JP2006060226A - 製造システムの制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本方法は、処理ツールの前の処理ステーションに位置し、該処理ツール上で処理される複数のワークピースを準備するステップと、該複数のワークピースが該処理ツールに到着する前に、該複数のワークピースに関連する特性に基づいて該処理ツールに対する補助装置の割り当ての必要性を判断するステップと、該複数のワークピースが該処理ツールに到着する前に、該割り当ての必要性に基づいて補助装置を該処理ツールに送るステップとを含む。本発明の一実施形態によれば、処理ツールはフォトリソグラフィ・システムであり、補助装置はレチクルであり、複数のワークピースは半導体基板である。
【選択図】 図13
Description
PodStocker RDL:
Drbl_id-reticleid
Eqp_id-currentequipment id
PS_id-pod stocker id
BRS_id-bare reticlestocker id
Lot_priority-priorityof associated wafer lot(if there is no associated wafer lot or the lot is intop 10 dispatchable wafer lots,then set priority to NULL)
Look_ahead_Priority-priority of reticle based on look ahead arrival ofwafer lots. If reticle is not in look ahead list,then set priority to NULL
Count-Number of emptypods on pod stocker
Rules for associatinga priority with the reticle move request:
Definitions:
N=number ofmove requests to the floor control system
CL=Podstocker(capacity-buffer)
N=N-numberof actions in queue+executing according to RAL and REL
Sortlist by(Lot_priority,Lool_ahead_priority);
If(Station_id==BayPS){
If(BayPS Empty Pods<N)Unkit any N reticles with Lot_priority==NULL AND
Lool_ahead_priority==NULL;
Else{
Kit first M reticleswhere M=min(N,number of reticles with Lot_priority!=NULL ORLook_ahead-priority!=NULL);
If(M<NAND Bay PS Full Pods>CL)Unkit first N-M reticles with Lot_priority==NULL ANDLook_ahead_priority==NULL;
}
}
If(Station_id==CribPS){
If(Crib PS EmptyPods<N){
Send first Mreticles to Bay PS where M=min(N,number reticles with Lot_priority!=NULL ORLook_ahead_priority!=NULL);
If(M<N)Send first N-M reticles to BAY BRS where Lot_priority==NULL ANDLook_ahead_priority==NULL;
}
}
Claims (37)
- 製造システムを制御する方法であって、
少なくとも1つの処理ツール及び少なくとも1組の補助装置を準備するステップと、
前記処理ツール上で処理される複数のワークピースを供給するステップと、
前記処理ツール及び前記複数のワークピースに関連する特性から、該処理ツールに到着する前記補助装置の到着順序を決定するステップと、
を含む方法。 - 前記処理ツールがフォトリソグラフィ・システムからなる、請求項1に記載の方法。
- 前記補助装置がレチクルからなる、請求項2に記載の方法。
- 前記方法の反復によって作成されるワークインプロセスのプロファイルに基づいて、前記処理ツールに関する将来イベントをモデル化するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記複数のワークピースが半導体ウェハからなる、請求項1に記載の方法。
- 前記複数のワークピースに関連する前記特性が、作業ロットの優先度と、処理時間と、補助装置搬送システムの処理能力と、予測されるロットのロット優先度と、ポッドの利用可能性とを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記決定するステップが、前記処理ツールへの予想到着時間の観点から前記補助装置を順位付けするステップを含む、請求項1に記載の方法。
- ワークインプロセス計画に基づいて前記処理ツールに関連する将来イベントをモデル化するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 製造システムを制御する方法であって、
処理ツールの前の処理ステーションに置かれ、前記処理ツール上で処理される複数のワークピースを準備するステップと、
前記複数のワークピースが前記処理ツールに到着する前に、該複数のワークピースに関連する特性に基づいて該処理ツールに対する補助装置の割り当て必要性を判断するステップと、
前記複数のワークピースが前記処理ツールに到着する前に、前記割り当て必要性に基づいて補助装置を該処理ツールに送るステップと、
を含む方法。 - 前記処理ツールがフォトリソグラフィ・システムからなる、請求項9に記載の方法。
- 前記補助装置がレチクルからなる、請求項10に記載の方法。
- 前記複数のワークピースが半導体ウェハからなる、請求項9に記載の方法。
- 前記複数のワークピースに関連する前記特性が、作業ロットの優先度と、処理時間と、補助装置搬送システムの処理能力と、予測されたロットのロット優先度と、ポッドの利用可能性とを含む、請求項9に記載の方法。
- 前記決定するステップが、前記処理ツールへの予想到着時間の観点から前記複数のワークピースを順位付けするステップを含む、請求項9に記載の方法。
- ワークインプロセス計画に基づいて前記処理ツールに関する将来イベントをモデル化するステップをさらに含む、請求項9に記載の方法。
- 製造プロセスを制御するためのシステムであって、
複数のワークピースを処理するように構成された処理ツールと、
前記複数のワークピースを含み、前記処理ツールの場所の前に置かれる処理ステーションと、
前記複数のワークピースに関連する特性から、前記処理ツールに到着する該複数のワークピースうちの最初のものの到着順序を決定するように構成されたアナライザと、
前記処理ツールへの前記最初のワークピースの到着前に、該最初のワークピースに対応する補助装置を該処理ツールに提供するように構成されたコントローラと、
を備えるシステム。 - 前記処理ツールがフォトリソグラフィ・システムからなる、請求項16に記載のシステム。
- 前記補助装置がレチクルからなる、請求項17に記載のシステム。
- 前記複数のワークピースが半導体ウェハからなる、請求項16に記載のシステム。
- 前記複数のワークピースに関連する前記特性が、作業ロットの優先度と、処理時間と、補助装置搬送システムの処理能力と、予測されたロットのロット優先度と、ポッドの利用可能性とを含む、請求項16に記載のシステム。
- 前記アナライザが、前記処理ツールへの予想到着時間の観点から前記複数のワークピースを順位付けするように構成された、請求項16に記載のシステム。
- 前記アナライザによって作成されたワークインプロセス計画に基づいて前記処理ツールに関する将来イベントをモデル化するように構成されたモデル化ジェネレータをさらに備える、請求項16に記載のシステム。
- 製造システムを制御する方法を実施するためにコンピュータにより実行可能なプログラムであって、前記方法が、
少なくとも1つの処理ツール及び補助装置を準備するステップと、
前記処理ツール上で処理される複数のワークピースを供給するステップと、
前記処理ツール及び前記複数のワークピースに関連する特性から、該処理ツールに到着する前記補助装置の到着順序を決定するステップと、
を含む、プログラム。 - 前記処理ツールがフォトリソグラフィ・システムからなる、請求項23に記載のプログラム。
- 前記補助装置がレチクルからなる、請求項24に記載のプログラム。
- 前記複数のワークピースが半導体ウェハからなる、請求項23に記載のプログラム。
- 前記複数のワークピースに関連する前記特性が、作業ロットの優先度と、処理時間と、補助装置搬送システムの処理能力と、予測されたロットのロット優先度と、ポッドの利用可能性とを含む、請求項23に記載のプログラム。
- 前記決定するステップが、前記処理ツールへの予想到着時間の観点から前記補助装置を順位付けするステップを含む、請求項23に記載のプログラム。
- 前記方法が、ワークインプロセス計画に基づいて前記処理ツールに関する将来イベントをモデル化するステップをさらに含む、請求項23に記載のプログラム。
- 製造プロセスにおいて補助装置を検査する方法であって、
検査の可能性のある補助装置のリストを生成するステップと、
検査要件に従って前記可能性のある補助装置を指定するステップと、
所定の規則の組に従って前記可能性のある補助装置を優先順位付けするステップと、
を含む方法。 - 前記生成するステップにおいて、前記補助装置がレチクルからなる、請求項30に記載の方法。
- 前記リストを生成するステップが、前記レチクルを、
ディスパッチ可能なウェハ・ロットに関連するレチクルを含む第1の組と、
ワークインプロセス計画に関連するレチクルを含む第2の組と、
前記第1及び第2の組のレチクル以外のレチクルを含む第3の組と、
を含むグループに分類するステップを含む、請求項31に記載の方法。 - 前記検査要件が、前記補助装置を検査することに関連する警告限界及び禁止限界を含む、請求項30に記載の方法。
- 前記所定の規則の組が、ディスパッチ可能なウェハ・ロット及び前記禁止限界の分類と、ディスパッチ可能なウェハ・ロット及び前記警告限界の分類と、特定の時間ウィンドウ内のワークインプロセス計画及び該禁止限界の分類と、特定の時間ウィンドウ内のワークインプロセス計画及び該警告限界の分類とのうちのいずれかを含む特定の指定を有する、請求項33に記載の方法。
- 第2の所定の規則の組に基づいて、優先順位付けされた前記可能性のあるレチクルを再優先順位付けし、再優先順位付けされたリストにするステップと、
前記再優先順位付けされたリストから重複レチクルを削除するステップと、
をさらに含む、請求項31に記載の方法。 - 前記第2の所定の規則の組が、優先順位付け規則と計画されたワークインプロセス到着時間とを含む、請求項32に記載の方法。
- ディスパッチ可能なウェハ・ロットのためのレチクル要件、量の大きいウェハ・ロットの種類、及び上流ウェハ・ロットの予測される到着のうちのいずれかに基づいて、候補レチクルのキット入れ及びキット出しを決定するステップと、
ウェハ・ロットの優先度、上流ウェハ・ロットの予測される優先度、ポッドの利用可能性、及びレチクル搬送システムの処理能力のうちのいずれかに基づいて、キット入れ及びキット出し動作を優先順位付けするステップと、
をさらに含む、請求項31に記載の方法。
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