JP2006031828A - 磁気転写用パターンドマスター担体およびその描画方法並びにプリフォーマットされた磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気転写用パターンドマスター担体およびその描画方法並びにプリフォーマットされた磁気記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006031828A JP2006031828A JP2004209928A JP2004209928A JP2006031828A JP 2006031828 A JP2006031828 A JP 2006031828A JP 2004209928 A JP2004209928 A JP 2004209928A JP 2004209928 A JP2004209928 A JP 2004209928A JP 2006031828 A JP2006031828 A JP 2006031828A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- burst
- track
- track width
- width direction
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】 複数トラックの交互に隣接トラックに跨るA,Bバースト部と、複数トラックの交互に略トラック幅内に記録されるC,Dバースト部とが配置されてなるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターン12を転写パターンによって担持するパターンドマスター担体で、A〜Dバースト部の間で、互いにトラック幅方向に1トラックずれて配置されるバースト部間で、一方のバースト部のトラック幅方向の長さWaの中心位置と、他方のバースト部のトラック幅方向の長さWbの中心位置とのトラック幅方向の距離Haの測定値のうち少なくとも80%の測定値が、トラックピッチの設計値Wの±10%の範囲内となるように精度規定してなる。
【選択図】 図4
Description
11 ディスク
12 パターン
13 エレメント
21、22 偏向手段
23 電子銃
40 電子ビーム描画装置
41 回転ステージ
44 スピンドルモータ
45 回転ステージユニット
49 直線移動手段
50 コントローラ
D 偏向送り
EB 電子ビーム
T トラック
X トラック方向
Y トラック幅方向
Claims (9)
- 所定のトラックピッチで等間隔に形成された複数トラックの交互に、トラック幅の略中央より隣接するトラックのトラック幅の略中央に跨って記録されるAバースト部およびBバースト部と、前記複数トラックの交互に、トラック幅の中央を中心として略トラック幅に記録されるCバースト部およびDバースト部とが、トラック方向に並んで配置されてなるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターンを凹凸転写パターンの形成によって担持する磁気転写用パターンドマスター担体であって、
前記転写パターンにおけるA〜Dバースト部の間で、互いにトラック幅方向に1トラックずれて配置されるバースト部間で、一方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置と、他方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置とのトラック幅方向の距離の測定値のうち少なくとも80%の測定値が、トラックピッチの設計値の±10%の範囲内となるように精度規定してなる振幅サーボ転写パターンを備えてなることを特徴とする磁気転写用パターンドマスター担体。 - 所定のトラックピッチで等間隔に形成された複数トラックの交互に、トラック幅の略中央より隣接するトラックのトラック幅の略中央に跨って記録されるAバースト部およびBバースト部と、前記複数トラックの交互に、トラック幅の中央を中心として略トラック幅に記録されるCバースト部およびDバースト部とが、トラック方向に並んで配置されてなるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターンを凹凸転写パターンの形成によって担持する磁気転写用パターンドマスター担体であって、
前記A〜Dバースト部の間で、互いにトラック幅方向に1/2トラックずれて配置されるバースト部との間で、一方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置と、他方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置とのトラック幅方向の距離の測定値のうち少なくとも80%の測定値が、トラックピッチの設計値の1/2値の±10%の範囲内となるように精度規定してなることを特徴とする磁気転写用パターンドマスター担体。 - 前記A〜Dバースト部のトラック幅方向の長さを、トラックピッチの設計値の90%〜120%で記録するように精度規定してなる振幅サーボ転写パターを備えてなることを特徴とする請求項1または2記載の磁気転写用パターンドマスター担体。
- 磁気転写用パターンドマスター担体のA〜Dバースト部で構成されるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターンを担持する転写パターンを、回転ステージに設置されレジストが塗布されたディスク上に、前記回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査することにより前記転写パターンを構成するエレメントの描画を行う描画方法であって、
前記振幅サーボパターンのトラック幅の略中央より隣接するトラックのトラック幅の略中央に跨って記録されるAバースト部およびBバースト部の一方と、これとトラック幅方向の中心位置が1/2トラックずれ、トラック幅の中央を中心として略トラック幅に記録されるCバースト部およびDバースト部の一方とをディスクの1回転で同時に描画するものであり、
前記電子ビームのトラック幅方向の偏向を制御する制御信号を、次のトラックの描画への移行に応じて電子ビームの偏向制御の描画ベース位置を1トラックピッチ送る制御信号と、各バースト部のトラック幅方向の長さの電子ビームの偏向を制御する制御信号とを独立して調整制御することを特徴とするパターンドマスター担体の描画方法。 - 前記電子ビームのトラック幅方向の偏向を制御する制御信号における、次のトラックの描画への移行に応じて電子ビームの偏向制御の描画ベース位置を1トラックピッチ送る制御信号を、
前記転写パターンにおけるA〜Dバースト部の間で、互いにトラック幅方向に1トラックずれて配置されるバースト部間で、一方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置と、他方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置とのトラック幅方向の距離の測定値とトラックピッチの設計値とのずれ量に応じて調整制御することを特徴とする請求項4記載のパターンドマスター担体の描画方法。 - 磁気転写用パターンドマスター担体のA〜Dバースト部で構成されるサーボバースト信号を有する振幅サーボパターンを担持する転写パターンを、回転ステージに設置されレジストが塗布されたディスク上に、前記回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査することにより前記転写パターンを構成するエレメントの描画を行う描画方法であって、
前記振幅サーボパターンのトラック幅の略中央より隣接するトラックのトラック幅の略中央に跨って記録されるAバースト部およびBバースト部の一方と、これとトラック幅方向の中心位置が1/2トラックずれ、トラック幅の中央を中心として略トラック幅に記録されるCバースト部およびDバースト部の一方とをディスクの1回転で同時に描画するものであり、
前記ディスクの1回転中における前記電子ビームのトラック幅方向の偏向を制御する制御信号を、前記Aバースト部またはBバースト部の描画と前記Cバースト部またはDバースト部の描画との移行に応じて電子ビームの偏向制御の描画ベース位置を1/2トラックピッチ送る制御信号と、各バースト部のトラック幅方向の長さの電子ビームの偏向を制御する制御信号とを独立して調整制御することを特徴とするパターンドマスター担体の描画方法。 - 前記ディスクの1回転中における前記電子ビームのトラック幅方向の偏向を制御する制御信号における、前記Aバースト部またはBバースト部の描画と前記Cバースト部またはDバースト部の描画との移行に応じて電子ビームの偏向制御の描画ベース位置を1/2トラックピッチ送る制御信号を、
前記A〜Dバースト部の間で、互いにトラック幅方向に1/2トラックずれて配置されるバースト部との間で、一方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置と、他方のバースト部のトラック幅方向の長さの中心位置とのトラック幅方向の距離の測定値とトラックピッチの設計値の1/2値とのずれ量に応じて調整制御することを特徴とする請求項6記載のパターンドマスター担体の描画方法。 - 前記Aバースト部またはBバースト部の描画と前記Cバースト部またはDバースト部の描画との移行に応じて、トラック幅方向への電子ビーム偏向制御の描画ベース位置を1/2トラックピッチ送るトラック幅方向シフト制御信号に加えて、トラック方向への電子ビーム偏向制御の描画位相のシフト制御信号を別々に制御して同時に行うことを特徴とする請求項6に記載のパターンドマスター担体の描画方法。
- 請求項1に記載の磁気転写用パターンドマスター担体と磁気記録媒体とを密着させた重畳体に磁気転写用磁場を印加して、振幅サーボパターンを前記磁気記録媒体に転写することを特徴とするプリフォーマットされた磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004209928A JP2006031828A (ja) | 2004-07-16 | 2004-07-16 | 磁気転写用パターンドマスター担体およびその描画方法並びにプリフォーマットされた磁気記録媒体の製造方法 |
EP05013942A EP1612838A3 (en) | 2004-06-30 | 2005-06-28 | Electron beam lithography method |
US11/170,141 US7229743B2 (en) | 2004-06-30 | 2005-06-30 | Electron beam lithography method, patterned master carrier for magnetic transfer, lithography method for patterned master carrier for magnetic transfer, and method for producing performatted magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004209928A JP2006031828A (ja) | 2004-07-16 | 2004-07-16 | 磁気転写用パターンドマスター担体およびその描画方法並びにプリフォーマットされた磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006031828A true JP2006031828A (ja) | 2006-02-02 |
Family
ID=35897988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004209928A Pending JP2006031828A (ja) | 2004-06-30 | 2004-07-16 | 磁気転写用パターンドマスター担体およびその描画方法並びにプリフォーマットされた磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006031828A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010033649A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気転写用マスター体およびトラックピッチ変動測定方法 |
-
2004
- 2004-07-16 JP JP2004209928A patent/JP2006031828A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010033649A (ja) * | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Toshiba Storage Device Corp | 磁気転写用マスター体およびトラックピッチ変動測定方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7026098B2 (en) | Electron beam lithography method | |
US7229743B2 (en) | Electron beam lithography method, patterned master carrier for magnetic transfer, lithography method for patterned master carrier for magnetic transfer, and method for producing performatted magnetic recording media | |
US8049190B2 (en) | Electron beam writing method, fine pattern writing system, method for manufacturing uneven pattern carrying substrate, and method for manufacturing magnetic disk medium | |
US20090123870A1 (en) | Method of and system for electon beam lithography of micro-pattern and disc substrate having micro-pattern to be transferred | |
US7868308B2 (en) | Electron beam writing method, fine pattern writing system, and manufacturing method of uneven pattern carrying substrate | |
JP2009217919A (ja) | 電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 | |
US7972764B2 (en) | Electron beam writing method, fine pattern writing system, method for manufacturing uneven pattern carrying substrate, and method for manufacturing magnetic disk medium | |
US20060001993A1 (en) | Electron beam lithography method | |
US20090140162A1 (en) | Electron beam writing method, fine pattern writing system, method for manufacturing uneven pattern carrying substrate, and method for manufacturing magnetic disk medium | |
US7554896B2 (en) | Electron beam recording apparatus | |
JP2006031828A (ja) | 磁気転写用パターンドマスター担体およびその描画方法並びにプリフォーマットされた磁気記録媒体の製造方法 | |
US20090184265A1 (en) | Electron beam writing method, fine pattern writing system, and manufacturing method of uneven pattern carrying substrate | |
JP4532185B2 (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
JP2004177783A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
JP5283410B2 (ja) | 電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 | |
JP2011090738A (ja) | 磁気転写用パターンの描画方法 | |
US20060262693A1 (en) | Apparatus and method for writing multiple radial locations during a single rotation of a disk recording medium | |
JP2006018867A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
JP4842288B2 (ja) | 電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 | |
JP2007242072A (ja) | 電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画方法、電子ビームによるディスクリートトラックメディアの原盤描画装置 | |
JP2013058291A (ja) | 電子ビーム描画方法および電子ビーム描画システム | |
JP2012185880A (ja) | 電子ビーム描画方法、電子ビーム描画システム、インプリントモールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 | |
JP2011159644A (ja) | 電子ビーム描画方法、電子ビーム描画装置、モールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 | |
JP2012185286A (ja) | 電子ビーム描画方法、電子ビーム描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 | |
JP2011090737A (ja) | 磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写用パターンが転写された磁気記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061208 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070301 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071127 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080128 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080304 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080501 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080514 |
|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20080606 |