the temperature of the polyamic acid belt-like material of the polyamic acid is raised to a predetermined temperature, and heating is continued at that temperature for a predetermined time. The temperature was 350 ° C. to 500 ° C., and the time was 3 to 30 minutes. When heating for a predetermined time is finished, the heating is stopped and cooled to room temperature. In this way, the residual solvent is completely removed, and a belt of polyimide acid is obtained.

そして、回転ドラムを加熱すると共に、光源から、200ms間隔で照度7.5J/cm2でポリアミド酸のベルト状物に光照射し、配合した赤外線吸収剤を発熱させることで、ベルト状物を昇温する。これにより、ベルト状物を温度120℃で5時間加熱し、残留溶媒除去、及びイミド化を行い、厚さ10μmのポリイミド樹脂からなるベルト成形体を形成した。 Then, while heating the rotating drum and irradiating light from a light source to the belt-like material of polyamic acid at an illuminance of 7.5 J / cm 2 at intervals of 200 ms, the blended infrared absorber is heated to raise the belt-like material. Warm up. Thus, the belt-like product was heated at a temperature of 120 ° C. for 5 hours to remove the residual solvent and imidize, thereby forming a belt molded body made of a polyimide resin having a thickness of 10 μm.

次に、このベルト成形体の内面に、厚さ8μmの充実構造のPTFEフィルムを積層した。この際、光源から200ms間隔で照度7.5J/cm2でベルト成形体に光照射し、配合した赤外線吸収剤を発熱させることで、ベルト状物を400℃に昇温した。 Next, a solid PTFE film having a thickness of 8 μm was laminated on the inner surface of the belt molded body. At this time, the belt-shaped article was heated to 400 ° C. by irradiating the belt molded body with light at an illuminance of 7.5 J / cm 2 from the light source at an interval of 200 ms to generate heat.

ここで、厚さ8μmの充実構造のPTFEフィルムは次のようにして作製した。まず、ePTFE膜(空孔率60%、厚さ15μm)をカレンダーロール装置でロール温度70℃、線圧18N/mm2、送り速度1m/minで圧縮し、空孔率55%、厚さ20μmの圧延フィルムを得た。 Here, a solid PTFE film having a thickness of 8 μm was produced as follows. First, the ePTFE membrane (porosity 60%, thickness 15 μm) was compressed with a calender roll device at a roll temperature of 70 ° C., a linear pressure of 18 N / mm 2 , a feed rate of 1 m / min, and a porosity of 55% and a thickness of 20 μm. A rolled film was obtained.

得られた圧延フィルムを2枚のポリイミドフィルム(宇部興産製、ユーピレックス20S)の間に挟み、ホットプレス装置でプレス板温度120℃、面圧1MPaで2秒間加熱プレスし、表面粗さRa5μm、空孔率50%、厚さ8μmの充実構造のPTFEフィルムを得た。   The obtained rolled film was sandwiched between two polyimide films (Ube Industries, Upilex 20S), and hot-pressed with a hot press device at a press plate temperature of 120 ° C. and a surface pressure of 1 MPa for 2 seconds, surface roughness Ra of 5 μm, empty A solid PTFE film having a porosity of 50% and a thickness of 8 μm was obtained.

この充実構造のPTFEフィルムの片面にコロナ放電処理を施し、コロナ処理面が外側にくるように、ベルト成形体の内壁に積層した。   One side of this solid PTFE film was subjected to corona discharge treatment and laminated on the inner wall of the belt molded body so that the corona treatment surface was on the outside.

この操作を3回繰り返し、ポリイミド樹脂からなるベルト成形体及び充実構造のPTFEフィルムがそれぞれ交互に3層ずつ積層された厚さ54μmの積層体を得た。   This operation was repeated three times to obtain a laminate having a thickness of 54 μm in which three layers of a belt molded body made of polyimide resin and a solid PTFE film were alternately laminated.

得られた積層体の接着強度は、0.8kN/mであった。なお、この接着強度の測定は、積層体の表裏面を構成する層(金属層(金属メッキ)を除く)の一部(幅10mm、長さ100mm)を剥がして、つかみ具(東洋ボールドウィン社製、100kgテンシロン装置)でつかみ、垂直方向に約50mm室温中で引き剥がした時の荷重を測定した。以下、同様である。   The adhesive strength of the obtained laminate was 0.8 kN / m. In addition, this adhesive strength is measured by removing a part (width 10 mm, length 100 mm) of the layers (excluding the metal layer (metal plating)) constituting the front and back surfaces of the laminate, and holding the grip (Toyo Baldwin) , 100 kg Tensilon device) and measured the load when peeled off in the vertical direction at about 50 mm at room temperature. The same applies hereinafter.

(実施例2)
次に、上記回転ドラム11は、内側を30℃のカルボキシベンゾトリアゾール(CBTA)2g/L溶液に30秒間浸漬し、のちに取り出して水洗いする。これによって離型層が形成される。溶液に浸漬させるには、回転ドラムの外周面等、離型層が不要な部分にマスキングを施して、溶液を貯留した槽内に浸漬する。
(Example 2)
Next, the inside of the rotating drum 11 is immersed in a 2 g / L solution of carboxybenzotriazole (CBTA) at 30 ° C. for 30 seconds, and then taken out and washed with water. Thereby, a release layer is formed. In order to immerse in the solution, masking is performed on a portion where the release layer is unnecessary, such as the outer peripheral surface of the rotating drum, and the solution is immersed in a tank storing the solution.

次に、形成された離型層の表面に、厚さ5μmの銅メッキを形成し、さらに銅メッキの上に、回転ドラムの内周面に、厚さ1μmの無電解ニッケルメッキを形成した。   Next, copper plating with a thickness of 5 μm was formed on the surface of the formed release layer, and further, electroless nickel plating with a thickness of 1 μm was formed on the inner peripheral surface of the rotating drum on the copper plating.

そして、この無電解ニッケルメッキ上に、実施例1と同様にして厚さ10μmのポリイミド樹脂からなるベルト成形体を形成した。この際、実施例1と同様に光照射を行うと共に、電磁誘導コイルを銅メッキ及びニッケルメッキを有するベルト成形体に対向させて、電磁誘導コイルに交流電流を印加することにより、発生する磁場を励磁回路で変化させて、銅メッキ及びニッケルメッキを100℃に発熱させた。   Then, a belt molded body made of a polyimide resin having a thickness of 10 μm was formed on the electroless nickel plating in the same manner as in Example 1. At this time, light irradiation is performed in the same manner as in Example 1, and the generated magnetic field is generated by applying an alternating current to the electromagnetic induction coil with the electromagnetic induction coil facing the belt molded body having copper plating and nickel plating. By changing the excitation circuit, the copper plating and nickel plating were heated to 100 ° C.

このようにして、回転ドラム内面に、銅メッキ・ニッケルメッキ・ポリイミド樹脂・ニッケルメッキ・銅メッキ・ニッケルメッキ・ポリイミド樹脂・ニッケルメッキ・銅メッキ・ニッケルメッキ・ポリイミド樹脂と、繰り返して積層して、厚み50μmの積層体を得た。なお、この操作はメッキが酸化しないように窒素雰囲気下で行った。得られた積層体の接着強度は、0.5kN/mであった。   In this way, copper plating, nickel plating, polyimide resin, nickel plating, copper plating, nickel plating, polyimide resin, nickel plating, copper plating, nickel plating, polyimide resin are repeatedly laminated on the inner surface of the rotating drum, A laminate having a thickness of 50 μm was obtained. This operation was performed in a nitrogen atmosphere so that the plating was not oxidized. The adhesive strength of the obtained laminate was 0.5 kN / m.

(実施例3)
実施例1において、充実構造のPTFEフィルムの代わりに、予め含水させたアクリル酸重合体部分ナトリウム塩架橋物からなるアクアキープ(住友精化株式会社製)を厚さ20μmで積層した以外は、実施例1と同様に積層体を得た。但し、アクアキープの積層時には、実施例1と同様に光照射をしてポリイミド樹脂のベルト成形体を発熱させる共に、アクアキープにマイクロ波を照射して100℃に発熱させた。得られた積層体の接着強度は、0.8kN/mであった。
(Example 3)
In Example 1, instead of a solid PTFE film, aqua keep (made by Sumitomo Seika Co., Ltd.) made of a crosslinked sodium salt of an acrylic acid polymer that had been pre-hydrated was laminated at a thickness of 20 μm. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1. However, at the time of laminating the aqua keep, as in Example 1, light irradiation was performed to heat the polyimide resin belt molded body, and the aqua keep was irradiated with microwaves to generate heat at 100 ° C. The adhesive strength of the obtained laminate was 0.8 kN / m.

(実施例4)
実施例1において、充実構造のPTFEフィルムの代わりに、シリコーン系ハードコート剤(日本ダクロシャムロック製ソルガードNP−730)の乾燥膜厚が3μmになるように塗工し、130℃で3分間乾燥させハードコートフィルムを積層する以外は実施例1と同様にして積層体を得た。得られた積層体の接着強度は0.6kN/mであった。
Example 4
In Example 1, instead of a solid PTFE film, a silicone-based hard coat agent (Solguard NP-730 manufactured by Nippon Dacro Shamrock) was applied to a dry film thickness of 3 μm and dried at 130 ° C. for 3 minutes. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat film was laminated. The adhesive strength of the obtained laminate was 0.6 kN / m.

(比較例1)
実施例1において、ポリイミド樹脂前駆体溶液に赤外線吸収剤を添加せず、光照射により発熱を生じさせない以外は、実施例1と同様に積層体を得た。得られた積層体の接着強度は0.1kN/mであった。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that no infrared absorber was added to the polyimide resin precursor solution and no heat was generated by light irradiation. The adhesive strength of the obtained laminate was 0.1 kN / m.

これら実施例及び比較例から、発熱層を積層し、これを発熱させることで、強固な接着強度が得られることがわかる。   From these Examples and Comparative Examples, it can be seen that a strong adhesive strength can be obtained by laminating a heat generating layer and generating heat.

Claims (11)

同一又は異種の複数の樹脂フィルムと、外的要因により発熱する発熱層の少なくとも1層と、を積層する工程と、
前記発熱層を外的要因により発熱させる工程と、
を有することを特徴とする積層体の製造方法。
Laminating a plurality of the same or different resin films and at least one heat generating layer that generates heat due to external factors;
Heating the heat generating layer due to external factors;
The manufacturing method of the laminated body characterized by having.
前記発熱層は、紫外領域から赤外領域までの少なくとも一部の光を吸収して発熱する光熱変換材料を含むことを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the heat generating layer includes a photothermal conversion material that generates heat by absorbing at least a part of light from an ultraviolet region to an infrared region. 前記発熱層は、電磁誘導により発熱する金属からなることを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the heat generating layer is made of a metal that generates heat by electromagnetic induction. 前記発熱層は、マイクロ波により発熱する水分を保持してなることを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for manufacturing a laminate according to claim 1, wherein the heat generating layer holds moisture generated by microwaves. 前記複数の樹脂フィルムは、同一の樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the plurality of resin films are the same resin film. 前記複数の樹脂フィルムは、異種の前記樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the plurality of resin films are different kinds of the resin films. 前記複数の樹脂フィルムは、樹脂耐熱性樹脂フィルムと耐衝撃性樹脂フィルムとを含むことを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the plurality of resin films include a resin heat resistant resin film and an impact resistant resin film. さらに機能層を積層することを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   Furthermore, a functional layer is laminated | stacked, The manufacturing method of the laminated body of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記機能層は、シリコーン系ハードコート層であることを特徴とする請求項8に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 8, wherein the functional layer is a silicone-based hard coat layer. 積層体を、シート状或いはベルト状に形成することを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 1, wherein the laminate is formed into a sheet shape or a belt shape. 非酸化雰囲気下で製造することを特徴とする請求項1に記載の積層体の製造方法。   It manufactures in a non-oxidizing atmosphere, The manufacturing method of the laminated body of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
JP2004278194A 2004-09-24 2004-09-24 Method for producing laminate Pending JP2006088581A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004278194A JP2006088581A (en) 2004-09-24 2004-09-24 Method for producing laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004278194A JP2006088581A (en) 2004-09-24 2004-09-24 Method for producing laminate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006088581A true JP2006088581A (en) 2006-04-06

Family

ID=36229997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004278194A Pending JP2006088581A (en) 2004-09-24 2004-09-24 Method for producing laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006088581A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006305921A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Japan Gore Tex Inc Circuit board and its production method
JP2007283236A (en) * 2006-04-18 2007-11-01 Fuji Xerox Co Ltd Microfluid device
JP2010523365A (en) * 2007-04-04 2010-07-15 アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー Use of silane compositions in the manufacture of multilayer laminates
JP2016037022A (en) * 2014-08-11 2016-03-22 日本バルカー工業株式会社 Laminate and method for producing laminate
TWI666131B (en) * 2016-05-10 2019-07-21 日商三登商事股份有限公司 Method for producing phosphorescent transfer sheet, phosphorescent transfer sheet, and method for transferring phosphorescent transfer sheet

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006305921A (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Japan Gore Tex Inc Circuit board and its production method
WO2006118211A1 (en) * 2005-04-28 2006-11-09 Japan Gore-Tex Inc. Circuit board and method for manufacturing same
JP4630120B2 (en) * 2005-04-28 2011-02-09 ジャパンゴアテックス株式会社 Circuit board and manufacturing method thereof
JP2007283236A (en) * 2006-04-18 2007-11-01 Fuji Xerox Co Ltd Microfluid device
JP2010523365A (en) * 2007-04-04 2010-07-15 アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー Use of silane compositions in the manufacture of multilayer laminates
JP2016037022A (en) * 2014-08-11 2016-03-22 日本バルカー工業株式会社 Laminate and method for producing laminate
TWI666131B (en) * 2016-05-10 2019-07-21 日商三登商事股份有限公司 Method for producing phosphorescent transfer sheet, phosphorescent transfer sheet, and method for transferring phosphorescent transfer sheet

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2110242B1 (en) Highly adhesive multilayer thermoplastic resin film
JP3268784B2 (en) Release film
JP5405088B2 (en) Graphite composite film
JP2006501506A5 (en)
JP2006501507A5 (en)
JP2006088581A (en) Method for producing laminate
TW201210851A (en) Substrate for lithographic printing plate
JP2008189828A (en) White polyester film for reflector
DE60133655D1 (en) LAMINATED BIAXIALLY ORIENTED POLYAMIDE FOIL AND MANUFACTURING METHOD
JP2010089344A (en) Graphite composite film
JP3739085B2 (en) Thin paper for heat-sensitive stencil printing base paper, stencil base paper, and manufacturing method thereof
JPS60226534A (en) Surface-modified synthetic resin molded article
JPH03256741A (en) Composite film
JP5778923B2 (en) Manufacturing method of heat spot suppression film
JP3095978B2 (en) Release film
JP3647997B2 (en) Release film
JP2006051681A (en) Mold release film
JP2004306344A (en) Release film
JP5607780B2 (en) Graphite composite film
JP2006175637A (en) Mold release polyester film for hot press molding
JP2009123462A (en) Planar heating element, and manufacturing method thereof
JP3895052B2 (en) Release film
JPH10100355A (en) Release film
JP2004291240A (en) Release film
JP4524024B2 (en) Release film