JP2006083128A - ビスフェノール型イミド化合物およびその製造方法 - Google Patents

ビスフェノール型イミド化合物およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006083128A
JP2006083128A JP2004271497A JP2004271497A JP2006083128A JP 2006083128 A JP2006083128 A JP 2006083128A JP 2004271497 A JP2004271497 A JP 2004271497A JP 2004271497 A JP2004271497 A JP 2004271497A JP 2006083128 A JP2006083128 A JP 2006083128A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bisphenol
tetrahydro
group
imide compound
type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004271497A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Kunitomo
秀夫 国友
Tomoyuki Imada
知之 今田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP2004271497A priority Critical patent/JP2006083128A/ja
Publication of JP2006083128A publication Critical patent/JP2006083128A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

【課題】 非プロトン性極性溶剤を使用しなくても、溶剤溶解性が良好な新規のビスフェノール型イミド化合物、新規のビスフェノール型イミド化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式(1)
【化1】
Figure 2006083128

(式中、Rは、水酸基又はヒドロキシベンジル基を、R、R、R及びRがそれぞれ独立に水素原子、フェニル基、または、炭素数1〜4のアルキル基を、R4が水素原子、フェニル基、または炭素数1〜4のアルキル基表す。)で表されるビスフェノール型イミド化合物、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型の2価の酸無水物とアミノ基含有フェノール性化合物とを反応させることを特徴とするビスフェノール型イミド化合物の製造方法。
【選択図】 なし

Description

本発明は、一般的な有機溶剤への溶解性が良好な新規なビスフェノール型イミド化合物とその製造方法に関する。
ビスフェノール型イミド化合物は、耐熱性等に優れ、耐熱性を有する高分子化合物の原料として有用であり、これらのフェノール系イミド化合物としては、例えば、フェノールピロメリトイミド類が知られている(特許文献1参照。)。しかし、これらは、分子構造中が芳香族で構成されているため、一般的な有機溶剤(例えば、ケトン類やエーテル類)への相溶性に乏しく、これらを溶解するには、N−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤を必要とし、一般的な有機溶剤への相溶性が良好で、作業性の面で制限が少ないビスフェノール型イミド化合物が求められている。
特開昭63−150283号公報
従って、本発明の課題は、非プロトン性極性溶剤を使用しなくても、溶剤溶解性が良好な新規のビスフェノール型イミド化合物、新規のビスフェノール型イミド化合物の製造方法を提供することにある。
本発明者らは、前記の課題を解決するため、鋭意検討の結果、2−ヒドロキシフェニル−5−(1−ヒドロキシフェニル−2,5−ジオキソ−ピロリジン−3−イル)−7−メチル−3a,4,5,7a−テトラヒドロ−イソインドール−1,3−ジオンのようなビスフェノール型イミド化合物、好ましくは、下記一般式(1)で表されるヒドロキシフェニル−5−(ヒドロキシフェニル−2,5−ジオキソ−ピロリジン−3−イル)−7−アルキル−3a,4,5,7a−テトラヒドロ−イソインドール−1,3−ジオン類がN−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶剤を用いなくともそれ以外のケトン類やエーテル類に溶解することを見出した。また、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン骨格を有する2価の酸無水物とアミノ基含有フェノール性化合物とを反応させることにより、ビスフェノール型イミド化合物を得ることができることを見出した。
すなわち、本発明は、前記一般式(1)で表されるビスフェノール型イミド化合物を提供する。
Figure 2006083128
(式中、Rは、水酸基又はヒドロキシベンジル基を、R、R、R及びRがそれぞれ独立に水素原子、フェニル基、または、炭素数1〜4のアルキル基を、R4が水素原子、フェニル基、または炭素数1〜4のアルキル基表す。)
また、本発明は、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型の2価の酸無水物とアミノ基含有フェノール性化合物とを反応させることを特徴とするビスフェノール型イミド化合物の製造方法をも提供する。
本発明によれば、一般的な有機溶剤、例えば、ケトン類やエーテル類などの相溶性が良好なビスフェノール型イミド化合物を提供できる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のビスフェノール型イミド化合物は、2−ヒドロキシフェニル−5−(1−ヒドロキシフェニル−2,5−ジオキソ−ピロリジン−3−イル)−7−メチル−3a,4,5,7a−テトラヒドロ−イソインドール−1,3−ジオン類である。これらの化合物の例としては、例えば、下記構造式(1−1)〜(1−5)が挙げられる。これらの中でも、下記構造式(1−1)、(1−4)、(1−5)であらわされる化合物、即ち、前記一般式(1)中のRが水酸基であり、且つ、該水酸基がイミド基の窒素が結合している芳香環の位置に対して、少なくとも一方が、メタ位に結合している化合物が、種々の有機溶媒との相溶性に優れることから好ましく、特に、両者がメタ位に結合している化合物である構造式(1−1)である化合物が好ましい。
Figure 2006083128
本発明のビスフェノール型イミド化合物は、例えば、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオンに代表される3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型の2価の酸無水物とアミノフェノール等のアミノ基含有フェノール性化合物とを反応することで得られる。
前記3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型酸無水物としては、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン骨格を有していて、且つ、その分子中の7位がフェニル基、または、炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい下記一般式(2)で表される化合物である。
Figure 2006083128
(式中のRは、水素原子、フェニル基、または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
これらの例としては、例えば、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−エチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−イソプロピル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−n−プロピル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−n−ブチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−イソブチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン等が挙げられる。
また、前記アミノ基含有フェノール性系化合物としては、例えば、オルソアミノフェノール、メタアミノフェノール、パラアミノフェノール等のアミノフェノール類、アミノクレゾール各種異性体、アミノキシレノール各種異性体、ヒドロキシフェニルベンジルアニリンの各種異性体等が挙げられる。
本発明のビスフェノール型イミド化合物は、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型の2価の酸無水物とアミノ基含有フェノール性化合物とを、例えば、ケトン類やエーテル類のように両者と80℃以下で反応性がなく、かつ両者を溶解し得る溶媒中で、例えば、室温〜100℃で反応させた後、150〜200℃で処理することで得ることができる。この熱処理の方法は、溶媒中に溶液または分散液となっているものを150〜200℃で処理する方法、予め、ろ過または溶媒を蒸発させて固形分を採り、これを150〜200℃の雰囲気において処理する方法、或いは、グリセリンのような高沸点の液状媒体中で揮発成分を揮発させてから処理する方法等が挙げられ、何れの方法を用いてもよい。
前記の反応で得られたビスフェノール型イミド化合物の有機溶剤溶液となっている場合は、溶剤を蒸発除去したり、或いは、例えば水中に溶液を注いで、析出させることで、固形の形で得ることができる。
本発明のビスフェノール型イミド化合物の製造方法について説明する。本発明の製造方法の反応経路は、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型酸無水物の酸無水物部分とアミノ基含有フェノール性化合物のアミノ基がまずアミック酸(A)を生成し、次にこれが脱水閉環して目的のイミド化合物(I)になるという機構で進行する。
Figure 2006083128
このとき、3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型酸無水物とアミノ基含有フェノール性化合物との使用比率は、それらの反応が進行するかどうか、とういう点では特に限定されないが、前者の酸無水基と後者のアミノ基が等モルになるような比率が最も適切であり、どちらかが多い場合は多い方が未反応物または意図しない反応生成物として目的のビスフェノール型イミド化合物に不純物として混合される。
本発明の製造方法で用いる酸無水物、アミノ基含有フェノール性系化合物類は、共に前述の化合物が挙げられる。
溶媒については、両原料が未反応の段階では反応性がなく溶解性があることが条件であるが、この場合の溶解性とは完溶を必ずしも意味せず、また、両者が反応してアミック酸を形成した後は沸点がその工程に適切であること以外に限定されない。
反応温度と反応時間については、反応時間さえ制約しなければ室温でもアミック酸化合物の生成は進行するし、150℃付近より高温域であればイミド化は進行するので、最終的に150℃以上で反応進行に十分な時間が保持されればよいが、操作性の問題からは、まず沸点100℃以下の溶媒中で、使用溶媒の沸点付近で数10分から数時間反応させ、次に溶媒を除去するかまたは次工程の反応温度以上の沸点を持つ溶媒に溶媒置換して好ましくは180〜200℃で1〜2時間保持して脱水操作するのが好適である。
ここでの脱水操作とは、150℃以上の反応を加熱乾燥機等を用いて気流中で実施するか、または高沸点溶媒を用いて溶液または分散状態で150℃以上として発生した水を蒸留等により除去する操作を言う。
前記の反応は、触媒無しでも進行するが、必要に応じて触媒を用いてもよい。使用できる触媒としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、イソキノリン等の3級アミン類や、フェノール類等を触媒として用いてもよい。また、アミン類とフェノールを組み合わせたり、3級アミン類と無水酢酸のような1塩基酸無水物とを組み合わせたものを用いたりしてもよい。
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、例中「部」はそれぞれ重量部を表す。
実施例1
3a,4,5,7a−テトラヒドロ−7−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン:265部とメタアミノフェノール:218部とをメチルエチルケトン:1000部中に溶解して、80℃で1時間保ち、次に、加熱乾燥機中でメチルエチルケトン等の低沸点成分を蒸発させながら150℃まで昇温し、さらに200℃の加熱乾燥機中に1時間おいて、褐色樹脂状生成物392部を得た。その生成物は図1で示すIRスペクトルから、またマススペクトルで理論構造に相当するM=446のピークが得られたことから、構造式(3)で表されるビスフェノール型イミド化合物であることを確認した。
本発明のビスフェノール型イミド化合物は、耐熱性が要求されるフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル等の高分子材料の原料モノマーとして有用である。
図1は実施例1で得られるビスフェノール型イミド化合物のIRスペクトルである。 図2は実施例1で得られるビスフェノール型イミド化合物のマススペクトルである。

Claims (7)

  1. 一般式(1)で表されるビスフェノール型イミド化合物。
    Figure 2006083128
    (式中、Rは、水酸基又はヒドロキシベンジル基を、R、R、R及びRがそれぞれ独立に水素原子、フェニル基、または、炭素数1〜4のアルキル基を、R4が水素原子、フェニル基、または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
  2. 前記一般式(1)中のR、R、R及びRが、水素原子である請求項1記載のビスフェノール型イミド化合物。
  3. 前記一般式(1)中のRが水酸基であり、且つ、該水酸基がイミド基の窒素が結合している芳香環の位置に対してメタ位に結合したものである請求項2記載のビスフェノール型イミド化合物。
  4. 3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型の2価の酸無水物とアミノ基含有フェノール性化合物とを反応させることを特徴とするビスフェノール型イミド化合物の製造方法。
  5. 3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型の2価の酸無水物が下記一般式(2)で表される化合物である請求項4記載のビスフェノール型イミド化合物の製造方法。
    Figure 2006083128
    (式中のRは、水素原子、フェニル基、または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
  6. 前記アミノ基含有フェノール性化合物が、アミノフェノール類である請求項4記載のビスフェノール型イミド化合物の製造方法。
  7. 前記3a,4,5,7a−テトラヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソフラン−3−イル)イソベンゾフラン−1,3−ジオン型の2価の酸無水物とアミノ基含有フェノール性化合物とを有機溶媒中100℃以下で反応させ、アミック酸を生成させた後、150〜200℃でイミド化反応を完結する請求項4記載のビスフェノール型イミド化合物の製造方法。
JP2004271497A 2004-09-17 2004-09-17 ビスフェノール型イミド化合物およびその製造方法 Pending JP2006083128A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004271497A JP2006083128A (ja) 2004-09-17 2004-09-17 ビスフェノール型イミド化合物およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004271497A JP2006083128A (ja) 2004-09-17 2004-09-17 ビスフェノール型イミド化合物およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006083128A true JP2006083128A (ja) 2006-03-30

Family

ID=36161928

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004271497A Pending JP2006083128A (ja) 2004-09-17 2004-09-17 ビスフェノール型イミド化合物およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006083128A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010018759A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Japan Epoxy Resin Kk イミド骨格樹脂、硬化性樹脂組成物、およびその硬化物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5536406A (en) * 1978-09-07 1980-03-14 Dainippon Ink & Chem Inc 3-methyl-5-succinic anhydrous-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride
JPS644620A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Sumitomo Chemical Co Thermosetting imide compound
JPH02242825A (ja) * 1989-03-15 1990-09-27 Nitto Denko Corp イミド系化合物またはその前駆体の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5536406A (en) * 1978-09-07 1980-03-14 Dainippon Ink & Chem Inc 3-methyl-5-succinic anhydrous-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride
JPS644620A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Sumitomo Chemical Co Thermosetting imide compound
JPH02242825A (ja) * 1989-03-15 1990-09-27 Nitto Denko Corp イミド系化合物またはその前駆体の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010018759A (ja) * 2008-07-14 2010-01-28 Japan Epoxy Resin Kk イミド骨格樹脂、硬化性樹脂組成物、およびその硬化物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Babkin et al. Low-melting siloxane-bridged phthalonitriles for heat-resistant matrices
JP5746320B2 (ja) 新規な架橋剤
EP3536734B1 (en) Polymerizable composition
JP5304105B2 (ja) ビスイミドフェノール化合物及びその製造方法
JP2845957B2 (ja) イミド環を有する新規ジフェノール類およびその製造方法
US5068353A (en) Synthesis of aromatic bis(ether phthalimide) compounds
Ni et al. Epoxy resin containing octamaleimidophenyl polyhedral oligomeric silsesquioxane
JP2008308578A (ja) フラン環を含有するポリアリレート樹脂の製造方法
CN104292230B (zh) 邻苯二甲酰亚胺封端单体及其制备方法与应用
JP2014118519A (ja) ポリイミド樹脂溶液
JP5446260B2 (ja) フェニレンエーテルオリゴマーの製造方法
US4247464A (en) Liquid extraction method for recovering aromatic bisimides
JP2006083128A (ja) ビスフェノール型イミド化合物およびその製造方法
Mallakpour et al. Soluble novel optically active poly (amide–imide) s derived from N, N′‐(4, 4′‐oxydiphthaloyl)‐bis‐l‐leucine diacid chloride and various aromatic diamines: Synthesis and characterization
Wu et al. A simple and efficient way to synthesize optically active polyamides by solution polycondensation of di‐O‐methyl‐l‐tartaryl chloride with diamines
JPH021426A (ja) スピロビスインダンビス―オキシフタル酸及びそれらの官能性誘導体
JP5443017B2 (ja) 9,9−ビスアリール−1−カルボキシフルオレン
Rao et al. Design and synthesis of a tribranched phenylethynyl‐terminated aryl ether compound and its use as a reactive diluent for PETI‐5
Mallakpour et al. Application of microwave irradiation for synthesis of novel optically active poly (amide imides) derived from diacid chloride containing epiclon and l‐isoleucine with aromatic diamines
JP2927173B2 (ja) 4級リン系化合物及びその製造方法並びに硬化触媒
Fujitsu et al. Hollow spheres of aromatic polyamide prepared by reaction‐induced phase separation
JP2008081418A (ja) 9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン化合物
JP3867983B2 (ja) フェニルエチニル基を有するジアミンモノマー
JP2005281083A (ja) 酸化黒鉛、膨張黒鉛、酸化黒鉛の製造方法及び膨張黒鉛の製造方法
JPH04208279A (ja) ビス無水トリメリット酸ビスフェノール類エステルの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070913

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20101014

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20110222

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02