JP2006041347A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】筐体からの基板処理室の引き出しが容易な基板処理装置を提供する。
【解決手段】中間ブロック２１１の側面２１１ｓおよび基板処理室２０ａの側面２０ｓには、与えられた力を倍力して、筐体１１（棚板１１２ａ）から基板処理室２０ａを搬送路２の方向へ引き出すスライドアシスト機構３０ａが設けられる。スライドアシスト機構３０ａは、オペレータから与えられた力による回転運動に応じて、中間ブロック２１１，２１２を棚板１１２ａに対して引き出し方向へ直線運動させる運動伝達機構３１と、棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１，２１２の引き出し方向への直線運動に応答して、基板処理室２０ａを中間ブロック２１１，２１２に対して引き出し方向へ直線運動させる運動伝達機構３２とを備えている。
【選択図】図６

Description

本発明は、処理対象の基板に所定の処理を行うための基板処理装置に関する。

従来より、液晶表示装置用ガラス基板等の処理対象基板に加熱処理や冷却処理等を行うための基板処理装置が用いられている。このような基板処理装置では、フットプリントを削減するために、処理対象基板に対して所定の処理を行う複数の基板処理室を垂直方向に積層することも行われる。例えば、特許文献１には、複数の基板処理室を垂直方向に積層するとともに、保守点検を容易ならしめるために、各基板処理室を筐体の両側に引き出し可能とした多段式の基板処理装置が開示されている。

特開２０００−５９４４号公報

しかし、近年では、液晶表示装置用ガラス基板等の処理対象基板の大型化に伴い、基板処理室のサイズも大型化しており、その重量が１０００ｋｇを超える場合も生じている。このため、特許文献１の基板処理装置では、保守点検のために基板処理室を引き出す作業に大きな力を要するという問題が生じていた。

本発明は、この問題を解決するためになされたもので、筐体からの基板処理室の引き出しが容易な基板処理装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、請求項１の発明は、基板処理装置であって、基板に対する所定の処理を行う基板処理部と、前記基板処理部を収納する筐体と、与えられた力を倍力して前記筐体から前記基板処理部を所定方向へ引き出す倍力機構とを備えることを特徴とする。

請求項２の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記筐体に対する前記基板処理部の運動を前記所定方向に延びる直線上に制限する運動制限機構をさらに備えることを特徴とする。

請求項３の発明は、請求項２に記載の基板処理装置において、前記運動制限機構が、前記筐体および前記基板処理部に対して運動可能な中間部材と、前記筐体に対する前記中間部材の運動を前記所定方向に延びる直線上に制限する第１直線運動機構と、前記中間部材に対する前記基板処理部の運動を前記所定方向に延びる直線上に制限する第２直線運動機構とを備えることを特徴とする。

請求項４の発明は、請求項３に記載の基板処理装置において、与えられた力による回転運動に応じて、前記中間部材を前記筐体に対して前記所定方向へ直線運動させる第１運動伝達機構と、前記筐体に対する前記中間部材の前記所定方向への直線運動に応じて、前記基板処理部を前記中間部材に対して前記所定方向へ直線運動させる第２運動伝達機構とを備え、前記回転運動の回転半径の変更により倍力が行われることを特徴とする。

請求項５の発明は、請求項４に記載の基板処理装置において、前記第１運動伝達機構が、与えられた力に応じて回転運動を行う第１ピニオンギアと、前記第１ピニオンギアと噛み合わされ、前記中間部材に固定された第１ラックとを備えるとともに、前記第２運動伝達機構が、前記中間部材に回転自在に取り付けられた第２ピニオンギアと、前記第２ピニオンギアと噛み合わされ、前記筐体に固定された第２ラックと、前記第２ピニオンギアと噛み合わされ、前記基板処理部に固定された第３ラックとを備え、前記第１ピニオンギア、前記第２ピニオンギア、前記第１ラック、前記第２ラックおよび前記第３ラックのピッチ方向が前記所定方向であることを特徴とする。

請求項６の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、複数の前記基板処理部が積層されて前記筐体に収納されており、複数の前記基板処理部の各々に対して設けられた前記倍力機構が、複数の前記基板処理部の各々を前記筐体から引き出す場合に、引き出し作業に干渉しない位置に設けられていることを特徴とする。

請求項１ないし請求項６の発明によれば、筐体からの基板処理部の引き出しに必要な力が小さくなるので、基板処理部の保守点検が容易になる。

請求項２ないし請求項５の発明によれば、基板処理部の運動が直線運動となるので、倍力機構の構成を単純化可能である。

請求項３ないし請求項５の発明によれば、中間部材を筐体から引き出すとともに、中間部材に対して基板処理部を引き出すことができるので、基板処理部の全体を筐体から引き出すことが可能になる。これにより、基板処理部の全体を確認可能となり、基板処理部の保守点検が容易になる。

請求項６の発明によれば、倍力機構が引き出し作業に干渉しないので、基板処理部を筐体から容易に引き出し可能である。

＜基板処理装置の全体構成＞
本発明の実施形態に係る基板処理装置１Ａ，１Ｂの全体構成を、図１，図２の模式図を参照しながら説明する。ここで、図１は上方（Ｚ軸の正方向）から見た基板処理装置１Ａ，１Ｂの平面図であり、図２は側方（Ｘ軸の正方向）から見た基板処理装置１Ａの側面図である。なお、ＸＹＺ座標系のＸＹ平面は水平面を示し、Ｚ軸方向は鉛直方向を示す。この点は、図３以降も同様である。

基板処理装置１Ａ，１Ｂは、搬送路２に面して設置されており、搬送ロボット３によって上流側の工程から搬送されてきた基板Ｗに対する所定の処理を行う。基板処理装置１Ａ，１Ｂが処理対象とする基板Ｗは、特に制限されないが、例えば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、磁気ディスク（光ディスク）用ガラス基板または磁気ディスク（光ディスク）用セラミック基板等である。また、基板処理装置１Ａ，１Ｂの行う処理も制限されないが、基板処理装置１Ａが基板Ｗの加熱処理を行い、基板処理装置１Ｂが基板Ｗの冷却処理を行うものとして以下の説明を進める。なお、基板処理装置１Ａ，１Ｂは、熱処理の内容を除いては同様の構成を有するので、以下では、基板処理装置１Ａに着目して説明を行う。

基板処理装置１Ａの筐体１１は、パイプやアングル等の棒状部材を結合したフレーム（骨組）によって形成され、略直方体の外形形状を有している。筐体１１の外形寸法は、処理対象の基板Ｗのサイズや同時に処理すべき基板Ｗの枚数に応じて適宜決定されるが、典型的には、幅（Ｘ軸方向）２．５ｍ×奥行き（Ｙ軸方向）２．９ｍ×高さ（Ｚ軸方向）２．７ｍである。なお、必要に応じて、外装となる板状部材をフレームに取り付けてもよい。筐体１１は、脚部１１１において、クリーンルーム等の設置場所の床面ＦＬに固定される。

基板処理装置１Ａの筐体１１には、略水平に設けられた網状の棚板１１２ａ〜１１２ｃおよび天板１１３によって略同一の高さを有する３段の棚１２０ａ〜１２０ｃが形成されており、棚１２０ａ〜１２０ｃのそれぞれには略直方体の外形形状を有する基板処理室２０ａ〜２０ｃが収納される。すなわち、基板処理装置１Ａは、複数の基板処理室２０ａ〜２０ｃを鉛直方向に積層して収納することによりフットプリントを削減した多段式の基板処理装置である。基板処理部となる基板処理室２０ａ〜２０ｃは、それぞれ、スライド機構２１ａ〜２１ｃを介して棚板１１２ａ〜１１２ｃに取り付けられているので、図３の平面図（図１に対応）および図４の側面図（図２に対応）に例示するように、搬送路２の方向（Ｙ軸の負方向）に引き出し可能である。なお、図３および図４では、基板処理室２０ｂが筐体１１から搬送路２に引き出された状態が示されているが、他の基板処理室２０ａ，２０ｃも同様に筐体１１から引き出し可能である。さらに、棚１１２ａ〜１１２ｃの各々には、与えられた力を倍力して基板処理室２０ａ〜２０ｃを引き出すスライドアシスト機構３０ａ〜３０ｃが設けられている。なお、スライドアシスト機構３０ａ〜３０ｃは、基板処理室２０ａ〜２０ｃの各々を筐体１１から引き出す場合に、引き出し作業に干渉しない位置に設けられている。

基板処理室２０ａ〜２０ｃには、搬送路２の側の側面に設けられた基板通過口（不図示）を介して基板Ｗが搬入され、その内部で基板Ｗに対する加熱処理（プリベークやポストベーク等）が行われる。加熱処理終了後の基板Ｗは、基板通過口を介して基板処理室２０ａ〜２０ｃから搬出され、搬送ロボット３によって下流側の工程へ搬送される。

なお、搬送ロボット３は搬送路２に沿って移動可能となっている。したがって、基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出しに先立って、基板処理装置１Ａの対面位置から別の位置へ搬送ロボット３を待避させれば、搬送ロボット３が基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出しの障害となることはない。また、基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出し方向（以下では、特に断らない限り、「引き出し方向」は、「基板処理室２０ａ〜２０ｃの引き出し方向」の意味で用いる）は搬送路２の方向に限られず、搬送路２とは反対方向（Ｙ軸の正方向）や基板処理装置１Ａの側方（Ｘ軸の正方向ないしは負方向）であってもよい。さらに、基板処理室２０ａ〜２０ｃを複数の方向に引き出し可能としてもよい。

＜基板処理室とスライド機構＞
以下では、スライド機構２１ａを介して棚板１１２ａに取り付けられた基板処理室２０ａについて、図５を参照しながら説明する。図５は、棚板１１２ａに取り付けられた基板処理室２０ａを示す斜視図である。なお、基板処理室２０ｂ，２０ｃも同様にして棚板１１２ｂ，１１２ｃに取り付けられている。

図５には、筐体１１の一部を構成する棚板１１２ａと、基板処理室２０ａと、棚板１１２ａに対する基板処理室２０ａの運動を引き出し方向に延びる直線上に制限するスライド機構２１ａとが図示されている。

スライド機構２１ａは、略正方形の断面形状を有する棒状部材である中間ブロック２１１，２１２と、棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１，２１２の運動を引き出し方向に延びる直線上に制限するリニアガイド（直線運動案内機構）ＬＧ１，ＬＧ２と、中間ブロック２１１，２１２に対する基板処理室２０ａの運動を引き出し方向に延びる直線上に制限するリニアガイドＬＧ３，ＬＧ４とを備える。中間ブロック２１１，２１２およびリニアガイドＬＧ１〜ＬＧ４のレールＲＬ１〜ＲＬ４の長さは、基板処理室２０ａの奥行きより若干長く、その長手方向が引き出し方向となるように設けられている。

リニアガイドＬＧ１，ＬＧ２のレールＲＬ１，ＲＬ２は棚板１１２ａに対して固定される。また、リニアガイドＬＧ１の可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ１２は中間ブロック２１１の下面に固定され、リニアガイドＬＧ２の可動ブロックＭＢ２１，ＭＢ２２は中間ブロック２１２の下面に固定される。可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ１２はレールＲＬ１上で往復直線運動を行うことができ、可動ブロックＭＢ２１，ＭＢ２２はレールＲＬ２上で往復直線運動を行うことができるので、中間ブロック２１１，２１２は棚板１１２ａに対して引き出し方向に延びる直線上で往復直線運動を行うことができる。また、中間ブロック２１１，２１２の長手方向における可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ１２，ＭＢ２１，ＭＢ２２の取り付け位置は、引き出し方向とは逆方向の端部付近の位置（可動ブロックＭＢ１２，ＭＢ２２）および中央から当該端部に若干寄った位置（可動ブロックＭＢ１１，ＭＢ２１）である。このような取り付け位置を選択することにより、基板処理室２０ａの奥行きの約半分の長さだけ、中間ブロック２１１，２１２を筐体１１から引き出すことが可能になる。

さらに、リニアガイドＬＧ３，ＬＧ４のレールＲＬ３，ＲＬ４は、それぞれ、中間ブロック２１１，２１２の上面に固定されており、リニアガイドＬＧ３，ＬＧ４の可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ３２，ＭＢ４１，ＭＢ４２は基板処理室２０ａの底面に固定されている。可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ３２はレールＲＬ３上で往復直線運動を行うことができ、可動ブロックＭＢ４１，ＭＢ４２はレールＲＬ４上で往復直線運動を行うことができるので、基板処理室２０ａは中間ブロック２１１，２１２に対して、引き出し方向に延びる直線上で往復直線運動を行うことができる。また、基板処理室２０ａの奥行き方向における可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ３２，ＭＢ４１，ＭＢ４２の取り付け位置も、基板処理室２０ａの引き出し方向とは逆方向の端部付近の位置（可動ブロックＭＢ３２，ＭＢ４２）および中央から当該端部に若干寄った位置（可動ブロックＭＢ３１，ＭＢ４１）である。このような取り付け位置を選択することにより、基板処理室２０ａの奥行きの約半分の長さだけ、基板処理室２０ａを中間ブロック２１１，２１２に対して引き出すことが可能になる。

上述の説明から明らかなように、基板処理装置１Ａでは、中間ブロック２１１，２１２を筐体１１から引き出し可能であるとともに、中間ブロック２１１，２１２に対して基板処理室２０ａを引き出し可能であるので、基板処理室２０ａの全体を筐体１１から引き出すことが可能になる。これにより、基板処理室２０ａの全体を保守点検時に確認可能となり、基板処理部２０ａの保守点検が容易になる。さらに、スライド機構２１ａにより、基板処理室２０ａの運動が直線運動となるので、基板処理室２０ａの引き出しを容易ならしめるためのスライドアシスト機構３０ａの構成を単純化可能である。

基板処理室２０ａは、略直方体の外形形状を有しており、その内部には基板Ｗの加熱処理に用いられるホットプレートが設置されている。基板処理室２０ａの上面には、支点２０１を軸として開き戸のように開閉可能な蓋２０２が設けられる。基板処理室２０ａの内部の状態は、蓋２０２を上方に引き上げることにより確認可能となる。

＜スライドアシスト機構＞
先述の中間ブロック２１１の側面２１１ｓおよび基板処理室２０ａの側面２０ｓには、与えられた力を倍力して、筐体１１から基板処理室２０ａを搬送路２の方向へ引き出すスライドアシスト機構３０ａが設けられる。図６は、スライドアシスト機構３０ａを側方（Ｘ軸の負方向）から見た側面図である。なお、図６には、リニアガイドＬＧ１〜ＬＧ４は、便宜上図示されていない。

スライドアシスト機構３０ａは、オペレータから与えられた力による回転運動に応じて、中間ブロック２１１，２１２を棚板１１２ａに対して引き出し方向へ直線運動させる運動伝達機構３１と、棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１，２１２の引き出し方向への直線運動に応答して、基板処理室２０ａを中間ブロック２１１，２１２に対して引き出し方向へ直線運動させる運動伝達機構３２とを備えている。これらの運動伝達機構３１，３２は、引き出し動作中に干渉しないように設けられている。

運動伝達機構３１は、棚板１１２ａに固定された軸受３１１に回動自在に保持された軸部材３１２と、軸部材３１２の一端に固定されたハンドル３１３と、軸部材３１２の他端に固定されたピニオンギア３１４とを備える。ハンドル３１３は、オペレータが回転のための力（トルク）を軸部材３１２に与えるために用いられる。また、ハンドル３１３、軸部材３１２およびピニオンギア３１４は、その回転軸が同軸となるように固定されている。また、運動伝達機構３１は、中間ブロック２１１の側面２１１ｓに固定部材３１５によって固定されたラック３１７を備える。ラック３１７は、歯面３１７ａが水平かつ下向きとなるように中間ブロック２１１に固定され、ピニオンギア３１４と噛み合わされている。ここで、ピニオンギア３１４およびラック３１７は、ピッチ方向が引き出し方向となるように設置されている。このような運動伝達機構３１の構成により、オペレータがハンドル３１３に力を与えてハンドル３１３を矢印ＡＲ１の方向へ回転させると、それに応じて軸部材３１２およびピニオンギア３１４が回転し、ラック３１７に固定された中間ブロック２１１が筐体１１から引き出される（矢印ＡＲ２の方向へ水平移動（直線運動）する）ことになる。すなわち、運動伝達機構３１は、回転運動を棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１の相対運動に変換する機能を有している。逆に、オペレータがハンドル３１３を矢印ＡＲ１の方向とは逆方向に回転させる操作を行うと、中間ブロック２１１は筐体１１の内部へ押し入れられる（矢印ＡＲ２とは逆方向へ水平移動する）ことになる。

一方、運動伝達機構３２は、中間ブロック２１１の側面２１１ｓに回転自在に取り付けられたピニオンギア３２１と、棚板１１２ａに固定部材３２２によって固定されたラック３２４と、基板処理室２０ａの側面２０ｓに固定部材３２５によって固定されたラック３２６とを備える。ラック３２４は、歯面３２４ａが水平かつ上向きとなるように棚板１１２ａに固定され、ピニオンギア３２１と噛み合わされている。また、ラック３２６は、歯面３２６ａが水平かつ下向きとなるように基板処理室２０ａに固定されて、ピニオンギア３２１と噛み合わされている。ここで、ピニオンギア３２１、ラック３２４およびラック３２６は、ピッチ方向が引き出し方向となるように設置されている。このような運動伝達機構３２の構成により、中間ブロック２１１が筐体１１から引き出されると、ラック３２４が棚板１１２ａに固定されているためにピニオンギア３２１が水平移動しながら矢印ＡＲ３の方向に回転し、その回転がラック３２６に伝達されて基板処理室２０ａが中間ブロック２１１に対して引き出される（矢印ＡＲ４の方向へ水平移動する）。すなわち、運動伝達機構３２は、棚板１１２ａに対する中間ブロック２１１の相対運動を、中間ブロック２１１に対する基板処理室２０ａの相対運動に変換する機能を有している。逆に、中間ブロック２１１が筐体１１に押し入れられると、基板処理室２０ａも中間ブロック２１１に対して押し入れられる（矢印ＡＲ４とは逆方向へ水平移動する）。

上記の運動伝達機構３１，３２により、操作者がハンドル３１３を矢印ＡＲ１の方向へ回転させる操作を行うと、中間ブロック２１１が筐体１１に対して引き出され、基板処理室２０ａが中間ブロック２１１に対して同一長さだけ引き出される。したがって、筐体１１に対する中間ブロック２１１の引き出し長が基板処理室２０ａの奥行きの長さの半分を超えれば、基板処理室２０ａの全体が筐体１１から引き出されることになる。このように、基板処理室２０ａの全体が筐体１１から引き出された状態を図７に示す。先述の可動ブロックＭＢ１〜ＭＢ４の中間ブロック２１１，２１２ないしは基板処理室２０ａへの取り付け位置は、このような奥行きの長さの半分の引き出しを可能ならしめるために決定されたものである。

ここで、上述のスライドアシスト機構３０ａにおいては、ハンドル３１３の回転半径をピニオンギア３１１の回転半径より大きくすることにより、小さな力で基板処理室２０ａを筐体１１から引き出すことが可能になり、基板処理室２０ａの保守点検が容易になる。例えば、ピニオンギア３１４の半径が５０ｍｍ、ハンドル３１３の回転半径が２５０ｍｍである場合、１５００ｋｇの基板処理室２０ａを引き出すために必要な力は、動摩擦係数を０．０３とすれば、（１５００×０．０３×５０）／２５０＝９ｋｇｆと、スライドアシスト機構３０ａを採用しない場合の約１／５の力で基板処理室２０ａの引き出しを行うことができる。換言すれば、スライドアシスト機構３０ａは、回転運動の回転半径の変更により、与えられた力を倍力して基板処理室２０ａの引き出しに利用する倍力機構として機能している。

なお、上述の説明では、オペレータの回転操作の力を用いて基板処理室２０ａの引き出しに利用する例を説明したが、人力に代えて、モータ等の動力源を用いてもよい。また、回転運動の回転半径の変更に、プーリやギアを利用してもよい。

基板処理装置１Ａ，１Ｂの全体構成を示す平面図である。 基板処理装置１Ａの全体構成を示す側面図である。 基板処理装置１Ａの基板処理室２０ｂが搬送路２の方向に引き出された状態を示す平面図である。 基板処理装置１Ａの基板処理室２０ｂが搬送路２の方向に引き出された状態を示す側面図である。 棚板１１２ａに取り付けられた基板処理室２０ａを示す斜視図である。 スライドアシスト機構３０ａを示す側面図である。 基板処理室２０ａの全体が筐体１１から引き出された状態を示す図である。

符号の説明

１Ａ，１Ｂ 基板処理装置
１１ 筐体
１１２ａ〜１１２ｃ 棚板
１２０ａ〜１２０ｃ 棚
２ 搬送路
２０ａ〜２０ｃ 基板処理室
２１１，２１２ 中間ブロック
２１ａ〜２１ｃ スライド機構
３ 搬送ロボット
３０ スライドアシスト機構
３１ 運動伝達機構
３１２ 軸部材
３１３ ハンドル
３１４，３２１ ピニオンギア
３１７，３２４，３２６ ラック
３２ 運動伝達機構
ＦＬ 床面
ＭＢ１１，ＭＢ１２，ＭＢ２１，ＭＢ２２ 可動ブロック
ＬＧ１〜ＬＧ４ リニアガイド（直線運動案内機構）
ＲＬ１〜ＲＬ４ レール
Ｗ 基板

Claims (6)

1. 基板処理装置であって、
   基板に対する所定の処理を行う基板処理部と、
   前記基板処理部を収納する筐体と、
   与えられた力を倍力して前記筐体から前記基板処理部を所定方向へ引き出す倍力機構と、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
   前記筐体に対する前記基板処理部の運動を前記所定方向に延びる直線上に制限する運動制限機構をさらに備えることを特徴とする基板処理装置。
3. 請求項２に記載の基板処理装置において、
   前記運動制限機構が、
   前記筐体および前記基板処理部に対して運動可能な中間部材と、
   前記筐体に対する前記中間部材の運動を前記所定方向に延びる直線上に制限する第１直線運動機構と、
   前記中間部材に対する前記基板処理部の運動を前記所定方向に延びる直線上に制限する第２直線運動機構と、
   を備えることを特徴とする基板処理装置。
4. 請求項３に記載の基板処理装置において、
   与えられた力による回転運動に応じて、前記中間部材を前記筐体に対して前記所定方向へ直線運動させる第１運動伝達機構と、
   前記筐体に対する前記中間部材の前記所定方向への直線運動に応じて、前記基板処理部を前記中間部材に対して前記所定方向へ直線運動させる第２運動伝達機構と、
   を備え、
   前記回転運動の回転半径の変更により倍力が行われることを特徴とする基板処理装置。
5. 請求項４に記載の基板処理装置において、
   前記第１運動伝達機構が、
   与えられた力に応じて回転運動を行う第１ピニオンギアと、
   前記第１ピニオンギアと噛み合わされ、前記中間部材に固定された第１ラックと、
   を備えるとともに、
   前記第２運動伝達機構が、
   前記中間部材に回転自在に取り付けられた第２ピニオンギアと、
   前記第２ピニオンギアと噛み合わされ、前記筐体に固定された第２ラックと、
   前記第２ピニオンギアと噛み合わされ、前記基板処理部に固定された第３ラックと、
   を備え、
   前記第１ピニオンギア、前記第２ピニオンギア、前記第１ラック、前記第２ラックおよび前記第３ラックのピッチ方向が前記所定方向であることを特徴とする基板処理装置。
6. 請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、
   複数の前記基板処理部が積層されて前記筐体に収納されており、
   複数の前記基板処理部の各々に対して設けられた前記倍力機構が、複数の前記基板処理部の各々を前記筐体から引き出す場合に、引き出し作業に干渉しない位置に設けられていることを特徴とする基板処理装置。

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