JP2006061862A - 超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加する方法およびそのための装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】超臨界流体又は亜臨界流体中に反応ガスを供給する際、配管の途中に反応ガスを低圧状態で貯留する工程と、この反応ガスを超臨界流体又は亜臨界流体により反応容器に向けて搬送する工程とを交互に繰り返すことにより、反応ガスを連続的に反応容器に充填するようにしたことを特徴とする超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加する方法。
【選択図】 図1
Description
ところで集積回路の微細化は着実に進行している。従来、集積回路の製造などの超微細加工プロセスは、真空中又は希薄気体雰囲気中、あるいはプラズマ放電雰囲気中等の、ドライプロセス(真空プロセス)で行われるのが一般的である。
この発明は超臨界流体に金属錯体と低圧の添加ガスとを溶解し連続的に反応容器に反応容器に供給するためのものであって、高圧の超臨界流体中に低圧のガスを連続的に添加する方法および装置を提供することを目的し、可燃性ガスなど取り扱いに注意を要するガスを圧縮することなく超臨界流体中に添加することができるようにしたものである。
また、亜臨界流体とは、臨界値の直下にある流体の状態をいう。
さらに、金属前駆体とは、有機金属化合物、有機金属錯体、ハロゲン化金属、ハロゲン化錯体の総称をいう。
したがって安全性に優れ、しかも反応ガスを効率よく超臨界流体又は亜臨界流体中へ添加混合することができるようになった。
図1はこの発明を実施するための装置の構成の一例を示す概略図、図2は配管に流れる流体を模式的に示した概略図、図3はこの発明を適用した水素混合器を用いて構成した薄膜堆積装置の一例を示す概略図、図4は実施例1によって得られた結果を示すグラフ、図5は実施例2によって得られた結果を示すグラフ、図6は比較例によって得られた結果を示すグラフ、図7はこの発明を実施するための装置の別の構成を示す概略図、図8は配管に流れる流体を模式的に示した概略図である。
上記六方弁11には二つの配管接続状態があり、これを状態Aと状態Bとする。水素は接続孔1、二酸化炭素は接続孔5に接続され、接続孔2は排気ライン、接続孔4は反応容器に接続されている。ここで用いた配管は、外径1/16インチのステンレス管である。接続孔3と接続孔6は、該配管をループ状にしたもので内部容積は500μLあり、六方弁11内部の配管よりも十分容量が大きい。水素の供給圧は0.3MPa、二酸化炭素の供給圧は100MPaである。また六方弁11全体および配管は40℃に加温してあるので、二酸化炭素は超臨界状態である(臨界点は7.4MPa、31℃)。
次に所定の時間後状態Bに切り替えると、接続孔1−2間、3−4、5−6間が短絡されるので、水素は直接排気され、一方二酸化炭素は上記ループ状配管7を経て反応容器8に接続される。すなわち、ループ状配管7の経路が水素側から二酸化炭素側に切り替わった状態となる。ループ状配管7内に充填していた水素は二酸化炭素に溶解しながら反応容器8に押し出され、ループ状配管7には二酸化炭素のみが流れる。
上記ループ状配管7とは全体がスパイラルないしコイル状(渦巻き)をなしていても、また部分的にループ状(輪)であってもよく、その内部を超臨界流体又は亜臨界流体(例えば二酸化炭素)と反応ガス(例えば水素)からなる流体が通過する際には回転力が与えられ、それらの攪拌・混合が促進されるのである。
なお、攪拌能はループ数、ループ径、配管径、流速などによって決まるため、ループ形状等は実験的に決定することが必要である。ちなみに本実施例ではループ径を約1cmとしている。
水素と二酸化炭素の混合比を水素の爆発限界以下(4%未満)とすれば、爆発性の恐れがなく安全上望ましい。
二酸化炭素ボンベ21から供給した二酸化炭素は冷却器22で液化される。ポンプ23には約6MPaに供給され、10MPaまで昇圧されて、混合器24に接続される。水素ボンベ25から供給した水素は減圧弁26により0.3MPaに減圧され、混合器24に接続される。混合器24の配管接続(状態Aと状態B)は、バルブ制御器27によって一定の時間ごとに切り替えられる。
なお、上記減圧弁26と混合器24の間には水素の流量を制限するための流量調節弁28を設けることが望ましい。流量調節弁28がないと上記状態Bのとき過剰に水素が排気ラインに流出し不経済であり、また安全上も好ましくない。また流量計(図示しない)も設けることができる。あるいは六方弁11の状態に同期して、状態Bのときに全閉ないし流量制限を行うような構成であってもこの発明の目的を達成できる。
混合器24の下段には、水素と二酸化炭素の混合を促すための後混合器29を設けることが望ましい。スパイラル混合器や機械式攪拌装置などを用いることができる。さらに、圧力変動を防止するため緩衝器(ダンパー)30を設けることが望ましい。
原料金属錯体は溶解容器31内に納められており、超臨界流体を内部に流通させると溶解・混合される。溶解量は溶解容器31の温度や圧力、金属錯体の粒度などを変えて調整することができる。
以上の構成により、流体中には、超臨界二酸化炭素、水素、金属錯体が含まれることとなり、反応容器33に供給される。反応容器33の構成は特願2004−167782に示すものも用いることができる(ただし該文献図面中の18、19は用いず、さらに流出口を設ける)。
反応容器33から出た流体は圧力調節弁34を経て分離器35に到る。分離器35では、二酸化炭素と水素は気化し、未反応原料や低沸点の副生成物が回収される。気化成分は上記水素混合手段の配管系からの排気とともに外部に排気される。
なお、反応容器33および反応容器33に到る配管も40℃に加温し、これらを同じ恒温槽内に収めることもできる。
図において36は圧力計である。
二酸化炭素側配管系から、10MPaの超臨界CO2を10mL/分(40℃換算)の速度で供給するとともに、水素側配管系からループ状配管7に0.3MPaのH2ガスを0.3L/分供給した。装置および配管は40℃に維持したので、CO2は超臨界状態にある。また、これらの流量は各圧力・温度での値である。
ループ状配管7の容量は500・とした。六方弁11の状態を状態Aと状態Bに間歇的に切り替えた。バルブの切り替えに要する時間は1秒以内で無視できる。接続される時間はCO2(状態A)が10〜50秒、H2(状態B)は10秒とし、これを交互に繰り返した。
このとき、超臨界CO2の密度は0.63g/MLである。T秒間に流れる流体のモル数は数1の通りである。
結果を図4に示す。よい一致が見られている。
まず溶解容器にCu(hfac)2を150mg封入し、基板を反応容器内に設置・封止した後、二酸化炭素ボンベを半開とし気体二酸化炭素を流路全体に流通させ、内部の空気を二酸化炭素に置換した。このとき六方弁の状態はAである。
内容積10mLの反応容器を加熱して250℃にし、原料溶解容器のバイパス弁を閉じ同時に出入口弁二箇所を開として、反応容器に原料ならびに水素を供給した。なお、このときと同一条件における超臨界二酸化炭素中のCu錯体濃度はほぼ一定(0.3mg/mLCO2 )であることを、発明者らが別途行った吸光度分析によって確認している。
この構成では、六方弁を用いる代わりに、8つのバルブを組み合わせて同一機能を実現している。図7で配管イ〜ニとイ’〜ニ’には計8ヶのバルブが設置されているが、図8では省略している。
イ、イ’、ロ、ロ’を開、ニ、ニ’、ハ、ハ'を閉とする。超臨界CO2は耐圧容器1に充填されて排出された分は反応容器に供給される。一方耐圧容器2内にはH2が充填される。これが前記状態Aに相当する(図8状態A)。その後、イ、イ’、ロ、ロ’を閉、ニ、ニ’、ハ、ハ'を開にすると、耐圧容器2内に超臨界流体が充填される。超臨界流体同士は完全に溶解するので、H2は直ちに他圧容器2内で超臨界CO2に溶解する。耐圧容器2の混合流体は反応容器に供給され、一方水素は耐圧容器1を通じ排気される。前記状態Bに相当する(図8状態B)。このように、一方の耐圧容器から超臨界流体を供給している間に、別の耐圧容器に水素を充填しておき、これを交互に繰り返すことで、水素と二酸化炭素の混合した超臨界流体を連続的供給できる。
混合比は、耐圧容器1と耐圧容器2の容量および切り替え時間により調整できるが、容器体積が大きすぎると圧力変動の原因となるので、実験的に決定する必要がある。
また、上記耐圧容器1、耐圧容器2には、内部流体の攪拌・混合手段を備えておくことが望ましい。例えば、マグネチックスターラーやプロペラ式攪拌器を使用することができる。
添加ガスは水素に限定されるものでなく、酸素、空気、一酸化窒素、オゾン、アンモニア、一酸化炭素、硫化水素などの硫化物、メタンなどの炭化水素類等、合成反応に必要なものであればよい。
8 反応容器
9 逆止弁
11 六方弁
21 二酸化炭素ボンベ
22 冷却器
23 ポンプ
24 混合器
25 水素ボンベ
26 減圧弁
27 バルブ制御器
28 流量調節弁
29 後混合器
30 緩衝器(ダンパー)
31 溶解容器
32 恒温槽
34 圧力調節弁
35 分離器
36 圧力計
Claims (9)
- 超臨界流体又は亜臨界流体中に反応ガスを供給する際、配管の途中に反応ガスを低圧状態で貯留する工程と、この反応ガスを超臨界流体又は亜臨界流体により反応容器に向けて搬送する工程とを交互に繰り返すことにより、反応ガスを連続的に反応容器に充填するようにしたことを特徴とする超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加する方法。
- 前記反応ガスを低圧状態で貯留する工程が、超臨界又は亜臨界温度以上に保持して行なわれることを特徴とする請求項1に記載の超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加する方法。
- 超臨界流体又は亜臨界流体を反応容器に搬送する配管系と、この配管系の途中に反応ガスを添加混合する配管系とを備え、上記添加混合部位には反応ガスを低圧状態で貯留する手段と、貯留された反応ガスを超臨界流体又は亜臨界流体により反応容器に向けて搬送する手段とを設けるとともに、それぞれの手段の切替操作を行なう切替バルブを上記添加混合部位に設けたことを特徴とする超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加するための装置。
- 反応ガスを低圧状態で貯留する手段が、攪拌手段を備えてなる請求項3に記載の超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加するための装置。
- 反応ガスを低圧状態で貯留する手段と貯留された反応ガスを超臨界流体又は亜臨界流体により反応容器に向けて搬送する手段の切替操作を行なう切替バルブが、六方弁である請求項3に記載の超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加するための装置。
- 切替バルブが反応ガスを低圧状態で貯留する手段を内蔵している請求項3に記載の超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加するための装置。
- 切替バルブに内蔵させた反応ガスを低圧状態で貯留する手段が、ループ状配管からなり、このループ状配管を通過する際に超臨界流体又は亜臨界流体中と反応ガスからなる流体を攪拌させて混合を促進するようにしてなる請求項6に記載の超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加するための装置。
- 切替バルブに内蔵させた反応ガスを低圧状態で貯留する手段が、攪拌手段を備えた耐圧容器からなり、この耐圧容器内において超臨界流体又は亜臨界流体中と反応ガスからなる流体を攪拌させて混合を促進するようにしてなる請求項6に記載の超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加するための装置。
- 反応ガスを添加混合する配管系に、超臨界流体又は亜臨界流体の逆止弁を設けてなる請求項3に記載の超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加するための装置。
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