JP2006019510A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004195839A JP2006019510A (ja) | 2004-07-01 | 2004-07-01 | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004195839A JP2006019510A (ja) | 2004-07-01 | 2004-07-01 | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2006019510A JP2006019510A (ja) | 2006-01-19 |
JP2006019510A5 true JP2006019510A5 (fr) | 2007-06-14 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004195839A Withdrawn JP2006019510A (ja) | 2004-07-01 | 2004-07-01 | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006019510A (fr) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7763872B2 (en) * | 2005-11-02 | 2010-07-27 | University College Dublin, National University Of Ireland, Dublin | High power EUV lamp system |
JP5076349B2 (ja) * | 2006-04-18 | 2012-11-21 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光集光鏡および極端紫外光光源装置 |
DE102008042462B4 (de) | 2008-09-30 | 2010-11-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für die EUV-Mikrolithographie |
US8587768B2 (en) * | 2010-04-05 | 2013-11-19 | Media Lario S.R.L. | EUV collector system with enhanced EUV radiation collection |
JP6356971B2 (ja) * | 2013-01-30 | 2018-07-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 |
KR101630916B1 (ko) * | 2014-04-17 | 2016-06-15 | 추상완 | 스테레오 모바일 3d 카메라 |
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- 2004-07-01 JP JP2004195839A patent/JP2006019510A/ja not_active Withdrawn
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