JP2006010888A - 光導波路およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 コア層1とクラッド層2とを含み、信号光を入射−伝播−出射する光導波路10である。コア層1とクラッド層2との間の少なくとも一部に、クラッド層2より屈折率が低い低屈折率層3を有する。コア層1およびクラッド層2のうちいずれか一方または双方の形成用材料として、熱または光により収縮可能なものを使用することができる。クラッド層2が上部クラッド層2aと下部クラッド層2bとからなる場合には、上下クラッド層2a、2bのうち少なくとも一方にコア層1に対応する溝部4が設けられ、溝部3とコア層1とが非密着部分を有し、非密着部分により低屈折率層3が形成されている。
【選択図】 図1
Description
図1(a)に、本発明の好適例の光導波路の拡大断面図を示す。図示するように、本発明の光導波路10は、コア層1とクラッド層2とを含み、コア層1を介して信号光を入射−伝播−出射するものであり、コア層1とクラッド層2との間に、低屈折率層3が設けられている点に特徴を有する。低屈折率層3はクラッド層2より屈折率が低く形成されているため、これにより、コア層1とクラッド層2との境界面における屈折率差を大きく取ることができ、材料の改良のみでは達成できなかった大幅な伝送損失の低減効果を得ることが可能となった。
(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は炭素数8〜20のアルキル基を表す)で表される化合物、ジ(メタ)アクリルエステル、トリ(メタ)アクリルエステル、さらには、スチレン、ジビニルベンゼン等のスチレン系モノマーなどを挙げることができる。
において、nが1〜15、特に1〜10のものが好ましい。
2インチ径のSi基板上に、バーコーターを用いて、アクリル系樹脂(JSR製)を100μm厚さに塗布し、引き続き、100℃で3分間加熱した。次に、その表面に、フッ素化エポキシ樹脂を、スピンコート法を用いて1μmの厚さに塗布した。
2、12 クラッド層
2a、12a 上部クラッド層
2b、12b 下部クラッド層
3、13 低屈折率層
4、14 溝部
5 基板
6、16 モールド
10、10A、20 光導波路
Claims (9)
- コア層とクラッド層とを含み、信号光を入射−伝播−出射する光導波路において、前記コア層とクラッド層との間の少なくとも一部に、該クラッド層より屈折率が低い低屈折率層が設けられていることを特徴とする光導波路。
- 前記コア層およびクラッド層のうちいずれか一方または双方の形成用材料が、熱または光により収縮可能である請求項1記載の光導波路。
- 前記クラッド層が上部クラッド層と下部クラッド層とからなり、該上下クラッド層のうち少なくとも一方に前記コア層に対応する溝部が設けられ、該溝部と該コア層とが非密着部分を有し、該非密着部分により前記低屈折率層が形成されている請求項1または2記載の光導波路。
- 前記コア層形成用材料の前記溝部表面に対する接触角が90〜170°の範囲内である請求項3記載の光導波路。
- 前記溝部表面の少なくとも一部にフッ素含有化合物を含む請求項4記載の光導波路。
- 前記溝部の設けられたクラッド層がフッ素含有化合物からなる請求項5記載の光導波路。
- 請求項5記載の光導波路の製造方法において、前記溝部の設けられたクラッド層の成形後、該溝部表面の少なくとも一部にフッ素含有化合物を塗布することを特徴とする光導波路の製造方法。
- 請求項5記載の光導波路の製造方法において、前記溝部を、該溝部を設けるクラッド層の塗工後に、塗工された該クラッド層に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、該凹凸パターンを該クラッド層表面に転写することにより形成するにあたり、前記モールドとして、少なくとも前記溝部に対応する部分にフッ素含有化合物を塗布したモールドを用いることを特徴とする光導波路の製造方法。
- 請求項5記載の光導波路の製造方法において、前記溝部を、該溝部を設けるクラッド層の塗工後に、塗工された該クラッド層に対し凹凸パターンが形成されたモールドをプレスして、該凹凸パターンを該クラッド層表面に転写することにより形成するにあたり、前記クラッド層の塗工後、前記モールドのプレス前に、該クラッド層表面に、フッ素含有化合物を塗工することを特徴とする光導波路の製造方法。
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