JP2006023229A - プローブカードの品質評価方法及びその装置、プローブ検査方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 プローブカードのプローブピンを回路素子の電極パッド上に再現性良く接触させることができるようにしたプローブカードの品質評価方法及びその装置、プローブ検査方法を提供する。
【解決手段】 アライメントによって支持ステージ11の位置を祖調整した後で、プローブピン32をICチップ90の電極パッド92形成面に対して水平方向(X方向、Y方向)に移動させて、プローブピン32が電極パッド92上から落ちたときの支持ステージの座標位置をX方向、Y方向についてそれぞれ求める。次に、求めた座標位置から、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させることが可能な支持ステージ11の座標位置範囲を把握する。そして、この把握した座標位置範囲の中心を算出して、最適なコンタクトポイントとする。
【選択図】 図5
【解決手段】 アライメントによって支持ステージ11の位置を祖調整した後で、プローブピン32をICチップ90の電極パッド92形成面に対して水平方向(X方向、Y方向)に移動させて、プローブピン32が電極パッド92上から落ちたときの支持ステージの座標位置をX方向、Y方向についてそれぞれ求める。次に、求めた座標位置から、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させることが可能な支持ステージ11の座標位置範囲を把握する。そして、この把握した座標位置範囲の中心を算出して、最適なコンタクトポイントとする。
【選択図】 図5
Description
本発明は、プローブカードの品質評価方法及びその装置、プローブ検査方法に関し、特に、プローブカードのプローブピンを回路素子の電極パッド上に再現性良く接触させることができるようにしたものである。
従来から、ウエーハに作り込まれたICチップの電気的特性(抵抗値、耐圧、リーク電流、出力電流、出力電圧、閾値電圧、又は回路動作等)を検査する検査装置として、プローバが使用されている。この種のプローバは、所定の検査プログラムにしたがって、ウエーハに作り込まれたICチップの電極パッドにプローブカードのプローブピンを押し当てる。そして、このプローブカードを介して、ICチップに所定の試験信号を印加し、または出力信号を検出することで、当該ICチップの電気的特性を自動で検査する装置である。
また、近年では、ICチップの微細化、高集積化が進みつつあり、上記ICチップの電極パッドも小さくなりつつある。
図4(A)はICチップ90における電極パッド92の配置の一例を示す平面図である。図4(B)及び(C)は、電極パッド92の断面形状の一例を示す図である。例えば、ICチップ90の電極パッド92は、図4(A)に示すように平面視での形状が矩形であり、その大きさは例えば縦方向に20[μm]、横方向に20[μm]程度まで小さくなりつつある。電極パッド92にはいくつか種類があり、例えば、図4(B)に示すように上面が略平坦な金バンプからなる電極パッド92(以下、「金バンプパッド」という。)や、図4(C)に示すように上面がある程度盛り上がったアルミ合金からなるアルミ電極パッド92等がある。
図4(A)はICチップ90における電極パッド92の配置の一例を示す平面図である。図4(B)及び(C)は、電極パッド92の断面形状の一例を示す図である。例えば、ICチップ90の電極パッド92は、図4(A)に示すように平面視での形状が矩形であり、その大きさは例えば縦方向に20[μm]、横方向に20[μm]程度まで小さくなりつつある。電極パッド92にはいくつか種類があり、例えば、図4(B)に示すように上面が略平坦な金バンプからなる電極パッド92(以下、「金バンプパッド」という。)や、図4(C)に示すように上面がある程度盛り上がったアルミ合金からなるアルミ電極パッド92等がある。
ICチップ90の微細化、高集積化が進展する中で、プローバを用いてプローブ検査を正しく行うためには、プローブピンをICチップ90のこのような電極パッド92に精度良く接触させることが重要である。このため、ICチップ90の電極パッド92が小さくなるにつれて、ICチップ90とプローブカードとの位置合わせ(以下、「アライメント」という。)に求められる精度は、より一層高くなってきている。
アライメントは、例えば、下記のi)〜iv)の何れか一に示すような方法によって行われる。
i) プローバにおいて、例えば、ウエーハを載せるためのステージ側に下側カメラを設け、プローブカードをセットするテストヘッド側に上側カメラを設けておく。また、テストヘッドにプローブカードをセットし、かつ、支持ステージ上にウエーハを載置する。この状態で、下側カメラでプローブカードのX方向、Y方向の位置情報を取得する。また、上側カメラでウエーハの位置情報を取得する。そして、これら2つの位置情報に基づいて、アライメントを行う。
ii) i)と同様に、下側カメラと上側カメラとを設けておき、プローブカードとウエーハのそれぞれのX方向、Y方向の位置情報を取得してアライメントを行う。さらに、Z方向へのコンタクトオーバドライブ量は、プローブカードのプローブピンとウエーハとの電気的接触試験により把握する。
iii) ii)と同様に、プローブカードとウエーハのそれぞれのX方向、Y方向の位置情報を取得してアライメントを行う。さらに、Z方向へのコンタクトオーバドライブ量を電気的接触試験によりを把握する。これに加えて、プローブピンを針跡確認用の所定領域内にコンタクトさせ、その領域内での針跡の位置(X方向、Y方向)を画像認識する。この画像認識の結果からプローブピンの先端部の位置(X方向、Y方向)を把握する。把握したプローブピンの先端部の位置に基づいて、上記アライメントを補正する。
iv) 顕微鏡を用いて人間の目で確認しながらアライメントを行う。
i) プローバにおいて、例えば、ウエーハを載せるためのステージ側に下側カメラを設け、プローブカードをセットするテストヘッド側に上側カメラを設けておく。また、テストヘッドにプローブカードをセットし、かつ、支持ステージ上にウエーハを載置する。この状態で、下側カメラでプローブカードのX方向、Y方向の位置情報を取得する。また、上側カメラでウエーハの位置情報を取得する。そして、これら2つの位置情報に基づいて、アライメントを行う。
ii) i)と同様に、下側カメラと上側カメラとを設けておき、プローブカードとウエーハのそれぞれのX方向、Y方向の位置情報を取得してアライメントを行う。さらに、Z方向へのコンタクトオーバドライブ量は、プローブカードのプローブピンとウエーハとの電気的接触試験により把握する。
iii) ii)と同様に、プローブカードとウエーハのそれぞれのX方向、Y方向の位置情報を取得してアライメントを行う。さらに、Z方向へのコンタクトオーバドライブ量を電気的接触試験によりを把握する。これに加えて、プローブピンを針跡確認用の所定領域内にコンタクトさせ、その領域内での針跡の位置(X方向、Y方向)を画像認識する。この画像認識の結果からプローブピンの先端部の位置(X方向、Y方向)を把握する。把握したプローブピンの先端部の位置に基づいて、上記アライメントを補正する。
iv) 顕微鏡を用いて人間の目で確認しながらアライメントを行う。
また、上記i)〜iv)に示した方法以外にも、ウエーハに位置決め専用のバッドを設け、プローブカードに位置決め専用のプローブピンを設けておく。そして、プローブ検査時に、この専用のプローブピンと専用の電極パッドとが導通するか否かをモニタすることで、アライメントする方法が知られている(例えば、特許文献1、2参照。)。
特開平1−129432号公報
特開平9−260443号公報
しかしながら、上記i)、ii)に示した方法では、下記a)、b)に示すような問題がある。
a)「プローブピンの先端部の形状やその位置、ピッチのばらつきに対応できない。」
即ち、プローブカードには複数本のプローブピンが取り付けられているが、これらのプローブピンには加工寸法誤差がある。このため、新品の初期状態でも、プローブピンの先端部の形状や、プローブピンのピッチ間隔にはある程度ばらつきがある。
a)「プローブピンの先端部の形状やその位置、ピッチのばらつきに対応できない。」
即ち、プローブカードには複数本のプローブピンが取り付けられているが、これらのプローブピンには加工寸法誤差がある。このため、新品の初期状態でも、プローブピンの先端部の形状や、プローブピンのピッチ間隔にはある程度ばらつきがある。
また、プローブピンはウエーハとの接触を繰り返すことで、磨耗、変形していくことが普通であり、新品の初期状態に対してその先端部の形状や大きさ、位置等は徐々に変化してしまう。従来、このようなプローブピン先端部の新品時の形状、大きさ、ピッチ間隔のばらつきや、その使用によって生じる形状等の変化に対応するために、アライメント時に全てのプローブピンの先端部をカメラで撮像してその位置情報を取得する方法も検討したが、このような方法では、カメラによる撮像作業と、その画像処理に長時間を要してしまう。
b)「押圧によるプローブピン先端部の位置ズレに対応できない。」
即ち、プローブカードのプローブピンと、ウエーハ上に形成された電極パッドとの電気的導通を確実に取るためには、ウエーハ上の電極パッドにプローブピンを接触させてから、更に、プローブピンを電極パッド側に押圧させる(即ち、Z方向にオーバドライブ付加する)必要がある。このオーバドライブ付加によって、プローブピンの先端部は電極パッド上を滑るように動いてしまうおそれがあり、オーバドライブを付加する前後で、プローブピン先端部の位置が変化してしまう可能性があった。さらに、このオーバドライブ付加によって、プローブピンの先端部が電極パッド上からはみ出てしまう可能性もあった。
b)「押圧によるプローブピン先端部の位置ズレに対応できない。」
即ち、プローブカードのプローブピンと、ウエーハ上に形成された電極パッドとの電気的導通を確実に取るためには、ウエーハ上の電極パッドにプローブピンを接触させてから、更に、プローブピンを電極パッド側に押圧させる(即ち、Z方向にオーバドライブ付加する)必要がある。このオーバドライブ付加によって、プローブピンの先端部は電極パッド上を滑るように動いてしまうおそれがあり、オーバドライブを付加する前後で、プローブピン先端部の位置が変化してしまう可能性があった。さらに、このオーバドライブ付加によって、プローブピンの先端部が電極パッド上からはみ出てしまう可能性もあった。
また、上記iii)に示した方法では、上記a)、b)は解決できるものの、下記c)に示すような問題があった。
c)「2回目以降のアライメントでは、コンタクト跡を正しく画像認識できず、アライメント精度を高めることができない。」
即ち、プローブピンを針跡確認用の所定領域内に一度コンタクトさせ、その後再度、このプローブピンを同一の所定領域にコンタクトさせた場合には、この所定領域内には前回と今回のコンタク跡の両方が残されることとなる。このため、2回目以降のコンタクト時には、そのコンタクト跡を正しく画像認識することができないおそれがあった。
c)「2回目以降のアライメントでは、コンタクト跡を正しく画像認識できず、アライメント精度を高めることができない。」
即ち、プローブピンを針跡確認用の所定領域内に一度コンタクトさせ、その後再度、このプローブピンを同一の所定領域にコンタクトさせた場合には、この所定領域内には前回と今回のコンタク跡の両方が残されることとなる。このため、2回目以降のコンタクト時には、そのコンタクト跡を正しく画像認識することができないおそれがあった。
また、図4(B)に示したような金バンプパッド92で、コンタクト跡を確認する場合には、プローブピンの材質よりも金バンプパッド92の方が固いので、上記のケースとは逆にプローブピンによるコンタクト跡が残りにくい。このため、金バンプパッドを有するICチップ(以下、「回路素子」ともいう。)では、コンタクト跡を正しく画像認識することができないという問題があった。
さらに、プローブピンの材質によっては、例え金バンプパッドでなくても、電極パッドにコンタクト跡をほとんど残さないものもあった。コンタクト跡を正しく画像認識できないと、アライメントの精度を高めることができない。
また、上記iv)に示した方法では、下記d)に示すような問題があった。
d)「ミスや誤差が発生し易い。」
即ち、顕微鏡を用いて、プローブカードとウエーハの両方を目で見ながら行うアライメントは、体力や集中力の観点から人間には酷な作業である。このため、ミスや誤差が発生し易い。
また、上記iv)に示した方法では、下記d)に示すような問題があった。
d)「ミスや誤差が発生し易い。」
即ち、顕微鏡を用いて、プローブカードとウエーハの両方を目で見ながら行うアライメントは、体力や集中力の観点から人間には酷な作業である。このため、ミスや誤差が発生し易い。
一方、特許文献1、2に記載された方法では、位置決め専用のプローブピン(以下、「基準ピン」という。)と、製品測定用のプローブピン(以下、「実測定ピン」という。)とが別々に設けられている。このため、基準ピンに対して実測定ピンが位置ズレしている場合には、アライメントは合格でも、実測定ピンは電極パッドに正しく接触しておらず、プローブ検査を正しく行うことができないおそれがあった。
本発明は、このような従来の技術の有する未解決の課題に着目してなされたものであって、プローブカードのプローブピンを回路素子の電極パッド上に再現性良く接触させることができるようにしたプローブカードの品質評価方法及びその装置、プローブ検査方法の提供を目的とする。
〔発明1〕 上記目的を達成するために、本発明に係るプローブカードの品質評価方法は、プローブ検査に供される回路素子の複数個の電極パッドにそれぞれ対応する複数本のプローブピンを有するプローブカードの品質を評価する方法であって、前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させる工程と、前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記回路素子の電極パッド形成面に対して水平方向に移動させる第1の移動工程と、前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記第1移動工程とは反対の方向に移動させる第2の移動工程と、前記第1の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第1のタイミング情報と、前記第2の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第2のタイミング情報とを取得する工程と、を含むことを特徴とするものである。
ここで、第1のタイミング情報と第2のタイミング情報は、時間情報、又は位置情報のどちらでも良い。例えば、第1のタイミング情報を時間情報の形で取得する場合には、プローブカードを回路素子の電極パッド形成面に対して水平方向に移動させ始めてから、少なくとも一本以上のプローブピンがその対応する電極パッドから離れるまでの時間を測定し、この測定された時間を第1のタイミング情報とする方法がある。この場合には、プローブカードの移動速度を一定にしておく必要がある。
また、第1のタイミング情報を位置情報の形で取得する場合には、プローブカードを回路素子の電極パッド形成面に対して水平方向に移動させ、少なくとも一本以上のプローブピンがその対応する電極パッドから離れたときの当該プローブカードの位置を測定し、この測定された位置を第1のタイミング情報とする方法がある。
なお、第1の移動工程及び第2の移動工程でのプローブカードの移動は、回路素子に対する相対的な移動を意味するものである。即ち、移動させるのは回路素子、プローブカードのどちらでも良く、回路素子とプローブカードの両方を移動させても良い。或いは、例えば、回路素子を支持する支持ステージがある場合には、回路素子を支持した状態の支持ステージをプローブカードに対して移動させても良い。
なお、第1の移動工程及び第2の移動工程でのプローブカードの移動は、回路素子に対する相対的な移動を意味するものである。即ち、移動させるのは回路素子、プローブカードのどちらでも良く、回路素子とプローブカードの両方を移動させても良い。或いは、例えば、回路素子を支持する支持ステージがある場合には、回路素子を支持した状態の支持ステージをプローブカードに対して移動させても良い。
また、プローブカードの品質を評価する際に使用する回路素子は、プローブ検査に実際に供される回路素子(即ち、製品としての回路素子)でも良いし、製品ではなく品質評価専用の回路素子でも良い。品質評価専用の回路素子を用いる場合には、製品と同じ位置に、同じ形状及び大きさの電極パッドを、同じ数だけ有するものを選択して用いることとする。
発明1のプローブカードの品質評価方法によれば、第1、第2のタイミング情報に基づいて、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能なプローブカードの位置範囲(即ち、プローブカードと回路素子との位置合わせのマージン)を把握することができ、把握した位置範囲の大小からプローブカードの品質を評価することができる。上記位置範囲が大きいほど、プローブカードの品質が高いといえる。
また、このようなプローブカードの品質評価方法によれば、上記位置範囲を把握することができ、この位置範囲の中心を算出することができる。従って、例えばプローブ検査装置において、プローブカードと回路素子との位置合わせを粗調整した後で、プローブカードが上記位置範囲の中心にくるよう当該プローブカードの位置を補正することで、複数本のプローブピンをそれぞれが対応する電極パッドのできるだけ中心近くに接触させることが可能である。これにより、プローブカードと回路素子との位置合わせの精度を高めることができ、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに再現性高く接触させることが可能である。
〔発明2〕 発明2のプローブカードの品質評価方法は、発明1のプローブカードの品質評価方法において、前記第1のタイミング情報と前記第2のタイミング情報とに基づいて、前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能な前記プローブカードの位置範囲を算出する工程、を含むことを特徴とするものである。このような構成であれば、算出した位置範囲の大小からプローブカードの品質を評価することができる。
〔発明3〕 発明3のプローブカードの品質評価方法は、発明1又は発明2のプローブカードの品質評価方法において、前記電極パッドの平面視での形状によって決まる互いに交差する複数の方向のそれぞれについて、前記第1の移動工程と前記第2の移動工程とを行うことを特徴とするものである。
発明3のプローブカードの品質評価方法によれば、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能なプローブカードの位置範囲を、平面視で互いに交差する複数の方向についてそれぞれ算出することができる。従って、プローブカードの品質をより正しく評価することができる。プローブカードの位置を平面視で縦方向、横方向についてそれぞれ補正することが可能である。
〔発明4〕 発明4のプローブカードの品質評価方法は、発明3のプローブカードの品質評価方法において、前記電極パッドの平面視での形状が矩形の場合には、前記複数の方向とは、前記矩形の上下の辺に平行な一の方向と、前記矩形の左右の辺に平行な他の方向と、であることを特徴とするものである。
このような構成であれば、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能なプローブカードの位置範囲を、矩形の上下の辺に平行な一の方向と、矩形の左右の辺に平行な他の方向とについて、それぞれ算出することができる。
〔発明5〕 発明5のプローブカードの品質評価方法は、発明3のプローブカードの品質評価方法において、前記電極パッドの平面視での形状が円形の場合には、前記複数の方向とは、直交する2つの方向であることを特徴とするものである。
このような構成であれば、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能なプローブカードの位置範囲を、直交する2つの方向について、それぞれ算出することができる。
このような構成であれば、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能なプローブカードの位置範囲を、直交する2つの方向について、それぞれ算出することができる。
〔発明6〕 発明6のプローブカードの品質評価方法は、発明1から発明5の何れか一のプローブカードの品質評価方法において、前記第1の移動工程及び前記第2の移動工程では、前記複数本のプローブピンの先端部を前記電極パッドに一定タイミング毎に接触させ、それ以外のタイミングでは前記先端部を前記電極パッドから離した状態で、前記プローブカードを移動させることを特徴とするものである。ここで、一定タイミングとは、例えば、一定の時間、又は、一定距離のことである。
発明6のプローブカードの品質評価方法によれば、プローブピンと電極パッドとの接触の機会を少なくすることができ、電極パッドとの接触によるプローブピンの磨耗や変形を抑制することができる。また、例えばアルミ合金のように、電極パッドがプローブピンよりも軟らかい導電部材からなる場合には、上記接触による当該電極パッド表面の削れ、剥れ等を抑制することができる。
〔発明7〕 発明7のプローブカードの品質評価方法は、プローブ検査に供される回路素子の複数個の電極パッドにそれぞれ対応する複数本のプローブピンを有するプローブカードの品質を評価する装置であって、前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させる接触手段と、前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記回路素子の電極パッド形成面に対して水平方向に移動させる第1の移動手段と、前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記第1移動工程とは反対の方向に移動させる第2の移動手段と、前記第1の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第1のタイミング情報と、前記第2の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第2のタイミング情報とを取得する情報取得手段と、前記第1のタイミング情報と前記第2のタイミング情報とに基づいて、前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能な前記プローブカードの位置範囲を算出する算出手段と、を含むことを特徴とするものである。
このような構成であれば、算出した上記位置範囲の大小からプローブカードの品質を評価することができる。
また、このようなプローブカードの品質評価装置によれば、上記位置範囲の中心を算出することが可能である。従って、例えばプローブ検査装置において、プローブカードと回路素子との位置合わせを粗調整した後で、プローブカードが上記位置範囲の中心にくるよう当該プローブカードの位置を補正することで、複数本のプローブピンをそれぞれが対応する電極パッドのできるだけ中心近くに接触させることが可能である。これにより、プローブカードと回路素子との位置合わせの精度を高めることができ、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに再現性高く接触させることが可能である。
発明1から発明7のプローブカードの品質評価方法及び、プローブカードの品質評価装置は、プローブカードを製造するプローブカード製造工程、又は、プローブカード自体の検査を行うプローブカード検査工程に適用して極めて好適である。
また、このようなプローブカードの品質評価装置によれば、上記位置範囲の中心を算出することが可能である。従って、例えばプローブ検査装置において、プローブカードと回路素子との位置合わせを粗調整した後で、プローブカードが上記位置範囲の中心にくるよう当該プローブカードの位置を補正することで、複数本のプローブピンをそれぞれが対応する電極パッドのできるだけ中心近くに接触させることが可能である。これにより、プローブカードと回路素子との位置合わせの精度を高めることができ、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに再現性高く接触させることが可能である。
発明1から発明7のプローブカードの品質評価方法及び、プローブカードの品質評価装置は、プローブカードを製造するプローブカード製造工程、又は、プローブカード自体の検査を行うプローブカード検査工程に適用して極めて好適である。
〔発明8〕 発明8のプローブ検査方法は、回路素子を載置するためのステージと、前記回路素子の複数個の電極パッドにそれぞれ対応する複数本のプローブピンを有するプローブカードと、を備えたプローブ検査装置を用いて前記回路素子をプローブ検査する際に、発明1から発明6の何れか一に記載のプローブカードの品質評価方法を行うことを特徴とするものである。
このような構成であれば、第1、第2のタイミング情報に基づいて、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能なプローブカードの位置範囲を把握することができ、把握した位置範囲の中心を算出することが可能である。
従って、プローブカードと回路素子との位置合わせを粗調整した後で、プローブカードが上記位置範囲の中心にくるよう当該プローブカードの位置を補正することで、複数本のプローブピンをそれぞれが対応する電極パッドのできるだけ中心近くに接触させることが可能である。これにより、プローブカードと回路素子との位置合わせの精度を高めることができ、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに再現性高く接触させることが可能である。
従って、プローブカードと回路素子との位置合わせを粗調整した後で、プローブカードが上記位置範囲の中心にくるよう当該プローブカードの位置を補正することで、複数本のプローブピンをそれぞれが対応する電極パッドのできるだけ中心近くに接触させることが可能である。これにより、プローブカードと回路素子との位置合わせの精度を高めることができ、複数本のプローブピンのそれぞれを複数個の電極パッドのうちの対応するものに再現性高く接触させることが可能である。
発明8のプローブ検査方法は、例えばウエーハに作り込まれたICチップの製造工程、又は、ICチップのプローブ検査工程に適用して極めて好適である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1(A)及び(B)は、本発明の実施の形態に係るプローバ100の構成例を示す概念図である。このプローバ100は、半導体ウエーハWに作り込まれたICチップ90(図4(A)参照)の電気的特性を検査するための検査装置である。
図1(A)に示すように、このプローバ100は、半導体ウエーハ(以下で、単にウエーハと略称する)を載置するための支持ステージ11と、この支持ステージ11の上方でプローバ100の筐体に固定されたテストヘッド13と、このテストヘッド13に着脱可能に取り付けられたプローブカード30と、支持ステージ11の斜め上方に架設されたカメラブリッジ16とを備えている。また、このプローバ100は、カメラブリッジ16に取り付けられた上側カメラ17と、プローブカード30の下方であって支持ステージ11の側方に取り付けられた下側カメラ19とを備えている。
図1(A)及び(B)は、本発明の実施の形態に係るプローバ100の構成例を示す概念図である。このプローバ100は、半導体ウエーハWに作り込まれたICチップ90(図4(A)参照)の電気的特性を検査するための検査装置である。
図1(A)に示すように、このプローバ100は、半導体ウエーハ(以下で、単にウエーハと略称する)を載置するための支持ステージ11と、この支持ステージ11の上方でプローバ100の筐体に固定されたテストヘッド13と、このテストヘッド13に着脱可能に取り付けられたプローブカード30と、支持ステージ11の斜め上方に架設されたカメラブリッジ16とを備えている。また、このプローバ100は、カメラブリッジ16に取り付けられた上側カメラ17と、プローブカード30の下方であって支持ステージ11の側方に取り付けられた下側カメラ19とを備えている。
さらに、図1(B)に示すように、このプローバ100は、X軸21に沿って移動可能なX方向移動ステージ23と、Y軸25に沿って移動可能なY方向移動ステージ27とを備えている。また、このプローバ100は、テストヘッド13や、上側カメラ17、下側カメラ19等からなるアライメント機構50(図3参照。)を備えている。
この実施形態では、支持ステージ11のウエーハ載置面に対して鉛直方向をZ方向といい、この支持ステージ11のウエーハ載置面に対して水平方向をX方向、Y方向という。支持ステージ11はZ方向に昇降可能であり、かつ、Z方向に沿う支持軸11aを軸に自転(即ち、θ方向に回転)可能になっている。この支持ステージ11は、例えば電気および熱の良導体である金属からなるものであり、アースに接続されている。
この実施形態では、支持ステージ11のウエーハ載置面に対して鉛直方向をZ方向といい、この支持ステージ11のウエーハ載置面に対して水平方向をX方向、Y方向という。支持ステージ11はZ方向に昇降可能であり、かつ、Z方向に沿う支持軸11aを軸に自転(即ち、θ方向に回転)可能になっている。この支持ステージ11は、例えば電気および熱の良導体である金属からなるものであり、アースに接続されている。
図1(A)に示すテストヘッド13は、所定の検査プログラムに従ってプローブカード30に所定の電気信号を出力し、又は戻りの電気信号を受けることによって、ウエーハWに作り込まれたICチップの電気的特性を測定するものである。
図2はプローブカード30の構成例を示す平面図である。図2に示すように、このプローブカード30は、プリント基板31に複数本のプローブピン32を備えたものである。このプローブカード30におけるプローブピン32の配置は、検査されるICチップ90の電極パッド92(図4(A)参照。)の配置に対応している。
図2はプローブカード30の構成例を示す平面図である。図2に示すように、このプローブカード30は、プリント基板31に複数本のプローブピン32を備えたものである。このプローブカード30におけるプローブピン32の配置は、検査されるICチップ90の電極パッド92(図4(A)参照。)の配置に対応している。
図1(A)に戻って、上側カメラ17は、例えば低倍率レンズと高倍率レンズとを備えており、その両方のレンズはカメラブリッジ16の斜め下方にある支持ステージ11等に向けられている。ここで、低倍率レンズとは例えば10〜50倍率のレンズであり、高倍率レンズとは例えば100〜200倍率のレンズである。
このプローバ100では、支持ステージ11や、支持ステージ11上のウエーハWを上側カメラ17で撮影することにより、この支持ステージ11や、ウエーハWのX方向、Y方向の座標位置を取得するようになっている。また、このプローバ100では、支持ステージ11表面全体に刻まれた格子状パターン(図示せず)や、この支持ステージ11の周縁等に上側カメラ17の焦点(ピント)を合わせ、ピントが合ったときの焦点距離から支持ステージ11や、ウエーハWのZ方向の座標位置を取得するようになっている。この上側カメラ17は、例えばCCD(charge coupled device)カメラである。
このプローバ100では、支持ステージ11や、支持ステージ11上のウエーハWを上側カメラ17で撮影することにより、この支持ステージ11や、ウエーハWのX方向、Y方向の座標位置を取得するようになっている。また、このプローバ100では、支持ステージ11表面全体に刻まれた格子状パターン(図示せず)や、この支持ステージ11の周縁等に上側カメラ17の焦点(ピント)を合わせ、ピントが合ったときの焦点距離から支持ステージ11や、ウエーハWのZ方向の座標位置を取得するようになっている。この上側カメラ17は、例えばCCD(charge coupled device)カメラである。
図1(A)に示すように、下側カメラ19は、支持ステージ11の側方であってX方向移動ステージ23上に取り付けられている。この下側カメラ19は、低倍率カメラと高倍率カメラとから構成されており、X方向移動ステージ23上からプローブピンの位置等を認識するようになっている。この下側カメラ19は、例えばCCDカメラである。
また、X方向移動ステージ23は、支持ステージ11と下側カメラ19とを下側から支え、図1(B)に示すように、この支持ステージ11と下側カメラ19とをX軸21に沿って一体に移動させるものである。また、Y方向移動ステージ27は、このX軸21とX方向移動ステージ23とを下側から支え、このX軸21とX方向移動ステージ23とをY軸25に沿って一体に移動させるものである。このX方向移動ステージ23の駆動系による移動動作と、Y方向移動ステージ27の駆動系による移動動作とが組み合わさることで、支持ステージ11はX方向及びY方向に移動するようになっている。
また、X方向移動ステージ23は、支持ステージ11と下側カメラ19とを下側から支え、図1(B)に示すように、この支持ステージ11と下側カメラ19とをX軸21に沿って一体に移動させるものである。また、Y方向移動ステージ27は、このX軸21とX方向移動ステージ23とを下側から支え、このX軸21とX方向移動ステージ23とをY軸25に沿って一体に移動させるものである。このX方向移動ステージ23の駆動系による移動動作と、Y方向移動ステージ27の駆動系による移動動作とが組み合わさることで、支持ステージ11はX方向及びY方向に移動するようになっている。
また、支持ステージ11は、その支持軸11aを上下方向に昇降動作させる駆動系によって、上述したようにZ方向に移動することが可能となっている。以下で、このX方向移動ステージ23及びその駆動系と、Y方向移動ステージ27及びその駆動系と、支持軸11a及び支持軸11を昇降動作させる駆動系とをまとめて、「ステージ移動機構」という。このステージ移動機構によって、支持ステージ11を、X方向、Y方向及びZ方向に移動させることができる。
図3は、アライメント機構50の構成例を示すブロック図である。このアライメント機構50は、ウエーハWに作り込まれたICチップ90(図4(A)参照。)をプローブ検査する際に、ICチップ90とプローブカード30とを位置合わせするものである。このアライメント機構50で位置合わせを行うことによって、ICチップ90の電極パッド92(図4(A)参照。)上のそれぞれに、プローブカード30の複数本のプローブピン32のうちの対応するものを接触させることが可能となる。
図3に示すように、このアライメント機構50は、テストヘッド13と、プローブカード30と、上側カメラ17と、下側カメラ19と、ステージ移動機構40と、制御部42と、データ格納部44等から構成されている。これらの中で、テストヘッド13と、プローブカード30と、上側カメラ17と、下側カメラ19と、ステージ移動機構40とについては、上述したとおりである。
制御部42は、例えばCPU(central processing unit)である。この制御部42は、テストヘッド13と、プローブカード30と、上側カメラ17と、下側カメラ19と、ステージ移動機構40と、データ格納部44等に接続し、アライメントに関する動作全般を制御する機能や、所定の演算機能等を有している。さらに、データ格納部44は、例えばRAM(random access memory)である。このデータ格納部44には、アライメントに関する動作プログラムが格納されている。また、このデータ格納部44には、上側カメラ17によって得られる支持ステージ11のX、Y、Z方向の位置情報や、下側カメラ19によって得られるプローブピンの位置情報等が格納される。
なお、このプローバ100では、制御部42は例えばテストヘッド13のインターフェース(I/F)に接続され、テストヘッド13を介して上側カメラ17や下側カメラ19、ステージ移動機構40等を制御するようになっている。
図8は、プローバ100を用いたプローブ検査方法を示すフローチャート(メインルーチン)である。次に、ウエーハWに作り込まれたICチップ90を上述したプローバ100を用いてプローブ検査する際に、プローブカード30とICチップ90との位置合わせ(アライメント)を行い、その後、プローブピン32の先端部の形状やその位置、ピッチのばらつき等に対応させて、上記アライメントを微調整することについて、図1(A)及び(B)、図3、図4(A)〜(C)、図6〜図11等を参照しながら説明する。
図8は、プローバ100を用いたプローブ検査方法を示すフローチャート(メインルーチン)である。次に、ウエーハWに作り込まれたICチップ90を上述したプローバ100を用いてプローブ検査する際に、プローブカード30とICチップ90との位置合わせ(アライメント)を行い、その後、プローブピン32の先端部の形状やその位置、ピッチのばらつき等に対応させて、上記アライメントを微調整することについて、図1(A)及び(B)、図3、図4(A)〜(C)、図6〜図11等を参照しながら説明する。
ここでは、図8に示すフローチャートを開始する前に、従来のアライメント方法をプローバ100で実施して、プローブカード30の全てのプローブピン32が、ICチップ90の電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触するよう、そのコンタクト精度を予め粗調整しておくことを前提とする。従来どおりのアライメント方法としては、例えば[背景技術]の欄で挙げたi)又はii)の方法がある。コンタクト精度を粗調整した後で、図8のフローチャートを開始する。
図8のステップS1では、まず始めに、制御部42の制御下でステージ移動機構40を動作させて支持ステージ11を上昇させて、支持ステージ11を通常のコンタクト高さへ移動させる。次に、図8のステップS2へ進む。
図9は、支持ステージ11のZポジション決め(ステップS2)の一例を示すサブルーチンである。ここで、Zポジションとは、支持ステージ11のZ方向(即ち、ウエーハ載置面に対して垂直方向)の座標位置のことである。
図9は、支持ステージ11のZポジション決め(ステップS2)の一例を示すサブルーチンである。ここで、Zポジションとは、支持ステージ11のZ方向(即ち、ウエーハ載置面に対して垂直方向)の座標位置のことである。
図9のステップA1では、まず始めに、プローブカード30とICチップ90との間で導通試験(即ち、コンタクト試験)を行う。次に、図9のステップA2で、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば、テストヘッド13から送られてくるコンタクト試験の結果に基づいて、制御部42が行う。このステップA2で、コンタクト試験に合格(Pass)したと判断した場合には、図9のステップA3へ進む。また、不合格と判断した場合には、図9のステップA7へ進む。
ステップA3では、制御部42の制御下でステージ移動機構40を動作させ、支持ステージ11を所定高さだけ上昇させる(オーバドライブ付加)。これにより、プローブカード30のプローブピン32はICチップ90の電極パッド92上に押し当てられ、プローブピン32と電極パッド92とが密着する。次に、図9のステップA4へ進む。ステップA4では、支持ステージ11のオーバドライブ付加後の高さ(即ち、Z方向の座標位置)が、規定値(limit)を超えているか否かを判断する。
この判断は、例えば、上側カメラ17から送られてくる支持ステージ11のZ方向の位置情報と、データ格納部44に格納されたZ方向の規定値とに基づいて、制御部42が行う。支持ステージ11の高さが規定値を超えている場合には、図9のステップA10へ進む。また、超えていない場合には、図9のステップA5へ進む。
ステップA5では、ステップA1と同様のコンタクト試験を行う。そして、コンタクト試験後に図9のステップA6へ進む。ステップA6では、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。
ステップA5では、ステップA1と同様のコンタクト試験を行う。そして、コンタクト試験後に図9のステップA6へ進む。ステップA6では、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。
このステップA6で、コンタクト試験を合格したと判断した場合には、オーバドライブを付加した後での支持ステージ11のZ方向の座標位置を補正値として、データ格納部44に格納し、図9のサブルーチンを終了する。ここでは、補正値が例えばZ=+2[μm]であったとする。また、不合格と判断した場合には、図9のステップA11へ進む。
一方、ステップA7では、支持ステージ11の高さが、規定値を超えているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。支持ステージ11の高さが規定値を超えている場合には、図9のステップA8へ進む。また、超えていない場合には、図9のステップA9へ進む。ステップA9では、支持ステージ11を例えば2[μm]だけ上昇させ、その後、ステップA1へ戻る。なお、ステップA8、A10、A11では、プローバ100から例えば警報を発生させて、オペレータ等に異常を知らせる。また、これと同時に、図9のサブルーチンを抜け、図8のフローチャートを終了する。
一方、ステップA7では、支持ステージ11の高さが、規定値を超えているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。支持ステージ11の高さが規定値を超えている場合には、図9のステップA8へ進む。また、超えていない場合には、図9のステップA9へ進む。ステップA9では、支持ステージ11を例えば2[μm]だけ上昇させ、その後、ステップA1へ戻る。なお、ステップA8、A10、A11では、プローバ100から例えば警報を発生させて、オペレータ等に異常を知らせる。また、これと同時に、図9のサブルーチンを抜け、図8のフローチャートを終了する。
図8のステップS2で、支持ステージ11のZポジション決めを行った後、図8のステップS3へ進む。
図10は、支持ステージ11のXポジション決め(ステップS3)の一例を示すサブルーチンである。ここで、Xポジションとは、支持ステージ11のX方向(即ち、ウエーハ載置面に対して水平であり、かつ左右方向)の座標位置のことである。
図10は、支持ステージ11のXポジション決め(ステップS3)の一例を示すサブルーチンである。ここで、Xポジションとは、支持ステージ11のX方向(即ち、ウエーハ載置面に対して水平であり、かつ左右方向)の座標位置のことである。
図10のステップB1では、まず始めに、プローブカード30とICチップ90との間でコンタクト試験を行う。このステップB1で、プローブカード30とICチップ90とを最初に接触させたときの、支持ステージ11のX方向の座標位置を「X原点位置」とする。次に、図10のステップB2で、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば、テストヘッド13から送られてくるコンタクト試験の結果に基づいて、制御部42が行う。
このステップB2で、コンタクト試験に合格したと判断した場合には、図10のステップB8へ進む。また、不合格と判断した場合には、図10のステップB3へ進む。ステップB8では、支持ステージ11のX方向(即ち、左右方向)の座標位置が規定値を超えているか否かを判断する。この判断は、例えば、上側カメラ17から送られてくる支持ステージ11のX方向の位置情報と、データ格納部44に格納されたX方向の規定値とに基づいて、制御部42が行う。
支持ステージ11のX方向の座標位置が規定値を超えている場合には、図10のステップB3へ進む。また、超えていない場合には、図10のステップB9へ進む。図10のステップB9では、支持ステージ11をX原点位置から例えば左方向へ2[μm]移動させる。
図6は、プローブピン32の移動動作の一例を示す概念図である。図6において、支持ステージ11がX原点位置にあったとき、全てのプローブピン32はポイントP0で、それぞれ対応する電極パッド92と接触するものとする。なお、プローブピン32の形状や、大きさ、ピッチ等がプローブカード30内で完全に均一であり、かつ、プローブカード30とICチップ90との位置合わせも完全ならば、各電極パッド92に対するポイントP0の位置も均一となる。しかし、実際には、プローブピン32の形状や、大きさ、ピッチ等は、その使用頻度が増えるに従ってある程度ばらついてしまうことが普通である。このような理由から、図6に示すように、ポイントP0の位置は各電極パッド92間で少しずつ異なっている。
図6は、プローブピン32の移動動作の一例を示す概念図である。図6において、支持ステージ11がX原点位置にあったとき、全てのプローブピン32はポイントP0で、それぞれ対応する電極パッド92と接触するものとする。なお、プローブピン32の形状や、大きさ、ピッチ等がプローブカード30内で完全に均一であり、かつ、プローブカード30とICチップ90との位置合わせも完全ならば、各電極パッド92に対するポイントP0の位置も均一となる。しかし、実際には、プローブピン32の形状や、大きさ、ピッチ等は、その使用頻度が増えるに従ってある程度ばらついてしまうことが普通である。このような理由から、図6に示すように、ポイントP0の位置は各電極パッド92間で少しずつ異なっている。
ステップB9では、例えば支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ一旦下降させて全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを離す。次に、支持ステージ11を左方向へ2μm移動させる。そして、支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ上昇させて、全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを接触させる。これにより、電極パッド92をあまり傷つけることなく、全てのプローブピン32をポイントP0からポイントPX−2へ動かすことができる。
次に、ステップB1へ戻って、全てのプローブピン32をポイントPX−2に移動させた状態でコンタクト試験を行う。そして、ステップB2で、コンタクト試験に合格するか否かの判断をする。
この実施形態では、図10に示すサブルーチンにおいて、ステップB1,B2,B8,B9の各処理を複数回行ってから、ステップB3へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を左方向に6[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPX−6まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップB2からステップB3へ進む。
この実施形態では、図10に示すサブルーチンにおいて、ステップB1,B2,B8,B9の各処理を複数回行ってから、ステップB3へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を左方向に6[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPX−6まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップB2からステップB3へ進む。
ステップB3では、例えば支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ一旦下降させて全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを離す。次に、支持ステージ11をX原点位置に移動させる。次に、図10のステップB4へ進む。
ステップB4では、プローブカード30とICチップ90との間でコンタクト試験を行う。そして、図10のステップB5で、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。
ステップB4では、プローブカード30とICチップ90との間でコンタクト試験を行う。そして、図10のステップB5で、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。
このステップB5で、コンタクト試験に合格したと判断した場合には、図10のステップB10へ進む。ステップB10では、支持ステージ11のX方向の座標位置が規定値を超えているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。支持ステージ11のX方向の座標位置が規定値を超えている場合には、図10のステップB6へ進む。また、超えていない場合には、図10のステップB11へ進む。
ステップB11では、例えば支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ一旦下降させて全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを離す。次に、支持ステージ11を右方向へ2μm移動させる。そして、支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ上昇させて、全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを接触させる。これにより、電極パッド92をあまり傷つけることなく、全てのプローブピン32をポイントP0からPX2へ移動させることができる。
次に、ステップB4へ戻って、全てのプローブピン32がポイントPX2に移動した状態でコンタクト試験を行う。そして、ステップB5で、コンタクト試験に合格するか否かの判断をする。
この実施形態では、図10に示すサブルーチンにおいて、ステップB4,B5,B10,B11の各処理を複数回行ってから、ステップB6へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を右方向に8[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPX8まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップB5からステップB6へ進む。
この実施形態では、図10に示すサブルーチンにおいて、ステップB4,B5,B10,B11の各処理を複数回行ってから、ステップB6へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を右方向に8[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPX8まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップB5からステップB6へ進む。
ステップB6では、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させる支持ステージ11のX方向の座標位置範囲を算出する。そして、このX方向の座標位置範囲の中心を、X方向における最適なコンタクトポイントとする。
図7は、最適コンタクトポイントの算出方法を示す図である。図7の横軸はX原点位置を示し、縦軸は後述するY原点位置を示す。
図7は、最適コンタクトポイントの算出方法を示す図である。図7の横軸はX原点位置を示し、縦軸は後述するY原点位置を示す。
上述したように、図10に示すサブルーチンのステップB1,B2,B3,B8,B9では、例えば、支持ステージ11を左方向に6[μm]移動させ、全てのプローブピン32をポイントPX−6まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出した。このことから、図7において、X方向の座標位置範囲の左端を−4[μm]とする。また、ステップB4,B5,B3,B10,B11では、例えば、支持ステージ11を左方向に8[μm]移動させ、全てのプローブピン32をポイントPX8まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出した。このことから、図7において、X方向の座標位置範囲の右端を+6[μm]とする。
図7に示すように、支持ステージ11のX方向の座標位置範囲は−4≦X≦6である。また、その中心は、X=+1[μm]である。このような結果から、X方向の補正値を+1[μm]とする。この演算処理は、例えば、データ格納部44に格納された演算処理プログラムと、コンタクト試験の結果とに基づいて、制御部42が行う。
図10のステップB7では、ステップB8での演算処理の結果に基づいて、支持ステージ11の位置を補正する。この実施形態では、上述したようにX方向の補正値は+1[μm]であるので、支持ステージ11をX原点位置から右方向に1μm移動させる。これにより、図10のサブルーチンを終了する。
図10のステップB7では、ステップB8での演算処理の結果に基づいて、支持ステージ11の位置を補正する。この実施形態では、上述したようにX方向の補正値は+1[μm]であるので、支持ステージ11をX原点位置から右方向に1μm移動させる。これにより、図10のサブルーチンを終了する。
図8のステップS3で支持ステージ11のXポジション決めを行った後、図8のステップS4へ進む。
図11は、支持ステージ11のYポジション決め(ステップS4)の一例を示すサブルーチンである。ここで、Yポジションとは、支持ステージ11のY方向(即ち、ウエーハ載置面に対して水平であり、かつ上下方向)の座標位置のことである。
図11は、支持ステージ11のYポジション決め(ステップS4)の一例を示すサブルーチンである。ここで、Yポジションとは、支持ステージ11のY方向(即ち、ウエーハ載置面に対して水平であり、かつ上下方向)の座標位置のことである。
図11のステップC1では、まず始めに、プローブカード30とICチップ90との間で、コンタクト試験を行う。このステップC1で、プローブカード30とICチップ90とを最初に接触させたときの、支持ステージ11のY方向の座標位置を「Y原点位置」とする。次に、図11のステップC2で、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば、テストヘッド13から送られてくるコンタクト試験の結果に基づいて、制御部42が行う。
このステップC2で、コンタクト試験に合格したと判断した場合には、図11のステップC8へ進む。また、不合格と判断した場合には、図11のステップC3へ進む。ステップC8では、支持ステージ11のY方向(即ち、上下方向)の座標位置が規定値を超えているか否かを判断する。この判断は、例えば、上側カメラ17から送られてくる支持ステージ11のY方向の位置情報と、データ格納部44に格納されたY方向の規定値とに基づいて、制御部42が行う。
支持ステージ11のY方向の座標位置が規定値を超えている場合には、図11のステップC3へ進む。また、超えていない場合には、図11のステップC9へ進む。図11のステップC9では、支持ステージ11をY原点位置から例えば上方向へ2[μm]移動させる。
図6において、支持ステージ11がY原点位置にあったとき、全てのプローブピン32はポイントP0で、それぞれ対応する電極パッド92と接触するものとする。
図6において、支持ステージ11がY原点位置にあったとき、全てのプローブピン32はポイントP0で、それぞれ対応する電極パッド92と接触するものとする。
ステップC9では、例えば支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ一旦下降させて全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを離す。次に、支持ステージ11を上方向へ2μm移動させる。そして、支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ上昇させて、全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを接触させる。これにより、電極パッド92をあまり傷つけることなく、全てのプローブピン32をポイントP0からポイントPY2へ動かすことができる。
次に、ステップC1へ戻って、全てのプローブピン32をポイントPY2に移動させた状態でコンタクト試験を行う。そして、ステップC2で、コンタクト試験に合格するか否かの判断をする。
この実施形態では、図11に示すサブルーチンにおいて、ステップC1,C2,C8,C9の各処理を複数回行ってから、ステップC3へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を上方向に4[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPY4まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップC2からステップC3へ進む。
この実施形態では、図11に示すサブルーチンにおいて、ステップC1,C2,C8,C9の各処理を複数回行ってから、ステップC3へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を上方向に4[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPY4まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップC2からステップC3へ進む。
ステップC3では、例えば支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ一旦下降させて全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを離す。次に、支持ステージ11をY原点位置に移動させる。次に、図11のステップC4へ進む。
ステップC4では、プローブカード30とICチップ90との間でコンタクト試験を行う。そして、図11のステップC5で、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。
ステップC4では、プローブカード30とICチップ90との間でコンタクト試験を行う。そして、図11のステップC5で、プローブカード30とICチップ90とが正しくコンタクトしているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。
このステップC5で、コンタクト試験に合格したと判断した場合には、図11のステップC10へ進む。ステップC10では、支持ステージ11のY方向の座標位置が規定値を超えているか否かを判断する。この判断は、例えば制御部42が行う。支持ステージ11のY方向の座標位置が規定値を超えている場合には、図11のステップC6へ進む。また、超えていない場合には、図11のステップC11へ進む。
ステップC11では、例えば支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ一旦下降させて全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを離す。次に、支持ステージ11を下方向へ2μm移動させる。そして、支持ステージ11をZ方向に所定距離だけ上昇させて、全てのプローブピン32と、それぞれ対応する電極パッド92とを接触させる。これにより、電極パッド92をあまり傷つけることなく、全てのプローブピン32をポイントP0からPY−2へ移動させることができる。
次に、ステップC4へ戻って、全てのプローブピン32がポイントPY−2に移動した状態でコンタクト試験を行う。そして、ステップC5で、コンタクト試験に合格するか否かの判断をする。
この実施形態では、図11に示すサブルーチンにおいて、ステップC4,C5,C10,C11の各処理を複数回行ってから、ステップC6へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を下方向に6[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPY−6まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップC5からステップC6へ進む。
この実施形態では、図11に示すサブルーチンにおいて、ステップC4,C5,C10,C11の各処理を複数回行ってから、ステップC6へ進む場合を想定する。例えば、支持ステージ11を下方向に6[μm]移動させ、図6に示すように、全てのプローブピン32をポイントPY−6まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したとする。この結果を、データ格納部44(図3参照。)に格納する。次に、ステップC5からステップC6へ進む。
ステップC6では、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させる支持ステージ11のY方向の座標位置範囲を算出する。そして、このY方向の座標位置範囲の中心を、Y方向における最適なコンタクトポイントとする。
上述したように、図11に示すサブルーチンのステップC1,C2,C3,C8,C9では、例えば、支持ステージ11を上方向に4[μm]移動させ、全てのプローブピン32をポイントPY4まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出した。このことから、図7において、Y方向の座標位置範囲の上端を+2[μm]とする。また、ステップC4,C5,C3,C10,C11では、例えば、支持ステージ11を下方向に6[μm]移動させ、全てのプローブピン32をポイントPY−6まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出した。このことから、図7において、Y方向の座標位置範囲の下端を−4[μm]とする。
上述したように、図11に示すサブルーチンのステップC1,C2,C3,C8,C9では、例えば、支持ステージ11を上方向に4[μm]移動させ、全てのプローブピン32をポイントPY4まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出した。このことから、図7において、Y方向の座標位置範囲の上端を+2[μm]とする。また、ステップC4,C5,C3,C10,C11では、例えば、支持ステージ11を下方向に6[μm]移動させ、全てのプローブピン32をポイントPY−6まで動かしたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出した。このことから、図7において、Y方向の座標位置範囲の下端を−4[μm]とする。
図7に示すように、支持ステージ11のY方向の座標位置範囲は−4≦Y≦2である。また、その中心は、Y=−1[μm]である。このような結果から、Y方向の補正値を−1[μm]とする。この演算処理は、例えば、データ格納部44に格納された演算処理プログラムと、コンタクト試験の結果とに基づいて、制御部42が行う。
図11のステップC7では、ステップC8での演算処理の結果に基づいて、支持ステージ11の位置を補正する。この実施形態では、上述したようにY方向の補正値は−1[μm]であるので、支持ステージ11をY原点位置から下方向に1μm移動させる。これにより、図11のサブルーチンを終了する。
図11のステップC7では、ステップC8での演算処理の結果に基づいて、支持ステージ11の位置を補正する。この実施形態では、上述したようにY方向の補正値は−1[μm]であるので、支持ステージ11をY原点位置から下方向に1μm移動させる。これにより、図11のサブルーチンを終了する。
図8のステップS3で支持ステージ11のYポジション決めを行った後、図8のステップS5へ進む。
図8のステップS5では、データ格納部44に全補正値(X,Y,Z)を格納する。上述したように、この実施形態では、補正値として(X,Y,Z)=(1,−1,2)を得ているので、この値をデータ格納部44に格納する。次に、図9のステップS9では、データ格納部44に格納された補正値に基づいて、支持ステージ11の座標位置をアライメント(粗調整)後の原点からX方向に+1、Y方向に−1、Z方向に+2だけ移動させる。その後、プローブ検査を開始する。
図8のステップS5では、データ格納部44に全補正値(X,Y,Z)を格納する。上述したように、この実施形態では、補正値として(X,Y,Z)=(1,−1,2)を得ているので、この値をデータ格納部44に格納する。次に、図9のステップS9では、データ格納部44に格納された補正値に基づいて、支持ステージ11の座標位置をアライメント(粗調整)後の原点からX方向に+1、Y方向に−1、Z方向に+2だけ移動させる。その後、プローブ検査を開始する。
このように、本発明の実施形態に係るプローブ検査方法によれば、アライメントによって支持ステージ11の位置を祖調整した後で、図5の実線矢印で示すように、プローブピン32をICチップ90の電極パッド92形成面に対して水平方向(X方向、Y方向)に移動させて、プローブピン32が電極パッド92上から落ちたときの支持ステージの座標位置をX方向、Y方向についてそれぞれ求める。次に、求めた座標位置から、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させることが可能な支持ステージ11の座標位置範囲を把握する。そして、この把握した座標位置範囲の中心を算出して、最適なコンタクトポイントとする。
従って、プローブカード30とICチップ90との位置合わせを粗調整した後で、支持ステージ11が上記最適なコンタクトポイントにくるよう当該支持ステージ11の位置を補正することで、全てのプローブピン32をそれぞれが対応する電極パッド92のできるだけ中心近くに接触させることが可能である。これにより、プローブカード30とICチップ90との位置合わせの精度を高めることができ、全てのプローブピン32のそれぞれを電極パッド92のうちの対応するものに再現性高く接触させることが可能である。
また、本発明の実施形態に係るプローブカード30の品質評価方法は、プローブ検査に供されるICチップ90の複数個の電極パッド92にそれぞれ対応するプローブピン92を有するプローブカード30の品質を評価する方法であって、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させる工程と、全てのプローブピン92のうち少なくとも一本以上の当該プローブピン92がその対応する電極パッド92から離れるまで、支持ステージ11をICチップ90の電極パッド92形成面に対してX方向、Y方向に移動させる第1の移動工程と、全てのプローブピン92のうち少なくとも一本以上の当該プローブピン92がその対応する電極パッド92から離れるまで、支持ステージ11を第1移動工程とは反対の方向、即ち、−X方向、−Y方向に移動させる第2の移動工程と、第1の移動工程で少なくとも一本以上のプローブピン92がその対応する電極パッド92から離れるときの支持ステージ11の座標位置と、第2の移動工程で少なくとも一本以上のプローブピン92がその対応する電極パッド92から離れるときの支持ステージ11の座標位置とを取得する工程と、を含むものである。
さらに、本発明の実施形態に係るプローブカード30の品質評価装置は、上記の品質評価方法を実現する装置であって、例えば、図3に示したアライメント機構50からなるものである。
本発明の実施形態に係るプローブカード30の品質評価方法及び、プローブカード30の品質評価装置によれば、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させることが可能な支持ステージ11のX方向、Y方向の座標位置範囲を把握することができ、把握した支持ステージ11の座標位置範囲の大小から、プローブカード30の品質を評価することができる。
本発明の実施形態に係るプローブカード30の品質評価方法及び、プローブカード30の品質評価装置によれば、全てのプローブピン32を電極パッド92のうちの対応するものにそれぞれ接触させることが可能な支持ステージ11のX方向、Y方向の座標位置範囲を把握することができ、把握した支持ステージ11の座標位置範囲の大小から、プローブカード30の品質を評価することができる。
上記品質評価方法、又は上記品質評価装置により、プローブカード90の品質を評価した際に、支持ステージ11の上記座標位置範囲が大きいほど、そのプローブカード30の品質は高いといえる。
この実施形態では、ICチップが本発明の回路素子に対応し、アライメント機構50が本発明のプローブカード30の品質を評価する装置に対応している。また、上側カメラ17と、下側カメラ19と、ステージ移動機構40と、制御部42及びデータ格納部44とが本発明の接触手段に対応している。さらに、テストヘッド13と、ステージ移動機構40と、制御部42及びデータ格納部44とが、本発明の第1、第2の移動手段に対応している。また、テストヘッド13と、制御部42とが本発明の情報取得手段に対応し、制御部42及びデータ格納部44とが本発明の算出手段に対応している。
この実施形態では、ICチップが本発明の回路素子に対応し、アライメント機構50が本発明のプローブカード30の品質を評価する装置に対応している。また、上側カメラ17と、下側カメラ19と、ステージ移動機構40と、制御部42及びデータ格納部44とが本発明の接触手段に対応している。さらに、テストヘッド13と、ステージ移動機構40と、制御部42及びデータ格納部44とが、本発明の第1、第2の移動手段に対応している。また、テストヘッド13と、制御部42とが本発明の情報取得手段に対応し、制御部42及びデータ格納部44とが本発明の算出手段に対応している。
さらに、支持ステージ11を左、又は上方向に移動させたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したときの支持ステージ11の座標位置情報(即ち、X=−6[μm]、又はY=4[μm])が本発明の第1のタイミング情報に対応している。支持ステージ11を右、又は下方向に移動させたときに、一部のプローブピン32が電極パッド92からはみ出したときの支持ステージ11の座標位置情報(即ち、X=8[μm]、又はY=−6[μm])が本発明の第2のタイミング情報に対応している。
なお、この実施形態では、電極パッド92の平面視での形状が矩形の場合について説明したが、電極パッド92の平面視での形状は矩形に限られることはなく、例えば円形でも良い。この場合には、アライメントによって支持ステージ11の位置を祖調整した後で、ICチップ90の電極パッド92形成面に対して水平方向で、かつ直交する2つの方向のそれぞれにプローブピン32を移動させて、プローブピン32が電極パッド92上から落ちたときの支持ステージの座標位置をX方向、Y方向についてそれぞれ求めれば良い。
電極パッド92の平面視での形状が矩形の場合と同様に、最適なコンタクトポイントを算出することで、全てのプローブピン32のそれぞれを電極パッド92のうちの対応するものに再現性高く接触させることが可能である。
10 チャックステージ、20 ヒータ、30 プローブカード、32 プローブピン、40 カードホルダー、50 テストヘッド、60、60´ 温度センサ、70 ステージ移動機構、72 Z方向駆動軸、74 X方向移動ステージ、76 Y方向移動ステージ、80 筐体と、90 コントローラ、95 データ格納部、100、100´ プローバ、a、b、c、d、e、f、g 位置(温度センサ60又は60´による温度の被測定位置)、W ウエーハ
Claims (8)
- プローブ検査に供される回路素子の複数個の電極パッドにそれぞれ対応する複数本のプローブピンを有するプローブカードの品質を評価する方法であって、
前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させる工程と、
前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記回路素子の電極パッド形成面に対して水平方向に移動させる第1の移動工程と、
前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記第1移動工程とは反対の方向に移動させる第2の移動工程と、
前記第1の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第1のタイミング情報と、前記第2の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第2のタイミング情報とを取得する工程と、を含むことを特徴とするプローブカードの品質評価方法。 - 前記第1のタイミング情報と前記第2のタイミング情報とに基づいて、前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能な前記プローブカードの位置範囲を算出する工程、を含むことを特徴とする請求項1に記載のプローブカードの品質評価方法。
- 前記電極パッドの平面視での形状によって決まる互いに交差する複数の方向のそれぞれについて、
前記第1の移動工程と前記第2の移動工程とを行うことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプローブカードの品質評価方法。 - 前記電極パッドの平面視での形状が矩形の場合には、
前記複数の方向とは、前記矩形の上下の辺に平行な一の方向と、前記矩形の左右の辺に平行な他の方向と、であることを特徴とする請求項3に記載のプローブカードの品質評価方法。 - 前記電極パッドの平面視での形状が円形の場合には、
前記複数の方向とは、直交する2つの方向であることを特徴とする請求項3に記載のプローブカードの品質評価方法。 - 前記第1の移動工程及び前記第2の移動工程では、
前記複数本のプローブピンの先端部を前記電極パッドに一定タイミング毎に接触させ、それ以外のタイミングでは前記先端部を前記電極パッドから離した状態で、前記プローブカードを移動させることを特徴とする請求項1から請求項5の何れか一項に記載のプローブカードの品質評価方法。 - プローブ検査に供される回路素子の複数個の電極パッドにそれぞれ対応する複数本のプローブピンを有するプローブカードの品質を評価する装置であって、
前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させる接触手段と、
前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記回路素子の電極パッド形成面に対して水平方向に移動させる第1の移動手段と、
前記複数本のプローブピンのうち少なくとも一本以上の当該プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるまで、前記プローブカードを前記第1移動工程とは反対の方向に移動させる第2の移動手段と、
前記第1の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第1のタイミング情報と、前記第2の移動工程で少なくとも一本以上の前記プローブピンがその対応する前記電極パッドから離れるときの第2のタイミング情報とを取得する情報取得手段と、
前記第1のタイミング情報と前記第2のタイミング情報とに基づいて、前記複数本のプローブピンのそれぞれを前記複数個の電極パッドのうちの対応するものに接触させることが可能な前記プローブカードの位置範囲を算出する算出手段と、を含むことを特徴とするプローブカードの品質評価装置。 - 回路素子を載置するためのステージと、
前記回路素子の複数個の電極パッドにそれぞれ対応する複数本のプローブピンを有するプローブカードと、
を備えたプローブ検査装置を用いて前記回路素子をプローブ検査する際に、
請求項1から請求項6の何れか一項に記載のプローブカードの品質評価方法を行うことを特徴とするプローブ検査方法。
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| JP2004203089A JP2006023229A (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | プローブカードの品質評価方法及びその装置、プローブ検査方法 |
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| JP2004203089A JP2006023229A (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | プローブカードの品質評価方法及びその装置、プローブ検査方法 |
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ID=35796594
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| JP2004203089A Pending JP2006023229A (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | プローブカードの品質評価方法及びその装置、プローブ検査方法 |
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2010141932A (ja) * | 2006-06-12 | 2010-06-24 | Epson Toyocom Corp | 電子デバイスのプローブ接触用電極の製造方法 |
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| US8466703B2 (en) | 2003-03-14 | 2013-06-18 | Rudolph Technologies, Inc. | Probe card analysis system and method |
-
2004
- 2004-07-09 JP JP2004203089A patent/JP2006023229A/ja active Pending
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