JP2006058092A - 3次元形状測定装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 各々のストライプに対し、ストライプの両端に、ストライプ間の境界を明確にするため、ストライプ配列の濃度順に応じ、最高濃度または最低濃度のラインパターンを形成する。各々のストライプに対し形成するラインパターンの濃度の決定法は、該当するストライプの濃度に対し、隣接するストライプの濃度が高い場合には最低濃度のラインパターンを形成し、逆に、該当するストライプの濃度に対し、隣接するストライプの濃度が低い場合には最高濃度のラインパターンを形成する。各ストライプの両端に最高濃度および最低濃度のラインパターン対を形成した多値パターン光を対象物10に照射し、投光系と主点を異なる位置に配置した撮像手段であるカメラ12、13にて、対象物10上のパターン投影像を撮像し、投射パターン光とパターン投影像にて対応づけを行う。
【選択図】 図4
Description
[ステップ2]:エッジ両側の画素情報(輝度値、色相)をそれぞれ取得する。
[ステップ3]:エピポーラライン上にて同じ画素情報を持つ画素を対応点であると判断し、三角測量の原理から距離を算出する。
Chu−Song Chen,Range data acquisition using color structure light and stereo vision,image vision computing 15(1997)445−456
ストライプ2:階調値192
ストライプ3:階調値128
ストライプ4:階調値64
ストライプ5:階調値0
[ステップ1]:パターン撮像画像の、ストライプ間に形成された最高濃度のラインと最低濃度のライン間に対応したエッジを抽出する。
[ステップ2]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)を取得する。
[ステップ3]:パターン撮像画像と同じ画素情報を持つ投射パターン光を探索、決定し、三角測量の原理から距離を算出する。
[ステップ1]:パターン撮像画像の、ストライプ間に形成された最高濃度のラインと最低濃度のライン間に対応したエッジを抽出する。
[ステップ2]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)を取得する。
[ステップ3]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)の一部、あるいは、全ての配列から投射パターン光の配列を予測し、投射パターン光とパターン撮像画像の対応づけを行い、三角測量の原理から距離を算出する。
ストライプ2:階調値192
ストライプ3:階調値128
ストライプ4:階調値64
ストライプ5:階調値0
[ステップ1]:2つのパターン撮像画像の、ストライプ間に形成された最高濃度のラインと最低濃度のライン間に対応したエッジを抽出する。
[ステップ2]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)を取得する。
[ステップ3]:エピポーラライン上にて、同じ画素情報を持つ画素を対応点であると判断し、三角測量の原理から距離を算出する。
[ステップ1]:2つのパターン撮像画像の、ストライプ間に形成された最高濃度のラインと最低濃度のライン間に対応したエッジを抽出する。
[ステップ2]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)を取得する。
[ステップ3]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)の一部、あるいは、全ての配列から投射パターン光の配列を予測し、投射パターン光とパターン撮像画像の対応づけを行い、三角測量の原理から距離を算出する。
ストライプ2:階調値192
ストライプ3:階調値128
ストライプ4:階調値64
ストライプ5:階調値0
[ステップ1]:2つのパターン撮像画像の、ストライプ間に形成された最高濃度のラインと最低濃度のライン間に対応したエッジを抽出する。
[ステップ2]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)を取得する。
[ステップ3]:エピポーラライン上にて、同じ画素情報を持つ画素を対応点であると判断し、三角測量の原理から距離を算出する。
[ステップ1]:2つのパターン撮像画像の、ストライプ間に形成された最高濃度のラインと最低濃度のライン間に対応したエッジを抽出する。
[ステップ2]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)を取得する。
[ステップ3]:エッジ両側の、最高濃度または最低濃度のラインパターンにより輝度値が変調されていないエッジ近傍の画素情報(輝度値)の一部、あるいは、全ての配列から投射パターン光の配列を予測し、投射パターン光とパターン撮像画像の対応づけを行い、三角測量の原理から距離を算出する。
11 プロジェクタ
12、13 カメラ
14 ハーフミラー
100 制御部
Claims (5)
- 複数の濃度を有するストライプの組み合わせで構成されたストライプパターンを対象物に投光する投光手段と、該投光手段と主点を異なる位置に配置した一乃至複数の撮像手段とを有して構成される3次元形状測定装置において、該ストライプパターン中の隣接するストライプの間に最高濃度および最低濃度のラインの対を設けたことを特徴とする3次元形状計測装置。
- 前記隣接するストライプのうち濃度の高いストライプ側に前記最高濃度のラインを隣接させ、前記隣接するストライプのうち濃度の低いストライプ側に前記最低濃度のラインを隣接させた請求項1記載の3次元形状計測装置。
- 前記最高濃度および最低濃度のラインの並び方向を固定とした請求項1記載の3次元形状計測装置。
- 複数の濃度を有するストライプの組み合わせで構成されたストライプパターンを対象物に投光する投光手段と、該投光手段と主点を異なる位置に配置した一乃至複数の撮像手段とを有して構成される3次元形状測定装置において、該ストライプパターン中の隣接するストライプの間にラインの対を設け、当該ラインの対の一方は相対的に高い固定濃度のラインおよび当該ラインの対の他方は相対的に低い固定濃度のラインとしたことを特徴とする3次元形状計測装置。
- 投光装置により複数の濃度を有するストライプの組み合わせで構成されたパターンを対象物に投光し、該投光装置と主点を異なる位置に配置した一乃至複数の撮像装置により上記パターンを撮像し、撮像されたパターンに基づいて3次元形状を計測する3次元形状計測方法において、該ストライプパターン中の隣接するストライプの間に最高濃度および最低濃度のラインの対を設けたことを特徴とする3次元形状計測方法。
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JP2004238896A JP2006058092A (ja) | 2004-08-18 | 2004-08-18 | 3次元形状測定装置および方法 |
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