JP2006066458A - Multilayer printed wiring board and its manufacturing process - Google Patents

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明男 西村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer printed wiring board in which a via hole is not required to be filled, the via hole structure is simple, a via hole directly above can be formed easily, and to provide its manufacturing process. <P>SOLUTION: The multilayer printed wiring board comprises in stacking a first wiring substrate 1 having a first insulation layer 2 in which a first layer via hole 5 is formed and metallization layers 3f and 3s laid on the surface of the first insulation layer 2, and a second wiring substrate 31 having a second insulation layer 32 in which a second layer via hole 35 is formed and a metallization layer 33 laid on the surface of the second insulation layer 32. The first insulation layer 2 has a first surface opposing the second surface of the second insulation layer 32, and first layer via hole wiring 6v recessed from the second surface toward the first surface of the first insulation layer 2 and having a land on the first surface of the first insulation layer 2 is formed in the first layer via hole 5. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、多層プリント配線板に関し、特にビルドアップ工法により形成されたビルドアップ配線層及び層間接続手段としてのバイアホールを含む多層プリント配線板及び多層プリント配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer printed wiring board, and more particularly to a multilayer printed wiring board including a buildup wiring layer formed by a buildup method and a via hole as interlayer connection means, and a method for manufacturing the multilayer printed wiring board.

多層プリント配線板は、エッチングなどにより回路配線(配線パターン)が形成された複数の導体層、各導体層を相互に電気的に絶縁する絶縁層、及び各導体層を相互に接続するためのバイアホールで構成されている(例えば特許文献1参照)。複数の導体層を形成し、それらの層間を接続する従来の方法としては、種々の方法が知られているが、代表的なものとして、ビルドアップ工法によるものを以下に述べる。   The multilayer printed wiring board includes a plurality of conductor layers in which circuit wiring (wiring pattern) is formed by etching, an insulating layer that electrically insulates each conductor layer, and vias for connecting the conductor layers to each other. It is comprised by the hall | hole (for example, refer patent document 1). As a conventional method for forming a plurality of conductor layers and connecting the layers, various methods are known. As a typical method, a method using a build-up method will be described below.

従来の多層プリント配線板でのビルドアップ工法の概略は次のとおりである。まず、内層回路を表面に形成したコア基板の表面に積層、コーティング、またはラミネートにより絶縁性樹脂を形成する。次に、何らかの方法で絶縁性樹脂に層間接続のための微小孔(バイアホール)を加工し、その後、絶縁性樹脂の表面に銅メッキを施して絶縁性樹脂の表面と微小な孔の内壁に導体層を形成する。そして、導体層に対してエッチングによるパターンニングを施して外層回路を形成することにより、微小孔を介して内層回路と外層回路が接続された多層構造を持つ多層プリント配線板を形成する。このような多層プリント配線板は、回路配線の複雑化や高密度化(配線密度の増大)に対応するため、絶縁樹脂層を1層だけではなく、2層、3層と設けることにより層間の接続点を多数設け、回路配線の設計自由度を向上している。   An outline of a build-up method using a conventional multilayer printed wiring board is as follows. First, an insulating resin is formed by laminating, coating, or laminating on the surface of the core substrate on which the inner layer circuit is formed. Next, microholes (via holes) for interlayer connection are processed in the insulating resin by some method, and then copper plating is applied to the surface of the insulating resin to form the surface of the insulating resin and the inner walls of the microholes. A conductor layer is formed. Then, the conductor layer is patterned by etching to form an outer layer circuit, thereby forming a multilayer printed wiring board having a multilayer structure in which the inner layer circuit and the outer layer circuit are connected through the minute holes. In order to cope with the complexity and increase in the density of circuit wiring (increase in wiring density), such a multilayer printed wiring board is provided with not only one insulating resin layer but also two layers and three layers. Many connection points are provided to improve the design flexibility of circuit wiring.

図8ないし図12は、従来の多層プリント配線板での製造工程の例を示す概略断面図である。この従来の多層プリント配線板は、ビルドアップ工法により形成されたものであり、絶縁層が内側絶縁層と外側絶縁層の2段積み構成であり、配線層が6層構成となっている。   8 to 12 are schematic sectional views showing an example of a manufacturing process using a conventional multilayer printed wiring board. This conventional multilayer printed wiring board is formed by a build-up method, and the insulating layer has a two-layer structure in which an inner insulating layer and an outer insulating layer are stacked, and the wiring layer has a six-layer structure.

図8(A)は、ビルドアップ工程前で、配線パターン形成前のコア基板の断面を示す。同図に示すコア基板は、基材101の両面に銅箔102を張った後、層間導通用のスルーホール103を形成し、その後、周知技術を用いてメッキ処理することにより、銅箔102に銅メッキ104を、スルーホール103に銅メッキ104hを形成し、さらに、樹脂105などをスルーホール103に充填した後、表面に再度銅メッキ106を施した状態としたものである。   FIG. 8A shows a cross section of the core substrate before the wiring pattern is formed before the build-up process. The core substrate shown in the figure has a copper foil 102 stretched on both surfaces of a base material 101, and then a through hole 103 for interlayer conduction is formed. Thereafter, the copper foil 102 is plated by using a known technique. The copper plating 104 is formed in the through hole 103, the copper plating 104h is formed, the resin 105 or the like is further filled in the through hole 103, and then the copper plating 106 is applied to the surface again.

図8(B)は、同図(A)のコア基板に形成してある導体層(銅箔102、銅メッキ104、銅メッキ106)に周知のエッチング技術を適用して配線パターン107a、107b、107cを形成した状態の断面を示す。配線パターン107aは、基材101の両面の銅箔102を相互に接続するための配線パターンであり、配線パターン107b、107cは、基材101の片面に独立して形成してある配線パターンである。なお、以下、基材101の上側(図面での上側部分)に配置された領域についてのみ説明するが基材101の下側(図面での下側部分)に配置された領域についても同様に加工されることは言うまでもない。   8B shows a wiring pattern 107a, 107b by applying a well-known etching technique to the conductor layers (copper foil 102, copper plating 104, copper plating 106) formed on the core substrate of FIG. The cross section of the state which formed 107c is shown. The wiring pattern 107 a is a wiring pattern for connecting the copper foils 102 on both surfaces of the base material 101 to each other, and the wiring patterns 107 b and 107 c are wiring patterns formed independently on one surface of the base material 101. . Hereinafter, only the region disposed on the upper side (upper portion in the drawing) of the base material 101 will be described, but the region disposed on the lower side (lower portion in the drawing) of the base material 101 is similarly processed. It goes without saying that it is done.

図9(C)(D)、図10(E)(F)、図11は、図8で示したコア基板をビルドアップ工法により多層化して多層プリント配線板を形成する各工程での状態の断面を示す。図面の下側部分については上側部分と同一(対称配置)であるので符号は適宜省略する。   FIGS. 9C, 10D, 10E, 10F, and 11 show the state in each step of forming a multilayer printed wiring board by multilayering the core substrate shown in FIG. 8 by a build-up method. A cross section is shown. Since the lower part of the drawing is the same (symmetrical arrangement) as the upper part, the reference numerals are omitted as appropriate.

図9(C)は、図8(B)で配線パターン107a、107b、107cを形成したコア基板の表面に、内側絶縁層となる絶縁性樹脂109を導体層110とともに積層した状態の断面を示す。絶縁性樹脂109及び導体層110は例えば周知技術である樹脂付き銅箔(RCC:Resin Coated Copper)で構成される。   FIG. 9C shows a cross section in a state where an insulating resin 109 serving as an inner insulating layer is laminated together with the conductor layer 110 on the surface of the core substrate on which the wiring patterns 107a, 107b, and 107c are formed in FIG. 8B. . The insulating resin 109 and the conductor layer 110 are made of, for example, a resin-coated copper foil (RCC: Resin Coated Copper), which is a well-known technique.

図9(D)は、絶縁性樹脂109に周知技術により非貫通のバイアホール111を形成した状態の断面を示す。バイアホール111の形成方法としては、バイアホール111を設ける位置でバイアホール径に対応する部分の導体層110をエッチングなどの周知技術により除去しておき、その後、残った導体層110をエッチングマスクとして、バイアホール111の位置の絶縁性樹脂109を炭酸ガスレーザーなどで除去する方法などがある。   FIG. 9D shows a cross section in a state where a non-penetrating via hole 111 is formed in the insulating resin 109 by a well-known technique. As a method for forming the via hole 111, a portion of the conductor layer 110 corresponding to the via hole diameter is removed by a known technique such as etching at a position where the via hole 111 is provided, and then the remaining conductor layer 110 is used as an etching mask. There is a method of removing the insulating resin 109 at the position of the via hole 111 with a carbon dioxide laser or the like.

図10(E)は、バイアホール111を形成した後、導体層110の表面全面にメッキ処理を施して銅メッキ112を形成した状態の断面を示す。   FIG. 10E shows a cross section in a state where after the via hole 111 is formed, the entire surface of the conductor layer 110 is plated to form the copper plating 112.

図10(F)は、同図(E)で形成した銅メッキ112をエッチングなどの周知技術で必要な部分のみ残して、配線パターン113a、113b、113cを形成した状態の断面を示す。配線パターン113aは配線パターン107aに、配線パターン113bは配線パターン107bにそれぞれ接続されて、必要な回路配線を構成する。また、配線パターン107cは単層での配線パターンであり、配線パターン113cは絶縁性樹脂114(図11参照)の表面に形成された配線パターン118b(図11参照)に接続される。   FIG. 10F shows a cross section in a state in which the wiring patterns 113a, 113b, and 113c are formed by leaving only the portions necessary for the copper plating 112 formed in FIG. The wiring pattern 113a is connected to the wiring pattern 107a, and the wiring pattern 113b is connected to the wiring pattern 107b, respectively, to form necessary circuit wiring. The wiring pattern 107c is a single-layer wiring pattern, and the wiring pattern 113c is connected to a wiring pattern 118b (see FIG. 11) formed on the surface of the insulating resin 114 (see FIG. 11).

図11は、図10(D)で示した配線パターン113a、113b、113cを形成した後に、外側絶縁層となる絶縁性樹脂114及び配線パターン118b、118cを形成した状態の断面を示す。絶縁性樹脂114及び配線パターン118b、118cは、図9(C)(D)、図10(E)(F)と同様の工程を経て形成したものである。   FIG. 11 shows a cross section in a state in which after forming the wiring patterns 113a, 113b, and 113c shown in FIG. 10D, the insulating resin 114 and the wiring patterns 118b and 118c to be the outer insulating layer are formed. The insulating resin 114 and the wiring patterns 118b and 118c are formed through the same steps as those shown in FIGS. 9C, 9D, 10E, and 10F.

つまり、絶縁性樹脂114及び導体層115を積層し、図9(D)と同様にバイアホール116を形成する。絶縁性樹脂114及び導体層115は、例えば樹脂付き銅箔で構成してある。その後、図10(E)と同様にして銅メッキ117を形成し、図10(F)と同様にして配線パターン118b、118cを形成する。配線パターン118bはバイアホール116を介して配線パターン113cに接続される。   That is, the insulating resin 114 and the conductor layer 115 are stacked, and the via hole 116 is formed as in FIG. The insulating resin 114 and the conductor layer 115 are made of, for example, a resin-coated copper foil. Thereafter, copper plating 117 is formed in the same manner as in FIG. 10E, and wiring patterns 118b and 118c are formed in the same manner as in FIG. The wiring pattern 118b is connected to the wiring pattern 113c through the via hole 116.

基材101の表面に形成された配線パターン107a、107bと絶縁性樹脂109の表面に形成された配線パターン113a、113bとはバイアホール111を介してそれぞれ接続され、また、絶縁性樹脂109の表面に形成された配線パターン113cと絶縁性樹脂114の表面に形成された配線パターン118bとはバイアホール116を介して相互に接続されており、多層積層構造の多層プリント配線板となっている。配線パターン118cは単層での配線パターンである。   The wiring patterns 107a and 107b formed on the surface of the substrate 101 and the wiring patterns 113a and 113b formed on the surface of the insulating resin 109 are connected to each other via the via holes 111, and the surface of the insulating resin 109 is also connected. The wiring pattern 113c formed on the surface of the insulating resin 114 and the wiring pattern 118b formed on the surface of the insulating resin 114 are connected to each other through a via hole 116, thereby forming a multilayer printed wiring board having a multilayer laminated structure. The wiring pattern 118c is a single layer wiring pattern.

図9ないし図11に示すような多層プリント配線板において、配線の複雑化や配線密度の増大に対応するために内側絶縁層(絶縁性樹脂109)のバイアホール111の直上に外側絶縁層(絶縁性樹脂114)のバイアホール116を重畳して設けたい場合がある。この構造は直上バイアホール又はスタックドバイアホールと称される。   In the multilayer printed wiring board as shown in FIG. 9 to FIG. 11, an outer insulating layer (insulating) is formed immediately above the via hole 111 of the inner insulating layer (insulating resin 109) in order to cope with the complexity of wiring and the increase in wiring density. In some cases, the via hole 116 of the conductive resin 114) is desired to be overlapped. This structure is referred to as a via hole or stack via hole.

直上バイアホールを設ける場合、内側絶縁層のバイアホールは外側の表面が凹状であることから、そのままでは直上にバイアホールを重畳して形成できない。従って内側絶縁層のバイアホールの凹部を何らかの方法で埋めなければならない。その方法として導電性メッキ層を形成した後のバイアホールに導電性の樹脂を埋める方法(穴埋め法)、導電性メッキ層を形成した後のバイアホールに絶縁性の樹脂を埋め、さらにその表面に導電性メッキを施す方法(穴埋め法)、バイアホールを埋めて析出する性質の銅メッキを施す方法(フィルドメッキ法)などが周知技術として知られている。これらの処理により内側絶縁層のバイアホールの外側面が平面になり、その直上に外側絶縁層のバイアホールを容易に形成できるようになる。   When the via hole is provided directly above, the via hole in the inner insulating layer has a concave outer surface, so that the via hole cannot be formed directly on the via hole as it is. Therefore, the via hole recess in the inner insulating layer must be filled in some way. As a method, a conductive resin is buried in the via hole after forming the conductive plating layer (hole filling method), an insulating resin is buried in the via hole after the conductive plating layer is formed, and the surface is further filled with the insulating resin. Well-known techniques include a method of conducting conductive plating (hole filling method), a method of copper plating having a property of filling and depositing via holes (filled plating method), and the like. By these treatments, the outer surface of the via hole of the inner insulating layer becomes a flat surface, and the via hole of the outer insulating layer can be easily formed immediately above.

図12は、外側面が凹状のバイアホールに重畳して直上バイアホールを形成した多層プリント配線板でのバイアホールの積層状態を示す断面図である。同図(A)(B)は、穴埋め法により直上バイアホールを形成した多層プリント配線板の断面図であり、同図(A)はバイアホールの穴埋めに導電性樹脂を、同図(B)は絶縁性樹脂を使用したものである。同図(C)は、フィルドメッキ法により直上バイアホールを形成した多層プリント配線板の断面図である。   FIG. 12 is a cross-sectional view showing a stacked state of via holes in a multilayer printed wiring board in which an outer surface overlaps with a concave via hole to form a directly upper via hole. (A) and (B) are cross-sectional views of a multilayer printed wiring board in which a via hole is formed directly by a hole filling method. FIG. (A) is a diagram showing a conductive resin filling the via hole, and FIG. Is an insulating resin. FIG. 3C is a cross-sectional view of a multilayer printed wiring board in which a via hole directly above is formed by a filled plating method.

同図(A)の場合では、まず基材101の表面に銅箔の配線パターン107を形成する。基材101の表面に内側絶縁層123を積層し、内側絶縁層123に配線パターン107に対応してバイアホール124を形成する。その後、バイアホール配線125を形成し、その凹部を導電性穴埋め樹脂126で充填し、バイアホール配線125の外側の表面を平坦化する。さらに、外側絶縁層127を積層し、バイアホール配線125に重畳してバイアホール128を形成する。バイアホール128の表面にメッキ処理を施して銅メッキを形成し、銅メッキをパターニングすることにより、バイアホール配線129を形成する。このようにして、基材101表面の配線パターン107と外側絶縁層127表面のバイアホール配線129とが接続された多層プリント配線板を製造する。   In the case of FIG. 3A, a copper foil wiring pattern 107 is first formed on the surface of the substrate 101. An inner insulating layer 123 is laminated on the surface of the substrate 101, and a via hole 124 is formed in the inner insulating layer 123 corresponding to the wiring pattern 107. Thereafter, the via hole wiring 125 is formed, and the concave portion is filled with the conductive hole filling resin 126 to flatten the outer surface of the via hole wiring 125. Further, an outer insulating layer 127 is stacked, and a via hole 128 is formed so as to overlap with the via hole wiring 125. By plating the surface of the via hole 128 to form copper plating, and patterning the copper plating, the via hole wiring 129 is formed. In this manner, a multilayer printed wiring board in which the wiring pattern 107 on the surface of the substrate 101 and the via hole wiring 129 on the surface of the outer insulating layer 127 are connected is manufactured.

同図(B)の場合では、バイアホール配線125の凹部を絶縁性穴埋め樹脂126iで充填し、その表面にバイアホール配線125のランド部としてのバイアホール配線125cを形成する点が同図(A)と異なる。その他の点については同図(A)と同一であり、詳細な説明は省略する。   In the case of FIG. 6B, the concave portion of the via hole wiring 125 is filled with an insulating hole filling resin 126i, and a via hole wiring 125c as a land portion of the via hole wiring 125 is formed on the surface thereof. ) Is different. The other points are the same as in FIG. 5A, and detailed description thereof is omitted.

同図(C)の場合では、バイアホール124をフィルドメッキ法により埋めた点が同図(A)(B)とは異なる。つまり、バイアホール124を形成した後、バイアホール124の凹部を充填するように銅メッキ130を析出する。その他の点については同図(A)(B)と同一であり、詳細な説明は省略する。
特開平5−226838号公報
In the case of FIG. 10C, the point that the via hole 124 is filled by the filled plating method is different from FIGS. That is, after the via hole 124 is formed, the copper plating 130 is deposited so as to fill the concave portion of the via hole 124. The other points are the same as those in FIGS. 1A and 1B, and detailed description thereof is omitted.
JP-A-5-226838

しかし、従来の直上バイアホール構造を有する多層プリント配線板では、バイアホールを埋める複雑な工程が必要となり、安価で設計自由度の大きなものを提供することができなかった。すなわち、従来の穴埋め法によれば工程の増加によるコストアップを招き、また、フィルドメッキ法によれば銅メッキのコントロールが複雑であり、径の異なるバイアホールに適用した場合には銅メッキの充填度のバラツキが発生すること、フィルドメッキ法による銅メッキは凹部に厚く、凸部に薄く析出する性質を有することから、貫通孔のコーナー部でのメッキ厚確保とバイアホール充填との両立が困難であることなどの問題がある。   However, the conventional multilayer printed wiring board having a via hole structure directly above requires a complicated process for filling the via hole, and cannot provide an inexpensive and high design freedom. In other words, the conventional hole filling method increases the cost due to the increased number of processes, and the filled plating method complicates the control of copper plating, and when applied to via holes of different diameters, the filling of copper plating Copper plating by the fill plating method is thick in the recesses and thinly deposited on the protrusions, making it difficult to achieve both plating thickness at the corners of the through holes and via hole filling. There are problems such as being.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、バイアホールを埋める必要が無く、バイアホール構造がシンプルで、直上バイアホールの形成が容易な多層プリント配線板を提供することを目的とする。また、バイアホールでの配線形成工程を簡略化し、少ない工程でバイアホールでの配線を形成でき、直上バイアホールを容易に形成できる多層プリント配線板の製造方法を提供することを他の目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and it is an object of the present invention to provide a multilayer printed wiring board that does not need to fill a via hole, has a simple via hole structure, and can easily form a via hole immediately above. And Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board that simplifies the wiring formation process in the via hole, can form the wiring in the via hole with few processes, and can easily form the via hole immediately above. .

本発明に係る多層プリント配線板は、第1層バイアホールが形成された第1絶縁層及び該第1絶縁層の第1表面、第2表面にそれぞれ積層された配線金属層を有する第1配線基材と、第2層バイアホールが形成された第2絶縁層及び該第2絶縁層の第1表面に積層された配線金属層を有する第2配線基材とを積層した多層プリント配線板であって、前記第1絶縁層の第1表面と前記第2絶縁層の第2表面は対向しており、前記第1層バイアホールには前記第1絶縁層の第2表面から第1表面に向けて凹状をなし前記第1絶縁層の第1表面にランド部を有する第1層バイアホール配線が形成してあることを特徴とする。   A multilayer printed wiring board according to the present invention includes a first wiring having a first insulating layer in which a first layer via hole is formed, and a wiring metal layer laminated on each of the first surface and the second surface of the first insulating layer. A multilayer printed wiring board in which a base material, a second insulating layer in which a second layer via hole is formed, and a second wiring base material having a wiring metal layer laminated on the first surface of the second insulating layer, The first surface of the first insulating layer and the second surface of the second insulating layer are opposed to each other, and the first layer via hole extends from the second surface of the first insulating layer to the first surface. A first-layer via hole wiring having a land portion is formed on the first surface of the first insulating layer.

本発明によれば、第1層バイアホール配線は第1絶縁層の第2表面から第1表面に向けて凹状をなし第1絶縁層の第1表面に平面状のランド部を有していることから、従来技術で必要としていたバイアホール(第1層バイアホール)に対する穴埋め工程やフィルドメッキ(充填メッキ)工程が不要となる。したがって、第1層バイアホールに対する穴埋め工程やフィルドメッキ工程なしで、第1層バイアホール配線と第2配線基材の第1表面に積層してある配線金属層との接続を第2層バイアホールを介して容易にすることができ、ビルドアップ工法による多層プリント配線板を容易に実現できる。   According to the present invention, the first layer via-hole wiring has a concave shape from the second surface of the first insulating layer toward the first surface, and has a planar land portion on the first surface of the first insulating layer. This eliminates the need for a hole filling process and a filled plating (filled plating) process for a via hole (first layer via hole) that is required in the prior art. Therefore, the connection between the first layer via hole wiring and the wiring metal layer laminated on the first surface of the second wiring substrate is made without the hole filling process or the filled plating process for the first layer via hole. The multilayer printed wiring board by the build-up method can be easily realized.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記第2層バイアホールには前記第2絶縁層の第1表面から第2表面に向けて凹状をなし前記第2絶縁層の第2表面にランド部を有する第2層バイアホール配線が形成してあることを特徴とする。本発明によれば、第1配線基材の第1表面に積層してある配線金属層と第2配線基材の第1表面に積層してある配線金属層との相互接続が容易、確実にでき、ビルドアップ工法による多層プリント配線板を容易に実現できる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the second via hole has a concave shape from the first surface of the second insulating layer toward the second surface, and a land portion is formed on the second surface of the second insulating layer. A second-layer via-hole wiring is formed. According to the present invention, the interconnection between the wiring metal layer laminated on the first surface of the first wiring substrate and the wiring metal layer laminated on the first surface of the second wiring substrate is easy and reliable. And a multilayer printed wiring board by a build-up method can be easily realized.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記第1層バイアホール配線と前記第2層バイアホール配線とは前記第1配線基材及び第2配線基材の積層方向で重畳していることを特徴とする。本発明によれば、第1層バイアホール配線に重畳して第2層バイアホール配線を配置するので第1層バイアホール配線と前記第2層バイアホール配線との接続を最短距離ですることができる。バイアホールの配置の最適化が可能となり、ビルドアップ工法による直上バイアホールの形成の簡易化、形状の安定化、相互接続の信頼性向上が可能となる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring overlap each other in the stacking direction of the first wiring substrate and the second wiring substrate. And According to the present invention, since the second layer via hole wiring is arranged so as to overlap the first layer via hole wiring, the connection between the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring can be made the shortest distance. it can. It is possible to optimize the arrangement of via holes, simplify the formation of the via hole directly by the build-up method, stabilize the shape, and improve the reliability of interconnection.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記第1層バイアホール配線と第2層バイアホール配線とは接続してあることを特徴とする。本発明によれば、第1層バイアホール配線と第2層バイアホール配線とを相互に接続することができ、設計自由度の大きな多層プリント配線板とすることができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are connected to each other. According to the present invention, the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring can be connected to each other, and a multilayer printed wiring board having a high degree of design freedom can be obtained.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記第1絶縁層の膜厚は前記第2絶縁層の膜厚より薄いことを特徴とする。本発明によれば、同一膜厚の絶縁層及び同一膜厚の金属配線層を繰り返し積層して多層プリント配線板とする場合に比較して多層プリント配線板の全体としての厚さを薄くすることができる。また、薄い第1絶縁層を多層プリント配線板のケーブル部として構成することができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the film thickness of the first insulating layer is smaller than the film thickness of the second insulating layer. According to the present invention, the thickness of the multilayer printed wiring board as a whole can be reduced as compared with the case where a multilayer printed wiring board is formed by repeatedly laminating an insulating layer having the same thickness and a metal wiring layer having the same thickness. Can do. Further, the thin first insulating layer can be configured as a cable portion of the multilayer printed wiring board.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記第1配線基材はフレキシブルプリント配線基材であることを特徴とする。本発明によれば、両面に配線金属層を有する薄い第1配線基材を容易に実現でき、配線板の総厚さが薄く、可撓性のある多層プリント配線板を容易に実現できる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the first wiring substrate is a flexible printed wiring substrate. According to the present invention, a thin first wiring substrate having wiring metal layers on both sides can be easily realized, and a flexible multilayer printed wiring board can be easily realized with a thin total thickness of the wiring board.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記第2配線基材は樹脂付き金属箔であること、前記第2絶縁層は繊維入り樹脂シートであること、又は前記第2絶縁層は半硬化樹脂シートを硬化したものあることを特徴とする。本発明によれば、第1配線基材に第2配線基材を容易に積層することができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the second wiring substrate is a resin-coated metal foil, the second insulating layer is a fiber-containing resin sheet, or the second insulating layer is a semi-cured resin sheet. It is characterized by being cured. According to the present invention, the second wiring substrate can be easily laminated on the first wiring substrate.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記第1配線基材と第2配線基材とが積層してあるリジッド基板領域と、前記第1配線基材が前記第2配線基材よりさらに延在してあるフレックス基板領域とを備えることを特徴とする。本発明によれば、フレックス基板領域を例えばケーブル部として適用することにより電子機器への組み込みが容易にできる多層プリント配線板とすることができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, a rigid board region in which the first wiring base material and the second wiring base material are laminated, and the first wiring base material further extends from the second wiring base material. And a flex substrate region. According to the present invention, it is possible to provide a multilayer printed wiring board that can be easily incorporated into an electronic device by applying the flex substrate region as a cable portion, for example.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記フレックス基板領域では、前記第1絶縁層の第1表面、第2表面のいずれか一方のみに配線金属層が積層してあることを特徴とする。本発明によれば、フレックス基板領域で配線金属層を第1絶縁層の第1表面、第2表面のいずれか一方のみに積層した構造とすることによりケーブル部としての剛性を低減し、繰り返し屈曲に対する耐久性を向上した多層プリント配線板とすることができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, a wiring metal layer is laminated on only one of the first surface and the second surface of the first insulating layer in the flex substrate region. According to the present invention, the wiring metal layer is laminated on only one of the first surface and the second surface of the first insulating layer in the flex substrate region, thereby reducing the rigidity as the cable portion and bending repeatedly. It can be set as the multilayer printed wiring board which improved the durability with respect to.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記フレックス基板領域で前記第1絶縁層の第1表面、第2表面のいずれか一方のみに積層してある配線金属層の膜厚が前記リジッド基板領域で前記第1絶縁層の第2表面に積層してある配線金属層の膜厚より薄いことを特徴とする。本発明によれば、例えば、リジッド基板領域では配線金属層にメッキ層を積層して膜厚を厚くした配線金属層(配線パターン)とした場合でも、フレックス基板領域では配線金属層にメッキ層を設けないで当初の配線金属層の膜厚を維持した構成とすることによりフレックス基板領域の可撓性を維持することができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the film thickness of the wiring metal layer laminated on only one of the first surface and the second surface of the first insulating layer in the flex substrate region is the rigid substrate region. It is thinner than the thickness of the wiring metal layer laminated on the second surface of the first insulating layer. According to the present invention, for example, even when a wiring metal layer (wiring pattern) is formed by laminating a plating layer on a wiring metal layer in the rigid board region, the plating layer is formed on the wiring metal layer in the flex board area. The flexibility of the flex substrate region can be maintained by maintaining the original thickness of the wiring metal layer without providing it.

本発明に係る多層プリント配線板では、本発明に係る多層プリント配線板の2枚が中間体を介して相互に対向して配置してあることを特徴とする。また、本発明に係る多層プリント配線板では、前記第1配線基材は第2配線基材に対して前記中間体の側に配置してあることを特徴とする。本発明によれば、多層プリント配線板の2枚を相互に対向して積層して、相互に鏡像関係を有して配置することから、層数がさらに多く設計自由度の大きい多層構造の多層プリント配線板とすることができる。   The multilayer printed wiring board according to the present invention is characterized in that two multilayer printed wiring boards according to the present invention are arranged to face each other with an intermediate body therebetween. In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the first wiring substrate is arranged on the intermediate body side with respect to the second wiring substrate. According to the present invention, two multilayer printed wiring boards are laminated so as to face each other and are arranged in a mirror image relationship with each other. It can be a printed wiring board.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記中間体は、前記第1配線基材の第2表面を被覆する保護膜及び該保護膜を相互に対向させて接着する接着シートにより構成してあることを特徴とする。本発明によれば、保護膜を用いることによりフレックス基板領域(ケーブル部)の配線部となる第1配線基材の第2表面の配線金属層を確実に保護することができ、また、接着シートを用いることによりリジッド基板領域の剛性を向上することができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the intermediate body is composed of a protective film covering the second surface of the first wiring substrate and an adhesive sheet that bonds the protective film so as to oppose each other. It is characterized by. According to the present invention, by using the protective film, the wiring metal layer on the second surface of the first wiring base material that becomes the wiring portion of the flex substrate region (cable portion) can be reliably protected, and the adhesive sheet By using this, the rigidity of the rigid substrate region can be improved.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記接着シートは前記リジッド基板領域に対応する領域に配置してあることを特徴とする。本発明によれば、接着シートを用いることによりリジッド基板領域を画定すると共にフレックス基板領域の可撓性を維持することができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the adhesive sheet is arranged in a region corresponding to the rigid substrate region. According to the present invention, by using an adhesive sheet, a rigid substrate region can be defined and flexibility of the flex substrate region can be maintained.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記中間体の一方に配置してある前記第1絶縁層の第1表面の配線金属層と前記中間体の他方に配置してある前記第1絶縁層の第1表面の配線金属層とは2つの前記第1絶縁層及び中間体を貫通する貫通孔に形成された孔配線を介して相互に接続してあることを特徴とする。本発明によれば、対向して配置され鏡像関係の一方の位置にある第1配線基材に形成された第1表面の配線金属層による配線パターンと他方の位置にある第1配線基材に形成された第1表面の配線金属層による配線パターンとを接続することができ、さらに設計自由度の大きい配線構造を有する多層プリント配線板とすることができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the wiring metal layer on the first surface of the first insulating layer disposed on one side of the intermediate body and the first insulating layer disposed on the other side of the intermediate body. The wiring metal layer on the first surface is connected to each other through a hole wiring formed in a through hole penetrating the two first insulating layers and the intermediate body. According to the present invention, the wiring pattern formed by the wiring metal layer on the first surface formed on the first wiring base located at one position in the mirror image relation and the first wiring base located at the other position. The formed wiring pattern of the wiring metal layer on the first surface can be connected, and a multilayer printed wiring board having a wiring structure with a high degree of design freedom can be obtained.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記孔配線は前記第2層バイアホール配線に接続してあることを特徴とする。本発明によれば、鏡像関係の一方の位置にある第2配線基材に形成された配線金属層による配線パターンと他方の位置にある第2配線基材に形成された配線金属層による配線パターンとを孔配線を介して接続することができ、さらに設計自由度の大きい配線構造を有する多層プリント配線板とすることができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the hole wiring is connected to the second layer via hole wiring. According to the present invention, the wiring pattern by the wiring metal layer formed on the second wiring substrate at one position in the mirror image relation and the wiring pattern by the wiring metal layer formed on the second wiring substrate at the other position. Can be connected via a hole wiring, and a multilayer printed wiring board having a wiring structure with a high degree of design freedom can be obtained.

本発明に係る多層プリント配線板では、前記中間体の一方に配置してある前記第2絶縁層の第1表面の配線金属層と前記中間体の他方に配置してある前記第2絶縁層の第1表面の配線金属層とは2つの前記第1絶縁層、2つの前記第2絶縁層及び中間体を貫通する貫通孔に形成された孔配線を介して相互に接続してあることを特徴とする。本発明によれば、対向して配置され鏡像関係の一方の位置にある第2配線基材に形成された配線金属層による配線パターンと他方の位置にある第2配線基材に形成された配線金属層による配線パターンとを孔配線を介して接続することができ、さらに自由度の大きい配線構造を有する多層プリント配線板とすることができる。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the wiring metal layer on the first surface of the second insulating layer disposed on one side of the intermediate body and the second insulating layer disposed on the other side of the intermediate body. The wiring metal layer on the first surface is connected to each other via a hole wiring formed in a through hole penetrating the two first insulating layers, the two second insulating layers, and the intermediate body. And According to the present invention, the wiring pattern formed by the wiring metal layer formed on the second wiring base located at one position in the mirror image relation and the wiring formed on the second wiring base located at the other position. A wiring pattern made of a metal layer can be connected through a hole wiring, and a multilayer printed wiring board having a wiring structure with a high degree of freedom can be obtained.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、第1絶縁層及び該第1絶縁層の第1表面、第2表面にそれぞれ積層された配線金属層を有する第1配線基材と、第2絶縁層及び該第2絶縁層の第1表面に積層された配線金属層を有する第2配線基材とを積層した多層プリント配線板の製造方法であって、前記第1絶縁層の第2表面から第1表面にかけて第1層バイアホールを形成する工程と、前記第1層バイアホールに第1絶縁層の第2表面から第1表面に向けて凹状をなし前記第1絶縁層の第1表面にランド部を有する第1層バイアホール配線を形成する工程と、前記第1絶縁層の第1表面及び前記第2絶縁層の第2表面を対向して積層する工程と、前記第2絶縁層の第1表面から第2表面にかけて第2層バイアホールを形成する工程と、前記第2層バイアホールに第2層バイアホール配線を形成する工程とを備えることを特徴とする。   A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention includes: a first wiring substrate having a first insulating layer and a wiring metal layer laminated on the first surface and the second surface of the first insulating layer; A method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which an insulating layer and a second wiring substrate having a wiring metal layer laminated on a first surface of the second insulating layer are laminated, and the second surface of the first insulating layer Forming a first layer via hole from the first surface to the first surface, and forming a concave shape in the first layer via hole from the second surface of the first insulating layer toward the first surface, the first surface of the first insulating layer Forming a first-layer via-hole wiring having a land portion on the surface, laminating a first surface of the first insulating layer and a second surface of the second insulating layer facing each other, and the second insulating layer Forming a second layer via hole from the first surface to the second surface, Characterized in that it comprises a step of forming a second layer via hole wiring serial second layer via holes.

本発明によれば、多層プリント配線板のバイアホールを介して層間で配線金属層を接続する場合に従来技術で必要としていたバイアホールでの穴埋め工程やフィルドメッキ(充填メッキ)工程が不要となる。   According to the present invention, when a wiring metal layer is connected between layers through via holes of a multilayer printed wiring board, a via hole filling process and a filled plating (filling plating) process required in the prior art are not required. .

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、第1絶縁層及び該第1絶縁層の第1表面、第2表面にそれぞれ積層された配線金属層を有する第1配線基材と、第2絶縁層及び該第2絶縁層の第1表面に積層された配線金属層を有する第2配線基材とを積層した多層プリント配線板の2枚を対向して配置した多層プリント配線板の製造方法であって、前記第1絶縁層の第2表面から第1表面にかけて第1層バイアホールを形成し、該第1層バイアホールに前記第1絶縁層の第2表面から第1表面に向けて凹状をなし前記第1絶縁層の第1表面にランド部を有する第1層バイアホール配線を形成する工程と、前記第1配線基材の第2表面に保護膜を被覆する工程と、前記保護膜を被覆した2つの第1配線基材を接着シートの両面に対向して配置し、前記保護膜それぞれを前記接着シートに接着する工程と、前記第1絶縁層の第1表面及び前記第2絶縁層の第2表面を対向して積層する工程と、前記第2絶縁層の第1表面から第2表面にかけて第2層バイアホールを形成し、該第2層バイアホールに第2層バイアホール配線を形成する工程とを備えることを特徴とする。   A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention includes: a first wiring substrate having a first insulating layer and a wiring metal layer laminated on the first surface and the second surface of the first insulating layer; A method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which two multilayer printed wiring boards each having an insulating layer and a second wiring base material having a wiring metal layer laminated on the first surface of the second insulating layer are arranged to face each other A first layer via hole is formed from the second surface of the first insulating layer to the first surface, and the first layer via hole is directed from the second surface of the first insulating layer toward the first surface. Forming a first-layer via-hole wiring having a concave shape and having a land portion on a first surface of the first insulating layer; covering a second surface of the first wiring substrate with a protective film; and Two first wiring substrates coated with film are placed facing both sides of the adhesive sheet A step of bonding each of the protective films to the adhesive sheet, a step of laminating the first surface of the first insulating layer and the second surface of the second insulating layer, and a second step of the second insulating layer. Forming a second layer via hole from the first surface to the second surface, and forming a second layer via hole wiring in the second layer via hole.

本発明によれば、多層プリント配線板のバイアホールを介して層間で配線金属層を接続する場合に従来技術で必要としていたバイアホールでの穴埋め工程やフィルドメッキ(充填メッキ)工程が不要となる。また、多層プリント配線板を2枚対向して鏡像関係に配置することから、2倍の層数を有する多層プリント配線板を容易に製造することができる。   According to the present invention, when a wiring metal layer is connected between layers through via holes of a multilayer printed wiring board, a via hole filling process and a filled plating (filling plating) process required in the prior art are not required. . In addition, since two multilayer printed wiring boards are arranged to face each other in a mirror image relation, a multilayer printed wiring board having twice the number of layers can be easily manufactured.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法では、前記第2層バイアホール配線は前記第2絶縁層の第1表面から第2表面に向けて凹状をなし前記第2絶縁層の第2表面にランド部を有することを特徴とする。本発明によれば、第1配線基材に積層してある配線金属層と第2配線基材の第1表面に積層してある配線金属層との相互接続が容易、確実にできる。   In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the second layer via hole wiring has a concave shape from the first surface of the second insulating layer toward the second surface, and is formed on the second surface of the second insulating layer. It has a land part. According to the present invention, the interconnection between the wiring metal layer laminated on the first wiring substrate and the wiring metal layer laminated on the first surface of the second wiring substrate can be easily and reliably performed.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法では、前記第1層バイアホール配線と前記第2層バイアホール配線とは前記第1配線基材及び第2配線基材の積層方向で重畳していることを特徴とする。本発明によれば、第1層バイアホール配線の上部に第2層バイアホール配線を重畳して配置するので相互の接続を最短距離ですることができる。バイアホールの配置の最適化が可能となり、ビルドアップ工法による直上バイアホールの形成の簡易化、形状の安定化、相互接続の信頼性向上が可能となる。   In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring overlap each other in the stacking direction of the first wiring substrate and the second wiring substrate. It is characterized by that. According to the present invention, since the second layer via hole wiring is arranged on top of the first layer via hole wiring, the mutual connection can be made with the shortest distance. It is possible to optimize the arrangement of via holes, simplify the formation of the via hole directly by the build-up method, stabilize the shape, and improve the reliability of interconnection.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法では、前記第1層バイアホール配線と第2層バイアホール配線とは接続してあることを特徴とする。本発明によれば、第1層バイアホール配線と第2層バイアホール配線とを相互に接続することができ、設計自由度の大きな多層プリント配線板とすることができる。   In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are connected to each other. According to the present invention, the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring can be connected to each other, and a multilayer printed wiring board having a high degree of design freedom can be obtained.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法では、前記第1層バイアホール及び第2層バイアホールはレーザー加工により形成することを特徴とする。本発明によれば、精度の高いバイアホールを形成することができる。   In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the first layer via hole and the second layer via hole are formed by laser processing. According to the present invention, a highly accurate via hole can be formed.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法では、前記第1層バイアホール配線及び第2層バイアホール配線はメッキ処理により形成することを特徴とする。本発明によれば、バイアホール配線を容易かつ確実に形成することができる。   In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are formed by plating. According to the present invention, via-hole wiring can be formed easily and reliably.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法では、第1配線基材はフレキシブルプリント配線基材であることを特徴とする。本発明によれば、第1絶縁層の両側表面に配線金属層を容易に積層することができる。   In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the first wiring substrate is a flexible printed wiring substrate. According to the present invention, the wiring metal layer can be easily laminated on both side surfaces of the first insulating layer.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法では、第2配線基材は樹脂付き金属箔であること、第2配線基材は繊維入り樹脂シートと金属箔を積層して形成すること、又は第2配線基材は半硬化樹脂シートと金属箔を積層し、半硬化樹脂シートを硬化して形成することを特徴とする。本発明によれば、第2配線基材を容易に第1配線基材に積層することができる。   In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention, the second wiring substrate is a metal foil with a resin, the second wiring substrate is formed by laminating a fiber-containing resin sheet and a metal foil, or The two-wiring substrate is formed by laminating a semi-cured resin sheet and a metal foil and curing the semi-cured resin sheet. According to the present invention, the second wiring substrate can be easily laminated on the first wiring substrate.

本発明に係る多層プリント配線板及び多層プリント配線板の製造方法によれば、バイアホール(第1層バイアホール)を埋める必要が無いことから、バイアホール構造がシンプルで、直上バイアホールの形成が容易な多層プリント配線板、及びそのような多層プリント配線板の製造方法を提供できるという効果を奏する。また、本発明によれば、バイアホール(第1層バイアホール)での配線形成工程を簡略化し、少ない工程でバイアホールでの配線を容易に形成することができるので、製造コストや工数の増大なしに直上バイアホールを有する多層プリント配線板を容易に形成できるという効果を奏する。   According to the multilayer printed wiring board and the method for manufacturing the multilayer printed wiring board according to the present invention, since the via hole (first layer via hole) does not need to be filled, the via hole structure is simple, and the formation of the via hole immediately above is possible. There is an effect that an easy multilayer printed wiring board and a method for producing such a multilayer printed wiring board can be provided. In addition, according to the present invention, the wiring forming process in the via hole (first layer via hole) can be simplified, and the wiring in the via hole can be easily formed with a small number of processes. There is an effect that a multilayer printed wiring board having a via hole directly above can be easily formed.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1〜図7は、本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。なお、図面の見易さなどを考慮して、断面部分を示すハッチングは基本的に省略している。   1-7 is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board based on Embodiment of this invention. Note that hatching indicating a cross-sectional portion is basically omitted in consideration of the visibility of the drawing.

図1(A)は、第1配線基材1の断面を示す。第1配線基材1は、第1絶縁層2、第1絶縁層2の第1表面に接着して積層された配線金属層3f、第1絶縁層2の第2表面に接着して積層された配線金属層3sにより構成される。なお、以下の説明で配線金属層3fと配線金属層3sの区別が不要な場合には配線金属層3と記載する。第1配線基材1は、例えばフレキシブルプリント配線基材(以下、FPC基材ともいう。FPC:Flexible Printed Circuit)である。第1絶縁層2は、例えばポリイミドなどの樹脂層であり、FPC基材のベース材となっている。配線金属層3としては一般的に銅箔が適しており、適宜の接着剤を用いて第1絶縁層2の表面に接着する。つまり、第1配線基材1として両面銅張りFPC基材を用いることができる。   FIG. 1A shows a cross section of the first wiring substrate 1. The first wiring substrate 1 is bonded and stacked on the first insulating layer 2, the wiring metal layer 3 f bonded and stacked on the first surface of the first insulating layer 2, and the second surface of the first insulating layer 2. The wiring metal layer 3s. In the following description, when it is not necessary to distinguish between the wiring metal layer 3f and the wiring metal layer 3s, the wiring metal layer 3 is described. The first wiring substrate 1 is, for example, a flexible printed wiring substrate (hereinafter also referred to as an FPC substrate. FPC: Flexible Printed Circuit). The first insulating layer 2 is, for example, a resin layer such as polyimide, and serves as a base material for the FPC base material. A copper foil is generally suitable as the wiring metal layer 3, and is bonded to the surface of the first insulating layer 2 using an appropriate adhesive. That is, a double-sided copper-clad FPC substrate can be used as the first wiring substrate 1.

FPC基材(第1配線基材1)のベース材(第1絶縁層2)の厚みは通常12.5〜25μm程度とすることが可能であり、例えば樹脂付き銅箔(以下、RCC(Resin Coated Copper)ともいう。)などの樹脂付き金属箔の樹脂厚は通常60〜70μm程度であることから、第1配線基材1として両面に配線金属層を有するFPC基材(例えば両面銅張りFPC基材)を用いることにより、樹脂付き金属箔を2層積層して2層配線基板とする場合に比較して、第1配線基材1の厚さを大幅に薄くすることができ、形成する多層プリント配線板の総厚を薄くすることができる。   The thickness of the base material (first insulating layer 2) of the FPC base material (first wiring base material 1) can usually be about 12.5 to 25 μm, for example, a copper foil with resin (hereinafter referred to as RCC (Resin). The resin thickness of the resin-coated metal foil is usually about 60 to 70 μm, so that the FPC substrate (for example, double-sided copper-clad FPC having a wiring metal layer on both sides as the first wiring substrate 1 is used. By using the base material, the thickness of the first wiring base material 1 can be significantly reduced as compared with the case where two layers of metal foil with resin are laminated to form a two-layer wiring board. The total thickness of the multilayer printed wiring board can be reduced.

図1(B)は、第1配線基材1の配線金属層3sに開口部4を形成した状態の断面を示す。後の工程で形成する第1層バイアホール5(図1(C)参照)のホール径に対応する部分の配線金属層3sをエッチングなどの周知技術を用いて除去することにより配線金属層3sに開口部4を形成する。   FIG. 1B shows a cross section in a state where the opening 4 is formed in the wiring metal layer 3 s of the first wiring substrate 1. A portion of the wiring metal layer 3s corresponding to the hole diameter of the first-layer via hole 5 (see FIG. 1C) to be formed in a later process is removed by using a known technique such as etching to form the wiring metal layer 3s. Opening 4 is formed.

図1(C)は、第1配線基材1の第1絶縁層2に第1層バイアホール5を形成した状態の断面を示す。配線金属層3sの開口部4にレーザービームを照射し、配線金属層3sをエッチングマスクとして開口部4に対応する第1絶縁層2をエッチング除去することにより、第1層バイアホール(レーザーバイアホール)5を形成する。つまり、第1絶縁層2の第2表面(配線金属層3s側)から第1表面(配線金属層3f側)にかけて第1層バイアホールを形成する工程である。第1層バイアホール5をレーザーにより形成することから、精度の高い第1層バイアホール5とすることができる。   FIG. 1C shows a cross section in a state in which the first layer via hole 5 is formed in the first insulating layer 2 of the first wiring substrate 1. By irradiating the opening 4 of the wiring metal layer 3 s with a laser beam and using the wiring metal layer 3 s as an etching mask, the first insulating layer 2 corresponding to the opening 4 is removed by etching, thereby forming a first layer via hole (laser via hole). ) 5 is formed. That is, the first layer via hole is formed from the second surface (wiring metal layer 3s side) of the first insulating layer 2 to the first surface (wiring metal layer 3f side). Since the first layer via hole 5 is formed by laser, the first layer via hole 5 can be formed with high accuracy.

第1層バイアホール5はレーザービームを照射した面(第1絶縁層2の第2表面)が凹状に、逆面(第1絶縁層2の第1表面)は配線金属層3fが存在することから平面状となる。レーザービームの発生手段としては例えば炭酸ガスレーザーを適用することができる。第1層バイアホール5を形成した後、必要に応じて、デスミアなどの周知技術により第1絶縁層2の微小な残渣を除去し、配線金属層3fの裏面(第1絶縁層2に接着していた面)を第1層バイアホール5の側に完全に露出させる。なお、第1層バイアホール5は、レーザービームを照射してエッチングする方法に限らず、その他のエッチング技術を用いて形成しても良いことは言うまでもない。   The first layer via hole 5 has a concave surface on the surface irradiated with the laser beam (second surface of the first insulating layer 2), and a wiring metal layer 3f on the opposite surface (first surface of the first insulating layer 2). It becomes flat from. As the laser beam generating means, for example, a carbon dioxide laser can be applied. After the first layer via hole 5 is formed, if necessary, a minute residue of the first insulating layer 2 is removed by a known technique such as desmear, and the back surface of the wiring metal layer 3f (adhered to the first insulating layer 2). The exposed surface) is completely exposed to the first layer via hole 5 side. Needless to say, the first-layer via hole 5 is not limited to the method of etching by irradiating the laser beam, but may be formed by using other etching techniques.

図1(D)は、第1配線基材1の配線金属層3にメッキ層6f、6sを形成した状態の断面を示す。第1層バイアホール5を形成した後、第1配線基材1の全面にメッキ層6f(配線金属層3fの表面へのメッキ層)、メッキ層6s(配線金属層3sの表面へのメッキ層)を形成する。なお、以下の説明でメッキ層6fとメッキ層6sの区別が不要な場合にはメッキ層6と記載する。メッキ層6は導電率、信頼性、配線金属層3との密着性などを考慮して配線金属層3を銅箔とした場合には銅メッキとすることが好ましい。   FIG. 1D shows a cross section in a state in which the plating layers 6 f and 6 s are formed on the wiring metal layer 3 of the first wiring substrate 1. After forming the first layer via hole 5, a plating layer 6f (plating layer on the surface of the wiring metal layer 3f) and a plating layer 6s (plating layer on the surface of the wiring metal layer 3s) are formed on the entire surface of the first wiring substrate 1. ). In the following description, when it is not necessary to distinguish between the plated layer 6f and the plated layer 6s, the plated layer 6 is described. In consideration of conductivity, reliability, adhesion to the wiring metal layer 3, and the like, the plating layer 6 is preferably copper plated when the wiring metal layer 3 is a copper foil.

メッキ層6の形成に伴って、第1層バイアホール5にはメッキ層6sが延在した形態で第1層バイアホール配線6vが形成される。つまり、第1層バイアホール配線6vは第1層バイアホール5に沿って第1絶縁層2の第2表面から第1表面に向けて凹状に形成され、第1絶縁層2の第1表面にランド部を有する。第1層バイアホール配線6vのランド部は第1絶縁層2の第1表面に形成された配線金属層3fに直接接続されるから、第1層バイアホール配線6vに対応する部分の配線金属層3fを実質的なランド部(図4(K)の配線パターン26a参照)として作用させることができ、以降の工程での接続面とすることができる。   Along with the formation of the plated layer 6, the first layer via hole wiring 6v is formed in the first layer via hole 5 with the plated layer 6s extending. That is, the first layer via hole wiring 6v is formed in a concave shape from the second surface of the first insulating layer 2 toward the first surface along the first layer via hole 5, and is formed on the first surface of the first insulating layer 2. It has a land part. Since the land portion of the first layer via hole wiring 6v is directly connected to the wiring metal layer 3f formed on the first surface of the first insulating layer 2, the portion of the wiring metal layer corresponding to the first layer via hole wiring 6v. 3f can act as a substantial land portion (see the wiring pattern 26a in FIG. 4K), and can be used as a connection surface in subsequent steps.

また、メッキ処理を行う前に、フレックス基板領域21(図2(G)参照)に対応する領域に周知技術によりメッキレジスト7を形成し、その後にメッキ処理を行うことにより、フレックス基板領域21での配線金属層3sの厚みを薄いままの状態にすることができる。これにより、フレックス基板領域21での繰り返し屈曲性の耐久性を向上させ、電子機器への組み込み時の作業性を向上させることができる。また、反対にリジッド基板領域20(図2(G)参照)に対応する領域では、配線金属層3に積層してメッキ層6が形成され、実質的に配線金属層3の厚みを厚くできることから、リジッド基板領域20としての剛性を向上することができる。なお、製造工程を説明する都合から配線金属層3とメッキ層6は別の層として説明するが、配線金属層3とメッキ層6を積層したものを実質的な配線金属層3として扱うことができることは言うまでもない。   Further, before the plating process is performed, a plating resist 7 is formed by a well-known technique in an area corresponding to the flex board area 21 (see FIG. 2G), and then the plating process is performed, so that the flex board area 21 The wiring metal layer 3s can be kept thin. Thereby, durability of the repeated bending property in the flex board | substrate area | region 21 can be improved, and workability | operativity at the time of incorporating in an electronic device can be improved. On the other hand, in the region corresponding to the rigid substrate region 20 (see FIG. 2G), the plating layer 6 is formed by being laminated on the wiring metal layer 3, so that the thickness of the wiring metal layer 3 can be substantially increased. The rigidity of the rigid substrate region 20 can be improved. Although the wiring metal layer 3 and the plating layer 6 will be described as separate layers for the convenience of explaining the manufacturing process, a laminate of the wiring metal layer 3 and the plating layer 6 can be treated as a substantial wiring metal layer 3. Needless to say, you can.

図1(E)は、第1絶縁層2の第2表面に所定の配線パターン8a、8b、8cを形成した状態の断面を示す。メッキ層6を形成した後、第1絶縁層2の第2表面に形成してある配線金属層3s、メッキ層6sをエッチングなどの周知技術により所定のパターン形状に加工して、例えば第1層バイアホール配線6vを含む配線パターン8a、孔配線23h(図3(I)参照)に接続する配線パターン8b、単層配線としての配線パターン8cを形成する。なお、以下の説明で配線パターン8a、配線パターン8b、配線パターン8cの区別が不要な場合には配線パターン8と記載する。また、第1絶縁層2の第1表面に形成してある配線金属層3f、メッキ層6fは適宜エッチングマスクを施してそのままの状態を維持しておく。   FIG. 1E shows a cross section in a state where predetermined wiring patterns 8 a, 8 b, 8 c are formed on the second surface of the first insulating layer 2. After the plating layer 6 is formed, the wiring metal layer 3s and the plating layer 6s formed on the second surface of the first insulating layer 2 are processed into a predetermined pattern shape by a known technique such as etching, for example, the first layer. A wiring pattern 8a including the via hole wiring 6v, a wiring pattern 8b connected to the hole wiring 23h (see FIG. 3I), and a wiring pattern 8c as a single layer wiring are formed. In the following description, when it is not necessary to distinguish between the wiring pattern 8a, the wiring pattern 8b, and the wiring pattern 8c, the wiring pattern 8 is described. Further, the wiring metal layer 3f and the plating layer 6f formed on the first surface of the first insulating layer 2 are appropriately subjected to an etching mask to maintain the state as it is.

図2(F)は、第1絶縁層2の第2表面(第1配線基材1の第2表面)に保護膜9を形成した状態の断面を示す。配線パターン8を形成した面(第1配線基材1の第2表面)の密着性を向上するために配線パターン8の表面を含む第1配線基材1の第2表面に周知技術を用いて粗面化処理、酸処理などを施す。その後、第1配線基材1の配線パターン8を形成した面に保護膜9を貼り付け、中間加工配線基材10Uを形成する。保護膜9としてはポリイミドフィルムに接着層を設けたフィルム状のものを用いたが、これに限るものではなく、適合性があれば他の材料でも良い。   FIG. 2F shows a cross section in a state in which the protective film 9 is formed on the second surface of the first insulating layer 2 (the second surface of the first wiring substrate 1). In order to improve the adhesion of the surface on which the wiring pattern 8 is formed (the second surface of the first wiring substrate 1), a known technique is used for the second surface of the first wiring substrate 1 including the surface of the wiring pattern 8. Roughening treatment, acid treatment, etc. are performed. Then, the protective film 9 is affixed on the surface on which the wiring pattern 8 of the first wiring substrate 1 is formed, and an intermediate processed wiring substrate 10U is formed. Although the film-like thing which provided the adhesive layer in the polyimide film was used as the protective film 9, it is not restricted to this, Other materials may be used if it is compatible.

さらに同図では、中間加工配線基材10Uと同一の工程で製造した中間加工配線基材10Dが中間加工配線基材10Uに対し接着シート11を挟んで対向して配置され、以降の工程のために準備された状態を示す。なお、以下の説明で中間加工配線基材10Uと中間加工配線基材10Dの区別が不要な場合には中間加工配線基材10と記載する。中間加工配線基材10Uと中間加工配線基材10Dとの対向方向は中間加工配線基材10U、10Dの各保護膜9が接着シート11に対向(対面)するようにしている。つまり、第1層バイアホール配線6vの凹状の面が向かい合うように配置する。なお、中間加工配線基材10Dについては、中間加工配線基材10Uと同一の構成であるから、図中での符号は適宜省略する(図2(G)以降の図においても同様とする。)。また、接着シート11には予め中穴加工や切欠き加工を施しておき、中間加工配線基材10が接着シート11に接着する領域と接着しない領域を有するようにしておく。   Furthermore, in the same figure, the intermediate processed wiring base material 10D manufactured in the same process as the intermediate processed wiring base material 10U is disposed opposite to the intermediate processed wiring base material 10U with the adhesive sheet 11 interposed therebetween, for the subsequent processes. Shows the prepared state. In the following description, when it is not necessary to distinguish between the intermediate processed wiring base 10U and the intermediate processed wiring base 10D, the intermediate processed wiring base 10 is described. The opposing direction of the intermediate processed wiring substrate 10U and the intermediate processed wiring substrate 10D is such that each protective film 9 of the intermediate processed wiring substrate 10U, 10D faces (faces) the adhesive sheet 11. That is, the first layer via-hole wiring 6v is disposed so that the concave surfaces face each other. Note that the intermediate processed wiring base material 10D has the same configuration as the intermediate processed wiring base material 10U, and therefore the reference numerals in the drawings are omitted as appropriate (the same applies to the drawings subsequent to FIG. 2G). . Further, the adhesive sheet 11 is subjected to a hole processing or a notch process in advance so that the intermediate processed wiring base material 10 has an area that adheres to the adhesive sheet 11 and an area that does not adhere.

図2(G)は、中間加工配線基材10U、10Dが接着シート11を介して一体成型された状態の多層プリント配線板の断面を示す。図2(F)で示したように接着シート11の両面に対向して配置した中間加工配線基材10U、10Dを積層プレスなどの周知技術にて一体成型することにより形成する。つまり、保護膜9を被覆した2つの第1配線基材1を接着シート11の両面に対向して配置し、保護膜9それぞれを接着シート11に接着する。接着シート11により中間加工配線基材10Uと中間加工配線基材10Dが接着された領域は多層プリント配線板の構造を有し、剛性がさらに向上したリジッド基板領域20を構成する。また、接着シートが無く、中間加工配線基材10Uと中間加工配線基材10Dがそれぞれ個別に存在する領域は第1配線基材1の特性をそのまま維持するので、FPC基材を用いた場合には優れた可撓性を利用してケーブル部(FPCケーブル部)とできるフレックス基板領域21を構成する。つまり、中間加工配線基材10U、10Dは、それぞれリジッド基板領域20及びフレックス基板領域21を備える多層プリント配線板(フレックスリジッド多層プリント配線板)とすることができる。   FIG. 2G shows a cross section of the multilayer printed wiring board in a state in which the intermediate processed wiring base materials 10U and 10D are integrally formed with the adhesive sheet 11 interposed therebetween. As shown in FIG. 2 (F), the intermediate processed wiring base materials 10U and 10D arranged to face both surfaces of the adhesive sheet 11 are integrally formed by a known technique such as a laminating press. That is, the two first wiring substrates 1 coated with the protective film 9 are arranged opposite to both surfaces of the adhesive sheet 11, and each of the protective films 9 is bonded to the adhesive sheet 11. The region where the intermediate processed wiring substrate 10U and the intermediate processed wiring substrate 10D are bonded by the adhesive sheet 11 has the structure of a multilayer printed wiring board, and constitutes a rigid substrate region 20 with further improved rigidity. Moreover, since there is no adhesive sheet and the region where the intermediate processed wiring substrate 10U and the intermediate processed wiring substrate 10D exist individually maintains the characteristics of the first wiring substrate 1, the FPC substrate is used. Constitutes a flex substrate region 21 that can be made into a cable portion (FPC cable portion) by utilizing excellent flexibility. That is, the intermediate processed wiring base materials 10U and 10D can be multilayer printed wiring boards (flex rigid multilayer printed wiring boards) each including a rigid substrate region 20 and a flex substrate region 21.

なお、中間加工配線基材10U、10Dはそれぞれ多層プリント配線板の構造となる領域をリジッド基板領域20、配線基材1が例えば単層で存在する領域をフレックス基板領域21とすれば良く、接着シート11により相互に接着しない場合(中間加工配線基材10を対向して配置しないで、単独で多層プリント配線板とする場合)でもフレックスリジッド多層プリント配線板を構成することができる。このとき、保護膜9によりフレックス基板領域21の配線金属層3s、リジッド基板領域20の配線パターン8を外部から確実に保護することができる。   The intermediate processed wiring base materials 10U and 10D may be formed as a rigid substrate region 20 as a region having a multilayer printed wiring board structure, and a flex substrate region 21 as a region where the wiring base material 1 exists in a single layer, for example. A flex-rigid multilayer printed wiring board can be formed even when the sheets 11 are not bonded to each other (when the intermediate processed wiring substrate 10 is not disposed facing each other and is formed as a multilayer printed wiring board alone). At this time, the protective film 9 can reliably protect the wiring metal layer 3s in the flex substrate region 21 and the wiring pattern 8 in the rigid substrate region 20 from the outside.

同図では、右端をフレックス基板領域21としているが、これに限らず右端をさらに延長してその延長部分をリジッド基板領域とすることも可能である。また、代表例としてフレックスリジッド多層プリント配線板としての構成を示すが、フレックス基板領域21を有しないリジッド基板領域20のみの多層プリント配線板とすることももちろん可能である。   In the figure, the right end is the flex substrate region 21, but the present invention is not limited to this, and the right end can be further extended to make the extended portion a rigid substrate region. In addition, as a representative example, a configuration as a flex-rigid multilayer printed wiring board is shown, but it is of course possible to provide a multilayer printed wiring board having only the rigid board area 20 without the flex board area 21.

なお、中間加工配線基材10Uの第1配線基材1と中間加工配線基材10Dの第1配線基材1とは保護膜9及び接着シート11からなる中間体を介して相互に対向して配置されることから鏡像関係を有するが、各層の配線パターン自体は同一である必要は無く、例えば、中間加工配線基材10Uの配線パターン8と中間加工配線基材10Dの配線パターン8とは異なるパターンであっても良い。また、中間体の構成は保護膜9及び接着シート11に限定されるものではない。   The first wiring substrate 1 of the intermediate processed wiring substrate 10U and the first wiring substrate 1 of the intermediate processed wiring substrate 10D are opposed to each other through an intermediate body made of the protective film 9 and the adhesive sheet 11. However, the wiring pattern of each layer does not need to be the same. For example, the wiring pattern 8 of the intermediate processing wiring substrate 10U and the wiring pattern 8 of the intermediate processing wiring substrate 10D are different. It may be a pattern. Further, the configuration of the intermediate is not limited to the protective film 9 and the adhesive sheet 11.

以下、予備加工配線基材10Uの第1配線基材1と予備加工配線基材10Dの第1配線基材1とを中間体を介して対向配置して張り合わせた形態(鏡像関係を有する形態)のものを多層プリント配線板として説明するが、予備加工配線基材10単独のものに対して以下に示す工程と同様の加工を施した形態の多層プリント配線板とすることができることは言うまでもない。また、以下において、予備加工配線基材10Uと予備加工配線基材10Dとの構成は基本的に共通することから、いずれか一方について説明し、他方については説明を適宜省略する。   Hereinafter, a form in which the first wiring base 1 of the pre-processed wiring base 10U and the first wiring base 1 of the pre-processed wiring base 10D are arranged to face each other via an intermediate (a form having a mirror image relationship). However, it is needless to say that a multilayer printed wiring board having a form similar to that shown in the following steps can be applied to the single prefabricated wiring substrate 10. In the following, since the configuration of the pre-processed wiring substrate 10U and the pre-processed wiring substrate 10D is basically the same, only one of them will be described, and the description of the other will be omitted as appropriate.

図3(H)は、リジッド基板領域20で予備加工配線基材10U、接着シート11、予備加工配線基材10Dを貫通する貫通孔22を形成した状態の断面を示す。中間体の一方(予備加工配線基材10U側)に配置してある第1絶縁層2の第1表面の配線金属層3fと中間体の他方(予備加工配線基材10D側)に配置してある第1絶縁層2の第1表面の配線金属層3fとを相互に接続するために、2つの第1絶縁層2及び中間体にドリルなどの周知技術を用いてインナーバイアホールとなる貫通孔22を形成する。   FIG. 3H shows a cross section in a state in which the through hole 22 penetrating the preliminary processed wiring base material 10U, the adhesive sheet 11, and the preliminary processed wiring base material 10D is formed in the rigid board region 20. The wiring metal layer 3f on the first surface of the first insulating layer 2 arranged on one side of the intermediate body (preliminary processing wiring base material 10U side) and the other side of the intermediate body (preliminary processing wiring base material 10D side) In order to connect the wiring metal layer 3f on the first surface of a certain first insulating layer 2 to each other, a through hole that becomes an inner via hole using a known technique such as a drill for the two first insulating layers 2 and the intermediate body 22 is formed.

図3(I)は、貫通孔22に孔配線23hを形成した状態の断面を示す。貫通孔22を形成した後、多層プリント配線板の全面にメッキ処理を施すことにより、メッキ層6fの表面にさらに重ねてメッキ層23を形成する。つまり、予備加工配線基材10U、10Dの表面にメッキ層23を形成した形態となる。このとき、貫通孔22の側壁にもメッキ層23が同時に形成されるので、孔配線23hを形成することができる。メッキの材料としては上述したとおり、配線金属層3の材質に適合させて銅メッキとすることが好ましい。孔配線23hにより、鏡像関係の一方にある予備加工配線基材10Uの配線金属層3fと鏡像関係の他方にある予備加工配線基材10Dの配線金属層3fは相互に接続される。   FIG. 3I shows a cross section in a state in which the hole wiring 23 h is formed in the through hole 22. After the through hole 22 is formed, the entire surface of the multilayer printed wiring board is subjected to a plating process, so that the plating layer 23 is further overlapped on the surface of the plating layer 6f. That is, the plating layer 23 is formed on the surfaces of the prefabricated wiring substrates 10U and 10D. At this time, since the plating layer 23 is simultaneously formed on the side wall of the through hole 22, the hole wiring 23h can be formed. As described above, the plating material is preferably made of copper plating in accordance with the material of the wiring metal layer 3. By the hole wiring 23h, the wiring metal layer 3f of the prefabricated wiring base material 10U in one of the mirror image relations and the wiring metal layer 3f of the preliminary processing wiring base material 10D in the other of the mirror image relations are connected to each other.

予備加工配線基材10Uの配線金属層3fと予備加工配線基材10Dの配線金属層3fを相互に接続することから、予備加工配線基材10Uの配線金属層3fによる配線パターン26b(図4(K)参照)と予備加工配線基材10Dの配線金属層3fによる配線パターン26bとを接続することになり、設計自由度の大きな配線構造を有する多層プリント配線板とすることができる。なお、配線金属層3fにメッキ層6f、メッキ層23を積層したものを実質的な配線金属層として扱うことができる。また、フレックス基板領域21での保護膜9の表面(接着シート11が存在しない領域の表面)は配線金属層3s、メッキ層6sが存在しないことから、メッキ層23は形成されない。   Since the wiring metal layer 3f of the prefabricated wiring substrate 10U and the wiring metal layer 3f of the prefabricated wiring substrate 10D are connected to each other, the wiring pattern 26b (FIG. K)) is connected to the wiring pattern 26b of the wiring metal layer 3f of the prefabricated wiring substrate 10D, and a multilayer printed wiring board having a wiring structure with a high degree of design freedom can be obtained. Note that the wiring metal layer 3f laminated with the plating layer 6f and the plating layer 23 can be handled as a substantial wiring metal layer. Further, since the wiring metal layer 3s and the plating layer 6s do not exist on the surface of the protective film 9 in the flex substrate region 21 (the surface of the region where the adhesive sheet 11 does not exist), the plating layer 23 is not formed.

図4(J)は、孔配線23hを形成した貫通孔22に埋め込み樹脂24を充填し、さらに予備加工配線基材10の表面にメッキ層25を形成した状態の断面を示す。貫通孔22に絶縁樹脂からなる埋め込み樹脂24を充填し、埋め込み樹脂24の外側表面を平坦化した後、多層プリント配線板の全面に例えば銅メッキなどのメッキ処理を施すことによりメッキ層25を形成する。   FIG. 4J shows a cross section in a state in which the through hole 22 in which the hole wiring 23 h is formed is filled with the embedding resin 24 and the plating layer 25 is formed on the surface of the preliminary processed wiring base material 10. After filling the through hole 22 with an embedding resin 24 made of an insulating resin, and flattening the outer surface of the embedding resin 24, a plating layer 25 is formed by performing a plating process such as copper plating on the entire surface of the multilayer printed wiring board. To do.

図4(K)は、予備加工配線基材10の外側表面(第1配線基材1の第1表面)に配線パターン26a、26b、26cを形成した状態の断面を示す。メッキ層25を形成した後、第1絶縁層2の第1表面に形成してある配線金属層3f、メッキ層6f、23、25をエッチングなどの周知技術により所定のパターン形状に加工して、例えば第1層バイアホール配線6vに接続する配線パターン26a、孔配線23hに接続する配線パターン26b、単層配線としての配線パターン26cを形成する。なお、以下の説明で配線パターン26a、配線パターン26b、配線パターン26cの区別が不要な場合には配線パターン26と記載する。   FIG. 4K shows a cross section in a state in which the wiring patterns 26a, 26b, and 26c are formed on the outer surface of the prefabricated wiring substrate 10 (the first surface of the first wiring substrate 1). After forming the plating layer 25, the wiring metal layer 3f and the plating layers 6f, 23, 25 formed on the first surface of the first insulating layer 2 are processed into a predetermined pattern shape by a known technique such as etching, For example, a wiring pattern 26a connected to the first layer via hole wiring 6v, a wiring pattern 26b connected to the hole wiring 23h, and a wiring pattern 26c as a single layer wiring are formed. In the following description, when it is not necessary to distinguish between the wiring pattern 26a, the wiring pattern 26b, and the wiring pattern 26c, the wiring pattern 26 is described.

このような構成により孔配線23hを介して、相互に鏡像関係を有する2層の配線パターン8b同士、2層の配線パターン26b同士を接続することができ、また、配線パターン8bと配線パターン26bを接続することができる。配線パターン8b、配線パターン26bのパターン形状を適宜変更することにより接続の組み合わせを自由に設定することができるので、さらに設計自由度の大きな多層プリント配線板とすることができる。   With such a configuration, the two wiring patterns 8b having the mirror image relation can be connected to each other via the hole wiring 23h, and the two wiring patterns 26b can be connected to each other. Can be connected. Since the combination of connections can be freely set by appropriately changing the pattern shapes of the wiring pattern 8b and the wiring pattern 26b, a multilayer printed wiring board with a higher degree of design freedom can be obtained.

第1層バイアホール配線6vは配線パターン8aから配線パターン26aの方に向けて凹状をなし、平面状に形成された第1層バイアホール配線6vのランド部はその表面に平面状に積層された配線パターン26aに直接接続されるから、第1層バイアホール配線6vに対する埋め込み工程が不要となる。したがって、製造工程の簡略化、製造コストの低減、層間接続の信頼性向上などを図ることができる。   The first-layer via-hole wiring 6v has a concave shape from the wiring pattern 8a toward the wiring pattern 26a, and the land portion of the first-layer via-hole wiring 6v formed in a planar shape is laminated on the surface in a planar shape. Since it is directly connected to the wiring pattern 26a, an embedding step for the first layer via-hole wiring 6v is not required. Therefore, the manufacturing process can be simplified, the manufacturing cost can be reduced, and the reliability of interlayer connection can be improved.

配線パターン26を形成するとき、同時に、フレックス基板領域21に形成されていた配線金属層3f、メッキ層6f、メッキ層23、25を除去して、フレックス基板領域21での配線を配線金属層3sのみとすることにより、フレックス基板領域21の可撓性をさらに向上することができる。フレックス基板領域21がFPCケーブル部として機能するためには、第1絶縁層2の第1表面、第2表面のいずれか一方のみに配線金属層3が積層してあれば良く、フレックス基板領域21(FPCケーブル部)が片面配線でかつ2重構成(予備加工配線基材10U、10Dの2重構成)の多層プリント配線板を構成することができる。また、フレックス基板領域21での配線金属層3sの膜厚は同一表面(第1絶縁層2の第2表面)に形成された配線パターン8の膜厚より薄くしてあるので、より大きな可撓性を実現することができる。   When the wiring pattern 26 is formed, at the same time, the wiring metal layer 3f, the plating layer 6f, and the plating layers 23 and 25 formed in the flex substrate region 21 are removed, and the wiring in the flex substrate region 21 is connected to the wiring metal layer 3s. By making it only, the flexibility of the flex board | substrate area | region 21 can further be improved. In order for the flex substrate region 21 to function as an FPC cable portion, the wiring metal layer 3 only needs to be laminated on either the first surface or the second surface of the first insulating layer 2. A multilayer printed wiring board in which the (FPC cable portion) is a single-sided wiring and has a double structure (a double structure of pre-processed wiring base materials 10U and 10D) can be formed. Further, since the thickness of the wiring metal layer 3s in the flex substrate region 21 is made thinner than the thickness of the wiring pattern 8 formed on the same surface (the second surface of the first insulating layer 2), a larger flexibility. Can be realized.

図5(L)は、配線パターン26を形成した予備加工配線基材10U、10Dの外側表面にそれぞれ第2配線基材31を積層した状態の断面を示す。配線パターン26を形成した面(第1配線基材1の第1表面:予備加工配線基材10の外側表面)の密着性を向上するために配線パターン26の表面を含む第1配線基材1の第1表面に周知技術を用いて粗面化処理、酸処理などを施す。その後、第1配線基材1の第1表面に第2配線基材31を積層する。これにより、配線パターン26は第2絶縁層32により被覆され、第1絶縁層2の第1表面と第2絶縁層32の第2表面とは対向して接する形態となる。また、第1配線基材1は第2配線基材31に対して中間体の側に配置することとなる。なお、第2配線基材31は、第2絶縁層32と第2絶縁層32の第1表面に積層してある配線金属層33とにより構成される。   FIG. 5L shows a cross section in a state where the second wiring base material 31 is laminated on the outer surface of each of the prefabricated wiring base materials 10U and 10D on which the wiring pattern 26 is formed. The first wiring substrate 1 including the surface of the wiring pattern 26 in order to improve the adhesion of the surface on which the wiring pattern 26 is formed (the first surface of the first wiring substrate 1: the outer surface of the prefabricated wiring substrate 10). The first surface is subjected to a surface roughening treatment, an acid treatment or the like using a known technique. Thereafter, the second wiring substrate 31 is laminated on the first surface of the first wiring substrate 1. Thereby, the wiring pattern 26 is covered with the second insulating layer 32, and the first surface of the first insulating layer 2 and the second surface of the second insulating layer 32 are in contact with each other. Further, the first wiring substrate 1 is arranged on the intermediate body side with respect to the second wiring substrate 31. The second wiring substrate 31 is composed of a second insulating layer 32 and a wiring metal layer 33 laminated on the first surface of the second insulating layer 32.

第2配線基材31を樹脂付き金属箔とする場合は、予備加工配線基材10U、10Dに対して第2配線基材31を積層プレスにより容易に積層することができる。樹脂付き金属箔としては、例えばRCC(Resin Coated Copper:樹脂付き銅箔)を用いることが好ましい。また、第2絶縁層32として繊維入り樹脂シート、又は半硬化樹脂シートを用いた場合は、第2絶縁層32と配線金属層33を同時に積層することにより第2配線基材31を容易に積層することができ、RCCと同等の構成、作用を実現できる。繊維入り樹脂シートとしては例えばガラス繊維入り樹脂シート(プリプレグ)を用いることが好ましく、配線金属層33としては銅箔を用いることが好ましい。また、半硬化樹脂シート(ボンディングシート)の場合には積層と同時に加熱して硬化することにより第2配線基材31を容易に形成することができる。   In the case where the second wiring base 31 is a resin-coated metal foil, the second wiring base 31 can be easily stacked on the pre-processed wiring bases 10U and 10D by a stacking press. As the metal foil with resin, for example, RCC (Resin Coated Copper) is preferably used. When a fiber-containing resin sheet or a semi-cured resin sheet is used as the second insulating layer 32, the second wiring substrate 31 can be easily laminated by simultaneously laminating the second insulating layer 32 and the wiring metal layer 33. It is possible to achieve the same configuration and operation as the RCC. For example, a glass fiber-containing resin sheet (prepreg) is preferably used as the fiber-containing resin sheet, and a copper foil is preferably used as the wiring metal layer 33. In the case of a semi-cured resin sheet (bonding sheet), the second wiring substrate 31 can be easily formed by heating and curing simultaneously with the lamination.

図5(M)は、第2絶縁層32の第1表面に積層された配線金属層33に開口部34a、34bを形成した状態の断面を示す。後の工程で形成する第2層バイアホール35a、35b(図6(N)参照)のホール径に対応する部分の配線金属層33をエッチングなどの周知技術を用いて除去することにより配線金属層33に開口部34a、34bを形成する。ここでは、開口部34aは配線パターン26aに対して位置合わせを行い、開口部34bは配線パターン26bに対して位置合わせをしている。なお、以下の説明で開口部34a、開口部34bの区別が不要な場合には開口部34と記載する。   FIG. 5M shows a cross section in a state in which openings 34 a and 34 b are formed in the wiring metal layer 33 laminated on the first surface of the second insulating layer 32. A portion of the wiring metal layer 33 corresponding to the hole diameter of the second layer via holes 35a and 35b (see FIG. 6 (N)) to be formed in a later step is removed by using a known technique such as etching to thereby form a wiring metal layer. Openings 34 a and 34 b are formed in 33. Here, the opening 34a is aligned with the wiring pattern 26a, and the opening 34b is aligned with the wiring pattern 26b. In the following description, when it is not necessary to distinguish between the opening 34a and the opening 34b, they are referred to as the opening 34.

図6(N)は、第2絶縁層32に第2層バイアホール35a、35bを形成し、その後さらにメッキ層36を形成した状態の断面を示す。図1(C)の場合と同様にして、配線金属層33の開口部34にレーザービームを照射し、配線金属層33をエッチングマスクとして開口部34に対応する第2絶縁層32をエッチング除去することにより、第2層バイアホール(レーザーバイアホール)35a、35bを形成する。なお、以下の説明で第2層バイアホール35a、第2層バイアホール35bの区別が不要な場合には第2層バイアホール35と記載する。第2層バイアホール35を形成した後、必要に応じて、デスミアなどの周知技術により第2絶縁層32の微小な残渣を除去し、配線パターン26の表面(メッキ層25の表面)を第2層バイアホール35の側に完全に露出する。   FIG. 6N shows a cross section in a state in which the second layer via holes 35a and 35b are formed in the second insulating layer 32, and then the plated layer 36 is further formed. Similarly to the case of FIG. 1C, the opening 34 of the wiring metal layer 33 is irradiated with a laser beam, and the second insulating layer 32 corresponding to the opening 34 is etched away using the wiring metal layer 33 as an etching mask. Thus, second layer via holes (laser via holes) 35a and 35b are formed. In the following description, when it is not necessary to distinguish between the second layer via hole 35a and the second layer via hole 35b, they are referred to as a second layer via hole 35. After forming the second layer via hole 35, if necessary, a minute residue of the second insulating layer 32 is removed by a known technique such as desmear, and the surface of the wiring pattern 26 (the surface of the plating layer 25) is changed to the second. The layer via hole 35 is completely exposed.

その後、図1(D)の場合と同様にして、多層プリント配線板の全面に例えば銅メッキなどのメッキ処理を施すことによりメッキ層36を形成する。メッキ層36の形成に伴って、第2層バイアホール35にはメッキ層36が延在した形態で第2層バイアホール配線36vが形成される。つまり、第2層バイアホール配線36vは第2層バイアホール35に沿って第2絶縁層32の第1表面から第2表面に向けて凹状に形成され、第2絶縁層32の第2表面にランド部を有する。第2層バイアホール配線36vのランド部は第1絶縁層2の第1表面に形成された配線パターン26に直接接続されるから、配線パターン26のメッキ層25を実質的なランド部として作用させることができ、前の工程に対する接続面とすることができる。   Thereafter, similarly to the case of FIG. 1D, a plating layer 36 is formed on the entire surface of the multilayer printed wiring board by performing a plating process such as copper plating. Along with the formation of the plated layer 36, the second layer via hole wiring 36v is formed in the second layer via hole 35 in a form in which the plated layer 36 extends. That is, the second layer via hole wiring 36v is formed in a concave shape along the second layer via hole 35 from the first surface of the second insulating layer 32 toward the second surface, and is formed on the second surface of the second insulating layer 32. It has a land part. Since the land portion of the second layer via-hole wiring 36v is directly connected to the wiring pattern 26 formed on the first surface of the first insulating layer 2, the plated layer 25 of the wiring pattern 26 acts as a substantial land portion. And can be a connecting surface for the previous step.

図6(O)は、配線パターン38a、38b、38cを形成した状態の断面を示す。メッキ層36を形成した後、メッキ層36、第2絶縁層32の第1表面に形成してある配線金属層33をエッチングなどの周知技術により所定のパターン形状に加工して、例えば配線パターン26aに接続する配線パターン38a、配線パターン26bに接続する配線パターン38b、単層配線としての配線パターン38cを形成する。なお、以下の説明で配線パターン38a、配線パターン38b、配線パターン38cの区別が不要な場合には配線パターン38と記載する。配線パターン38a、配線パターン38bはそれぞれ第2層バイアホール配線36vと一体に形成してある。この後、周知のソルダーレジスト、パターン表面処理、外形加工、検査工程を経て多層プリント配線板として完成する。   FIG. 6O shows a cross section in a state in which the wiring patterns 38a, 38b, and 38c are formed. After the plating layer 36 is formed, the wiring metal layer 33 formed on the first surface of the plating layer 36 and the second insulating layer 32 is processed into a predetermined pattern shape by a known technique such as etching, for example, the wiring pattern 26a. A wiring pattern 38a connected to the wiring pattern 38b, a wiring pattern 38b connected to the wiring pattern 26b, and a wiring pattern 38c as a single-layer wiring are formed. In the following description, when it is not necessary to distinguish the wiring pattern 38a, the wiring pattern 38b, and the wiring pattern 38c, they are referred to as a wiring pattern 38. The wiring pattern 38a and the wiring pattern 38b are each formed integrally with the second layer via hole wiring 36v. Thereafter, a multilayer printed wiring board is completed through a known solder resist, pattern surface treatment, external shape processing, and inspection process.

第2層バイアホール35aに形成された第2層バイアホール配線36vは配線パターン26aに重畳してある。したがって、第1層バイアホール配線6vと第2層バイアホール配線36vとは第1配線基材1及び第2配線基材31の積層方向で重畳している。配線パターン26aは第1層バイアホール配線6vと第2層バイアホール配線36vとを接続する接続面となることから、第1層バイアホール配線6vと第2層バイアホール配線36vとを重畳方向で直接接続することができ、第1層バイアホール配線6vと第2層バイアホール配線36vとの相互接続を最短距離ですることとなるので、配線抵抗の低減を図ることができる。また、第1層バイアホール配線6vと第2層バイアホール配線36vとを重畳することができるので、バイアホールの配置の最適化が可能となり、ビルドアップ工法による直上バイアホールの形成の簡易化、形状の安定化、相互接続の信頼性向上が可能となる。   The second layer via hole wiring 36v formed in the second layer via hole 35a is superimposed on the wiring pattern 26a. Therefore, the first layer via hole wiring 6v and the second layer via hole wiring 36v overlap in the stacking direction of the first wiring substrate 1 and the second wiring substrate 31. Since the wiring pattern 26a serves as a connection surface connecting the first layer via hole wiring 6v and the second layer via hole wiring 36v, the first layer via hole wiring 6v and the second layer via hole wiring 36v are overlapped with each other. Since direct connection is possible and the interconnection between the first layer via hole wiring 6v and the second layer via hole wiring 36v is the shortest distance, the wiring resistance can be reduced. In addition, since the first layer via hole wiring 6v and the second layer via hole wiring 36v can be overlapped, it becomes possible to optimize the arrangement of the via holes, and simplification of the formation of the via hole directly by the build-up method, It is possible to stabilize the shape and improve the reliability of interconnection.

なお、第1層バイアホール配線6vと第2層バイアホール配線36vとは必ずしも重畳させる必要は無く、設計される配線パターンに応じて適宜設定されるものである。また、第1層バイアホール配線6v、第2層バイアホール配線36vを相互に接続することなく、それぞれ独立した配線として形成しても良いことは言うまでもない。   Note that the first-layer via hole wiring 6v and the second-layer via hole wiring 36v do not necessarily overlap each other, and are appropriately set according to the designed wiring pattern. Needless to say, the first-layer via-hole wiring 6v and the second-layer via-hole wiring 36v may be formed as independent wirings without being connected to each other.

また、配線パターン26bには第2層バイアホール35bに形成された第2層バイアホール配線36vが接続されている。これにより、第2層バイアホール配線36vは孔配線23hに接続されることになる。つまり、鏡像関係にある一方の第2層バイアホール配線36vは孔配線23hを介して鏡像関係にある他方の第2層バイアホール配線36vと接続することができ、多層プリント配線板の設計自由度を向上することができる。   A second layer via hole wiring 36v formed in the second layer via hole 35b is connected to the wiring pattern 26b. As a result, the second-layer via-hole wiring 36v is connected to the hole wiring 23h. In other words, one second-layer via hole wiring 36v in the mirror image relationship can be connected to the other second layer via hole wiring 36v in the mirror image relationship via the hole wiring 23h, and the degree of freedom in designing the multilayer printed wiring board Can be improved.

鏡像関係にある一方の配線パターン8、配線パターン26、配線パターン38により、接着シート11に対する片面では3層の多層プリント配線板を構成することができる。したがって、鏡像関係にある接着シート11の両面では全体で6層の多層プリント配線板とすることができる。なお、配線パターン自体は各層で自由に設計でき、各層の配線パターンのパターン形状自体は鏡像関係を有する必要が無いことはいうまでも無い。   With one wiring pattern 8, wiring pattern 26, and wiring pattern 38 having a mirror image relationship, a three-layer multilayer printed wiring board can be formed on one side of the adhesive sheet 11. Accordingly, a total of 6 layers of multilayer printed wiring boards can be formed on both surfaces of the adhesive sheet 11 having a mirror image relationship. Needless to say, the wiring pattern itself can be freely designed in each layer, and the pattern shape of the wiring pattern in each layer does not need to have a mirror image relationship.

図7は、リジッド基板領域20で予備加工配線基材10U、10D、接着シート11、及び鏡像関係に配置された2つの第2配線基材31を貫通する貫通孔42に孔配線36hを形成し、さらに配線パターン38a、38b、38c、38dを形成した状態の断面を示す。図1ないし図6と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。まず、図5(M)で示す状態にある多層プリント配線板について、中間体の一方に配置された第1配線基材1に積層してある第2配線基材31(第2絶縁層32の第1表面)の配線金属層33と中間体の他方に配置された第1配線基材1に積層してある第2配線基材31(第2絶縁層32の第1表面)の配線金属層33とを相互に接続するために、鏡像関係を有する2つの第2配線基材31(第2絶縁層32)、鏡像関係を有する2つの第1配線基材1(第1絶縁層2)及び中間体にドリルなどの周知技術を用いてアウターバイアホールとなる貫通孔42を形成する。   FIG. 7 shows that the hole wiring 36h is formed in the through hole 42 penetrating the preliminary processing wiring base materials 10U and 10D, the adhesive sheet 11, and the two second wiring base materials 31 arranged in a mirror image relation in the rigid board region 20. Furthermore, the cross section of the state which formed wiring pattern 38a, 38b, 38c, 38d is shown. The same parts as those in FIGS. 1 to 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. First, for the multilayer printed wiring board in the state shown in FIG. 5 (M), the second wiring base 31 (the second insulating layer 32 of the second insulating layer 32) laminated on the first wiring base 1 disposed on one of the intermediate bodies. The wiring metal layer of the second wiring substrate 31 (the first surface of the second insulating layer 32) laminated on the wiring metal layer 33 of the first surface and the first wiring substrate 1 disposed on the other of the intermediates. 33, two second wiring base materials 31 (second insulating layer 32) having a mirror image relationship, two first wiring base materials 1 (first insulating layer 2) having a mirror image relationship, and A through hole 42 serving as an outer via hole is formed in the intermediate body using a known technique such as a drill.

その後、図6(N)で示したように第2層バイアホール35a、35bを形成し、さらに多層プリント配線板の全面に例えば銅メッキなどのメッキ処理を施してメッキ層36を形成することにより、貫通孔42に孔配線36hを形成する。これにより、鏡像関係の一方の位置にある第2絶縁層32の第1表面の配線金属層33と鏡像関係の他方の位置にある第2絶縁層32の第1表面の配線金属層33とが第1絶縁層2、第2絶縁層32及び中間体(保護膜9、接着シート11)を貫通する貫通孔42に形成された孔配線36hを介して相互に接続されることになる。   Thereafter, second layer via holes 35a and 35b are formed as shown in FIG. 6 (N), and further, a plating process such as copper plating is performed on the entire surface of the multilayer printed wiring board to form a plated layer 36. The hole wiring 36h is formed in the through hole 42. Thus, the wiring metal layer 33 on the first surface of the second insulating layer 32 at one position in the mirror image relation and the wiring metal layer 33 on the first surface of the second insulating layer 32 in the other position in the mirror image relation are obtained. The first insulating layer 2, the second insulating layer 32, and the intermediate body (the protective film 9, the adhesive sheet 11) are connected to each other via a hole wiring 36 h formed in the through hole 42.

さらに、図6(O)で示したようにエッチングなどの周知技術により所定のパターン形状に加工して例えば配線パターン26aに接続する配線パターン38a、配線パターン26bに接続する配線パターン38b、単層配線としての配線パターン38c、孔配線36hに接続する配線パターン38dを形成する。この後、周知のソルダーレジスト、パターン表面処理、外形加工、検査工程を経て多層プリント配線板として完成する。   Further, as shown in FIG. 6 (O), a wiring pattern 38a connected to the wiring pattern 26a, a wiring pattern 38b connected to the wiring pattern 26b, and a single-layer wiring are processed into a predetermined pattern shape by a known technique such as etching. As a wiring pattern 38c, a wiring pattern 38d connected to the hole wiring 36h is formed. Thereafter, a multilayer printed wiring board is completed through a known solder resist, pattern surface treatment, external shape processing, and inspection process.

このような構成により孔配線23hの作用と同様な接続作用を実現できる。つまり、孔配線36hを介して、相互に鏡像関係を有する2つの配線パターン38d同士を接続することができ、また、配線パターン8c、配線パターン26cと配線パターン38dとを接続することができるので、さらに設計自由度の大きな多層プリント配線板とすることができる。   With such a configuration, a connection effect similar to that of the hole wiring 23h can be realized. That is, the two wiring patterns 38d having a mirror image relation can be connected to each other via the hole wiring 36h, and the wiring pattern 8c, the wiring pattern 26c, and the wiring pattern 38d can be connected. Furthermore, it can be set as a multilayer printed wiring board with a big design freedom.

本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る多層プリント配線板の製造工程の概略を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the outline of the manufacturing process of the multilayer printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 従来の多層プリント配線板での製造工程の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the manufacturing process in the conventional multilayer printed wiring board. 従来の多層プリント配線板での製造工程の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the manufacturing process in the conventional multilayer printed wiring board. 従来の多層プリント配線板での製造工程の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the manufacturing process in the conventional multilayer printed wiring board. 従来の多層プリント配線板での製造工程の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the manufacturing process in the conventional multilayer printed wiring board. 従来の多層プリント配線板での製造工程の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the manufacturing process in the conventional multilayer printed wiring board.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1配線基材
2 第1絶縁層
3、3f、3s 配線金属層
4 開口部
5 第1層バイアホール
6、6f、6s メッキ層
6v 第1層バイアホール配線
7 メッキレジスト
8、8a、8b、8c 配線パターン
9 保護膜
10、10U、10D 予備加工配線基材
11 接着シート
20 リジッド基板領域
21 フレックス基板領域
22 貫通孔
23 メッキ層
23h 孔配線
24 埋め込み樹脂
25 メッキ層
26、26a、26b、26c 配線パターン
31 第2配線基材
32 第2絶縁層
33 配線金属層
34、34a、34b 開口部
35、35a、35b 第2層バイアホール
36 メッキ層
36h 孔配線
36v 第2層バイアホール配線
38a、38b、38c 配線パターン
42 貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st wiring base material 2 1st insulating layer 3, 3f, 3s wiring metal layer 4 opening part 5 1st layer via hole 6, 6f, 6s plating layer 6v 1st layer via hole wiring 7 plating resist 8, 8a, 8b 8c Wiring pattern 9 Protective film 10, 10U, 10D Prefabricated wiring substrate 11 Adhesive sheet 20 Rigid board area 21 Flex board area 22 Through hole 23 Plating layer 23h Hole wiring 24 Embedded resin 25 Plating layer 26, 26a, 26b, 26c Wiring pattern 31 Second wiring substrate 32 Second insulating layer 33 Wiring metal layer 34, 34a, 34b Opening 35, 35a, 35b Second layer via hole 36 Plating layer 36h Hole wiring 36v Second layer via hole wiring 38a, 38b 38c Wiring pattern 42 Through hole

Claims (39)

第1層バイアホールが形成された第1絶縁層及び該第1絶縁層の第1表面、第2表面にそれぞれ積層された配線金属層を有する第1配線基材と、第2層バイアホールが形成された第2絶縁層及び該第2絶縁層の第1表面に積層された配線金属層を有する第2配線基材とを積層した多層プリント配線板であって、
前記第1絶縁層の第1表面と前記第2絶縁層の第2表面は対向しており、
前記第1層バイアホールには前記第1絶縁層の第2表面から第1表面に向けて凹状をなし前記第1絶縁層の第1表面にランド部を有する第1層バイアホール配線が形成してある
ことを特徴とする多層プリント配線板。
A first insulating layer having a first layer via hole, a first wiring substrate having a wiring metal layer laminated on the first surface and the second surface of the first insulating layer, and a second layer via hole; A multilayer printed wiring board in which a formed second insulating layer and a second wiring substrate having a wiring metal layer laminated on the first surface of the second insulating layer are laminated,
The first surface of the first insulating layer and the second surface of the second insulating layer are opposed to each other,
The first layer via hole is formed with a first layer via hole wiring having a concave shape from the second surface of the first insulating layer toward the first surface and having a land portion on the first surface of the first insulating layer. A multilayer printed wiring board characterized by
前記第2層バイアホールには前記第2絶縁層の第1表面から第2表面に向けて凹状をなし前記第2絶縁層の第2表面にランド部を有する第2層バイアホール配線が形成してあることを特徴とする請求項1に記載の多層プリント配線板。   In the second layer via hole, a second layer via hole wiring having a concave shape from the first surface of the second insulating layer toward the second surface and having a land portion on the second surface of the second insulating layer is formed. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the multilayer printed wiring board is provided. 前記第1層バイアホール配線と前記第2層バイアホール配線とは前記第1配線基材及び第2配線基材の積層方向で重畳していることを特徴とする請求項2に記載の多層プリント配線板。   3. The multilayer print according to claim 2, wherein the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are overlapped in a stacking direction of the first wiring base and the second wiring base. Wiring board. 前記第1層バイアホール配線と第2層バイアホール配線とは接続してあることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の多層プリント配線板。   4. The multilayer printed wiring board according to claim 2, wherein the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are connected. 前記第1絶縁層の膜厚は前記第2絶縁層の膜厚より薄いことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一つに記載の多層プリント配線板。   5. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein a thickness of the first insulating layer is smaller than a thickness of the second insulating layer. 前記第1配線基材はフレキシブルプリント配線基材であることを特徴とする請求項5に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 5, wherein the first wiring substrate is a flexible printed wiring substrate. 前記第2配線基材は樹脂付き金属箔であることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 5 or 6, wherein the second wiring substrate is a metal foil with resin. 前記第2絶縁層は繊維入り樹脂シートであることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 5, wherein the second insulating layer is a fiber-containing resin sheet. 前記第2絶縁層は半硬化樹脂シートを硬化したものあることを特徴とする請求項5または請求項6に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 5 or 6, wherein the second insulating layer is obtained by curing a semi-cured resin sheet. 前記第1配線基材と第2配線基材とが積層してあるリジッド基板領域と、
前記第1配線基材が前記第2配線基材よりさらに延在してあるフレックス基板領域と
を備えることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか一つに記載の多層プリント配線板。
A rigid substrate region in which the first wiring substrate and the second wiring substrate are laminated;
The multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 9, wherein the first wiring substrate includes a flex substrate region further extending from the second wiring substrate.
前記フレックス基板領域では、前記第1絶縁層の第1表面、第2表面のいずれか一方のみに配線金属層が積層してあることを特徴とする請求項10に記載の多層プリント配線板。   11. The multilayer printed wiring board according to claim 10, wherein a wiring metal layer is laminated on only one of the first surface and the second surface of the first insulating layer in the flex substrate region. 前記フレックス基板領域で前記第1絶縁層の第1表面、第2表面のいずれか一方のみに積層してある配線金属層の膜厚が前記リジッド基板領域で前記第1絶縁層の第2表面に積層してある配線金属層の膜厚より薄いことを特徴とする請求項11に記載の多層プリント配線板。   The thickness of the wiring metal layer laminated on only one of the first surface and the second surface of the first insulating layer in the flex substrate region is equal to the second surface of the first insulating layer in the rigid substrate region. The multilayer printed wiring board according to claim 11, wherein the multilayer printed wiring board is thinner than a thickness of the laminated wiring metal layer. 請求項1ないし請求項12のいずれか一つに記載の多層プリント配線板の2枚が中間体を介して相互に対向して配置してあることを特徴とする多層プリント配線板。   A multilayer printed wiring board, wherein two of the multilayer printed wiring boards according to any one of claims 1 to 12 are arranged to face each other via an intermediate. 前記第1配線基材は第2配線基材に対して前記中間体の側に配置してあることを特徴とする請求項13に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 13, wherein the first wiring substrate is disposed on the intermediate body side with respect to the second wiring substrate. 前記中間体は、前記第1配線基材の第2表面を被覆する保護膜及び該保護膜を相互に対向させて接着する接着シートにより構成してあることを特徴とする請求項14に記載の多層プリント配線板。   The said intermediate body is comprised by the adhesive film which adhere | attaches the protective film which coat | covers the 2nd surface of the said 1st wiring base material, and this protective film mutually opposed. Multilayer printed wiring board. 前記接着シートは前記リジッド基板領域に対応する領域に配置してあることを特徴とする請求項15に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 15, wherein the adhesive sheet is disposed in a region corresponding to the rigid substrate region. 前記中間体の一方に配置してある前記第1絶縁層の第1表面の配線金属層と前記中間体の他方に配置してある前記第1絶縁層の第1表面の配線金属層とは2つの前記第1絶縁層及び中間体を貫通する貫通孔に形成された孔配線を介して相互に接続してあることを特徴とする請求項14ないし請求項16のいずれか一つに記載の多層プリント配線板。   The wiring metal layer on the first surface of the first insulating layer arranged on one side of the intermediate body and the wiring metal layer on the first surface of the first insulating layer arranged on the other side of the intermediate body are 2 The multilayer according to any one of claims 14 to 16, wherein the multilayers are connected to each other through a hole wiring formed in a through hole penetrating the first insulating layer and the intermediate body. Printed wiring board. 前記孔配線は前記第2層バイアホール配線に接続してあることを特徴とする請求項17に記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 17, wherein the hole wiring is connected to the second layer via hole wiring. 前記中間体の一方に配置してある前記第2絶縁層の第1表面の配線金属層と前記中間体の他方に配置してある前記第2絶縁層の第1表面の配線金属層とは2つの前記第1絶縁層、2つの前記第2絶縁層及び中間体を貫通する貫通孔に形成された孔配線を介して相互に接続してあることを特徴とする請求項14ないし請求項18のいずれか一つに記載の多層プリント配線板。   The wiring metal layer on the first surface of the second insulating layer disposed on one side of the intermediate body and the wiring metal layer on the first surface of the second insulating layer disposed on the other side of the intermediate body are 2 19. The device according to claim 14, wherein the first insulating layer, the two second insulating layers, and the intermediate body are connected to each other via a hole wiring formed in a through hole. The multilayer printed wiring board as described in any one. 第1絶縁層及び該第1絶縁層の第1表面、第2表面にそれぞれ積層された配線金属層を有する第1配線基材と、第2絶縁層及び該第2絶縁層の第1表面に積層された配線金属層を有する第2配線基材とを積層した多層プリント配線板の製造方法であって、
前記第1絶縁層の第2表面から第1表面にかけて第1層バイアホールを形成する工程と、
前記第1層バイアホールに第1絶縁層の第2表面から第1表面に向けて凹状をなし前記第1絶縁層の第1表面にランド部を有する第1層バイアホール配線を形成する工程と、
前記第1絶縁層の第1表面及び前記第2絶縁層の第2表面を対向して積層する工程と、
前記第2絶縁層の第1表面から第2表面にかけて第2層バイアホールを形成する工程と、
前記第2層バイアホールに第2層バイアホール配線を形成する工程と
を備えることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
A first wiring substrate having a first insulating layer and a wiring metal layer laminated on each of the first surface and the second surface of the first insulating layer; and a second insulating layer and a first surface of the second insulating layer. A method for producing a multilayer printed wiring board in which a second wiring substrate having a laminated wiring metal layer is laminated,
Forming a first layer via hole from the second surface of the first insulating layer to the first surface;
Forming a first layer via hole wiring having a concave shape in the first layer via hole from the second surface of the first insulating layer toward the first surface and having a land portion on the first surface of the first insulating layer; ,
Laminating the first surface of the first insulating layer and the second surface of the second insulating layer facing each other;
Forming a second layer via hole from the first surface to the second surface of the second insulating layer;
Forming a second layer via hole wiring in the second layer via hole. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising:
前記第2層バイアホール配線は前記第2絶縁層の第1表面から第2表面に向けて凹状をなし前記第2絶縁層の第2表面にランド部を有することを特徴とする請求項20に記載の多層プリント配線板の製造方法。   21. The second-layer via-hole wiring according to claim 20, wherein the second-layer via-hole wiring has a concave shape from the first surface of the second insulating layer toward the second surface, and has a land portion on the second surface of the second insulating layer. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board as described. 前記第1層バイアホール配線と前記第2層バイアホール配線とは前記第1配線基材及び第2配線基材の積層方向で重畳していることを特徴とする請求項21に記載の多層プリント配線板の製造方法。   The multilayer print according to claim 21, wherein the first layer via-hole wiring and the second layer via-hole wiring overlap each other in the stacking direction of the first wiring substrate and the second wiring substrate. A method for manufacturing a wiring board. 前記第1層バイアホール配線と第2層バイアホール配線とは接続してあることを特徴とする請求項21または請求項22に記載の多層プリント配線板の製造方法。   23. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 21, wherein the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are connected to each other. 前記第1層バイアホール及び第2層バイアホールはレーザー加工により形成することを特徴とする請求項20ないし請求項23のいずれか一つに記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 20 to 23, wherein the first layer via hole and the second layer via hole are formed by laser processing. 前記第1層バイアホール配線及び第2層バイアホール配線はメッキ処理により形成することを特徴とする請求項20ないし請求項24のいずれか一つに記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 20 to 24, wherein the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are formed by plating. 第1配線基材はフレキシブルプリント配線基材であることを特徴とする請求項20ないし請求項25のいずれか一つに記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 20 to 25, wherein the first wiring substrate is a flexible printed wiring substrate. 第2配線基材は樹脂付き金属箔であることを特徴とする請求項26に記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 26, wherein the second wiring substrate is a metal foil with resin. 第2配線基材は繊維入り樹脂シートと金属箔を積層して形成することを特徴とする請求項26に記載の多層プリント配線板の製造方法。   27. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 26, wherein the second wiring substrate is formed by laminating a fiber-containing resin sheet and a metal foil. 第2配線基材は半硬化樹脂シートと金属箔を積層し、半硬化樹脂シートを硬化して形成することを特徴とする請求項26に記載の多層プリント配線板の製造方法。   27. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 26, wherein the second wiring substrate is formed by laminating a semi-cured resin sheet and a metal foil and curing the semi-cured resin sheet. 第1絶縁層及び該第1絶縁層の第1表面、第2表面にそれぞれ積層された配線金属層を有する第1配線基材と、第2絶縁層及び該第2絶縁層の第1表面に積層された配線金属層を有する第2配線基材とを積層した多層プリント配線板の2枚を対向して配置した多層プリント配線板の製造方法であって、
前記第1絶縁層の第2表面から第1表面にかけて第1層バイアホールを形成し、該第1層バイアホールに前記第1絶縁層の第2表面から第1表面に向けて凹状をなし前記第1絶縁層の第1表面にランド部を有する第1層バイアホール配線を形成する工程と、
前記第1配線基材の第2表面に保護膜を被覆する工程と、
前記保護膜を被覆した2つの第1配線基材を接着シートの両面に対向して配置し、前記保護膜それぞれを前記接着シートに接着する工程と、
前記第1絶縁層の第1表面及び前記第2絶縁層の第2表面を対向して積層する工程と、
前記第2絶縁層の第1表面から第2表面にかけて第2層バイアホールを形成し、該第2層バイアホールに第2層バイアホール配線を形成する工程と
を備えることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
A first wiring substrate having a first insulating layer and a wiring metal layer laminated on each of the first surface and the second surface of the first insulating layer; and a second insulating layer and a first surface of the second insulating layer. A method for producing a multilayer printed wiring board in which two multilayer printed wiring boards laminated with a second wiring substrate having a laminated wiring metal layer are disposed facing each other,
Forming a first layer via hole from the second surface of the first insulating layer to the first surface, and forming a concave shape in the first layer via hole from the second surface of the first insulating layer toward the first surface; Forming a first layer via hole wiring having a land portion on a first surface of the first insulating layer;
Covering the second surface of the first wiring substrate with a protective film;
Arranging the two first wiring substrates coated with the protective film opposite to both surfaces of the adhesive sheet, and bonding each of the protective films to the adhesive sheet;
Laminating the first surface of the first insulating layer and the second surface of the second insulating layer facing each other;
Forming a second layer via hole from the first surface to the second surface of the second insulating layer, and forming a second layer via hole wiring in the second layer via hole. A method for manufacturing a wiring board.
前記第2層バイアホール配線は前記第2絶縁層の第1表面から第2表面に向けて凹状をなし前記第2絶縁層の第2表面にランド部を有することを特徴とする請求項30に記載の多層プリント配線板の製造方法。   32. The second layer via hole wiring according to claim 30, wherein the second layer via hole wiring has a concave shape from the first surface of the second insulating layer toward the second surface, and has a land portion on the second surface of the second insulating layer. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board as described. 前記第1層バイアホール配線と前記第2層バイアホール配線とは前記第1配線基材及び第2配線基材の積層方向で重畳していることを特徴とする請求項31に記載の多層プリント配線板の製造方法。   32. The multilayer print according to claim 31, wherein the first layer via-hole wiring and the second layer via-hole wiring overlap each other in the stacking direction of the first wiring substrate and the second wiring substrate. A method for manufacturing a wiring board. 前記第1層バイアホール配線と第2層バイアホール配線とは接続してあることを特徴とする請求項31または請求項32に記載の多層プリント配線板の製造方法。   33. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 31, wherein the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are connected to each other. 前記第1層バイアホール及び第2層バイアホールはレーザー加工により形成することを特徴とする請求項30ないし請求項33のいずれか一つに記載の多層プリント配線板の製造方法。   34. The method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 30, wherein the first layer via hole and the second layer via hole are formed by laser processing. 前記第1層バイアホール配線及び第2層バイアホール配線はメッキ処理により形成することを特徴とする請求項30ないし請求項34のいずれか一つに記載の多層プリント配線板の製造方法。   35. The method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 30, wherein the first layer via hole wiring and the second layer via hole wiring are formed by plating. 第1配線基材はフレキシブルプリント配線基材であることを特徴とする請求項30ないし請求項35のいずれか一つに記載の多層プリント配線板の製造方法。   36. The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 30 to 35, wherein the first wiring substrate is a flexible printed wiring substrate. 第2配線基材は樹脂付き金属箔であることを特徴とする請求項36に記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 36, wherein the second wiring substrate is a metal foil with resin. 第2配線基材は繊維入り樹脂シートと金属箔を積層して形成することを特徴とする請求項36に記載の多層プリント配線板の製造方法。   37. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 36, wherein the second wiring substrate is formed by laminating a fiber-containing resin sheet and a metal foil. 第2配線基材は半硬化樹脂シートと金属箔を積層し、硬化することにより形成することを特徴とする請求項36に記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 36, wherein the second wiring substrate is formed by laminating and curing a semi-cured resin sheet and a metal foil.
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