JP2006017897A - Electro-optical apparatus and electronic appliance - Google Patents

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Kenichi Tajiri
憲一 田尻
Kazuhiro Tanaka
千浩 田中
Satoshi Yatabe
聡 矢田部
Takashi Otome
孝史 大留
Masahiro Horiguchi
正寛 堀口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical apparatus in which a high-quality display image can be obtained while longitudinal and lateral crosstalk can be decreased. <P>SOLUTION: A device substrate includes pixel electrodes, TFD (thin film diode) elements, data lines and dummy data lines, wherein the dummy data line is disposed between the pixel electrode and an adjacent data line not connected to the pixel electrode. The pixel electrode and the adjacent data line not connected to the pixel electrode are shielded from each other by the dummy data line and no parasitic capacitance is generated between them, which prevents fluctuation in the voltage Vlc of the pixel electrode, maintains the transmissivity of a liquid crystal to an appropriate state, and prevents longitudinal crosstalk. As the dummy data line is driven at a potential in an opposite polarity by inverting the potential of the data line, a parasitic capacitance C_b' generated between the dummy data line and the scanning line is compensated with a parasitic capacitance C_b generated between the data line and scanning line. The parasitic capacitance C_b, a spike waveform and lateral crosstalk are decreased. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、各種情報の表示に用いて好適な電気光学装置および電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus suitable for use in displaying various types of information.

従来より、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ装置、及びフィールドエミッション表示装置などの各種の電気光学装置が知られている。電気光学装置の一例としての二端子素子型アクティブ・マトリクス、あるいはTFD(Thin Film Diode)と呼ばれる液晶パネルにおいては、相互に対向する2枚の基板のうち一方の基板に走査線が、他方の基板に信号線(データ線)及び画素電極が形成され、両基板間に液晶が封入されている。そして、他方の基板には、電流−電圧特性が非線形な素子が設けられ、その素子は画素電極及び信号線に夫々接続されている。   Conventionally, various electro-optical devices such as a liquid crystal display device, an organic electroluminescence display device, a plasma display device, and a field emission display device are known. In a liquid crystal panel called a two-terminal element type active matrix or TFD (Thin Film Diode) as an example of an electro-optical device, one of two substrates facing each other has a scanning line on one substrate and the other substrate on the other substrate. A signal line (data line) and a pixel electrode are formed on the substrate, and liquid crystal is sealed between the substrates. The other substrate is provided with an element having a nonlinear current-voltage characteristic, and the element is connected to the pixel electrode and the signal line, respectively.

しかしながら、そのようなTFD液晶パネルでは、構造上、表示画面の1ライン(走査線)の表示中に、その1ラインに含まれる画素のレベルが特定の階調に集中すると、一斉に信号電極線の電位が変化する。この電位変化は走査線を通じて各画素へ伝搬し、横方向のクロストーク(以下、「横クロストーク」と呼ぶ。)を生じさせる。ここで、横クロストークとは、上記のように、画素レベルが特定の階調に集中したラインと、そうでないラインとにおいて、同一階調を表示しているにも拘わらず、表示画像上では表示レベルが異なってしまうことをいう。   However, in such a TFD liquid crystal panel, when the level of pixels included in one line is concentrated on a specific gradation during the display of one line (scanning line) on the display screen, the signal electrode lines are all at once. The potential of changes. This potential change propagates to each pixel through the scanning line, and causes horizontal crosstalk (hereinafter referred to as “lateral crosstalk”). Here, as described above, horizontal crosstalk means that on the display image, although the same gradation is displayed in the line where the pixel level is concentrated on a specific gradation and the line where the pixel level is not, This means that the display level is different.

また、そのようなTFD液晶パネルでは、画素電極とその両側の各信号線との間隔が夫々狭いため、特に、画素電極とそれに接続されていない方の隣接する信号線との間に生じる寄生容量の影響により、縦方向のクロストーク(以下、「縦クロストーク」と呼ぶ)を生じさせる。ここで、縦クロストークとは、灰色などを背景色として、赤、青、緑などの単色、或いは赤、青、緑の各色に対して補色の関係にある、シアン、マゼンタ、イエローなどの色を矩形状に表示したときに、矩形表示領域の上下方向に位置する領域が、本来表示されるべき背景色より明るく表示されてしまい、かつ、微妙に色づいて表示されてしまう現象をいう。   Further, in such a TFD liquid crystal panel, since the interval between the pixel electrode and each signal line on both sides thereof is narrow, in particular, the parasitic capacitance generated between the pixel electrode and the adjacent signal line not connected thereto. As a result, vertical crosstalk (hereinafter referred to as “vertical crosstalk”) is generated. Here, vertical crosstalk is a color such as cyan, magenta, yellow, etc., which is a single color such as red, blue, or green, or a complementary color relationship with each color of red, blue, and green, with gray as the background color. Is displayed in a rectangular shape, the region positioned in the vertical direction of the rectangular display region is displayed brighter than the background color that should be displayed, and is displayed in a slightly colored manner.

このため、かかるTFD液晶パネルでは、縦クロストーク或いは横クロストークが生じると高品位な表示画像を得ることができないという問題が生じている。   For this reason, such a TFD liquid crystal panel has a problem that a high-quality display image cannot be obtained when vertical crosstalk or horizontal crosstalk occurs.

なお、この種の液晶表示装置として、例えば、主表示部の他にダミー表示部を設け、この主表示部とダミー表示部に反転画像データを表示することにより、ダミー表示部の走査線の走査線極波形に生じるグリッジの発生を軽減してクロストーク現象等を軽減するようにした液晶表示装置が知られている(例えば、特許文献1を参照)。   As this type of liquid crystal display device, for example, a dummy display unit is provided in addition to the main display unit, and reverse image data is displayed on the main display unit and the dummy display unit, thereby scanning the scanning lines of the dummy display unit. There is known a liquid crystal display device that reduces the occurrence of glitches generated in a linear waveform to reduce the crosstalk phenomenon and the like (see, for example, Patent Document 1).

また、ゲートラインに平行に設けられる補助容量ラインの寸法を調整して、補助容量ラインごとに寄生容量が画素電位の変動に与える寄与分をうち消すように異なる波形の補助容量電圧を印加することにより、垂直クロストーク等を抑制するようにした液晶表示装置が知られている(例えば、特許文献2を参照)。   In addition, by adjusting the size of the auxiliary capacitance line provided in parallel to the gate line, an auxiliary capacitance voltage having a different waveform is applied so as to eliminate the contribution of parasitic capacitance to the fluctuation of the pixel potential for each auxiliary capacitance line. Therefore, a liquid crystal display device that suppresses vertical crosstalk and the like is known (see, for example, Patent Document 2).

また、この種の液晶表示装置の駆動方法として、例えば、対向電極に、対向電極波形におけるリップル成分の検出のみ行うための検出用端子等を設けて横クロストーク補正を行う液晶表示装置の駆動方法が知られている(例えば、特許文献3を参照)。   Further, as a driving method for this type of liquid crystal display device, for example, a driving method for a liquid crystal display device that performs lateral crosstalk correction by providing a detection terminal for detecting only a ripple component in the counter electrode waveform on the counter electrode. Is known (see, for example, Patent Document 3).

また、4値駆動法(1/2H反転)によりクロストークの発生を防止する表示装置の駆動方法が知られている(例えば、特許文献4を参照)。   In addition, a display device driving method that prevents the occurrence of crosstalk by a quaternary driving method (1 / 2H inversion) is known (see, for example, Patent Document 4).

特開平6−195044号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-195044 特開2002−55656号公報JP 2002-55656 A 特開2000−56292号公報JP 2000-56292 A 特開2001−147671号公報JP 2001-147671 A

本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、縦及び横クロストークを低減して高品位な表示画像を得ることが可能な電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is that it provides an electro-optical device and an electronic apparatus capable of reducing vertical and horizontal crosstalk and obtaining a high-quality display image. .

本発明の1つの観点では、データ線、画素電極、前記データ線及び前記画素電極に接続されたスイッチング素子、並びに信号線を有する基板と、走査線を有する対向基板との間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、前記信号線は、前記画素電極と当該画素電極に接続されていない方の隣接する前記データ線との間に形成されており、前記信号線を、前記データ線の電位に対して基準電位に対して逆極性となる電位で駆動する駆動回路を備える。好適な例では、前記画素電極は、画素領域内において当該画素電極に接続された前記データ線と前記信号線との間に形成することができる。   In one aspect of the present invention, an electro-optical material is interposed between a data line, a pixel electrode, a switching element connected to the data line and the pixel electrode, a substrate having a signal line, and a counter substrate having a scanning line. In the encapsulated electro-optical device, the signal line is formed between the pixel electrode and the adjacent data line not connected to the pixel electrode, and the signal line is the data line. And a driving circuit which is driven with a potential having a polarity opposite to the reference potential. In a preferred example, the pixel electrode can be formed between the data line and the signal line connected to the pixel electrode in the pixel region.

上記の電気光学装置は、データ線、画素電極、それらに直列に接続された二端子素子等のスイッチング素子、及び信号線(後述の実施形態では「ダミーデータ線」と呼ぶ)を有する基板と、走査線を有する対向基板との間に電気光学物質が封入されてなる。この電気光学装置では、信号線が画素電極とそれに接続されていない方の隣接するデータ線との間に形成されている。または、画素電極は、画素領域内において当該画素電極に接続されたデータ線と信号線との間に形成されている。   The electro-optical device includes a data line, a pixel electrode, a switching element such as a two-terminal element connected in series to the data line, and a substrate having a signal line (referred to as a “dummy data line” in an embodiment described later); An electro-optical material is sealed between a counter substrate having scanning lines. In this electro-optical device, the signal line is formed between the pixel electrode and the adjacent data line not connected thereto. Alternatively, the pixel electrode is formed between the data line and the signal line connected to the pixel electrode in the pixel region.

これにより、信号線と走査線との間に生じる寄生容量と、データ線と走査線との間に生じる寄生容量とを相殺することができる。よって、スパイク波形の原因となる時定数RCのうち容量成分Cを低減することができる。これにより、スパイク波形を小さくすることができ、横クロストークを低減できる。その結果、高品位な表示画像を得ることができる。   Thereby, the parasitic capacitance generated between the signal line and the scanning line and the parasitic capacitance generated between the data line and the scanning line can be offset. Therefore, it is possible to reduce the capacitance component C of the time constant RC that causes the spike waveform. As a result, the spike waveform can be reduced and lateral crosstalk can be reduced. As a result, a high-quality display image can be obtained.

上記の電気光学装置の一態様では、前記画素電極と当該画素電極に接続された前記データ線との間隔は、当該画素電極と当該画素電極に隣接する前記信号線との間隔と同一であると共に、画素領域内において、前記データ線と前記走査線との重なる面積は、前記信号線と当該走査線との重なる面積と同一である。   In one aspect of the electro-optical device, an interval between the pixel electrode and the data line connected to the pixel electrode is the same as an interval between the pixel electrode and the signal line adjacent to the pixel electrode. In the pixel region, the overlapping area of the data line and the scanning line is the same as the overlapping area of the signal line and the scanning line.

この態様によれば、画素電極と当該画素電極に接続されたデータ線との間隔は、当該画素電極と当該画素電極に隣接する信号線との間隔と同一になっている。したがって、画素電極とそれに隣接する信号線との間に生じる寄生容量は、当該画素電極とそれに接続されたデータ線との間に生じる寄生容量と同一の大きさになっている。このため、信号線を、駆動回路を通じてデータ線の電位に対して逆極性となる電位で駆動することにより、それらの寄生容量を相殺できる。   According to this aspect, the interval between the pixel electrode and the data line connected to the pixel electrode is the same as the interval between the pixel electrode and the signal line adjacent to the pixel electrode. Accordingly, the parasitic capacitance generated between the pixel electrode and the signal line adjacent thereto is the same as the parasitic capacitance generated between the pixel electrode and the data line connected thereto. For this reason, the parasitic capacitances can be canceled by driving the signal lines with a potential having a polarity opposite to the potential of the data lines through the drive circuit.

また、画素領域内において、データ線と走査線との重なる面積は、信号線と当該走査線との重なる面積と同一になっている。したがって、信号線と走査線との間に生じる寄生容量は、データ線と当該走査線との間に生じる寄生容量と同一の大きさになっている。このため、信号線を、駆動回路を通じてデータ線の電位に対して逆極性となる電位で駆動することにより、それらの寄生容量を相殺できる。よって、横クロストークを低減できる。   In the pixel region, the area where the data line and the scanning line overlap is the same as the area where the signal line and the scanning line overlap. Therefore, the parasitic capacitance generated between the signal line and the scanning line is the same as the parasitic capacitance generated between the data line and the scanning line. For this reason, the parasitic capacitances can be canceled by driving the signal lines with a potential having a polarity opposite to the potential of the data lines through the drive circuit. Therefore, lateral crosstalk can be reduced.

上記の電気光学装置の他の態様では、前記信号線と前記走査線との間の合成容量は、前記データ線と当該走査線との間の合成容量と同一である。   In another aspect of the electro-optical device, a combined capacitance between the signal line and the scanning line is the same as a combined capacitance between the data line and the scanning line.

この態様によれば、信号線に、画素電極の画素容量、スイッチング素子の素子容量、及び/又は寄生容量などの容量成分Cを付加することにより、時定数RCのうち、信号線と走査線との間の合成容量Cと、データ線と当該走査線との間の合成容量Cとを同一にすることができる。これにより、走査線とデータ線の間の時定数RCと、当該走査線と信号線の間の時定数RCを一致させることができる。なお、データ線と信号線とは、上記の構成により同方向に且つ略同位置に且つ略同一長さに形成されるので、それらの抵抗値は略一致している。よって、時定数RCのうち、データ線と信号線の各抵抗成分Rは既に一致している。このため、信号線を、駆動回路を通じてデータ線の電位に対して逆極性となる電位で駆動することにより、ライン選択期間にデータ線に起因して走査線の電位に生じるスパイク波形(波形なまり)と、信号線に起因して走査線の電位に生じるスパイク波形(波形なまり)とを同一の大きさとすることができ、それらスパイク波形をほぼ完全に相殺することができる。これにより、横クロストークを低減することができる。   According to this aspect, by adding a capacitance component C such as a pixel capacitance of the pixel electrode, an element capacitance of the switching element, and / or a parasitic capacitance to the signal line, among the time constant RC, the signal line and the scanning line And the combined capacitance C between the data line and the scanning line can be made the same. Thereby, the time constant RC between the scanning line and the data line can be matched with the time constant RC between the scanning line and the signal line. Note that the data line and the signal line are formed in the same direction, at substantially the same position, and with substantially the same length by the above-described configuration, so that their resistance values are substantially the same. Therefore, of the time constant RC, the resistance components R of the data line and the signal line already match. For this reason, a spike waveform (waveform rounding) generated in the potential of the scanning line due to the data line in the line selection period by driving the signal line with a potential having a polarity opposite to the potential of the data line through the driving circuit. And the spike waveform (waveform rounding) generated in the potential of the scanning line due to the signal line can be made the same size, and these spike waveforms can be almost completely canceled. Thereby, lateral crosstalk can be reduced.

上記の電気光学装置の他の態様では、画素領域内において、前記信号線と前記走査線との重なる面積は、前記データ線と当該走査線との重なる面積より大きい。   In another aspect of the electro-optical device, an area where the signal line and the scanning line overlap in the pixel region is larger than an area where the data line and the scanning line overlap.

この態様によれば、信号線に容量成分を付加、例えば、画素領域内において、信号線と走査線との重なる面積を、データ線と当該走査線との重なる面積より大きく形成することにより、信号線と走査線との間に生じる寄生容量を大きくして、信号線と走査線との間の合成容量を、データ線と当該走査線との間の合成容量と同一にすることができる。このため、信号線を、駆動回路を通じてデータ線の電位に対して逆極性となる電位で駆動することにより、横クロストークを低減することができる。   According to this aspect, the capacitance component is added to the signal line, for example, in the pixel region, the area where the signal line and the scanning line overlap is formed larger than the area where the data line and the scanning line overlap. By increasing the parasitic capacitance generated between the line and the scanning line, the combined capacitance between the signal line and the scanning line can be made the same as the combined capacitance between the data line and the scanning line. Therefore, lateral crosstalk can be reduced by driving the signal line through the driving circuit with a potential having a polarity opposite to the potential of the data line.

本発明の他の観点では、データ線、画素電極、前記データ線及び前記画素電極に接続されたスイッチング素子、並びにシールド線を有する基板と、走査線を有する対向基板との間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、前記シールド線は、前記画素電極と当該画素電極に接続されていない方の隣接する前記データ線との間に形成されている。   In another aspect of the present invention, an electro-optic material is interposed between a data line, a pixel electrode, a switching element connected to the data line and the pixel electrode, a substrate having a shield line, and a counter substrate having a scanning line. In the encapsulated electro-optical device, the shield line is formed between the pixel electrode and the adjacent data line that is not connected to the pixel electrode.

上記の電気光学装置は、データ線、画素電極、それらに直列に接続された二端子素子等のスイッチング素子、及びシールド線(後述の実施形態では「ダミーデータ線」と呼ぶ)を有する基板と、走査線を有する対向基板との間に電気光学物質が封入されてなる。   The electro-optical device includes a data line, a pixel electrode, a switching element such as a two-terminal element connected in series thereto, and a substrate having a shield line (referred to as a “dummy data line” in an embodiment described later); An electro-optical material is sealed between a counter substrate having scanning lines.

これにより、画素電極とそれに接続されていない方の隣接するデータ線とはシールド線にて遮蔽(シールド)される。よって、このシールド線により隣接するデータ線の影響を防ぐことができ、それらの間には寄生容量は生じなくなるため、画素電極の電圧の変動を防止できる。これにより、電気光学層(例えば、液晶層)に印加される実効値の変動を防止できる。よって、電気光学層の透過率を適正な状態に保つことができ、縦クロストークの発生を防止できる。その結果、コントラストの向上を図ることができ、高品位な表示画像を得ることができる。   Thereby, the pixel electrode and the adjacent data line not connected to the pixel electrode are shielded (shielded) by the shield line. Therefore, the influence of adjacent data lines can be prevented by this shield line, and no parasitic capacitance is generated between them, so that fluctuations in the voltage of the pixel electrode can be prevented. Thereby, the fluctuation | variation of the effective value applied to an electro-optical layer (for example, liquid crystal layer) can be prevented. Therefore, the transmittance of the electro-optic layer can be maintained in an appropriate state, and the occurrence of vertical crosstalk can be prevented. As a result, contrast can be improved and a high-quality display image can be obtained.

また、上記の液晶表示装置を備える電子機器を構成することができる。   In addition, an electronic device including the above-described liquid crystal display device can be configured.

以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。尚、以下の実施形態は、本発明を電気光学装置の一例としての液晶表示装置に適用したものである。本実施形態では、画素電極とそれに接続されていない方の隣接するデータ線との間にダミーデータ線を設け、そのダミーデータ線をデータ線の電位を反転した逆極性となる電位で駆動する。これにより、縦及び横クロストークを低減して高品位な表示画像を得る。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, the present invention is applied to a liquid crystal display device as an example of an electro-optical device. In this embodiment, a dummy data line is provided between a pixel electrode and an adjacent data line not connected to the pixel electrode, and the dummy data line is driven with a potential having a reverse polarity obtained by inverting the potential of the data line. Thereby, vertical and horizontal crosstalk is reduced, and a high-quality display image is obtained.

[第1実施形態]
(液晶表示装置100の構成)
まず、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置の構成について説明する。図1は、本発明の液晶表示装置100の概略構成を模式的に示す平面図である。図1では、主として、液晶表示装置100の電極及び配線の構成を平面図として示している。ここに、本発明の液晶表示装置100は、TFD素子を用いたアクティブ・マトリクス駆動方式であって、半透過反射型の液晶表示装置である。図2は、図1の液晶表示装置100における切断線A−A’に沿った概略断面図を示す。
[First embodiment]
(Configuration of the liquid crystal display device 100)
First, the configuration of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a plan view schematically showing a schematic configuration of a liquid crystal display device 100 of the present invention. In FIG. 1, the configuration of electrodes and wirings of the liquid crystal display device 100 is mainly shown as a plan view. Here, the liquid crystal display device 100 of the present invention is an active matrix driving method using a TFD element, and is a transflective liquid crystal display device. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view along the cutting line AA ′ in the liquid crystal display device 100 of FIG.

まず、図2を参照して、切断線A−A’に沿った液晶表示装置100の断面構成について説明し、その後、液晶表示装置100の電極及び配線の構成について説明する。   First, the cross-sectional configuration of the liquid crystal display device 100 taken along the cutting line A-A ′ will be described with reference to FIG.

図2において、液晶表示装置100は、素子基板92と、その素子基板92に対向して配置されるカラーフィルタ基板91とが枠状のシール部材3を介して貼り合わされ、内部に液晶が封入されて液晶層4が形成されてなる。この枠状のシール部材3には、複数の金粒子などの導通部材7が混入されている。   In FIG. 2, the liquid crystal display device 100 includes an element substrate 92 and a color filter substrate 91 disposed so as to face the element substrate 92 with a frame-shaped seal member 3 interposed therebetween, and liquid crystal is sealed inside. Thus, the liquid crystal layer 4 is formed. A conductive member 7 such as a plurality of gold particles is mixed in the frame-shaped seal member 3.

下側基板2の内面上には、表面上に細かい凹凸が形成された散乱層9が形成されている。散乱層6の内面上は、サブ画素SG毎に、所定の厚みを有する反射層5が形成されている。各反射層5には、矩形状の開口部20(以下、「透明領域」とも呼ぶ。)が形成されている。各反射層5は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金等の薄膜により形成することができる。開口部20は、カラーフィルタ基板91の内面上に縦横にマトリクス状に配列されたサブ画素SG毎に、当該サブ画素SGの全面積を基準として所定割合の面積を有するように形成されている。   On the inner surface of the lower substrate 2, a scattering layer 9 having fine irregularities formed on the surface is formed. On the inner surface of the scattering layer 6, a reflective layer 5 having a predetermined thickness is formed for each subpixel SG. Each reflective layer 5 has a rectangular opening 20 (hereinafter also referred to as “transparent region”). Each reflective layer 5 can be formed of a thin film such as aluminum, an aluminum alloy, or a silver alloy. The opening 20 is formed so as to have an area of a predetermined ratio with respect to the total area of the sub-pixel SG for each sub-pixel SG arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions on the inner surface of the color filter substrate 91.

反射層5上であって且つ各サブ画素SGの間には、隣接するサブ画素SG間を隔て、一方のサブ画素から他方のサブ画素への光の混入を防止するため、黒色遮光層BMが形成されている。この黒色遮光層BMは、黒色の樹脂材料、例えば黒色の顔料を樹脂中に分散させたもの等を用いることが可能である。なお、本発明では、これに代えて、R、G、Bの着色層が相互に重ね合わされて形成された重ね遮光層(図示略)を用いてもよい。   On the reflective layer 5 and between the sub-pixels SG, a black light-shielding layer BM is provided between the adjacent sub-pixels SG to prevent light from entering from one sub-pixel to the other sub-pixel. Is formed. The black light shielding layer BM can be made of a black resin material, for example, a black pigment dispersed in a resin. In the present invention, instead of this, an overlapping light shielding layer (not shown) formed by overlapping R, G, and B colored layers may be used.

また、反射層5上及び開口部20上には、サブ画素SG毎にR、G、Bの三色のいずれかからなる着色層6R、6G、及び6Bが形成されている。着色層6R、6G及び6Bによりカラーフィルタが構成される。画素Gは、R、G、Bのサブ画素SGから構成されるカラー1画素分の領域を示している。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層6」と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層6R」などと記す。また、図2に示すように、開口部20上に形成された着色層6の厚さは、反射層5上に形成された着色層6の厚さよりも厚く形成されている。これにより、着色層6は、反射型表示モードと透過型表示モードとにおいて夫々所望の色相及び明るさを呈するように設計されている。   On the reflective layer 5 and the opening 20, colored layers 6R, 6G, and 6B made of any of the three colors R, G, and B are formed for each subpixel SG. A color filter is constituted by the colored layers 6R, 6G, and 6B. A pixel G indicates a region for one color pixel composed of R, G, and B sub-pixels SG. In the following description, when referring to a colored layer regardless of color, it is simply referred to as “colored layer 6”, and when referring to a colored layer by distinguishing colors, it is referred to as “colored layer 6R” or the like. Further, as shown in FIG. 2, the thickness of the colored layer 6 formed on the opening 20 is formed to be thicker than the thickness of the colored layer 6 formed on the reflective layer 5. Thus, the colored layer 6 is designed to exhibit a desired hue and brightness in the reflective display mode and the transmissive display mode, respectively.

着色層6及び黒色遮光層BMの上には、透明樹脂等からなる保護層18が形成されている。この保護層18は、カラーフィルタ基板91及び液晶表示装置100の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から、着色層6を保護する機能を有する。保護層18の表面上には、ストライプ状のITO(Indium-Tin Oxide)などの透明電極(走査電極)8が形成されている。この透明電極8の一端はシール部材3内に延在しており、そのシール部材3内の導通部材7と電気的に接続されている。   A protective layer 18 made of a transparent resin or the like is formed on the colored layer 6 and the black light shielding layer BM. The protective layer 18 has a function of protecting the colored layer 6 from corrosion and contamination caused by chemicals used during the manufacturing process of the color filter substrate 91 and the liquid crystal display device 100. On the surface of the protective layer 18, a transparent electrode (scanning electrode) 8 such as striped ITO (Indium-Tin Oxide) is formed. One end of the transparent electrode 8 extends into the seal member 3 and is electrically connected to the conducting member 7 in the seal member 3.

一方、上側基板1の内面上には、サブ画素毎に、TFD素子21及び画素電極10が形成されている。また、上側基板1の内面上であって且つ相隣接する画素電極10の間には、データ線32及びダミーデータ線80が形成されている。データ線32及びダミーデータ線80は、走査電極8の延在方向と略直交する方向に延び出てなる。また、データ線32及びダミーデータ線80は、カラーフィルタ基板91上に形成された黒色遮光層BMの上方に位置する。   On the other hand, the TFD element 21 and the pixel electrode 10 are formed on the inner surface of the upper substrate 1 for each subpixel. A data line 32 and a dummy data line 80 are formed on the inner surface of the upper substrate 1 and between adjacent pixel electrodes 10. The data line 32 and the dummy data line 80 extend in a direction substantially orthogonal to the extending direction of the scan electrode 8. The data line 32 and the dummy data line 80 are located above the black light shielding layer BM formed on the color filter substrate 91.

TFD素子21及び画素電極10の内面上には、透明樹脂等からなる保護層17が形成されている。上側基板1及び保護層17の内面上の左右周縁部には、走査線31が形成されている。走査線31の一端部はシール部材3内まで延在しており、その走査線31は、シール部材3内の導通部材7と電気的に接続されている。   A protective layer 17 made of transparent resin or the like is formed on the inner surfaces of the TFD element 21 and the pixel electrode 10. Scan lines 31 are formed on the left and right peripheral edge portions on the inner surfaces of the upper substrate 1 and the protective layer 17. One end of the scanning line 31 extends into the seal member 3, and the scanning line 31 is electrically connected to the conduction member 7 in the seal member 3.

下側基板2の透明電極8の内面上、及び上側基板1の保護層17の内面上には、それぞれ図示しない配向膜が形成されている。それらの配向膜の間には、液晶層4の厚さを均一に保持するために粒子状のスペーサ(図示略)がランダムに配置されている。スペーサの材料としては、シリカや樹脂などを主成分とするものが好ましい。   An alignment film (not shown) is formed on the inner surface of the transparent electrode 8 of the lower substrate 2 and the inner surface of the protective layer 17 of the upper substrate 1. In order to keep the thickness of the liquid crystal layer 4 uniform between these alignment films, particulate spacers (not shown) are randomly arranged. As a material for the spacer, a material mainly composed of silica or resin is preferable.

下側基板2の外面上には、位相差板(1/4波長板)11及び偏光板12が配置されており、上側基板1の外面上には、位相差板(1/4波長板)13及び偏光板14が配置されている。また、偏光板12の下側には、バックライト15が配置されている。バックライト15は、例えば、LED(Light Emitting Diode)等といった点状光源や、冷陰極蛍光管等といった線状光源などが好適である。   A retardation plate (¼ wavelength plate) 11 and a polarizing plate 12 are arranged on the outer surface of the lower substrate 2, and a retardation plate (¼ wavelength plate) on the outer surface of the upper substrate 1. 13 and a polarizing plate 14 are arranged. A backlight 15 is disposed below the polarizing plate 12. The backlight 15 is preferably a point light source such as an LED (Light Emitting Diode) or a linear light source such as a cold cathode fluorescent tube.

下側基板2の透明電極8、即ち下側基板2の走査線と、上側基板1の走査線31とは、シール部材3内に混入された導通部材7を介して上下導通している。   The transparent electrode 8 of the lower substrate 2, that is, the scanning line of the lower substrate 2, and the scanning line 31 of the upper substrate 1 are vertically connected via the conductive member 7 mixed in the seal member 3.

さて、本実施形態の液晶表示装置100において反射型表示がなされる場合、液晶表示装置100に入射した外光は、図2に示す経路Rに沿って進行する。つまり、液晶表示装置100に入射した外光は、反射層5によって反射され観察者に至る。この場合、その外光は、着色層6が形成されている領域を通過して、その着色層6の下側にある反射層5により反射され、再度着色層6を通過することによって所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   Now, when reflective display is performed in the liquid crystal display device 100 of the present embodiment, the external light incident on the liquid crystal display device 100 travels along the path R shown in FIG. That is, the external light incident on the liquid crystal display device 100 is reflected by the reflective layer 5 and reaches the observer. In this case, the external light passes through the region where the colored layer 6 is formed, is reflected by the reflective layer 5 below the colored layer 6, and passes through the colored layer 6 again to have a predetermined hue. And brightness. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

一方、透過型表示がなされる場合、バックライト15から出射した照明光は、図2に示す経路Tに沿って進行し、透過領域、即ち、開口部20上の着色層6を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、着色層6を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。   On the other hand, when transmissive display is performed, the illumination light emitted from the backlight 15 travels along the path T shown in FIG. 2 and passes through the transmissive region, that is, the colored layer 6 on the opening 20 for observation. To the person. In this case, the illumination light has a predetermined hue and brightness by passing through the colored layer 6. Thus, a desired color display image is visually recognized by the observer.

次に、図1、図3及び図4を参照して、本発明の素子基板92及びカラーフィルタ基板91の電極及び配線の構成について説明する。図3は、素子基板92を正面方向(即ち、図2における下方)から観察したときの素子基板92の電極及び配線などの構成を平面図として示す。図4は、カラーフィルタ基板91を正面方向(即ち、図2における上方)から観察したときのカラーフィルタ基板91の電極の構成を平面図として示す。なお、図3において電極や配線は観察方向の背面側に形成されるものであるが、説明の便宜上、実線で表すこととしている。また、図3及び図4において、電極や配線以外のその他の要素は説明の便宜上図示を省略している。なお、図1及び図3では、データ線32及びダミーデータ線80は上側基板1上に形成されているが、便宜上、それらを区別する意味でデータ線32を実線で示す一方、ダミーデータ線80を破線で示す。   Next, with reference to FIG. 1, FIG. 3, and FIG. 4, the configuration of the electrodes and wirings of the element substrate 92 and the color filter substrate 91 of the present invention will be described. FIG. 3 is a plan view showing a configuration of electrodes, wirings, and the like of the element substrate 92 when the element substrate 92 is observed from the front direction (that is, the lower side in FIG. 2). FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the electrodes of the color filter substrate 91 when the color filter substrate 91 is observed from the front direction (that is, the upper side in FIG. 2). In FIG. 3, the electrodes and wirings are formed on the back side in the observation direction, but are represented by solid lines for convenience of explanation. 3 and 4, other elements other than the electrodes and wiring are not shown for convenience of explanation. In FIG. 1 and FIG. 3, the data line 32 and the dummy data line 80 are formed on the upper substrate 1, but for the sake of convenience, the data line 32 is shown as a solid line to distinguish them, while the dummy data line 80 is shown. Is indicated by a broken line.

図1において、素子基板92の画素電極10と、カラーフィルタ基板91の透明電極8との交差する領域が表示の最小単位であるサブ画素SGを構成する。そして、このサブ画素SGが紙面縦方向及び紙面横方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が有効表示領域V(2点鎖線により囲まれる領域)である。この有効表示領域Vに、文字、数字、図形等の画像が表示される。なお、図1及び図3において、液晶表示装置100の外周と、有効表示領域Vとによって区画された領域は、画像表示に寄与しない額縁領域38である。   In FIG. 1, a region where the pixel electrode 10 of the element substrate 92 and the transparent electrode 8 of the color filter substrate 91 intersect constitute a sub-pixel SG which is the minimum unit of display. An area in which a plurality of subpixels SG are arranged in a matrix in the vertical direction and the horizontal direction of the drawing is an effective display area V (area surrounded by a two-dot chain line). In the effective display area V, images such as letters, numbers, and figures are displayed. 1 and 3, a region defined by the outer periphery of the liquid crystal display device 100 and the effective display region V is a frame region 38 that does not contribute to image display.

(電極及び配線構成)
先ず、図3を参照して、素子基板92の電極及び配線の構成などについて説明する。素子基板92は、TFD素子21、画素電極10、複数の走査線31、複数のデータ線32、複数のダミーデータ線80、YドライバIC33、XドライバIC110、及び複数の外部接続用端子35を備えている。
(Electrode and wiring configuration)
First, with reference to FIG. 3, the structure of the electrode and wiring of the element substrate 92 will be described. The element substrate 92 includes a TFD element 21, a pixel electrode 10, a plurality of scanning lines 31, a plurality of data lines 32, a plurality of dummy data lines 80, a Y driver IC 33, an X driver IC 110, and a plurality of external connection terminals 35. ing.

素子基板92の張り出し領域36上には、YドライバIC33及びXドライバIC110が例えばACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)を介して、それぞれ実装されている。なお、図3において、素子基板92の張り出し領域36側の辺92aから反対側の辺92cへ向かう方向をX方向とし、辺92dから辺92bへ向かう方向をY方向とする。   On the projecting region 36 of the element substrate 92, a Y driver IC 33 and an X driver IC 110 are mounted, for example, via an ACF (Anisotropic Conductive Film). In FIG. 3, the direction from the side 92a on the projecting region 36 side of the element substrate 92 to the side 92c on the opposite side is defined as the X direction, and the direction from the side 92d to the side 92b is defined as the Y direction.

張り出し領域36上には、複数の外部接続用端子35が形成されている。YドライバIC33及びXドライバIC110の各入力端子(図示略)は、導電性を有するバンプを介して、その複数の外部用接続端子35にそれぞれ接続されている。外部接続用端子35は、ACFや半田などを介して、図示しない配線基板、例えばフレキシブルプリント基板に接続されている。これにより、例えば携帯電話や情報端末などの電子機器から液晶表示装置100へ信号や電力が供給される。   A plurality of external connection terminals 35 are formed on the overhang region 36. Each input terminal (not shown) of the Y driver IC 33 and the X driver IC 110 is connected to the plurality of external connection terminals 35 through conductive bumps. The external connection terminal 35 is connected to a wiring board (not shown) such as a flexible printed board via ACF or solder. Thereby, for example, signals and power are supplied to the liquid crystal display device 100 from an electronic device such as a mobile phone or an information terminal.

XドライバIC110の出力端子(図示略)は、導電性を有するバンプを介して、複数のデータ線32及び複数のダミーデータ線80に接続されている。一方、各YドライバIC33の出力端子(図示略)は、導電性を有するバンプを介して、複数の走査線31に接続されている。これにより、各YドライバIC33は複数の走査線31に走査信号を、XドライバIC110は複数のデータ線32及び複数のダミーデータ線80にデータ信号をそれぞれ出力する。   An output terminal (not shown) of the X driver IC 110 is connected to the plurality of data lines 32 and the plurality of dummy data lines 80 through conductive bumps. On the other hand, the output terminal (not shown) of each Y driver IC 33 is connected to the plurality of scanning lines 31 via conductive bumps. Accordingly, each Y driver IC 33 outputs a scanning signal to the plurality of scanning lines 31, and the X driver IC 110 outputs a data signal to the plurality of data lines 32 and the plurality of dummy data lines 80, respectively.

複数のデータ線32は、紙面縦方向に延在する直線状の配線であり、張り出し領域36から有効表示領域VにかけてX方向に形成されている。各データ線32は一定の間隔を隔てて形成されている。また、各データ線32は、適宜の間隔をおいて複数のTFD素子21に接続されており、各TFD素子21は対応する各画素電極10に接続されている。   The plurality of data lines 32 are linear wirings extending in the vertical direction on the paper surface, and are formed in the X direction from the overhang area 36 to the effective display area V. Each data line 32 is formed at a constant interval. Each data line 32 is connected to a plurality of TFD elements 21 at appropriate intervals, and each TFD element 21 is connected to a corresponding pixel electrode 10.

複数のダミーデータ線80は、データ線32と同様に紙面縦方向に延在する直線状の配線であり、張り出し領域36から有効表示領域VにかけてX方向に形成されている。また、各ダミーデータ線80は、紙面縦方向に列をなす画素電極10と、それらに接続されていない方の隣接するデータ線32との間に形成される。各ダミーデータ線80は、データ線32と異なり、TFD素子21や画素電極10には接続されていない。なお、ダミーデータ線80の詳細な機能等については後述する。   The plurality of dummy data lines 80 are linear wirings extending in the vertical direction of the paper as in the case of the data lines 32, and are formed in the X direction from the extended area 36 to the effective display area V. Each dummy data line 80 is formed between the pixel electrodes 10 that form a column in the vertical direction of the paper and the adjacent data line 32 that is not connected thereto. Unlike the data line 32, each dummy data line 80 is not connected to the TFD element 21 or the pixel electrode 10. Detailed functions of the dummy data line 80 will be described later.

複数の走査線31は、本線部分31aと、その本線部分31aに対して略直角に折れ曲がる折れ曲がり部分31bとにより構成されている。各本線部分31aは、額縁領域38内を張り出し領域36からX方向に形成されている。また、各本線部分31aは、各データ線32に対して略平行で、且つ、一定の間隔を隔てて形成されている。各折れ曲がり部分31bは、額縁領域38内において、左右に位置するシール部材3内までY方向に延在している。そして、その折れ曲がり部分31bの終端部は、シール部材3内で導通部材7に接続されている。   The plurality of scanning lines 31 includes a main line portion 31a and a bent portion 31b that bends at substantially right angles to the main line portion 31a. Each main line portion 31 a is formed in the X direction from the overhanging region 36 in the frame region 38. Each main line portion 31a is formed substantially parallel to each data line 32 and at a predetermined interval. Each bent portion 31b extends in the Y direction to the inside of the seal member 3 located on the left and right in the frame region 38. The end portion of the bent portion 31 b is connected to the conductive member 7 in the seal member 3.

次に、カラーフィルタ基板91の電極の構成について説明する。図4に示すように、カラーフィルタ基板91は、Y方向にストライプ状の透明電極(走査電極)8が形成されている。各透明電極8の左端部或いは右端部は、図1及び図4に示すように、シール部材3内まで延在しており、且つ、シール部材3内の導通部材7に接続されている。   Next, the configuration of the electrodes of the color filter substrate 91 will be described. As shown in FIG. 4, the color filter substrate 91 has stripe-shaped transparent electrodes (scanning electrodes) 8 formed in the Y direction. As shown in FIGS. 1 and 4, the left end portion or the right end portion of each transparent electrode 8 extends into the seal member 3 and is connected to the conduction member 7 in the seal member 3.

以上に述べた、カラーフィルタ基板91と素子基板92とをシール部材3を介して貼り合わせた状態が図1に示されている。図示のように、カラーフィルタ基板91の各透明電極8は、素子基板92の各データ線32に対して直交しており、且つ、横列をなす複数の画素電極10と平面的に重なり合っている。このように、透明電極8と画素電極10とが重なり合う領域がサブ画素SGを構成する。   FIG. 1 shows a state where the color filter substrate 91 and the element substrate 92 are bonded together via the seal member 3 as described above. As shown in the figure, each transparent electrode 8 of the color filter substrate 91 is orthogonal to each data line 32 of the element substrate 92 and overlaps the plurality of pixel electrodes 10 in a row in a plane. Thus, the region where the transparent electrode 8 and the pixel electrode 10 overlap constitutes the sub-pixel SG.

また、カラーフィルタ基板91の透明電極8(即ち、カラーフィルタ基板91側の走査線)と、素子基板92の走査線31とは、図示のように左辺側と右辺側との間で交互に重なり合っており、その透明電極8と走査線31とは、シール部材3内の導通部材7を介して上下導通している。つまり、透明電極8たるカラーフィルタ基板91の各走査線と、素子基板92の各走査線31との導通は、図示のように左辺側と右辺側との間で交互に実現されている。これにより、カラーフィルタ基板91の透明電極8は、素子基板92の走査線31を介して、紙面左右に夫々位置する各YドライバIC33に電気的に接続されている。   Further, the transparent electrode 8 (that is, the scanning line on the color filter substrate 91 side) of the color filter substrate 91 and the scanning line 31 of the element substrate 92 alternately overlap between the left side and the right side as shown in the figure. The transparent electrode 8 and the scanning line 31 are vertically connected via the conductive member 7 in the seal member 3. That is, conduction between each scanning line of the color filter substrate 91 as the transparent electrode 8 and each scanning line 31 of the element substrate 92 is alternately realized between the left side and the right side as shown in the figure. Thereby, the transparent electrode 8 of the color filter substrate 91 is electrically connected to the Y driver ICs 33 located on the left and right sides of the paper via the scanning lines 31 of the element substrate 92.

(駆動回路)
次に、液晶表示装置100の駆動回路について説明する。図5に、液晶表示装置100の駆動回路の構成を模式的に示す。図5において、液晶表示装置100の駆動回路は、走査信号駆動回路33aと、データ信号駆動回路110aと、タイミング信号生成回路51と、変換回路52と、を備える。タイミング信号生成回路51は、図示の各構成要素を駆動するための各種タイミング信号を出力する。なお、これらの回路は、XドライバIC110及びYドライバIC33に内蔵される。
(Drive circuit)
Next, a driving circuit of the liquid crystal display device 100 will be described. FIG. 5 schematically shows the configuration of the drive circuit of the liquid crystal display device 100. 5, the drive circuit of the liquid crystal display device 100 includes a scanning signal drive circuit 33a, a data signal drive circuit 110a, a timing signal generation circuit 51, and a conversion circuit 52. The timing signal generation circuit 51 outputs various timing signals for driving the illustrated components. These circuits are built in the X driver IC 110 and the Y driver IC 33.

液晶表示装置100は、上記したように、行方向に延在して設けられた複数の走査線31及び対応する複数の走査電極8と、列方向に延在して設けられた複数のデータ線32及び複数のダミーデータ線80とを備えている。なお、以下では、説明の便宜上、1本の走査線31及び対応する1本の走査電極8を「走査線85」と称する。これらの走査線85とデータ線32の各交差部分においては、TFD素子21と液晶層4とが直列に接続され、これによって各交差部分に画素が形成されている。   As described above, the liquid crystal display device 100 includes a plurality of scanning lines 31 extending in the row direction and a plurality of corresponding scanning electrodes 8 and a plurality of data lines extending in the column direction. 32 and a plurality of dummy data lines 80 are provided. Hereinafter, for convenience of explanation, one scanning line 31 and one corresponding scanning electrode 8 are referred to as “scanning line 85”. At each intersection of the scanning line 85 and the data line 32, the TFD element 21 and the liquid crystal layer 4 are connected in series, whereby a pixel is formed at each intersection.

走査信号駆動回路33aは、走査線85に走査電位VAを印加し、データ信号駆動回路110aはデータ線32に対して信号電位VBを印加する。電位VA及びVBについて、図6を参照して説明する。まず、走査線85には、図6(a)に示すような走査電位VAが印加される。ライン選択期間T毎に、各走査線85は順次選択され、ある共通電位VGNDに対して±Vselなる電位差、即ち電圧を持ついずれかの電位が印加される。なお、この電圧Vselを選択電圧と呼ぶ。そして、ライン選択期間後には、共通電位VGNDに対して±Vhldなる電圧を持ついずれかの電位が印加される。ここで、選択時の電位がVGND+VselのときにはVGND+Vhldの電位が印加され、選択時の電位がVGND−VselのときにはVGND−Vhldの電位が印加される。なお、この電圧Vhldを保持電圧と呼ぶ。また、全ての走査線85が一巡して選択され終わる期間をフィールド期間といい、次のフィールド期間では、先のフィールド期間とは逆特性の選択電圧を用いて順次、走査線85を選択していく。   The scanning signal driving circuit 33 a applies a scanning potential VA to the scanning line 85, and the data signal driving circuit 110 a applies a signal potential VB to the data line 32. The potentials VA and VB will be described with reference to FIG. First, a scanning potential VA as shown in FIG. 6A is applied to the scanning line 85. In each line selection period T, each scanning line 85 is sequentially selected, and a potential difference of ± Vsel with respect to a certain common potential VGND, that is, any potential having a voltage is applied. This voltage Vsel is called a selection voltage. Then, after the line selection period, any potential having a voltage of ± Vhld with respect to the common potential VGND is applied. Here, when the potential at the time of selection is VGND + Vsel, the potential of VGND + Vhld is applied, and when the potential at the time of selection is VGND−Vsel, the potential of VGND−Vhld is applied. This voltage Vhld is called a holding voltage. A period in which all the scanning lines 85 are selected in a round is called a field period. In the next field period, the scanning lines 85 are sequentially selected using a selection voltage having a characteristic opposite to that of the previous field period. Go.

一方、データ線32に対しては、図6(b)に示すように、共通電位VGNDに対して±Vsigなる電圧を持ついずれかの電位が印加される。一方、ダミーデータ線80に対しては、データ線32に印加される電位を反転した逆極性となる電位が印加されるが、ここでは、便宜上、図示を省略している。ここで、ある選択期間に選択された走査線85に印加する電位がVGND+Vselの場合に、VGND−Vsigをオン電位Von、VGND+Vsigをオフ電位Voffとして用いる。また、ある選択期間に選択された走査線85に印加する電位がVGND−Vselの場合に、VGND+Vsigをオン電位Von、VGND−Vsigをオフ電位Voffとして用いる。   On the other hand, as shown in FIG. 6B, any potential having a voltage of ± Vsig with respect to the common potential VGND is applied to the data line 32. On the other hand, a potential having a reverse polarity obtained by inverting the potential applied to the data line 32 is applied to the dummy data line 80, but the illustration is omitted here for convenience. Here, when the potential applied to the scanning line 85 selected in a certain selection period is VGND + Vsel, VGND−Vsig is used as the on potential Von and VGND + Vsig is used as the off potential Voff. Further, when the potential applied to the scanning line 85 selected in a certain selection period is VGND−Vsel, VGND + Vsig is used as the on potential Von, and VGND−Vsig is used as the off potential Voff.

即ち、信号電位VBの各ライン選択期間T内の波形は、当該データ線32に係る列における各画素の階調に応じて設定されるが、まず、信号電位VBは、各ライン選択期間T毎にオン区間とオフ区間に分割され、オン区間においてはオン電位Vonに、オフ区間においてはオフ電位Voffに設定される。即ち、信号電位VBは、階調値に応じてパルス幅変調される。そして、画素に与えるべき階調が高くなるほど(ノーマリーホワイトモードでは暗くなるほど)、オン区間の占める割合が大きく設定される。   That is, the waveform of the signal potential VB in each line selection period T is set according to the gradation of each pixel in the column related to the data line 32. First, the signal potential VB is set for each line selection period T. Are divided into an ON section and an OFF section, and are set to the ON potential Von in the ON section and to the OFF potential Voff in the OFF section. That is, the signal potential VB is pulse width modulated according to the gradation value. Then, the higher the gradation to be given to the pixel (the darker the normally white mode), the larger the proportion occupied by the ON section.

次に、走査線85及びデータ線32の電極間電圧VABを図6(c)の実線で示す。図示のように、電極間電圧VABの絶対値は、当該画素の選択期間において高くなることがわかる。また、液晶層4に印加される液晶層電圧VLCは、図6(c)のハッチングで示すようになる。液晶層電圧VLCが変化する際には、液晶層4が形成する容量を充放電しなければならないため、液晶層電圧VLCは電極間電圧VABに対して過渡応答的に変化する。なお、図6(c)において電圧VNLは電極間電圧VABと液晶層電圧VLCとの差、即ち非線形二端子素子21の端子電圧である。   Next, the interelectrode voltage VAB of the scanning line 85 and the data line 32 is indicated by a solid line in FIG. As shown in the figure, it can be seen that the absolute value of the interelectrode voltage VAB increases during the selection period of the pixel. Further, the liquid crystal layer voltage VLC applied to the liquid crystal layer 4 is indicated by hatching in FIG. When the liquid crystal layer voltage VLC changes, the capacitance formed by the liquid crystal layer 4 must be charged and discharged, so the liquid crystal layer voltage VLC changes in a transient response to the interelectrode voltage VAB. In FIG. 6C, the voltage VNL is the difference between the interelectrode voltage VAB and the liquid crystal layer voltage VLC, that is, the terminal voltage of the nonlinear two-terminal element 21.

本実施形態における信号電位VBの一例を図7(a)に示す。図7(a)において、ライン選択期間Tはオン区間とオフ区間により構成される。また、走査電位VAは図6(a)に示すようであるから、電極間電圧VAB及び液晶層電圧VLCは図7(b)に示すようになる。   An example of the signal potential VB in the present embodiment is shown in FIG. In FIG. 7A, the line selection period T includes an on section and an off section. Since the scanning potential VA is as shown in FIG. 6A, the interelectrode voltage VAB and the liquid crystal layer voltage VLC are as shown in FIG. 7B.

変換回路52は、外部から入力されたカラー画像信号R、G、Bをデータ信号DR、DG、DBに変換する。具体的には、変換回路52は、カラー画像信号R、G、Bが供給されると、これをラインバッファ(図示せず)に格納し、カラー画像信号R、G、Bをデータ信号DR、DG、DBに変換し、データ信号駆動回路110aに供給する。ここで、カラー画像信号R、G、Bの各色の階調値は、「0」〜「15」の範囲の値であり、これらが図8の表に従って、ライン選択期間T内の階調値に変換される。   The conversion circuit 52 converts the color image signals R, G, and B input from the outside into data signals DR, DG, and DB. Specifically, when the color image signals R, G, and B are supplied, the conversion circuit 52 stores the color image signals R, G, and B in a line buffer (not shown) and converts the color image signals R, G, and B into the data signals DR, The data is converted into DG and DB and supplied to the data signal driving circuit 110a. Here, the gradation values of the respective colors of the color image signals R, G, and B are values in the range of “0” to “15”, and these are the gradation values within the line selection period T according to the table of FIG. Is converted to

また、変換回路52は、データ信号駆動回路110aに対してクロック信号GCP(Gray Control Pulse)を供給する。クロック信号GCPの生成方法について説明する。変換回路52においては、各ライン選択期間Tを「256」分周する基本クロック信号が生成される。次に、この基本クロック信号を8ビット(最大255)のカウンタでカウントし、そのカウント結果が所定値になるとクロック信号GCPの1パルスが出力される。この「所定値」が図8に示す階調値(0、13、26、…255)に対応する。なお、クロック信号GCPの1パルスが出力されるカウンタ値は液晶表示装置100の階調特性に応じて直線性が保たれるように設定される。   The conversion circuit 52 supplies a clock signal GCP (Gray Control Pulse) to the data signal driving circuit 110a. A method for generating the clock signal GCP will be described. In the conversion circuit 52, a basic clock signal that divides each line selection period T by “256” is generated. Next, this basic clock signal is counted by an 8-bit (maximum 255) counter, and when the count result reaches a predetermined value, one pulse of the clock signal GCP is output. This “predetermined value” corresponds to the gradation values (0, 13, 26,... 255) shown in FIG. Note that the counter value at which one pulse of the clock signal GCP is output is set so as to maintain linearity according to the gradation characteristics of the liquid crystal display device 100.

図8において、階調値が「0」であればオン区間の幅も「0」であり、当該ライン選択期間の全区間がオフ区間となる。そして、階調値が高くなるほどオン区間の占める割合(基本クロック信号の数)が多くなる。そして、階調値15においてはオン区間は「255」に設定され、当該ライン選択期間の全区間がオン区間となる。   In FIG. 8, if the gradation value is “0”, the width of the ON section is also “0”, and the entire section of the line selection period is the OFF section. As the gradation value increases, the proportion of the ON period (number of basic clock signals) increases. In the gradation value 15, the on section is set to “255”, and the entire section of the line selection period is the on section.

次に、データ信号駆動回路110aの構成を、図9を参照して詳細に説明する。データ信号駆動回路110a内のシフトレジスタ112は「m/3」ビット(mはデータ線32の数)のシフトレジスタであり、画素クロックXSCLが供給される毎に、各ビットの内容を右側に隣接するビットにシフトしてゆく。なお、図10に示すように、画素クロックXSCLは、各画素のデータ信号DR、DG、DBが供給されるタイミングに同期して立ち下がる信号である。シフトレジスタ112の左端のビットにはパルス信号DXが供給される。このパルス信号DXは、変換回路52からライン選択期間Tのデータ信号DR、DG、DBの出力が開始されるときにおいて発生するワンショットのパルス信号である。従って、シフトレジスタ112の各ビットから出力される信号S1〜Smは、画素クロックXSCLの周期に等しい時間だけ順次排他的にHレベルになる信号となる。   Next, the configuration of the data signal driving circuit 110a will be described in detail with reference to FIG. The shift register 112 in the data signal driving circuit 110a is a shift register of “m / 3” bits (m is the number of data lines 32), and each time the pixel clock XSCL is supplied, the contents of each bit are adjacent to the right side. Shift to the bit you want. As shown in FIG. 10, the pixel clock XSCL is a signal that falls in synchronization with the timing at which the data signals DR, DG, and DB of each pixel are supplied. A pulse signal DX is supplied to the leftmost bit of the shift register 112. This pulse signal DX is a one-shot pulse signal that is generated when the output of the data signals DR, DG, and DB in the line selection period T from the conversion circuit 52 is started. Therefore, the signals S1 to Sm output from each bit of the shift register 112 are signals that are sequentially set to the H level exclusively for a time equal to the period of the pixel clock XSCL.

レジスタ114は、シフトレジスタ112の出力信号S1〜Smの各立ち上がりに同期して、3画素ずつデータ信号DR、DG、DBをラッチする。ラッチ回路116はラッチパルスLPの立ち上がりに同期してレジスタ114に記憶されたデータ信号を一斉にラッチする。波形変換部118は、ラッチされたデータ信号を図7(a)に示すような信号電位VBに変換し、m本のデータ線32に印加する。即ち、このラッチパルスLPの出力タイミングがライン選択期間Tの開始タイミングになる。   The register 114 latches the data signals DR, DG, and DB by three pixels in synchronization with the rising edges of the output signals S1 to Sm of the shift register 112. The latch circuit 116 simultaneously latches the data signals stored in the register 114 in synchronization with the rising edge of the latch pulse LP. The waveform converter 118 converts the latched data signal into a signal potential VB as shown in FIG. 7A and applies it to the m data lines 32. That is, the output timing of the latch pulse LP becomes the start timing of the line selection period T.

次に、波形変換部118の構成例を図11に示す。図11において、カウンタ124は全データ線32に対して共通に設けられたカウンタであり、ラッチパルスLPの立ち上がり時にカウント値が「0」にリセットされ、クロック信号GCPをカウントする。比較器126は、ラッチ回路116にラッチされた各画素のデータ信号DR、DG、DBとカウンタ124のカウント値とを比較し、カウント値がデータ信号の値未満であればHレベル、カウント値がデータ信号の値以上であればLレベルの比較信号CMPを出力する。そして、スイッチ122は、対応する比較信号CMPがHレベルであればオン電位Vonを選択し、Lレベルであればオフ電位Voffを選択し、選択した電位を信号電位VBとして出力する。   Next, a configuration example of the waveform converting unit 118 is shown in FIG. In FIG. 11, a counter 124 is a counter provided in common for all the data lines 32, and the count value is reset to “0” when the latch pulse LP rises, and the clock signal GCP is counted. The comparator 126 compares the data signals DR, DG, DB of each pixel latched by the latch circuit 116 with the count value of the counter 124. If the count value is less than the value of the data signal, the comparator 126 compares the data signal DR, DG, DB If the value is equal to or greater than the value of the data signal, an L level comparison signal CMP is output. The switch 122 selects the ON potential Von when the corresponding comparison signal CMP is at the H level, selects the OFF potential Voff when the corresponding comparison signal CMP is at the L level, and outputs the selected potential as the signal potential VB.

図12に、液晶表示装置100における階調表示における駆動波形を示す。上述のように、液晶表示装置100では液晶層4に印加する駆動電圧をパルス幅変調することにより階調表示が行われる。図12の上段に白表示、グレー表示、黒表示の場合の1ライン分(1T)の駆動波形例を示す。なお、本例はノーマリーホワイトの液晶表示装置100であるとする。   FIG. 12 shows a driving waveform in gradation display in the liquid crystal display device 100. As described above, in the liquid crystal display device 100, gradation display is performed by pulse width modulation of the drive voltage applied to the liquid crystal layer 4. An example of driving waveforms for one line (1T) in the case of white display, gray display, and black display is shown in the upper part of FIG. In this example, it is assumed that the liquid crystal display device 100 is normally white.

走査線駆動波形61は走査線85に印加されるパルス波形であり、上記の走査電位VAを規定する。また、データ線駆動波形62はデータ線32に印加されるパルス波形であり、上記信号電位VBを規定する。図5から理解されるように、液晶層4に対しては、走査線85とデータ線32の電位差、つまり電極間電位が印加される。即ち、液晶層4には、走査線駆動波形61とデータ線駆動波形62の合計の電圧、即ち図12の下段に示す合成電圧波形に示す電極間電圧が印加される。また、図12の下段では、実際の液晶層4の電圧レベル(液晶層電圧レベル)の変化を液晶層電圧波形63として示している。液晶層4は、電圧を印加してから液晶分子の配向が変化するまでに遅延があるため、その分の過渡応答が生じて図12下段に示す液晶層電圧波形63が液晶層4に印加されることになる。液晶層電圧レベルに応じて、液晶表示装置100の階調が変化する。本例の液晶表示装置100はノーマリーホワイトであるので、液晶層電圧レベルが低い場合が白表示、高い場合が黒表示、その中間がグレー表示(中間調表示)となる。   The scanning line driving waveform 61 is a pulse waveform applied to the scanning line 85 and defines the scanning potential VA. The data line drive waveform 62 is a pulse waveform applied to the data line 32 and defines the signal potential VB. As understood from FIG. 5, a potential difference between the scanning line 85 and the data line 32, that is, a potential between electrodes is applied to the liquid crystal layer 4. That is, the total voltage of the scanning line driving waveform 61 and the data line driving waveform 62, that is, the interelectrode voltage shown in the combined voltage waveform shown in the lower part of FIG. In the lower part of FIG. 12, a change in the actual voltage level of the liquid crystal layer 4 (liquid crystal layer voltage level) is shown as a liquid crystal layer voltage waveform 63. Since the liquid crystal layer 4 has a delay from the voltage application to the change in the orientation of the liquid crystal molecules, a transient response corresponding to the delay occurs, and the liquid crystal layer voltage waveform 63 shown in the lower part of FIG. 12 is applied to the liquid crystal layer 4. Will be. The gradation of the liquid crystal display device 100 changes according to the liquid crystal layer voltage level. Since the liquid crystal display device 100 of this example is normally white, when the liquid crystal layer voltage level is low, white display is performed, when the liquid crystal layer voltage level is high, black is displayed, and the middle is gray display (halftone display).

図12上段の波形から理解されるように、グレー表示(中間調表示)時の中間調レベルはデータ線駆動波形62のパルス幅により制御される。このデータ線駆動波形62は、前述のGCPにより決定される。従って、GCPを変化させることにより、データ線駆動波形62のパルス幅が変化し、その結果中間調レベルを変化させることができる。   As can be understood from the upper waveform in FIG. 12, the halftone level during gray display (halftone display) is controlled by the pulse width of the data line drive waveform 62. The data line driving waveform 62 is determined by the GCP described above. Therefore, by changing GCP, the pulse width of the data line drive waveform 62 changes, and as a result, the halftone level can be changed.

(横クロストークの発生原理)
次に、横クロストークについて図13及び図14を参照して説明する。図13は液晶表示装置100の1本の走査線85の等価回路を示す。走査線85とデータ線32の間の液晶層4は両電極間の容量Cとして作用する。つまり、電気的には、特定の1ラインについて、走査線85とデータ線32との間に1ラインの画素数分の容量Cが並列接続された状態となる。また、走査線85の引き回しの長さに起因する抵抗分Rがこれら容量Cの並列接続に対して直列に接続された状態となる。これにより、液晶層4に印加されるパルス波形には過渡応答が生じる。
(Principle of horizontal crosstalk)
Next, lateral crosstalk will be described with reference to FIGS. FIG. 13 shows an equivalent circuit of one scanning line 85 of the liquid crystal display device 100. The liquid crystal layer 4 between the scanning line 85 and the data line 32 acts as a capacitance C between both electrodes. That is, in terms of electrical characteristics, a capacity C corresponding to the number of pixels of one line is connected in parallel between the scanning line 85 and the data line 32 for one specific line. Further, the resistance R resulting from the length of the scanning line 85 is connected in series with the parallel connection of these capacitors C. Thereby, a transient response occurs in the pulse waveform applied to the liquid crystal layer 4.

図14は、液晶表示装置100の特定のラインX及びYにおける等価回路、並びに、それに印加される駆動波形及び合成電圧波形などを示す。図14において、液晶表示装置100は横クロストークが発生した状態を示している。液晶表示装置100に対しては、エリアA及びエリアCが同一のグレーレベルとなり、かつ、エリアBが白レベルとなるように走査線電圧及び信号線電圧を印加している。しかし、実際には横クロストークの発生により、同一の階調レベルであるはずのエリアAとエリアCでは表示画像上のグレーレベルが異なってしまっている。なお、エリアBが黒レベルとなるように走査線電圧及び信号線電圧を印加した場合においても、上記同様に横クロストークが発生する。   FIG. 14 shows an equivalent circuit in specific lines X and Y of the liquid crystal display device 100, and a drive waveform and a composite voltage waveform applied thereto. In FIG. 14, the liquid crystal display device 100 shows a state where lateral crosstalk has occurred. The scanning line voltage and the signal line voltage are applied to the liquid crystal display device 100 so that the areas A and C have the same gray level and the area B has a white level. However, in actuality, due to the occurrence of lateral crosstalk, the gray level on the display image differs between area A and area C, which should have the same gradation level. Even when the scanning line voltage and the signal line voltage are applied so that the area B is at the black level, the horizontal crosstalk occurs similarly to the above.

具体的には、ラインXの等価回路を図14上段に示している。エリアAは同一の階調レベルで表示がなされるので、ラインXの各画素は同一の階調レベルで表示がなされる。そのときの駆動波形Aには図示のように抵抗分Rと容量Cによりスパイク状の波形なまり(以下、説明の便宜上「スパイク波形」と呼ぶことにする。)66が生じ、合成電圧波形Aにもそれに対応するスパイク波形68が生じる。この合成電圧波形により、ラインX上の表示画素のグレーレベルが決まる。なお、このスパイク波形66は、ライン選択期間に、データ線32に印加される信号電位が立ち上がるときに走査線85の電圧が高くなる方向に生じる一方、データ線32に印加される信号電位が立ち下がるときに走査線85の電圧が低くなる方向に生じる。図14に示す駆動波形A及びCの例では、ライン選択期間にデータ線32に印加される信号電位が立ち下がっているので、スパイク波形66は走査線85の電圧が低くなる方向、即ち紙面下方向に生じている。   Specifically, an equivalent circuit of the line X is shown in the upper part of FIG. Since the area A is displayed at the same gradation level, each pixel of the line X is displayed at the same gradation level. In the drive waveform A at that time, a spike-shaped waveform round (hereinafter referred to as “spike waveform” for convenience of explanation) 66 is generated due to the resistance R and the capacitance C as shown in the figure, and the combined voltage waveform A is generated. Corresponding spike waveform 68 is generated. This combined voltage waveform determines the gray level of the display pixels on the line X. The spike waveform 66 is generated in the direction in which the voltage of the scanning line 85 increases when the signal potential applied to the data line 32 rises during the line selection period, while the signal potential applied to the data line 32 rises. This occurs in a direction in which the voltage of the scanning line 85 decreases when the voltage decreases. In the example of the drive waveforms A and C shown in FIG. 14, since the signal potential applied to the data line 32 falls during the line selection period, the spike waveform 66 is in the direction in which the voltage of the scanning line 85 decreases, that is, below the page. Has arisen in the direction.

一方、ラインYについては、エリアBの領域では左下の駆動波形Bが印加され、エリアCの領域では右下の駆動波形Cが印加される。従って、ラインXの場合と比較すると、白表示を行うエリアBの領域においては印加電圧が小さく、その結果、駆動波形Cに生じるスパイク波形67のレベルは駆動波形Aのスパイク波形66と比較して小さくなる。従って、ラインYの合成電圧波形BCにおけるスパイク波形69は、ラインXの合成電圧波形Aにおけるスパイク波形68より大きくなる。その結果、エリアCにおいてはエリアAに比べて、液晶層4に印加される液晶層電圧レベルが高くなり、表示画素はより黒に近いグレーとなる。つまり、同じグレーレベルを表示しようとしたエリアCとエリアAの階調が異なってしまうことになる。以上が横クロストークの発生する原理である。   On the other hand, for the line Y, the lower left drive waveform B is applied in the area B area, and the lower right drive waveform C is applied in the area C area. Therefore, compared with the case of the line X, the applied voltage is small in the area B where white display is performed, and as a result, the level of the spike waveform 67 generated in the drive waveform C is compared with the spike waveform 66 of the drive waveform A. Get smaller. Therefore, the spike waveform 69 in the combined voltage waveform BC of the line Y is larger than the spike waveform 68 in the combined voltage waveform A of the line X. As a result, in area C, the liquid crystal layer voltage level applied to the liquid crystal layer 4 is higher than in area A, and the display pixel becomes gray closer to black. That is, the gradations of the area C and the area A where the same gray level is to be displayed are different. The above is the principle of occurrence of lateral crosstalk.

(縦クロストークの発生原理)
次に、図15を参照して、縦クロストークについて説明する。図15(a)は、一般的な液晶表示装置における表示領域Vのみを拡大した平面図であり、その表示領域Vに縦クロストークが発生した状態を模式的に示している。
(Generation principle of vertical crosstalk)
Next, vertical crosstalk will be described with reference to FIG. FIG. 15A is a plan view in which only a display area V in a general liquid crystal display device is enlarged, and schematically shows a state in which vertical crosstalk has occurred in the display area V. FIG.

液晶表示装置に対しては、背景となるエリアE及びエリアFをそれぞれ同一のグレーレベルとなるように走査線電圧及びデータ線電圧を印加している。また、エリアDにおいては、規定の明るさの単色或いは補色の矩形表示となるように走査線電圧及びデータ線電圧を印加している。しかし、実際には縦クロストークの発生により同一階調レベルであるはずのエリアEとエリアFでは表示画像上のグレーレベルが異なってしまっている。即ち、エリアDの上下方向に位置するエリアFは、エリアEよりも幾分明るく表示されており、尚且つ微妙に色づいて表示されている。このような、縦クロストークは、灰色などを背景にして単色或いは補色の矩形表示をしたときに発生する。   For the liquid crystal display device, the scanning line voltage and the data line voltage are applied so that the background area E and area F have the same gray level. In the area D, the scanning line voltage and the data line voltage are applied so that a single color or a complementary color rectangular display having a specified brightness is obtained. However, the gray level on the display image is different between the area E and the area F that should have the same gradation level due to the occurrence of vertical crosstalk. That is, the area F positioned in the vertical direction of the area D is displayed somewhat brighter than the area E, and is displayed in a slightly colored manner. Such vertical crosstalk occurs when a monochrome or complementary color rectangle is displayed against a gray background.

次に、図15(b)を参照して、この縦クロストークの発生原理について説明する。図15(b)は、一般的な液晶表示装置における1画素(RGB3つのサブ画素)分を拡大した部分拡大平面図を示す。なお、図15(b)において、「C_LCD」は画素電極10の画素容量を、「C_TFD」はTFD素子21の素子容量を夫々示している。   Next, the principle of occurrence of this vertical crosstalk will be described with reference to FIG. FIG. 15B is a partially enlarged plan view in which one pixel (RGB three subpixels) is enlarged in a general liquid crystal display device. In FIG. 15B, “C_LCD” indicates the pixel capacitance of the pixel electrode 10, and “C_TFD” indicates the element capacitance of the TFD element 21.

画素電極10は、通常、一対のデータ線32の略中央位置に形成される。即ち、画素電極10とそれに相隣接するデータ線32との間隔は各々同一の距離D1になっている。これは、画素電極10を隣接する各データ線32に近づけすぎない範囲で、その画素の開口率を大きくするという設計上の理由などによるものである。また、各データ線32a、32b、32cは、TFD素子21を介して画素電極10a、10b、10cに接続されている。例えば、画素電極10bに注目すると、データ線32aは、画素電極10bに隣接しているが、画素電極10bには接続されていない。画素電極10bと、隣接する2つのデータ線32a及び32bとの間には夫々同じ大きさの寄生容量C_aがそれぞれ存在する。   The pixel electrode 10 is usually formed at a substantially central position between the pair of data lines 32. That is, the distance between the pixel electrode 10 and the adjacent data line 32 is the same distance D1. This is due to a design reason that the aperture ratio of the pixel is increased within a range in which the pixel electrode 10 is not too close to the adjacent data lines 32. The data lines 32a, 32b, and 32c are connected to the pixel electrodes 10a, 10b, and 10c via the TFD element 21. For example, when paying attention to the pixel electrode 10b, the data line 32a is adjacent to the pixel electrode 10b, but is not connected to the pixel electrode 10b. Parasitic capacitances C_a having the same size exist between the pixel electrode 10b and two adjacent data lines 32a and 32b, respectively.

液晶表示装置において、所望する画像を表示するためには、ライン選択期間Tに、各画素電極10a〜10cに所望の電圧が印加される。図15(b)の例では、画素電極10bに対しては、データ線32bからTFD素子21を介して所望の電圧Vlcが印加される。   In the liquid crystal display device, in order to display a desired image, a desired voltage is applied to each of the pixel electrodes 10a to 10c in the line selection period T. In the example of FIG. 15B, a desired voltage Vlc is applied to the pixel electrode 10b from the data line 32b via the TFD element 21.

ところが、画素電極10bに対しては、それと隣接するデータ線32aとの間の寄生容量C_aが存在することにより、データ線32aから寄生容量C_aに対応する電圧が印加されてしまい、その結果、画素電極10bの電位Vlcが所望の電位から変化してしまう。即ち、ある画素電極の電位が、それと隣接するデータ線との間の寄生容量に起因して変化してしまう。これにより、当該画素の透過率が変化し、縦クロストークが生じる。   However, since the parasitic capacitance C_a between the pixel electrode 10b and the adjacent data line 32a exists, a voltage corresponding to the parasitic capacitance C_a is applied from the data line 32a. The potential Vlc of the electrode 10b changes from a desired potential. That is, the potential of a certain pixel electrode changes due to a parasitic capacitance between the pixel electrode and an adjacent data line. As a result, the transmittance of the pixel changes and vertical crosstalk occurs.

いま、図15(a)においてエリアDに青を表示し、エリアE及びFにグレーを表示したとする。図15(b)において、データ線32aに対応する画素電極10aが青に対応するサブ画素であり、画素電極10bが赤に対応するサブ画素であり、最も右の画素電極10cが緑に対応するサブ画素であるとする。   Now, assume that blue is displayed in area D and gray is displayed in areas E and F in FIG. In FIG. 15B, the pixel electrode 10a corresponding to the data line 32a is a subpixel corresponding to blue, the pixel electrode 10b is a subpixel corresponding to red, and the rightmost pixel electrode 10c corresponds to green. Assume that it is a sub-pixel.

これら3色のサブ画素が図15(a)におけるエリアEに存在する場合には、そのエリアがグレー表示されるので、3つのデータ線32a、32b、32に印加される電圧はほぼ等しく、寄生容量C_aが画素電極10bに与える影響は少ない。   When these three-color sub-pixels are present in area E in FIG. 15A, the area is displayed in gray, so that the voltages applied to the three data lines 32a, 32b, and 32 are substantially equal and parasitic. The influence of the capacitance C_a on the pixel electrode 10b is small.

一方、エリアDに青が表示されているので、エリアFにおいてもデータ線32aのみが低電位(白に対応する電位)であり、データ線32b及び32cは高電位(黒に対応する電位)になる。よって、エリアFでは、保持期間においてデータ線32aと画素電極10bとに電位差が生じ、寄生容量C_aにより画素電極10bの電位が下がる。その結果、画素電極10bにより構成される赤のサブ画素の透過率が上がり、エリアFの部分は明るくなるとともに、いくぶん赤みを帯びて見えるようになる。   On the other hand, since blue is displayed in the area D, also in the area F, only the data line 32a has a low potential (potential corresponding to white), and the data lines 32b and 32c have a high potential (potential corresponding to black). Become. Therefore, in the area F, a potential difference is generated between the data line 32a and the pixel electrode 10b in the holding period, and the potential of the pixel electrode 10b is decreased by the parasitic capacitance C_a. As a result, the transmittance of the red sub-pixel formed by the pixel electrode 10b is increased, the area F becomes brighter, and appears somewhat reddish.

データ線32aの電位(例えば、白(黒)に対応する電位)に対して、データ線32bに逆極性となる電位(例えば、黒(白)に対応する電位)を印加した場合、画素電極10bとTFD素子21の容量比は、C_LCD:C_TFDとなる。これは、画素電極10bの左側に生じる寄生容量C_aと、当該画素電極10bの右側に生じる寄生容量C_aとが相殺されるからである。   When a potential having a reverse polarity (for example, a potential corresponding to black (white)) is applied to the data line 32b with respect to a potential of the data line 32a (for example, potential corresponding to white (black)), the pixel electrode 10b. The capacitance ratio of the TFD element 21 is C_LCD: C_TFD. This is because the parasitic capacitance C_a generated on the left side of the pixel electrode 10b cancels out the parasitic capacitance C_a generated on the right side of the pixel electrode 10b.

一方、データ線32aの電位(白(黒)に対応する電位)に対して、データ線32bに同極性の電位(白(黒)に対応する電位)を印加した場合、画素電極10bとTFD素子21の容量比は、C_LCD:(C_TFD+2・C_a)となる。これは、画素電極10bの左右に生じる各寄生容量C_aが素子容量に加算されるからである。   On the other hand, when a potential of the same polarity (potential corresponding to white (black)) is applied to the data line 32b with respect to the potential of the data line 32a (potential corresponding to white (black)), the pixel electrode 10b and the TFD element The capacity ratio of 21 is C_LCD: (C_TFD + 2 · C_a). This is because each parasitic capacitance C_a generated on the left and right of the pixel electrode 10b is added to the element capacitance.

よって、相隣接するデータ線32に互いに逆極性となる電位を印加した方が、画素容量と素子容量との差が大きくなる。この場合、画素電極10に印加される電圧Vlcは小さくなり、液晶層4に印加される実効値も小さくなる。このように、相隣接するデータ線32に印加する電位が同極性であるか、或いは逆極性であるかによって液晶層4に印加される実効値に差が生じ、液晶の透過率に相違が生じることになる。これが、縦クロストークの発生する原理である。つまり、縦クロストークは、寄生容量C_aの影響によって、隣接する画素電極の電位が所望の電位から変化することにより生じる。   Therefore, the difference between the pixel capacitance and the element capacitance becomes larger when potentials having opposite polarities are applied to the adjacent data lines 32. In this case, the voltage Vlc applied to the pixel electrode 10 decreases, and the effective value applied to the liquid crystal layer 4 also decreases. As described above, the effective value applied to the liquid crystal layer 4 varies depending on whether the potential applied to the adjacent data lines 32 has the same polarity or the opposite polarity, and the transmittance of the liquid crystal varies. It will be. This is the principle of occurrence of vertical crosstalk. That is, vertical crosstalk is generated when the potential of the adjacent pixel electrode changes from a desired potential due to the influence of the parasitic capacitance C_a.

[縦及び横クロストークの低減方法]
次に、図16乃至図18を参照して、本発明による縦及び横クロストークの低減方法について述べる。図16は、液晶表示装置100における1画素(RGB3つのサブ画素)分を拡大した部分拡大平面図を示す。また、図16において二点鎖線にて囲まれる領域は1つのサブ画素SGの領域を示している。図17は、図16における1つのサブ画素SG内に対応する各構成要素等の等価回路図を示す。
[How to reduce vertical and horizontal crosstalk]
Next, a method for reducing vertical and horizontal crosstalk according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 16 is a partial enlarged plan view in which one pixel (RGB three subpixels) in the liquid crystal display device 100 is enlarged. In FIG. 16, a region surrounded by a two-dot chain line indicates a region of one subpixel SG. FIG. 17 shows an equivalent circuit diagram of each component and the like corresponding to one subpixel SG in FIG.

上述のように、縦クロストークは、画素電極10とそれに接続されていない方の隣接するデータ線32との間の寄生容量C_aの影響により、画素電極の電圧Vlcが変化するために生じる。したがって、縦クロストークを低減するには、寄生容量C_aをできる限り小さくし、寄生容量C_aによる影響を低減すればよい。   As described above, the vertical crosstalk is generated because the voltage Vlc of the pixel electrode changes due to the influence of the parasitic capacitance C_a between the pixel electrode 10 and the adjacent data line 32 not connected thereto. Therefore, in order to reduce the vertical crosstalk, the parasitic capacitance C_a should be made as small as possible to reduce the influence of the parasitic capacitance C_a.

一方、横クロストークは、あるライン中の画素の階調が1つの階調に集中することにより、合成電圧波形に生じるスパイク波形が大きくなるため発生する。したがって、横クロストークを低減するためには、スパイク波形をできる限り小さくして、スパイク波形による影響を低減すればよい。   On the other hand, horizontal crosstalk occurs because the spike waveform generated in the combined voltage waveform becomes larger due to the grayscale of pixels in a certain line being concentrated on one grayscale. Therefore, in order to reduce the transverse crosstalk, the spike waveform should be made as small as possible to reduce the influence of the spike waveform.

そこで、本発明では、先ず、縦クロストークを低減するために、図16に示すように、画素電極10とそれに接続されていない方の隣接するデータ線32との間にダミーデータ線80を設ける。換言すれば、画素電極10は、サブ画素領域SG内において当該画素電極10に接続されたデータ線32とダミーデータ線80との間に形成される。これにより、画素電極10とそれに接続されていない方の隣接するデータ線32とはダミーデータ線80にて遮蔽(シールド)されることになる。よって、それらの間には寄生容量は生じなくなるため、画素電極10の電圧Vlcの変動を防止できる。これにより、液晶層4に印加される実効値の変動を防止できるので、液晶の透過率を適正な状態に保つことができる。よって、縦クロストークの発生を防止できる。   Therefore, in the present invention, first, in order to reduce the vertical crosstalk, as shown in FIG. 16, a dummy data line 80 is provided between the pixel electrode 10 and the adjacent data line 32 not connected thereto. . In other words, the pixel electrode 10 is formed between the data line 32 connected to the pixel electrode 10 and the dummy data line 80 in the sub-pixel region SG. As a result, the pixel electrode 10 and the adjacent data line 32 not connected thereto are shielded (shielded) by the dummy data line 80. Therefore, no parasitic capacitance is generated between them, so that the fluctuation of the voltage Vlc of the pixel electrode 10 can be prevented. Thereby, since the fluctuation | variation of the effective value applied to the liquid crystal layer 4 can be prevented, the transmittance | permeability of a liquid crystal can be maintained in an appropriate state. Therefore, occurrence of vertical crosstalk can be prevented.

ここで、画素電極10bに注目すると、このように画素電極10bの隣接する位置にダミーデータ線80aを設けた場合には、当該画素電極10bとダミーデータ線80aとの間に新たに寄生容量C_a’が生じることになる。このため、画素電極10とダミーデータ線80との間の寄生容量C_a’の影響により、当該画素電極10の電圧Vlcが変動し、縦クロストークが生じることになる。   Here, paying attention to the pixel electrode 10b, when the dummy data line 80a is provided in the position adjacent to the pixel electrode 10b in this way, a parasitic capacitance C_a is newly provided between the pixel electrode 10b and the dummy data line 80a. 'Will occur. For this reason, the voltage Vlc of the pixel electrode 10 varies due to the influence of the parasitic capacitance C_a ′ between the pixel electrode 10 and the dummy data line 80, and vertical crosstalk occurs.

そのため、本発明では、ダミーデータ線80を後述するように所定の構成にして、且つ、そのダミーデータ線80を、駆動回路を通じてデータ線32の電位を反転させた逆極性となる電位で駆動する。これにより、縦クロストークのみならず横クロストークも低減できる。この点について、図17の等価回路図等を参照して説明する。   Therefore, in the present invention, the dummy data line 80 has a predetermined configuration as will be described later, and the dummy data line 80 is driven with a potential having a reverse polarity obtained by inverting the potential of the data line 32 through a driving circuit. . As a result, not only vertical crosstalk but also horizontal crosstalk can be reduced. This will be described with reference to the equivalent circuit diagram of FIG.

まず、図17の等価回路図について、図16を参照しつつ説明する。かかる等価回路図において、画素電極10の画素容量をC_LCD、TFD素子21の素子容量をC_TFD、画素電極10とそれに接続されたデータ線32との間に生じる寄生容量をC_a、データ線32と走査線85との間に生じる寄生容量をC_bとしたとき、走査線85とデータ線32との間の容量に関して、画素容量C_LCD、素子容量C_TFDと寄生容量C_aの並列回路は直列に接続され、それに対して寄生容量C_bは並列に接続される。   First, the equivalent circuit diagram of FIG. 17 will be described with reference to FIG. In such an equivalent circuit diagram, the pixel capacitance of the pixel electrode 10 is C_LCD, the element capacitance of the TFD element 21 is C_TFD, the parasitic capacitance generated between the pixel electrode 10 and the data line 32 connected thereto is C_a, and scanning with the data line 32 is performed. When the parasitic capacitance generated between the line 85 and the line 85 is C_b, the pixel capacitance C_LCD, the element capacitance C_TFD and the parasitic capacitance C_a are connected in series with respect to the capacitance between the scanning line 85 and the data line 32. On the other hand, the parasitic capacitance C_b is connected in parallel.

また、等価回路図において、画素電極10とダミーデータ線80との間に生じる寄生容量をC_a’、ダミーデータ線80と走査線85との間に生じる寄生容量をC_b’としたとき、走査線85とダミーデータ線80との間の容量に関して、画素容量C_LCDと寄生容量C_a’は直列に接続され、それと寄生容量C_b’は並列に接続される。   Further, in the equivalent circuit diagram, when the parasitic capacitance generated between the pixel electrode 10 and the dummy data line 80 is C_a ′ and the parasitic capacitance generated between the dummy data line 80 and the scanning line 85 is C_b ′, the scanning line With respect to the capacitance between 85 and the dummy data line 80, the pixel capacitance C_LCD and the parasitic capacitance C_a ′ are connected in series, and the parasitic capacitance C_b ′ is connected in parallel.

いま、図17の等価回路図においてダミーデータ線80がない状態を想定すると、当該等価回路図では寄生容量C_a’及びC_b’がない状態と考えることができる。このとき、データ線32から走査線85までの合成容量C_xは、
C_x={(C_TFD+C_a)*C_LCD}/(C_TFD+C_LCD+C_a)+C_b (式1)
で表される。また、このとき、画素電極10とTFD素子21の容量比は、
C_LCD:(C_TFD+C_a) (式2)
で表される。
If it is assumed that there is no dummy data line 80 in the equivalent circuit diagram of FIG. 17, it can be considered that there is no parasitic capacitance C_a ′ and C_b ′ in the equivalent circuit diagram. At this time, the combined capacitance C_x from the data line 32 to the scanning line 85 is
C_x = {(C_TFD + C_a) * C_LCD} / (C_TFD + C_LCD + C_a) + C_b (Formula 1)
It is represented by At this time, the capacitance ratio between the pixel electrode 10 and the TFD element 21 is
C_LCD: (C_TFD + C_a) (Formula 2)
It is represented by

一方、本発明のように、図17の等価回路図においてダミーデータ線80がある場合を考え、さらにC_a=C_a’及びC_b=C_b’と仮定した場合、データ線32から走査線85までの合成容量C_x’は、
C_x’=C_TFD*C_LCD/(C_TFD+C_LCD) (式3)
で表される。また、このとき、画素電極10とTFD素子21の容量比は、
C_LCD:C_TFD (式4)
で表される。なお、上記の式3及び式4の各値は、ダミーデータ線80をデータ線32と逆極性となる電位で駆動した場合の値を示している。
On the other hand, when the dummy data line 80 is present in the equivalent circuit diagram of FIG. 17 as in the present invention, and further assuming that C_a = C_a ′ and C_b = C_b ′, the synthesis from the data line 32 to the scanning line 85 is performed. The capacity C_x ′ is
C_x ′ = C_TFD * C_LCD / (C_TFD + C_LCD) (Formula 3)
It is represented by At this time, the capacitance ratio between the pixel electrode 10 and the TFD element 21 is
C_LCD: C_TFD (Formula 4)
It is represented by Note that each of the values in the above formulas 3 and 4 indicates values when the dummy data line 80 is driven with a potential having a polarity opposite to that of the data line 32.

つまり、上記の式3では、寄生容量C_aと寄生容量C_a’、及び寄生容量C_bと寄生容量C_b’が各々相殺されているため、合成容量C_x’が合成容量C_xより小さくなっている。また、上記の式4では、寄生容量C_aと寄生容量C_a’が相殺されているため、TFD素子21に対する画素電極10の容量比が上記の式2と比べ大きくなっている。   In other words, in Equation 3 above, the parasitic capacitance C_a and the parasitic capacitance C_a ′, and the parasitic capacitance C_b and the parasitic capacitance C_b ′ are offset, so that the combined capacitance C_x ′ is smaller than the combined capacitance C_x. Further, in the above formula 4, since the parasitic capacitance C_a and the parasitic capacitance C_a ′ are offset, the capacitance ratio of the pixel electrode 10 to the TFD element 21 is larger than that in the above formula 2.

このような構成等にすれば、ダミーデータ線80をデータ線32と逆極性となる電位で駆動することにより、画素電極10は寄生容量C_a’の影響を受け難くなるので、縦クロストークの発生を防止できる。また、素子容量C_TFDに対する画素容量C_LCDの比を大きくすることができるので、コントラストの向上を図ることができる。   With such a configuration or the like, driving the dummy data line 80 with a potential having a polarity opposite to that of the data line 32 makes the pixel electrode 10 less susceptible to the parasitic capacitance C_a ′. Can be prevented. In addition, since the ratio of the pixel capacitance C_LCD to the element capacitance C_TFD can be increased, the contrast can be improved.

また、このようにダミーデータ線80をデータ線32の電位を反転させた逆極性となる電位で駆動することにより、寄生容量C_bと寄生容量C_b’とが相殺される。よって、スパイク波形の原因となる時定数RCのうち容量成分Cを低減することができる。これにより、スパイク波形を小さくすることができ、横クロストークを低減できる。   Further, the parasitic capacitance C_b and the parasitic capacitance C_b ′ are canceled by driving the dummy data line 80 with a potential having a reverse polarity obtained by inverting the potential of the data line 32 in this way. Therefore, it is possible to reduce the capacitance component C of the time constant RC that causes the spike waveform. As a result, the spike waveform can be reduced and lateral crosstalk can be reduced.

以上の検討を踏まえて、本発明では、画素電極10とそれに接続されたデータ線32との間隔D1と、当該画素電極10とダミーデータ線80との間隔D2とが同一となるように、ダミー画素電極80を、画素電極10とそれに接続されていない方の隣接するデータ線32との間に配置する。これにより、寄生容量C_aと寄生容量C_a’を同一にできる。また、サブ画素SG領域内において、データ線32と走査線85との重なり合う面積S1と、ダミーデータ線80と走査線85との重なり合う面積S2とが同一となるように、ダミーデータ線80の線幅を設定する。これにより、寄生容量C_bと寄生容量C_b’を同一にできる。このため、ダミーデータ線80を、駆動回路を通じてデータ線32の電位を反転させた逆極性となる電位で駆動することにより、縦及び横クロストークを低減でき、高品位な表示画像を得ることができる。   Based on the above consideration, in the present invention, the dummy D1 is set so that the distance D1 between the pixel electrode 10 and the data line 32 connected to the pixel electrode 10 and the distance D2 between the pixel electrode 10 and the dummy data line 80 are the same. The pixel electrode 80 is disposed between the pixel electrode 10 and the adjacent data line 32 not connected thereto. Thereby, the parasitic capacitance C_a and the parasitic capacitance C_a ′ can be made the same. Further, in the sub-pixel SG region, the line of the dummy data line 80 is set so that the area S1 where the data line 32 and the scanning line 85 overlap is the same as the area S2 where the dummy data line 80 and the scanning line 85 overlap. Set the width. Thereby, the parasitic capacitance C_b and the parasitic capacitance C_b ′ can be made the same. Therefore, by driving the dummy data line 80 with a reverse polarity potential obtained by inverting the potential of the data line 32 through a drive circuit, vertical and horizontal crosstalk can be reduced, and a high-quality display image can be obtained. it can.

[第2実施形態]
次に、図18及び図19を参照して、第2実施形態による横クロストークの低減方法について説明する。図18は、第2実施形態の液晶表示装置における1画素(RGB3つのサブ画素)分を拡大した部分拡大平面図である。また、図18は、図16に対応した部分拡大平面図である。なお、図18において二点鎖線にて囲まれる領域は1つのサブ画素SGの領域を示している。図19は、有効表示領域V内の走査電位VA、データ線32の信号電位VB1、及びダミーデータ線80の信号電位VB2の波形図を示す。図19(a)は、ライン選択期間Tにデータ線32の信号電位VB1が立ち上がる場合の波形図等を示す。一方、図19(b)は、ライン選択期間Tにデータ線32の信号電位VB1が立ち下がる場合の波形図等を示す。なお、第2実施形態における縦クロストークの低減方法は第1実施形態と同様であるため、その説明は省略する。また、第2実施形態において、第1実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
Next, with reference to FIG. 18 and FIG. 19, a lateral crosstalk reduction method according to the second embodiment will be described. FIG. 18 is a partially enlarged plan view in which one pixel (RGB three subpixels) is enlarged in the liquid crystal display device of the second embodiment. FIG. 18 is a partially enlarged plan view corresponding to FIG. In FIG. 18, a region surrounded by a two-dot chain line indicates a region of one subpixel SG. FIG. 19 shows waveform diagrams of the scanning potential VA in the effective display area V, the signal potential VB1 of the data line 32, and the signal potential VB2 of the dummy data line 80. FIG. 19A shows a waveform diagram or the like when the signal potential VB1 of the data line 32 rises during the line selection period T. FIG. On the other hand, FIG. 19B shows a waveform diagram when the signal potential VB1 of the data line 32 falls during the line selection period T. The method for reducing vertical crosstalk in the second embodiment is the same as that in the first embodiment, and a description thereof will be omitted. Moreover, in 2nd Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected about the component similar to 1st Embodiment, and the detailed description is abbreviate | omitted.

(横クロストークの低減方法)
横クロストークの原因であるスパイク波形は、配線抵抗に代表される抵抗成分Rと、画素容量、素子容量、及び寄生容量に代表される容量成分Cの積であるRCを時定数としている。このスパイク波形は、上記したようにライン選択期間にデータ線32に印加される信号電位の立ち上がり(又は立ち下がり)により、走査線85の電圧が高くなる(又は低くなる)方向に生じる。そのため、データ線32に印加される信号電位の立ち上がり(又は立ち下がり)と同時に、その信号電位を反転させた逆極性となる信号電位をダミーデータ線80に印加した場合、スパイク波形は走査線85の電圧が高くなる方向及び走査線85の電圧が低くなる方向の両方向に生じることになる。図14を参照して理解されるように、このとき、特定の1ライン(1つの走査線)において、走査線85とデータ線32の間の時定数RCと、当該走査線85とダミーデータ線80の間の時定数RCが一致していれば、それらのスパイク波形は相殺される。これにより、液晶層4に印加される実効値の変動を防止できるので、横クロストークを低減できる。
(Horizontal crosstalk reduction method)
The spike waveform that causes lateral crosstalk has a time constant RC, which is the product of a resistance component R typified by wiring resistance and a capacitance component C typified by pixel capacitance, element capacitance, and parasitic capacitance. This spike waveform is generated in the direction in which the voltage of the scanning line 85 increases (or decreases) due to the rise (or fall) of the signal potential applied to the data line 32 during the line selection period as described above. Therefore, when the signal potential having the opposite polarity obtained by inverting the signal potential is applied to the dummy data line 80 simultaneously with the rise (or fall) of the signal potential applied to the data line 32, the spike waveform is the scanning line 85. This occurs both in the direction in which the voltage increases and the direction in which the voltage on the scanning line 85 decreases. As understood with reference to FIG. 14, at this time, in one specific line (one scanning line), the time constant RC between the scanning line 85 and the data line 32, the scanning line 85 and the dummy data line. If the time constants RC between 80 are matched, the spike waveforms are canceled out. Thereby, since the fluctuation of the effective value applied to the liquid crystal layer 4 can be prevented, the transverse crosstalk can be reduced.

ところで、第2実施形態の液晶表示装置では、データ線32はTFD素子21や画素電極10等と接続されるが、ダミーデータ線80はそれらに接続されない。このため、1つの走査線において、走査線85とデータ線32の間の容量成分Cと、当該走査線85とダミーデータ線80の間の容量成分Cは一致しない。   By the way, in the liquid crystal display device of the second embodiment, the data line 32 is connected to the TFD element 21, the pixel electrode 10, etc., but the dummy data line 80 is not connected to them. For this reason, in one scanning line, the capacitive component C between the scanning line 85 and the data line 32 and the capacitive component C between the scanning line 85 and the dummy data line 80 do not match.

そこで、第2実施形態では、ダミーデータ線80と走査線85との間に所定の容量成分を付加して、走査線85とデータ線32の間の時定数RCと、当該走査線85とダミーデータ線80の間の時定数RCを一致させ、且つ、ダミーデータ線80を、駆動回路を通じてデータ線32の電位を反転した逆極性となる電位で駆動する。これにより、スパイク波形を相殺して横クロストークを低減する。   Therefore, in the second embodiment, a predetermined capacitance component is added between the dummy data line 80 and the scanning line 85, the time constant RC between the scanning line 85 and the data line 32, and the scanning line 85 and the dummy line. The time constants RC between the data lines 80 are matched, and the dummy data line 80 is driven with a potential having a reverse polarity obtained by inverting the potential of the data line 32 through a driving circuit. As a result, the spike waveform is canceled to reduce lateral crosstalk.

まず、走査線85とデータ線32の間の時定数RCと、当該走査線85とダミーデータ線80の間の時定数RCを一致させるためには、時定数RCのうち、それらの容量成分Cを一致させる必要がある。なお、時定数RCのうち、それらの抵抗成分Rは調整する必要はない。これは、データ線32とダミーデータ線80とは同方向に且つ略同位置に形成されており、それらの各配線長は略同一となっているからである。即ち、それらの抵抗成分Rたる抵抗値はほぼ一致しているからである。   First, in order to make the time constant RC between the scanning line 85 and the data line 32 coincide with the time constant RC between the scanning line 85 and the dummy data line 80, the capacitance component C of the time constant RC is included. Need to match. Of the time constant RC, the resistance component R need not be adjusted. This is because the data line 32 and the dummy data line 80 are formed in the same direction and at substantially the same position, and their respective wiring lengths are substantially the same. That is, the resistance values as the resistance component R are almost the same.

そこで、第2実施形態では、時定数RCのうち、それらの容量成分Cを一致させるために、ダミーデータ線80と走査線85との間に所定の容量成分を付加する。具体的には、例えばダミーデータ線80と走査線85との間に生じる寄生容量C_b’と、データ線32と当該走査線85との間の合成容量C_xとを同一にする。   Therefore, in the second embodiment, a predetermined capacitance component is added between the dummy data line 80 and the scanning line 85 in order to match the capacitance components C of the time constant RC. Specifically, for example, the parasitic capacitance C_b ′ generated between the dummy data line 80 and the scanning line 85 and the combined capacitance C_x between the data line 32 and the scanning line 85 are made the same.

ここで、一般的な物質の静電容量の式より、寄生容量C_b’は、
C_b’=ε0・ε(S3/d) (式5)
で表される。なお、「ε0」は真空の誘電率、「ε」は液晶層4の比誘電率、「S3」はダミーデータ線80と走査線85との重なり合う面積(図18参照)、「d」は下側基板と上側基板との間のセルギャップである。よって、上記の式5に従えば、「ε」や「d」は一定であるので、寄生容量C_b’を大きくするためにはダミーデータ線80と走査線85との重なり合う面積「S3」を大きくすればよい。
Here, the parasitic capacitance C_b ′ is calculated from the equation of capacitance of a general substance.
C_b ′ = ε 0 · ε (S3 / d) (Formula 5)
It is represented by “Ε 0 ” is the dielectric constant of the vacuum, “ε” is the relative dielectric constant of the liquid crystal layer 4, “S 3” is the overlapping area of the dummy data line 80 and the scanning line 85 (see FIG. 18), and “d” is This is a cell gap between the lower substrate and the upper substrate. Therefore, according to the above equation 5, since “ε” and “d” are constant, in order to increase the parasitic capacitance C_b ′, the overlapping area “S3” between the dummy data line 80 and the scanning line 85 is increased. do it.

そこで、本発明では、図18に示すように、合成容量C_xと寄生容量C_b’が同一となるようにダミーデータ線80の線幅を幅広に形成することで面積「S3」を大きくし、寄生容量C_b’を大きくする。これにより、走査線85とデータ線の間の時定数RCと、当該走査線85とダミーデータ線80の間の時定数RCとを同一にすることができる。   Therefore, in the present invention, as shown in FIG. 18, the area “S3” is increased by forming the dummy data line 80 wide so that the combined capacitance C_x and the parasitic capacitance C_b ′ are the same. The capacity C_b ′ is increased. Thereby, the time constant RC between the scanning line 85 and the data line and the time constant RC between the scanning line 85 and the dummy data line 80 can be made the same.

次に、かかる構成を有する本発明では、図19に示すように、ダミーデータ線80を、駆動回路を通じてデータ線32の電位を反転させた逆極性となる電位で駆動する。   Next, in the present invention having such a configuration, as shown in FIG. 19, the dummy data line 80 is driven with a potential having a reverse polarity obtained by inverting the potential of the data line 32 through a drive circuit.

かかる駆動方法により、ライン選択期間にデータ線32の信号電位VB1が立ち上がるケースでは、図19(a)に示すように、データ線32の信号電位VB1の立ち上がりと同時にダミーデータ線80の信号電位VB2は立ち下がることになる。このとき、図19(a)の破線領域E1に示されるように、データ線32の信号電位VB1の立ち上がりに起因して、走査線85の信号電位VAには破線W1で示されるスパイク波形が生じると共に、ダミーデータ線80の信号電位VB2の立ち下がりに起因して、走査線85の信号電位VAには破線W2で示されるスパイク波形が生じる。ここで、走査線85とデータ線の間の時定数RCと、当該走査線85とダミーデータ線80の間の時定数RCとは同一であるので、両スパイク波形の大きさは同一となる。これにより、それらのスパイク波形は相殺されるので、横クロストークをほぼ完全に除去することができる。よって、高品位な表示画像を得ることができる。   With this driving method, in the case where the signal potential VB1 of the data line 32 rises during the line selection period, as shown in FIG. Will fall. At this time, as indicated by a broken line area E1 in FIG. 19A, a spike waveform indicated by the broken line W1 is generated in the signal potential VA of the scanning line 85 due to the rise of the signal potential VB1 of the data line 32. At the same time, due to the fall of the signal potential VB2 of the dummy data line 80, a spike waveform indicated by a broken line W2 is generated in the signal potential VA of the scanning line 85. Here, since the time constant RC between the scanning line 85 and the data line and the time constant RC between the scanning line 85 and the dummy data line 80 are the same, the magnitudes of both spike waveforms are the same. As a result, these spike waveforms are canceled out, so that the transverse crosstalk can be almost completely eliminated. Therefore, a high-quality display image can be obtained.

また、ライン選択期間にデータ線32の信号電位VB1が立ち下がるケースでは、図19(b)に示すように、データ線32の信号電位VB1の立ち下がりと同時にダミーデータ線80の信号電位VB2は立ち上がることになる。これにより、上記同様の原理により、スパイク波形は相殺され、横クロストークを低減できる。   In the case where the signal potential VB1 of the data line 32 falls during the line selection period, the signal potential VB2 of the dummy data line 80 is simultaneously with the fall of the signal potential VB1 of the data line 32, as shown in FIG. Will stand up. Thus, the spike waveform is canceled out by the same principle as described above, and the transverse crosstalk can be reduced.

[電子機器]
次に、本発明による液晶表示装置100を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。なお、第2実施形態を適用した液晶表示装置も当該電子機器の表示装置として用いることができる。
[Electronics]
Next, an embodiment in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is used as a display device of an electronic apparatus will be described. Note that the liquid crystal display device to which the second embodiment is applied can also be used as the display device of the electronic apparatus.

図20は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示装置100と、これを制御する制御手段410とを有する。ここでは、液晶表示装置100を、パネル構造体403と、半導体ICなどで構成される駆動回路402とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段410は、表示情報出力源411と、表示情報処理回路412と、電源回路413と、タイミングジェネレータ414と、を有する。   FIG. 20 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the present embodiment. The electronic apparatus shown here includes the liquid crystal display device 100 and a control unit 410 that controls the liquid crystal display device 100. Here, the liquid crystal display device 100 is conceptually divided into a panel structure 403 and a drive circuit 402 composed of a semiconductor IC or the like. Further, the control means 410 includes a display information output source 411, a display information processing circuit 412, a power supply circuit 413, and a timing generator 414.

表示情報出力源411は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ414によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路412に供給するように構成されている。   The display information output source 411 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal. The display information is supplied to the display information processing circuit 412 in the form of an image signal of a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 414.

表示情報処理回路412は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKとともに駆動回路402へ供給する。駆動回路402は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路413は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。   The display information processing circuit 412 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to obtain image information. Are supplied to the drive circuit 402 together with the clock signal CLK. The driving circuit 402 includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 413 supplies a predetermined voltage to each of the above-described components.

次に、本発明に係る液晶表示装置100を適用可能な電子機器の具体例について図21を参照して説明する。   Next, specific examples of electronic devices to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention can be applied will be described with reference to FIG.

まず、本発明に係る液晶表示装置100を、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図21(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部713とを備えている。   First, an example in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) will be described. FIG. 21A is a perspective view showing the configuration of this personal computer. As shown in the figure, the personal computer 710 includes a main body 712 having a keyboard 711 and a display 713 to which the liquid crystal display panel according to the present invention is applied.

続いて、本発明に係る液晶表示装置100を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図21(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本発明に係る液晶表示装置100を適用した表示部724を備える。   Next, an example in which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 21B is a perspective view showing the configuration of this mobile phone. As shown in the figure, the cellular phone 720 includes a plurality of operation buttons 721, a reception port 722, a transmission port 723, and a display unit 724 to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention is applied.

なお、本発明に係る液晶表示装置100を適用可能な電子機器としては、図21(a)に示したパーソナルコンピュータや図21(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。   Electronic devices to which the liquid crystal display device 100 according to the present invention can be applied include a liquid crystal television and a viewfinder in addition to the personal computer shown in FIG. 21A and the cellular phone shown in FIG. Type / monitor direct-view type video tape recorder, car navigation device, pager, electronic notebook, calculator, word processor, workstation, videophone, POS terminal, digital still camera, etc.

また、本発明は、液晶表示装置のみでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等)などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。   Further, the present invention is not limited to a liquid crystal display device, but also an electroluminescence device, an organic electroluminescence device, a plasma display device, an electrophoretic display device, and a device using an electron-emitting device (Field Emission Display and Surface-Conduction Electron-Emitter Display). The present invention can be similarly applied to various electro-optical devices such as the above.

[変形例]
また、上記の実施形態では、半透過反射型の液晶表示装置100に本発明を適用したが、これに限らず、反射型又は透過型の液晶表示装置にも本発明を適用できる。また、上記実施形態では、ノーマリーホワイト型の液晶表示装置100に本発明を適用したが、これに限らず、ノーマリーブラック型の液晶表示装置にも本発明を適用できる。
[Modification]
In the above embodiment, the present invention is applied to the transflective liquid crystal display device 100. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a reflective or transmissive liquid crystal display device. In the above embodiment, the present invention is applied to the normally white liquid crystal display device 100. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a normally black liquid crystal display device.

また、上記の第2実施形態では、ダミーデータ線80の線幅を調整することによりダミーデータ線80と走査線85との間に生じる寄生容量C_b’を、データ線32と当該走査線85との間の合成容量C_xと同一にするように構成した。しかし、これに限らず、ダミーデータ線80に画素電極、TFD素子、他の電極や配線等を接続するなどして時定数RCのうち容量成分C(画素容量、素子容量、寄生容量など)を大きくし、ダミーデータ線80と走査線85との間の寄生容量C_b’と、データ線32と当該走査線85との間の合成容量C_xとを同一にするようにしても構わない。   In the second embodiment, the parasitic capacitance C_b ′ generated between the dummy data line 80 and the scanning line 85 by adjusting the line width of the dummy data line 80 is reduced to the data line 32 and the scanning line 85. It was configured to be the same as the combined capacity C_x. However, the present invention is not limited to this, and by connecting a pixel electrode, a TFD element, another electrode, wiring, or the like to the dummy data line 80, a capacitance component C (pixel capacitance, element capacitance, parasitic capacitance, etc.) of the time constant RC is obtained. The parasitic capacitance C_b ′ between the dummy data line 80 and the scanning line 85 and the combined capacitance C_x between the data line 32 and the scanning line 85 may be made the same.

本実施形態に係る液晶表示装置の電極及び配線の構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the electrode and wiring of the liquid crystal display device which concern on this embodiment. 液晶表示装置の断面構成を示す。The cross-sectional structure of a liquid crystal display device is shown. 素子基板の電極及び配線の構成等を示す平面図。The top view which shows the structure of the electrode of an element substrate, wiring, etc. FIG. カラーフィルタ基板の電極の構成を示す平面図。The top view which shows the structure of the electrode of a color filter board | substrate. 液晶表示装置の駆動回路例を示す。An example of a driving circuit of a liquid crystal display device is shown. 走査電位VA、信号電位VB及び電極間電圧VABの波形図を示す。Waveform diagrams of the scanning potential VA, the signal potential VB, and the interelectrode voltage VAB are shown. 信号電位VB及び電極間電圧VABの波形図を示す。The waveform diagram of the signal potential VB and the interelectrode voltage VAB is shown. 階調値とオン区間のパルス幅との関係を示す図表。The graph which shows the relationship between a gradation value and the pulse width of an ON area. データ信号駆動回路の回路図を示す。The circuit diagram of a data signal drive circuit is shown. 液晶表示装置の駆動時のタイミングチャートを示す。3 shows a timing chart during driving of a liquid crystal display device. 波形変換部の回路図を示す。The circuit diagram of a waveform conversion part is shown. 異なる階調レベルの駆動波形例を示す波形図。The wave form diagram which shows the drive waveform example of a different gradation level. 液晶表示装置の1ライン分の等価回路を示す。An equivalent circuit for one line of a liquid crystal display device is shown. 横クロストークの発生原理を説明する図。The figure explaining the generation | occurrence | production principle of horizontal crosstalk. 縦クロストークの発生原理を説明する図。The figure explaining the generation | occurrence | production principle of vertical crosstalk. 第1実施形態に係る縦及び横クロストークの低減方法を説明する図。The figure explaining the reduction method of the vertical and horizontal crosstalk which concerns on 1st Embodiment. 第1実施形態に係る液晶表示装置の1画素分に対応する等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram corresponding to one pixel of the liquid crystal display device according to the first embodiment. 第2実施形態に係る横クロストーク低減方法を説明する図。The figure explaining the horizontal crosstalk reduction method which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る横クロストーク低減方法を説明する波形図Waveform diagram illustrating the lateral crosstalk reduction method according to the second embodiment 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の回路ブロック図を示す。1 is a circuit block diagram of an electronic apparatus to which a liquid crystal display device of the present invention is applied. 本発明の液晶表示装置を適用した電子機器の例を示す。Examples of electronic devices to which the liquid crystal display device of the present invention is applied are shown.

符号の説明Explanation of symbols

1 上側基板、 2 下側基板、 3 シール部材、 6 着色層、 7 導通部材、 8 走査電極、 10 画素電極、 31、85 走査線、 32、32a データ線、 21 TFD素子、 80 ダミーデータ線、 91 カラーフィルタ基板、 92 素子基板、 V 有効表示領域、 100 液晶表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Upper substrate, 2 Lower substrate, 3 Seal member, 6 Colored layer, 7 Conductive member, 8 Scan electrode, 10 Pixel electrode, 31, 85 Scan line, 32, 32a Data line, 21 TFD element, 80 Dummy data line, 91 color filter substrate, 92 element substrate, V effective display area, 100 liquid crystal display device

Claims (7)

データ線、画素電極、前記データ線及び前記画素電極に接続されたスイッチング素子、並びに信号線を有する基板と、走査線を有する対向基板との間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置であって、
前記信号線は、前記画素電極と当該画素電極に接続されていない方の隣接する前記データ線との間に形成されており、
前記信号線を、前記データ線の電位に対して基準電位に対して逆極性となる電位で駆動する駆動回路を備えることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device in which an electro-optical material is sealed between a substrate having a data line, a pixel electrode, a switching element connected to the data line and the pixel electrode, and a signal line, and a counter substrate having a scanning line. There,
The signal line is formed between the pixel electrode and the adjacent data line that is not connected to the pixel electrode,
An electro-optical device comprising: a drive circuit that drives the signal line with a potential having a polarity opposite to a reference potential with respect to a potential of the data line.
前記画素電極は、画素領域内において当該画素電極に接続された前記データ線と前記信号線との間に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the pixel electrode is formed between the data line and the signal line connected to the pixel electrode in a pixel region. 前記画素電極と当該画素電極に接続された前記データ線との間隔は、当該画素電極と当該画素電極に隣接する前記信号線との間隔と同一であると共に、
画素領域内において、前記データ線と前記走査線との重なる面積は、前記信号線と当該走査線との重なる面積と同一であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
An interval between the pixel electrode and the data line connected to the pixel electrode is the same as an interval between the pixel electrode and the signal line adjacent to the pixel electrode.
3. The electro-optical device according to claim 1, wherein an area where the data line and the scanning line overlap is the same as an area where the signal line and the scanning line overlap in a pixel region.
前記信号線と前記走査線との間の合成容量は、前記データ線と当該走査線との間の合成容量と同一であることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 1, wherein a combined capacitance between the signal line and the scanning line is the same as a combined capacitance between the data line and the scanning line. 画素領域内において、前記信号線と前記走査線との重なる面積は、前記データ線と当該走査線との重なる面積より大きいことを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 4, wherein an area where the signal line and the scanning line overlap in a pixel region is larger than an area where the data line and the scanning line overlap. データ線、画素電極、前記データ線及び前記画素電極に接続されたスイッチング素子、並びにシールド線を有する基板と、走査線を有する対向基板との間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置であって、
前記シールド線は、前記画素電極と当該画素電極に接続されていない方の隣接する前記データ線との間に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device in which an electro-optical material is sealed between a data line, a pixel electrode, a switching element connected to the data line and the pixel electrode, a substrate having a shield line, and a counter substrate having a scanning line. There,
The electro-optical device, wherein the shield line is formed between the pixel electrode and the adjacent data line not connected to the pixel electrode.
請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1 as a display unit.
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