JP2006049898A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影システムは、パターン形成されたビームを受け取り、パターン形成されたビームを複数のほぼ多角形の部分に分割し、ほぼ多角形の部分をそれぞれ合焦して、基板の目標部分にそれぞれの放射スポットを形成するように構成されたレンズ・アレイを備える。一実施例では、照明システムは、放射源から放射ビームを受け取るように構成された照明器を備え、照明器は、放射源からの放射ビームを複数のほぼ多角形の部分に分割し、ほぼ多角形の部分をそれぞれ、個々に制御可能な素子のアレイのそれぞれの素子に合焦するように構成されたレンズ・アレイを備える。
【選択図】図6
Description
本明細書では、IC(集積回路)の製造でリソグラフィ装置を使用することを具体的に言及するが、本明細書で説明するリソグラフィ装置は、集積光学系、磁気ドメイン・メモリ用の誘導/検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用が可能であることを理解されたい。このような代替応用例の状況では、本明細書で用いる「ウェハ」又は「ダイ」という用語は、それぞれより一般の用語である「基板」又は「目標部分」と同義とみなし得ることが当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、例えば、トラック(例えば典型的には、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール)、或いは計測又は検査用のツール内で、露光前又は露光後に処理することができる。該当する場合には、上記その他の基板処理ツールに本明細書の開示を適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ICを生成するために2回以上処理される。そのため、本明細書で用いる基板という用語は、複数の処理済み層をすでに含む基板を指す。
図2に、リソグラフィ装置の一部を示す。水銀ランプ又はレーザなどのコリメートされた放射源からのビームPBは、制御可能な素子のアレイPPMに向けられる。アレイPPMから反射したパターン形成されたビームは、ビーム・エキスパンダBEによってMLAに投影される。MLAは、基板Wの目標表面に放射スポットのアレイを投影する。
図1に、本発明の実施例によるリソグラフィ投影機器100を概略的に示す。機器100は少なくとも、放射システム102、個々に制御可能な素子のアレイ104、物体テーブル106(例えば、基板テーブル)、及び投影システム(「レンズ」)108を備える。
図6に、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置の一部を示す。図6は、放射ビーム1を供給するように構成された照明システムを備える。ビーム1は、ビーム・スプリッタ4によって、制御可能な素子21のアレイ2に向けられる。(図示しない)制御手段は、素子21の状態を制御して、ビーム1に所望のパターンを付与することができる。次いで、パターン形成されたビーム10は、素子21のアレイから反射し、ビーム・スプリッタ4を通過し、投影システム5によって基板3の目標表面31に投影される。
以上、本発明の様々な実施例を説明してきたが、これらは単なる実施例として提示されたものであり、限定的なものではないことを理解されたい。本発明の趣旨及び範囲を逸脱することなく、これらの実施例において形態及び細部の様々な変更を加えることができることが当業者には明らかであろう。そのため、本発明の広さ及び範囲は、上記で説明した実施例のいずれによっても限定されるべきではなく、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物によってのみ定義すべきである。
Claims (20)
- 放射ビームを供給する照明システムと、
前記ビームをパターン形成する個々に制御可能な素子のアレイと、
基板の目標部分に前記パターン形成されたビームを投影する投影システムとを備えるリソグラフィ装置であって、
前記投影システムが、前記パターン形成されたビームを受け取り、前記パターン形成されたビームを複数のほぼ多角形の部分に分割し、ほぼ多角形の部分をそれぞれ合焦して、前記基板の前記目標部分にそれぞれのビーム・スポットを形成するレンズ・アレイを備える、リソグラフィ装置。 - 前記多角形部分がほぼ矩形である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記多角形部分がほぼ正方形である、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レンズ・アレイが、前記パターン形成されたビームのそれぞれの部分を受け取り、且つ前記それぞれの部分をそれぞれの焦線に向かって合焦する円筒レンズの第1アレイを備え、前記焦線が、互いにほぼ平行であり、且つビーム方向を横切る第1軸にほぼ平行である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記焦線が同一平面上にある、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レンズ・アレイが前記第1アレイから前記パターン形成された合焦ビームを受け取る円筒レンズの第2アレイをさらに備え、前記第2アレイの前記円筒レンズが、前記パターン形成された合焦ビームのそれぞれの部分を受け取り、前記それぞれの部分を第2のそれぞれの焦線に向かって方向づけ、前記第2焦線が、互いにほぼ平行であり、且つ、前記ビーム方向を横切り、前記第1軸にほぼ直交する第2軸にほぼ平行である、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2焦線が同一平面上にある、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1アレイの前記円筒レンズが第1共通焦点距離を有し、
前記第2アレイの前記円筒レンズが第2共通焦点距離を有し、
前記第1共通焦点距離が前記第2共通焦点距離よりも長い、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第1及び第2の円筒レンズ・アレイが前記第1及び第2の焦線が同じ面内にあるように配置される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 円筒レンズの前記第2アレイが第2透明基板を含み、
前記第2アレイの前記円筒レンズが前記第2基板のそれぞれの部分によって形成される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 円筒レンズの前記第1アレイが第1透明基板を含み、
前記第1アレイの前記円筒レンズが前記第1基板のそれぞれの部分によって形成され、
円筒レンズの前記第2アレイが第2透明基板を含み、
前記第2アレイの前記円筒レンズが前記第2基板のそれぞれの部分によって形成され、
前記第2基板が前記第1基板に取り付けられる、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記レンズ・アレイが透明基板を含み、
前記第1及び第2のアレイの前記円筒レンズが前記基板のそれぞれの部分によって形成される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 円筒レンズの前記第1アレイが第1透明基板を含み、
前記第1アレイの前記円筒レンズが前記第1基板のそれぞれの部分によって形成される、請求項4に記載のリソグラフィ装置。 - 前記レンズ・アレイが、
前記パターン形成されたビームを横切って第1方向に延びる円筒レンズの第1平行アレイと、
前記パターン形成されたビームを横切って前記第1方向にほぼ直交する第2方向に延びる円筒レンズの第2平行アレイを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記投影システムが前記パターン形成されたビームの一部を遮断する開口アレイをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レンズ・アレイが前記パターン形成されたビームの少なくとも90%を前記基板の前記目標部分に合焦する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記個々に制御可能な素子のアレイが矩形アレイであり、
前記レンズ・アレイがそれぞれ前記制御可能な各素子に対応する前記投影スポットが矩形アレイを形成するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 放射源から放射ビームを受け取る照明器と、
前記照明器から前記ビームを受け取り、前記ビームを複数のほぼ多角形の部分に分割し、ほぼ多角形の部分をそれぞれ、個々に制御可能な素子のアレイのそれぞれの素子に合焦して前記多角形の部分をパターン形成するレンズ・アレイと、
基板の目標部分に前記パターン形成されたビームを投影する投影システムとを備える、リソグラフィ装置。 - (a)個々に制御可能な素子のアレイによって、放射ビームをパターン形成するステップと、
(b)前記パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するステップと、
(c)前記パターン形成されたビームを複数のほぼ多角形の部分に分割するステップと、
(d)前記ほぼ多角形の部分を合焦して、前記基板の前記目標部分にそれぞれのビーム・スポットを形成するステップとを含む、デバイス製造方法。 - (a)放射源から受け取ったビームを、複数のほぼ多角形の部分に分割するステップと、
(b)前記ほぼ多角形の部分を、個々に制御可能な素子のアレイのそれぞれの個々に制御可能な素子に合焦するステップと、
(c)前記個々に制御可能な素子のアレイの前記それぞれの個々に制御可能な素子によって、前記合焦ビームをパターン形成するステップと、
(d)前記パターン形成されたビームを基板の目標部分に投影するステップとを含む、デバイス製造方法。
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---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9188874B1 (en) * | 2011-05-09 | 2015-11-17 | Kenneth C. Johnson | Spot-array imaging system for maskless lithography and parallel confocal microscopy |
US9097983B2 (en) | 2011-05-09 | 2015-08-04 | Kenneth C. Johnson | Scanned-spot-array EUV lithography system |
KR100624462B1 (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-19 | 삼성전자주식회사 | 패턴화된 기록매체의 제조 방법 |
JP4511502B2 (ja) * | 2006-09-30 | 2010-07-28 | 日立ビアメカニクス株式会社 | 基板露光装置 |
EP2073061A3 (de) * | 2007-12-22 | 2011-02-23 | LIMO Patentverwaltung GmbH & Co. KG | Vorrichtung zur Ausleuchtung einer Fläche sowie Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Arbeitsbereichs mit Licht |
EP2226683A1 (en) | 2009-03-06 | 2010-09-08 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Illumination system for use in a stereolithography apparatus |
KR20190054815A (ko) | 2017-11-14 | 2019-05-22 | 삼성전자주식회사 | 마스크리스 노광 방법, 마스크리스 노광 장치 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4668080A (en) * | 1985-11-29 | 1987-05-26 | Rca Corporation | Method and apparatus for forming large area high resolution patterns |
US5523193A (en) | 1988-05-31 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for patterning and imaging member |
US5296891A (en) | 1990-05-02 | 1994-03-22 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. | Illumination device |
US5229872A (en) | 1992-01-21 | 1993-07-20 | Hughes Aircraft Company | Exposure device including an electrically aligned electronic mask for micropatterning |
US6219015B1 (en) | 1992-04-28 | 2001-04-17 | The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images |
JP3224041B2 (ja) | 1992-07-29 | 2001-10-29 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置 |
US5729331A (en) | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
JP3339149B2 (ja) | 1993-12-08 | 2002-10-28 | 株式会社ニコン | 走査型露光装置ならびに露光方法 |
US5677703A (en) | 1995-01-06 | 1997-10-14 | Texas Instruments Incorporated | Data loading circuit for digital micro-mirror device |
US5530482A (en) | 1995-03-21 | 1996-06-25 | Texas Instruments Incorporated | Pixel data processing for spatial light modulator having staggered pixels |
JP2001500628A (ja) | 1996-02-28 | 2001-01-16 | ケニス シー ジョンソン | マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡 |
AU2048097A (en) | 1997-01-29 | 1998-08-18 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for the production of a structure by focused laser radiation on a photosensitively coated substrate |
US6177980B1 (en) | 1997-02-20 | 2001-01-23 | Kenneth C. Johnson | High-throughput, maskless lithography system |
SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
SE9800665D0 (sv) | 1998-03-02 | 1998-03-02 | Micronic Laser Systems Ab | Improved method for projection printing using a micromirror SLM |
KR100827874B1 (ko) | 2000-05-22 | 2008-05-07 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법, 노광 방법, 마이크로 장치의 제조 방법, 및 디바이스의 제조 방법 |
US6624880B2 (en) | 2001-01-18 | 2003-09-23 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for microlithography |
US6515257B1 (en) | 2001-03-26 | 2003-02-04 | Anvik Corporation | High-speed maskless via generation system |
US6819490B2 (en) * | 2001-09-10 | 2004-11-16 | Micronic Laser Systems Ab | Homogenization of a spatially coherent radiation beam and printing and inspection, respectively, of a pattern on a workpiece |
US6658315B2 (en) * | 2001-10-31 | 2003-12-02 | Ball Semiconductor, Inc. | Non-synchronous control of pulsed light |
JP3563384B2 (ja) | 2001-11-08 | 2004-09-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
EP1372036A1 (en) | 2002-06-12 | 2003-12-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6870554B2 (en) | 2003-01-07 | 2005-03-22 | Anvik Corporation | Maskless lithography with multiplexed spatial light modulators |
EP1482373A1 (en) | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7257927B2 (en) * | 2003-08-15 | 2007-08-21 | Premier Technology, Inc. | Three-piece frame assembly for window of enclosure |
US6967711B2 (en) | 2004-03-09 | 2005-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7079225B2 (en) | 2004-09-14 | 2006-07-18 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009145104A (ja) * | 2007-12-12 | 2009-07-02 | Sanyo Electric Co Ltd | エバネッセント波発生装置及びそれを用いた観察装置 |
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